JP5169206B2

JP5169206B2 - フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置

Info

Publication number: JP5169206B2
Application number: JP2007330488A
Authority: JP
Inventors: 嘉一加藤; 高広井桁; 英征森部; 隆二長谷川
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 2007-12-21
Filing date: 2007-12-21
Publication date: 2013-03-27
Anticipated expiration: 2027-12-21
Also published as: US8179523B2; KR101120793B1; TWI408509B; US20110279816A1; KR20090068167A; TW200928614A; US8009285B2; US20090161098A1; JP2009151197A

Description

この発明は、フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置に関し、詳しくはフォトマスクと透光性保護部材との分離が容易な構造をしたフォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置に関する。

従来から半導体集積回路の製造にフォトマスク（レチクル）が用いられている。そして、そのフォトマスクの基板に所定パターンで形成されたレジストが所期のパターンとなっているか否かを検査した後に、そのフォトマスクを半導体集積回路の製造に用いるようにしている。そのレジスト検査には、各種の技術が開発されている。その例を以下に説明する。

レジスト検査装置の例として、図４に示すようなものがあるが、このレジスト検査装置において、レチクル２の一側から検査用の光３１を照射し、その反射光をレンズ３０等の光学素子を介して結像させてパターン画像を取得し、取得されたパターン画像自体から又はそのパターン画像と設計パターン画像との比較により所期の検査を行う。この例は特許文献１に記載されている。

また、レジスト検査装置の他の例として、その概略構成は、図４と同様であるが、光学素子に対してエアパージを行いつつ図４の装置同様のレジスト検査を行うように構成される。この例は、例えば、特許文献２に記載されている。
また、レジスト検査装置等で用いられるフォトマスクを、図５に示すように、レチクル２自体にペリクル３を取り付けて構成する例が、特許文献３に記載されている。
また、フォトマスクのパターン面に装着されるペリクルフレームを上部フレームと下部フレームとをピン結合により２分割可能にして構成する例が、特許文献４に記載されている。
特開平０６−０２０９３４号公報特開２００６−２４５４００号公報特開２００３−３１５９８３号公報特開平０５−２１６２１４号公報

特許文献１に記載されるレジスト検査装置の例のように、レチクル２のレジスト７に検査用の光３１を照射すると、レジスト７からガス２０が放出され、そのガス２０がレンズ３０等の光学素子の表面に付着物２１として残ってしまう（図６）。
この付着物２１の残存が検査の度に生ずる状態にあれば、レンズ３０等の光学素子の性能が劣化して行き、そのままでは検査不能に陥ってしまうという技術的課題がある。
なお、この性能劣化の対策としてその拭き取りがあるが、この拭き取りだけではレンズ３０の性能は完全には復元できないので、レンズ３０の交換をしない限り、検査の継続は不能になるし、レンズ３０の交換により検査の続行を図るとしても、レンズ３０は高額で、かつ、長納期を要することから、費用が嵩むばかりでなく、修復に長時間を要してしまう。

ガスの付着物が残存した状態についてさらに説明すると、図７に示すように、別のレチクル２ｂを検査すると、残っている付着物２１が取得されるパターン画像と設計パターン画像との間の差異となり、レジスト検査装置内の画像比較装置でレジスト７ｂの実際の欠陥と一緒に抽出されることになる。

こうして得られる情報だけでは、それらの欠陥のうちのどれが、レジスト７ｂの実際の欠陥と付着物２１による欠陥との判別はできない。この判別を行うためには、レチクル２ｂを水平に９０度、１８０度又は２７０度回転させて再検査するか、レチクル２ｂをエッチングするか、レンズ３０を詳細に調べるか等の、検査又は確認作業を行わなければならない。

上記判別手段のうちのレチクル２ｂの回転による再検査では、再検査をしているうちに、さらに付着物２１が増えてしまい、いずれによる欠陥かの判別がさらに困難になる可能性がある。
また、レチクル２ｂをエッチングしての確認作業による場合は、もしレジスト７ｂに実際の欠陥があった場合には、そのレチクル２ｂは使用不可能になってしまう。
また、レンズ３０の検査終了の度に詳細に調べることは、困難であり時間が掛かるため、不可能である。

