KR100494146B1 - 파티클검사장치의 다용도 홀더 및 그를 이용한 검사방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 파티클 검사장치의 다용도 홀더 및 그를 이용한 검사방법에 의하면, 진공장치에 의하여 지지대에 고정되는 척에 다용도홀더를 설치함에 있어서, 상기 다용도홀더를 웨이퍼 형상을 갖도록 제조하여 그 상부면에 포토마스크를 안치하는 포토마스안치부와 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부를 구비하고, 이 다용도홀더의 상부면에 코팅부를 형성하여 광원에서 조사되는 레이저광의 산란을 방지하므로 웨이퍼만을 검사할 수 있는 스캐터링방식(Scattering Type)의 검사장치를 웨이퍼와 포토마스크를 겸용으로 검사하므로 원가를 절감하여 생산성을 향상하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다. 또한, 종래에는 포토마스크를 검사하는 경우, 리플렉턴스방식만을 이용하므로 검사에 시간이 많이 걸렸으나, 스캐터링방식의 검사장치를 사용하여 포토마스크를 검사하므로 검사시간을 대폭적으로 줄여주도록 하는 장점을 지닌다.

Description

파티클검사장치의 다용도 홀더 및 그를 이용한 검사방법 { Multi- Utilizing Holder Of Particle Inspection Device And Inspection Method Thereof }

본 발명은 파티클 검사장치에 관한 것으로서, 특히, 진공장치에 의하여 지지대에 고정되는 척에 다용도홀더를 설치함에 있어서, 상기 다용도홀더를 웨이퍼 형상을 갖도록 제조하여 그 상부면에 포토마스크를 안치하는 포토마스안치부와 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부를 구비하고, 이 다용도홀더의 상부면에 코팅부를 형성하여 광원에서 조사되는 레이저광의 산란을 방지하므로 웨이퍼만을 검사할 수 있는 스케터링방식(Scattering Type)의 검사장치를 웨이퍼와 포토마스크를 겸용으로 검사하도록 하므로 원가를 절감하여 생산성을 향상하도록 하는 파티클 검사장치의 다용도홀더 및 그를 이용한 검사방법에 관한 것이다.

반도체 제조 공정시 생기는 결함등을 제품출하 이전에 검사관리 제거하여야 품질을 높일수 있고, 제품수율을 높일 수 있다. 현재 유수 공정 결함 검사장치(Process induced Defects)는 (1)웨이퍼 공정 검사장치와 (2)포토마스크 공정 검사및 엘씨디 검사장치등으로 분류할 수 있다.

또한, 알고리즘에 적용에 의한 검사장치에는 웨이퍼에 주로 이용되는 방식으로서, 패턴 투 패턴(Pattern To Pattern)비교 방식에 의한 결함 검사장치, 포토마스크나 엘씨디(LCD)등에 적용하는 데이터 베이스(Database)검사장치가 있다. 그리고, 웨이퍼와 포토마스크에 공통으로 적용하는 다이 투 다이(Die To Die)검사장치가 있다. 보통 데이터 베이스 검사는, 패턴투 검사와 다이 투 다이 검사에 비하여 훨씬 많은 시간이 걸린다. 현재의 0.15㎛급 디자인 룰의 포토마스크를 데이터 베이스 검사로 하는 경우, 2시간정도 걸린다.

일반적으로 포토마스크는 광이 투과하는 석영이기 때문에 포토마스크를 결함을 검사하는 기술적인 방법은, 포토마스크 상면에서 수직 반사되는 광(Reflectance Light)과 투과되는 광(Transmittance Light)의 정보를 분석하여 포토마스크에 있는 결함과 정상적인 크롬패턴 혹은 위상반전물질(Phase Shift Material)을 구분하게 되는 것이다.

한편, 상기 포토마스크와는 반대로 웨이퍼의 결함을 검사하는 방법은, 불투명의 실리콘기판을 사용하므로 순전히 반사된 빛만을 가지고 결함을 검사한다.(리플렉턴스방식)

웨이퍼를 검사하는 방법은 주로 수직으로 입사하는 레이저광을 이용하여 결함을 검사한다. 일부에서는 웨이퍼를 스테이지 있는 척 위에 설치하여 진공으로 흡착 고정하고 측면에서 경사지게 레이저광을 조사하여 결함부위에서 산란된 빛을 검출하고 주변 패턴과 비교하여 결함여부를 검사한다.(스캐터링방식)

도 1은 종래의 파티클 검사장치의 구성을 보인 도면으로서, 종래의 스캐터링방식으로 웨이퍼의 파티클을 검사하는 파티클검사장치의 구성을 살펴 보면, 크롬패턴(4)이 상면에 형성된 웨이퍼(5)와; 상기 웨이퍼(5)를 저면에서 지지하는 웨이퍼척(6)과; 상기 웨이퍼척(6)에 진공압력을 가하여 흡착 고정시키도록 하는 진공관로(7)와; 상기 웨이퍼척(6)을 저면에서 지지하고 수평으로 이동하도록 하는 스테이지(8)와; 상기 웨이퍼(5)에 경사지게 레이저광을 조사하는 광원(2)과; 상기 광원(2)에서 조사된 레이저광을 결함부위(3)에서 반사한 상태에서 받아들여서 분석하도록하는 씨씨디카메라(1)로 구성된다.

상기 구성의 작동 상태를 보면, 상기 크롬패턴(4)이 형성된 웨이퍼(5)를 웨이퍼척(6)에 안치하여 진공압력을 진공관로(7)를 통하여 가하여 고정시키도록 한다.

