JP2009172520A - 洗浄槽排気装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
【解決手段】洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽10−1、2を覆う各上蓋20−1、2と、洗浄液のミスト66を誘導する集合ダクト30と、洗浄液のミスト66を吸引、排気する吸引排気部40とを具備し、各上蓋20−1、2は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋20−1、2の下面は複数の吸気口22を有し、側面の1つは集合ダクトと接続される通気口24を有し、集合ダクト30は、各上蓋20−1、2の通気口24と接続される1つ以上のダクト入口32と、吸引排気部40に接続されるダクト出口34とを有する。
【選択図】 図1
【解決手段】洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽10−1、2を覆う各上蓋20−1、2と、洗浄液のミスト66を誘導する集合ダクト30と、洗浄液のミスト66を吸引、排気する吸引排気部40とを具備し、各上蓋20−1、2は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋20−1、2の下面は複数の吸気口22を有し、側面の1つは集合ダクトと接続される通気口24を有し、集合ダクト30は、各上蓋20−1、2の通気口24と接続される1つ以上のダクト入口32と、吸引排気部40に接続されるダクト出口34とを有する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、電子デバイス用の基板類を洗浄する洗浄装置の排気に係り、詳しくは、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置に関する。
図3は、従来の洗浄槽排気装置の構成を示す装置構成図である。図3において、洗浄槽10−1、2には搬送ローラ60が設けられ、基板70を搬送している。さらに洗浄槽10−1には洗浄ブラシ68及び洗浄ノズル62が設けられている。基板70は、洗浄ノズル62から洗浄液64が供給され、洗浄ブラシ68によりブラッシングされることにより、洗浄される。洗浄槽10−2は、洗浄槽10−1と同様の洗浄槽として用いられるか、他の周知の洗浄槽として用いられる。
洗浄ノズル62から供給される洗浄液64は、洗浄処理の目的に応じた薬液を含み、超音波の印加や、加熱が行なわれて、基板70上へシャワー状に噴出され、基板70が洗浄される。これにより発生した洗浄液のミスト66は、洗浄槽10−1、2に共通に設置されたダクト90により、洗浄槽10−1、2の外へと排出される。また洗浄槽10−1、2は、搬送ローラ60、洗浄ブラシ68及び洗浄ノズル62のメンテナンスのため上蓋80−1、2を有している。
このように従来の洗浄槽排気装置においては、ダクト90が洗浄槽10−1、2に共通に設置され、洗浄槽10−1、2の上側のコーナーの限られたスペースから洗浄液のミスト66を吸引しているため、ミストの発生が多い場合は十分な吸引ができないという問題があった。また、十分な吸引ができない場合は、洗浄液のミスト66が上蓋80−1、2の隙間から漏れ、洗浄液に含まれていた薬液が蒸発して、室内に充満するという問題があった。さらに、吸引力を上げるためにダクト90を大型化すると、上蓋80−1、2の幅D2を狭める必要が生じ、十分なメンテナンススペースを確保できないため、長尺の搬送ローラ60や洗浄ブラシ68の取り外しが困難となるという問題があった。
特許文献1には、基板にレジスト塗布や現像などの薬液処理を施すスピンコーターやスピンデベロッパーを含む薬液処理部側の側面に隣接する、基板を上面に支持して加熱するホットプレートを備えた基板加熱処理部の側面に排気源に連通接続されたシステム排気ダクトが設けられた基板処理装置において、基板加熱処理部の薬液処理部側の側面に、排気源に連通接続されたシステム排気ダクトと別個の排気ダクトを設ける旨の記載がされている。
特開平9−141179号公報
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、洗浄槽の洗浄液ミストを効率良く排気し、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースを十分確保できる洗浄槽排気装置を提供することにある。
本発明の洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の1つは集合ダクトと接続される通気口を有し、集合ダクトは、各上蓋の通気口と接続される1つ以上のダクト入口と、吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、1つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の洗浄液のミストは、各上蓋と集合ダクトとを介して、吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする。
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋は、吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、吸引制御板は、それぞれ各上蓋の下面に設置されて可動し、洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする。
本発明の洗浄槽排気装置の各上蓋、集合ダクト、及び、各上蓋に設置された吸引制御板の部材は、SUS、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする。
本発明によれば、洗浄槽の洗浄液のミストを、上蓋の最大面積を利用して吸引し、且つ、吸引制御板により吸気量が任意に制御されて排気され、且つ、洗浄槽のメンテナンススペースも従来の上蓋の幅より広い上蓋を確保できるため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