レンズ３０等の光学素子の性能劣化の防止策があると言っても、それぞれ固有の技術的課題が発生して来る。
したがって、ガスによるレンズ３０等の光学素子の性能劣化の技術的課題は、依然として解決し切れていない。
この技術的課題は、特許文献２に記載される装置例によりその部分的な解決が図られている。

しかしながら、次のような技術的課題がある。すなわち、光学素子に対してエアパージを行い、ガス２０をレンズ３０等に接触させないことにより、その所期の目的を達成せんとするところにあるが、パージ気体の整流が首尾良く行われないと、検査用の光３１にゆれが生じ、光３１の均一性が得られず、画像にムラが生じて検査ができないという点や、エアパージ機構があるため、メインテナンスに難点があるという点である。

特許文献３に記載されるフォトマスクをレジスト検査に用いると、その検査後に、レジスト７の修正やエッチングをする際に、ペリクル３のみか、若しくはフレーム８も含めて、レチクル２から取り外さなければならず、この工程中にレチクル３を汚染させたり、損傷させたりしてしまうという技術的課題がある。

特許文献４に記載される構成例は、２つのペリクルフレームをピン結合により合着するペリクルフレーム間にフォトマスクを装着する構成であり、上部フレームと下部フレームとを必須の構成要素とするものである。ペリクルを張設したフレームのみの中にフォトマスクを納める構成は何ら示唆されていない。

この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、フォトマスクと透光性保護部材との容易な分離を可能にしたフォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために、この発明の第１の構成は、レジスト検査のためのフォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に受納できる構造のフォトマスク受納器に係り、上記フォトマスクの厚みよりも深く、上記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、上記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に上記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて上記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、上記枠体の下面であって上記刳り抜き部の外側に設けられ、上記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、上記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材とを備えてなることを特徴としている。

この発明の第２の構成は、フォトマスクに光（ビーム）を照射し、上記フォトマスクからの反射光を受光して上記フォトマスクのレジストを検査する方法に係り、上記フォトマスクの厚みよりも深く、上記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、上記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に上記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて上記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、上記枠体の下面であって上記刳り抜き部の外側に設けられ、上記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、上記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、を備えてなるフォトマスク受納器の上記凹部内に、上記レジストパターン形成領域を上記透光性保護部材側に向けた上記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納め、上記透光性保護部材側から光を照射して上記レジストパターン形成領域内の上記レジストの検査を行うことを特徴としている。

この発明の第３の構成は、フォトマスク取着部に取着されたフォトマスクに光学系からの光を照射し、上記フォトマスクからの反射光を受光して上記フォトマスクのレジストを検査する装置に係り、上記フォトマスクの厚みよりも深く、上記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、上記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に上記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて上記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、上記枠体の下面であって上記刳り抜き部の外側に設けられ、上記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、上記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、を備えてなるフォトマスク受納器の上記凹部内に、上記レジストパターン形成領域を上記刳り抜き部を介して上記光学系に向ける上記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納める上記フォトマスク受納器が上記フォトマスク取着部に取着される構成となっていることを特徴としている。

この発明によれば、フォトマスクとフォトマスク受納器との分離により大きな便益を享受できる手段が提供されると同時に、ガスのフォトマスク外への放出を防止して光学系の性能維持、光学系の交換回避等の効果を得るのに役立つ。
フォトマスク受納器の交換や、透光性保護膜の交換が容易に行える。
フォトマスクルの検査において、フォトマスクを汚染したり、損傷を与えることはなくなるし、検査工程の削減や時間の短縮も図れる。
また、検査後のエッチングや、レジストの塗布し直しを容易に行うことができる。
複数のレチクルのレジスト検査を行っても、光学素子は、レジストから放出されるガスの影響を受けない。
このガスの影響を排除するのに、フォトマスク受納器と透光性保護膜との間に密閉空間を形成するようにする手段だけでよく、その他の各種態様の手段を設ける必要性を排除することができる。

この発明は、フォトマスク受納器に凹部を形成すること、その凹部にフォトマスクを納めることを含んで構成される。
また、フォトマスクを上記凹部に納めたフォトマスク受納器をレジスト検査装置で用いることを含んで構成される。

実施形態１

図１は、この発明の実施形態１であるレチクル受納器を示す図である。
この実施形態のレチクル受納器１は、レチクルとペリクルとの間が機械的剛体的結合なく、自由に接離し得る構造のレチクルカセットに係り、図１に示すように、ペリクル３を設けたレチクルカセット４にある。レチクル２は、レチクルカセット４の凹部内に納めるようにして配置され、そのレチクルカセット４がレジスト検査装置内に取着されてレチクル２のレジストの検査に用いられる。

レチクル２は、透光性基板６上に所定パターンのレジスト７が形成されている。透光性基板６の材質は、例えば、ガラス、石英等である。ペリクル３は、極薄金属膜等のバリヤー層（保護膜）３ｆをペリクルフレーム８の一端８ｆに張設したもので、ペリクルフレーム８の他端８ｐを介してレチクルカセット４に密着固定されている。
レチクルカセット４は、互いに密着された２枚の板材（平板）９、１０からなる。板材９と板材１０とは、所定形状で刳り抜かれている。板材９の刳り抜き形状は、図１に示すように、レチクル２を入れ得る形状、一般的には方形である。板材１０の刳り抜き形状は、図１に示すように、レチクル２上に形成されているレジスト７の周囲を取り囲む形状である。したがって、レチクルカセット４の板材１０の刳り抜き部１０ｈ周辺の面は、板材９の刳り抜き部９ｈを介して挿入されるチクル２を載せる載置面１０ｐとなる。

そして、上述のように構成されるレチクルカセット４の板材９の刳り抜き部９ｈを介して載置面１０ｐ上に密着して載せられたレチクル３のレジスト形成面と、板材１０と、ペリクルフレーム８と、保護膜３ｆとで仕切られる空間は、密閉空間を形成する。この空間の形成において、レチクル３が納められたときのレチクル３のレジスト７と保護膜３ｆとの間隔は、発生されるガス２０を閉じ込めて置くのに十分な間隔で、例えば、１ミリ乃至６ミリの範囲に設定される。

次に、図１を参照して、この実施形態の機能を説明する。
レチクルカセット４は、ペリクルフレーム８の他端８ｐをレチクルカセット４に密着固定される一方、ペリクルフレーム８の一端８ｆに保護膜３ｆを張設して形成されるレチクルカセット４の刳り抜き部９ｈ内へ適宜な装着手段、例えば、真空式着脱手段によってレチクル３を挿入し、そのレチクル３をレチクルカセット４の載置面１０ｐ上に密着配置すれば、レチクル３のレジスト形成面上に密閉空間を形成することができる。
このように、レチクル３をレチクルカセット４の載置面１０ｐ上に納める、面と面との接触だけで密閉空間が形成され、また、レチクル３を載置面１０ｐから引き離すだけでモ密閉空間の解除ができ、レチクル３の取扱い上に大きな便益を提供することができる。

したがって、レジスト７に対してレンズ３０を介して光３１を照射したときに、レジスト７から発生するガス２０をフォトマスク１の外部へ放出させてしまうのを防ぐことができる。光３１の照射を受けたレチクル２から反射光３２が発生する。
これにより、レンズ３０等の光学素子の性能劣化の防止に役立つし、レンズ３０等の清掃作業が不要になる。高額で長納期を要するレンズ３０の交換が不要に成り、多大な費用と時間の節約となる。

このように、この実施形態の構成によれば、レチクルとレチクルカセットとの分離により大きな便益を享受できる手段が提供されると同時に、ガスのフォトマスク外への放出を防止して光学系の性能維持、光学系の交換回避等の効果を得るのに役立つ。

実施形態２

図２は、この発明の実施形態２であるレチクルのレジスト検査装置を示す図、また、図３は、同レチクルのレジスト検査装置の有意性の説明図である。
この実施形態の構成が、実施形態１のそれと大きく異なる点は、実施形態１のレチクルカセットをレチクルのレジスト検査装置に用いるようにした点である。
この実施形態のレジスト検査装置５０は、図２に示すように、レジスト検査装置５０内の取着部に取着されたレチクルカセット４と、レンズ３０と、画像処理装置４０と、記憶装置４１と、画像比較装置４２とから概略構成されている。レチクルカセット４にはレチクル２が納められている。
この構成以外のこの実施例のレチクルカセットの構成は、実施形態１と同じであるので、同一の構成部分には同一の参照符号を付して、その逐一の説明は省略する。