本発明の実施の形態について、図を用いて説明する。図1は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向から見た構成を示す構成図である。図2は、本発明による洗浄槽排気装置を基板の進行方向の垂直方向から見た構成を示す構成図である。図1、2において、洗浄槽排気装置は、1つ以上の洗浄槽10−1、2を覆う各上蓋20−1、2と、洗浄液のミスト66を誘導する集合ダクト30と、洗浄液のミスト66を吸引、排気する吸引排気部30とを有している。
各上蓋20−1、2は、それぞれ幅D1の中空箱型の構造を成し、各上蓋20−1、2の下面は複数の吸気口22を有し、側面の1つは集合ダクト30と接続される通気口24を有している。集合ダクト30は、各上蓋20−1、2の通気口24と接続される1つ以上のダクト入口32と、吸引排気部40に接続されるダクト出口34とを有している。
各上蓋20−1、2は、吸気口22と同型の複数の穴52を有した可動自在の吸引制御板50を具備している。また、各上蓋20−1、2、集合ダクト30、及び、各上蓋20−1、2に設置された吸引制御板50は、SUS、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンの部材を用いて形成されている。基板70の搬送及び洗浄の構成は、図3の場合と同じであるため説明を省略する。
洗浄ノズル62及び洗浄ブラシ68により発生した洗浄液のミスト66は、吸引制御板50の複数の穴52と、各上蓋20−1、2の複数の吸気口22を介して中空箱型の空洞内に吸引される。この洗浄液のミスト66は、各上蓋20−1、2の通気口24と接続されたダクト入口32を介して集合ダクト30に集められた後、ダクト出口34へと誘導され、吸引排気部40に吸引されて排気される。吸引制御板50は、それぞれ各上蓋20−1、2の下面に設置されて任意の位置に可動し、洗浄液のミスト66の吸引量を制御する。
以上説明したように本発明によれば、従来の排気ダクトが各上蓋20−1、2に取り込まれるため、従来の上蓋開口幅D2より広い上蓋開口幅D1が得られるため、長尺の搬送ローラ60や洗浄ブラシ68の取り外しが容易となるメンテナンススペースを確保することが可能となる。また、洗浄槽10−1、2の洗浄液のミスト66を、各上蓋20−1、2の最大面積を利用して効率よく吸引できると共に、吸引制御板50により適切な吸引量を設定することができる。このため、排気効率と、洗浄槽のメンテナンス性の良い洗浄槽排気装置を提供することが可能となる。
10−1、2 洗浄槽
20−1、2 上蓋
22 吸気口
24 通気口
30 集合ダクト
32 ダクト入口
34 ダクト出口
40 吸引排気部
50 吸引制御板
52 穴
60 搬送ローラ
62 洗浄ノズル
64 洗浄液
66 洗浄液のミスト
68 洗浄ブラシ
70 基板
80 上蓋
90 ダクト
D1 本発明の上蓋開口幅
D2 従来の上蓋開口幅
20−1、2 上蓋
22 吸気口
24 通気口
30 集合ダクト
32 ダクト入口
34 ダクト出口
40 吸引排気部
50 吸引制御板
52 穴
60 搬送ローラ
62 洗浄ノズル
64 洗浄液
66 洗浄液のミスト
68 洗浄ブラシ
70 基板
80 上蓋
90 ダクト
D1 本発明の上蓋開口幅
D2 従来の上蓋開口幅
Claims (3)
- 1つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の排気を行う洗浄槽排気装置であって、
前記洗浄槽排気装置は、前記1つ以上の洗浄槽を覆う各上蓋と、洗浄液のミストを誘導する集合ダクトと、前記洗浄液のミストを吸引、排気する吸引排気部とを具備し、
前記各上蓋は、それぞれ中空箱型の構造を成し、前記各上蓋の下面は複数の吸気口を有し、側面の1つは前記集合ダクトと接続される通気口を有し、
前記集合ダクトは、前記各上蓋の前記通気口と接続される1つ以上のダクト入口と、前記吸引排気部に接続されるダクト出口とを有し、
前記1つ以上の洗浄槽から成る洗浄槽の前記洗浄液のミストは、前記各上蓋と前記集合ダクトとを介して、前記吸引排気部により吸引、排気されることを特徴とする洗浄槽排気装置。 - 前記各上蓋は、前記吸気口と同型の複数の穴を有した可動自在の吸引制御板を具備し、
前記吸引制御板は、それぞれ前記各上蓋の下面に設置されて可動し、前記洗浄液のミストの吸引量を制御することを特徴とする請求項1に記載の洗浄槽排気装置。 - 前記各上蓋、前記集合ダクト、及び、前記各上蓋に設置された前記吸引制御板の部材は、SUS、塩化ビニール、又は、ポリプロピレンであることを特徴とする請求項2に記載の洗浄槽排気装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2008013955A JP2009172520A (ja) | 2008-01-24 | 2008-01-24 | 洗浄槽排気装置 |
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JP2008013955A JP2009172520A (ja) | 2008-01-24 | 2008-01-24 | 洗浄槽排気装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7428754B2 (ja) | 2021-08-24 | 2024-02-06 | セメス株式会社 | 基板処理装置および方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1034094A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-02-10 | Koki Techno:Kk | 基板カセットラックの洗浄方法 |
JPH1057858A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Banzai:Kk | 板金塗装用吸塵装置 |
JPH10219647A (ja) * | 1997-02-05 | 1998-08-18 | Zexel Corp | 燃焼式融雪装置 |
JPH10216468A (ja) * | 1997-02-03 | 1998-08-18 | Nippon Steel Corp | 生物脱臭機能を有する覆蓋装置 |
-
2008
- 2008-01-24 JP JP2008013955A patent/JP2009172520A/ja active Pending
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