次に、図２及び図３を参照して、この実施形態の動作について説明する。
レチクル２のレジスト検査に先立って、レチクル２のレジスト７がペリクル３に向くようにレチクル２を納めたレチクルレチクルカセット４がレジスト検査装置５０の取着部に取着される。
このレチクル２とレチクルカセット４とを機械的な結合なく、自由に接離可能な構成を採用しているので、欠陥がなくエッチングするときや、欠陥がありレジストを塗布し直さなければならないときに、特許文献３に記載される構成のようなペリクル３の取り付け取り外しの必要性が無くなる。
したがって、その際のレチクル２の汚染や、損傷が防止されるし、工程の削減や時間の短縮が図れる。
また、ペリクルカセットの交換や、ペリクルの交換が容易に行える。

そのレジスト検査装置５０において、レジストの検査が開始されると、画像取り込み用のレンズ３０を含む光学系から検査用の光３１がペリクル３の保護膜３ｆを介してレチクル２のレジスト７を含む面に対して照射される。
この照射でレジスト７からガス２０が放出されるが、そのガス２０は、レチクルカセット４とレチクル２との間に形成された密閉空間内に閉じ込められる。
したがって、ガス２０がレンズ３０等の光学素子に付着物２１として残ることは無くなる。それ故、レンズ３０等の光学素子の性能劣化を防止することができる。

この付着物２１の残存を防止しつつ、従来と同様のレジスト検査を行うことができる。
そのレジスト検査の概説を続けると、上記検査用の光３１がレチクル２のレジスト形成面に照射され、そこで反射された反射光３２に反映されているレジスト７のパターン画像が画像処理装置４０で処理されて記憶装置４１に保存される。
この記憶装置４１に保存されたパターン画像と、予め用意されたパターン設計図とを画像比較装置４２に入力することにより、レジスト７の実際の欠陥のみを抽出することができる。

これは、上述のように、レチクル２のレジスト７に検査用の光３１を照射したときにそのレジスト７からガス２０が放出されるが、そのガス２０は、レチクル７と、レチクルカセット４と、ペリクル３とによって形成される密閉空間内に閉じ込められて画像取り込み用のレンズ３０への付着物とはならないからである。
このように、ガス２０がレンズ３０に付着物として残らないから、別のレチクル２ａをレチクルカセット４にセットして（図３）そのレチクル２ａのレジスト７ａの検査を同一のレジスト検査装置５０で行う場合にも、レンズ３０には前回の付着物がないばかりでなく、今回の検査においてもレンズ３０への付着物の発生はないから、レンズ３０の性能の劣化は生ぜず、検査に何らの支障も生じない。
つまり、このレジスト検査装置５０によれば、複数のレチクルを、順次、同一のレジスト検査装置で反復して行うことが可能になる。
そして、上述のように、ペリクルカセット４とレチクル２とが分離されているから、検査後のエッチングや、レジスト２の塗布し直しを容易に行うことができる。

また、上記密閉空間を構成する仕組みであるので、特許文献２に記載されるレジスト検査装置のようにエアパージ機構或るいはレンズ３０等の光学素子の密閉構造は不要になり、その分コスト削減やメインテナンスの容易さが図れる。
また、上記密閉空間を構成するペリクルには、極薄金属薄膜等のガスバリア性フィルムを使用することにより、耐ガス性を高めることができる。また、このガスバリア性フィルムは、他の材料、例えば、ガラス又はプラスティックに比して極薄にするのに掛かる費用が少なく最適である。極薄とは、数ミクロンの厚さであり、この薄さは、ペリクル３を交換した際に、検査用の光３１の光学収差が異なって来て、検査に支障を来たすのを防ぐ観点から決められる値である。

また、ガス２０は、ペリクル３にも付着するが、レチクルカセット４若しくはペリクル３の交換が容易な構造であるので、これらの一方又は双方を検査毎に交換することで、特許文献１の技術で生ずる問題は無くなる。

このように、この実施形態の構成によれば、レチクルとペリクルの付いたカセットとを機械的に剛体結合することなく、レチクルとカセットとを容易に分離可能である。ペリクルカセットの交換や、ペリクルの交換が容易に行える。
レチクルの検査において、レチクルを汚染したり、損傷を与えることはなくなるし、検査工程の削減や時間の短縮も図れる。
また、ペリクルカセットとレチクルとが分離されているから、検査後のエッチングや、レジストの塗布し直しを容易に行うことができる。
複数のレチクルのレジスト検査を行っても、光学素子は、レジストから放出されるガスの影響を受けない。
このガスの影響を排除するのに、レチクルカセットとレチクルとの間に密閉空間を形成するようにする手段だけでよく、その他の各種態様の手段を設ける必要性を排除することができる。

以上、この発明の実施例を、図面を参照して詳述してきたが、この発明の具体的な構成は、これらの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもそれらはこの発明に含まれる。
例えば、ペリクルカセットを２枚の板材で構成する例を示したが、単一の部材に凹部を形成し、その凹部の底壁に刳り抜き部を設け、この刳り抜き部をペリクルで覆うようにしてレチクルカセットを構成してもよい。

ここに開示しているフォトマスク受納器並びにレジスト検査方法及びその装置は、ＥＵＶマスク、小型高精細ＦＰＤ用マスク等の原版が極めて高価で、かつ、描画後の加工コストも掛かる分野で利用し得る。

この発明の実施形態１であるレチクル受納器を示す図である。この発明の実施形態２であるレチクルのレジスト検査装置を示す図である。同レチクルのレジスト検査装置の有意性の説明図である。従来の１つのレジスト検査装置の説明図である。従来の他のレジスト検査装置で用いられるフォトマスクの構成を説明する図である。上記１つのレジスト検査装置の１つの欠点を説明する図である。上記１つのレジスト検査装置の他の欠点を説明する図である。

符号の説明

１レチクル受納器（フォトマスク受納器）
２レチクル（フォトマスク）
３ペリクル（透光性保護部材）
３ｆ保護膜（透光性保護膜）
４レチクルカセット（枠体）
９板材（第１の枠体）
９ｈ刳り抜き部（凹部の一部）
１０板材（第２の枠体）
１０ｈ刳り抜き部
１０ｐ載置面（凹部の残部）

Claims

レジスト検査のためのフォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に受納できる構造のフォトマスク受納器であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材とを備えてなることを特徴とするフォトマスク受納器。
レジスト検査のためのフォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に受納できる構造のフォトマスク受納器であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する単一の枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材とを備えてなることを特徴とするフォトマスク受納器。
レジスト検査のためのフォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に受納できる構造のフォトマスク受納器であって、
前記フォトマスクの厚みよりも厚く、前記フォトマスクを受納可能な形状の受納用刳り抜き部を有する第１の枠体と、
該第１の枠体と合着され、前記受納用刳り抜き部と共に、前記フォトマスクの厚みよりも深い凹部を形成し、かつ、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する第２の枠体と、
該第２の枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材とを備えてなることを特徴とするフォトマスク受納器。
前記透光性保護部材は、前記刳り抜き部の全周に沿って設けられる支持体と、該支持体の自由端全周に亘って張設された透光性保護膜とから構成されていることを特徴とする請求項１、２又は３記載のフォトマスク受納器。
前記第１の枠体及び前記第２の枠体は、２枚の平板からなることを特徴とする請求項３記載のフォトマスク受納器。
前記透光性保護膜は、極薄金属薄膜からなることを特徴とする請求項４記載のフォトマスク受納器。
前記フォトマスクの前記レジストパターン形成領域と前記透光性保護膜との距離は、１mm乃至６mmに設定されていることを特徴とする請求項４又は６記載のフォトマスク受納器。
フォトマスクに光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する方法であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記透光性保護部材側に向けた前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納め、
前記透光性保護部材側から光を照射して前記レジストパターン形成領域内の前記レジストの検査を行うことを特徴とするレジスト検査方法。
フォトマスクに光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する方法であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する単一の枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記透光性保護部材側に向けた前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納め、
前記透光性保護部材側から光を照射して前記レジストパターン形成領域内の前記レジストの検査を行うことを特徴とするレジスト検査方法。
フォトマスクに光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する方法であって、
前記フォトマスクの厚みよりも厚く、前記フォトマスクを受納可能な形状の受納用刳り抜き部を有する第１の枠体と、
該第１の枠体と合着され、前記受納用刳り抜き部と共に、前記フォトマスクの厚みよりも深い凹部を形成し、かつ、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する第２の枠体と、
該第２の枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記透光性保護部材側に向けた前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納め、
前記透光性保護部材側から光を照射して前記レジストパターン形成領域内の前記レジストの検査を行うことを特徴とするレジスト検査方法。
前記透光性保護部材は、前記刳り抜き部の全周に沿って設けられる支持体と、該支持体の自由端全周に亘って張設された透光性保護膜とから構成されていることを特徴とする請求項８、９又は１０記載のレジスト検査方法。
前記第１の枠体及び前記第２の枠体は、２枚の平板からなることを特徴とする請求項１０記載のレジスト検査方法。
前記透光性保護膜は、極薄金属薄膜からなることを特徴とする請求項１１記載のレジスト検査方法。
前記フォトマスクの前記レジストパターン形成領域と前記透光性保護膜との距離は、１mm乃至６mmに設定されていることを特徴とする請求項１１又は１３記載のレジスト検査方法。
フォトマスク取着部に取着されたフォトマスクに光学系からの光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する装置であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記刳り抜き部を介して前記光学系に向ける前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納める前記フォトマスク受納器が前記フォトマスク取着部に取着される構成となっていることを特徴とするレジスト検査装置。
フォトマスク取着部に取着されたフォトマスクに光学系からの光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する装置であって、
前記フォトマスクの厚みよりも深く、前記フォトマスクを受納可能な形状の凹部と、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する枠体と、
前記枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記刳り抜き部を介して前記光学系に向ける前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納める前記フォトマスク受納器が前記フォトマスク取着部に取着される構成となっていることを特徴とするレジスト検査装置。
フォトマスク取着部に取着されたフォトマスクに光学系からの光を照射し、前記フォトマスクからの反射光を受光して前記フォトマスクのレジストを検査する装置であって、
前記フォトマスクの厚みよりも厚く、前記フォトマスクを受納可能な形状の受納用刳り抜き部を有する第１の枠体と、
該第１の枠体と合着され、前記受納用刳り抜き部と共に、前記フォトマスクの厚みよりも深い凹部を形成し、かつ、前記フォトマスクのレジストパターン形成領域が少なくとも入り得る態様に前記凹部内に形成された刳り抜き部と、該刳り抜き部の周縁部にて前記フォトマスクを載置するための載置面とを有する第２の枠体と、
該第２の枠体の下面であって前記刳り抜き部の外側に設けられ、前記レジストパターン形成領域と対向離隔配置されて、レジスト検査用の光照射に反応して、前記レジストパターン形成領域内のレジストから発生するガスを閉じ込めて置くための密閉空間を形成する透光性保護部材と、
を備えてなるフォトマスク受納器の前記凹部内に、前記レジストパターン形成領域を前記刳り抜き部を介して前記光学系に向ける前記フォトマスクを、機械的剛体的結合なく、真空式着脱手段によって、着脱自在に納める前記フォトマスク受納器が前記フォトマスク取着部に取着される構成となっていることを特徴とするレジスト検査装置。
前記透光性保護部材は、前記刳り抜き部の全周に沿って設けられる支持体と、該支持体の自由端全周に亘って張設された透光性保護膜とから構成されていることを特徴とする請求項１５、１６又は１７記載のレジスト検査装置。
前記第１の枠体及び前記第２の枠体は、２枚の平板からなることを特徴とする請求項１７記載のレジスト検査装置。
前記透光性保護膜は、極薄金属薄膜からなることを特徴とする請求項１８記載のレジスト検査装置。
前記フォトマスクの前記レジストパターン形成領域と前記透光性保護膜との距離は、１mm乃至６mmに設定されていることを特徴とする請求項１８又は２０記載のレジスト検査装置。