이러한 상태에서 상기 광원(2)에서 레이저광을 조사하여 광이 반사하여서 결함부위(3)에 부딪친 광이 반사하여서 씨씨디카메라(1)로 입사하여 다른 패턴과 서로 비교 분석하여 결함을 찾아내게 된다.

그런데, 상기한 스캐터링(Scattering) 방식은 광이 투과하지 않는 웨이퍼의 검사에만 이용하고 있으며, 이 스캐터링 방식은 리플렉턴스 방식에 비하여 검사시간이 현저하게 적게 드는 장점을 지닌다.

반면에 상기 리플렉턴스방식은 포토마스크등과 같이 클리어필드(Clear Field)가 있는 산란이 발생되는 물질에 주로 적용하지만 분석에 시간이 많이 들어서 생산성을 저하시키는 요인으로 작용하는 문제점을 지닌다.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 진공장치에 의하여 지지대에 고정되는 척에 다용도홀더를 설치함에 있어서, 상기 다용도홀더를 웨이퍼 형상을 갖도록 제조하여 그 상부면에 포토마스크를 안치하는 포토마스안치부와 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부를 구비하고, 이 다용도홀더의 상부면에 코팅부를 형성하여 광원에서 조사되는 레이저광의 산란을 방지하므로 웨이퍼만을 검사할 수 있는 스케터링방식(Scattering Type)의 검사장치를 웨이퍼와 포토마스크를 겸용으로 검사하므로 원가를 절감하여 생산성을 향상하도록 하는 것이 목적이다.

본 발명의 목적은, 웨이퍼와 포토마스크의 파티클을 검사하도록 하는 검사장치에 있어서, 크롬패턴이 상부면에 각각 형성된 상기 웨이퍼 및 포토마스크를 선택적으로 안치하도록 하는 다용도 홀더와; 상기 다용도 홀더를 저면에서 지지하는 홀더척과; 상기 홀더척을 지지대로 지지하고, 진공압력을 가하여 흡착 고정시키도록 하는 진공관로를 구비하는 진공장치와; 상기 진공장치를 저면에서 지지하고 홀더척을 수평으로 이동하도록 하는 스테이지와; 상기 웨이퍼에 경사지게 설치된 광원에서 조사된 레이저광을 결함부위에서 반사한 상태에서 받아들여서 분석하도록 하는 씨씨디카메라로 구성된 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 제공함으로써 달성된다.

그리고, 상기 다용홀더의 상부면에는 레이저광이 산란되는 것을 방지하도록 하는 블랙으로 된 코팅부를 형성하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 다용도 홀더는, 포토마스크안치부에 포토마스크가 안치하여 유동되는 것을 방지하도록 모서리부분에 삽입공을 형성하고, 연질의 고정부재를 삽입하여 포토마스크를 고정하는 것이 바람직하다.

상기 고정부재는, 고무재를 사용하도록 한다.

그리고, 상기 다용도 홀더의 중앙부분 저면에 지그를 삽입하도록 하는 복수의 지그홀을 형성하도록 한다.

그리고, 상기 다용도 홀더의 측면부분에 센서로 위치를 인식하는 플랫존을 형성하고, 이 플랫존의 저면부분에 홀더를 로딩할 수 있는 홀더로딩홈을 형성하는 것이 바람직 하다.

상기 다용도 홀더의 가장자리 저면에는 서서히 경사져 있는 경사면부를 형성하여 다용도 홀더를 홀더척의 안치부에서 장착 혹은 분리가 용이하도록 구성한다.

상기 경사면부는, 2 ∼ 6mm의 너비와, 0.5 ∼ 1.5mmm의 높이를 갖는 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 다용도 홀더에서 상기 포토마스크안치부로 부터 저면 사이의 두께는, 5 ∼ 7mm인 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 다용도 홀더에서 상기 포토마스크안치부와 공간부 바닥면 사이의 두께는, 0.3 ∼ 1mm정도인 것이 바람직 하다.

상기 다용도 홀더는 알루미늄재, 글래스파이버 혹은 경화프라스틱재 중에 어느 하나인 것이 바람직 하다.

또한, 본 발명의 목적은, 스캐터링 검사장치를 이용한 검사방법에 있어서, 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부와 더불어 포토마스크를 안치하는 포토마스크안치부를 구비하는 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하는 단계와; 상기 단계 후에 상기 포토마스크의 유동을 방지하기 위하여 모서리에 형성된 삽입공에 고무재인 고정부재를 삽입하여 흡착 고정하는 단계와; 상기 단계 후에 상기 포토마스크가 안치된 다용도 홀더를 척홀더에 안치하고 진공장치에서 진공관로로 진공을 가하여 고정하는 단계와; 상기 단계 후에 상기 광원에서 조사된 레이저광으로 포토마스크의 결함부위에서 산란된 광을 씨씨디카메라에서 받아 들여 결함을 분석하는 단계를 포함하여 이루어진 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법을 제공함으로써 달성된다.

상기 광원의 입사각도는, 0.25°∼ 34°인 것이 바람직 하다.

또한, 본 발명의 목적은, 스캐터링 검사장치를 이용한 검사방법에 있어서, 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부와 더불어 포토마스크를 안치하는 포토마스크안치부를 구비하는 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하는 단계와; 상기 단계 후에 상기 웨이퍼가 안치된 다용도 홀더를 척홀더에 안치하고 진공장치에서 진공관로로 진공을 가하여 흡착 고정하는 단계와; 상기 단계 후에 상기 광원에서 조사된 레이저광으로 웨이퍼의 결함부위에서 산란된 광을 씨씨디카메라에서 받아 들여 결함을 분석하는 단계를 포함하여 이루어진 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법을 제공함으로써 달성된다.

그리고, 상기 광원의 입사각도는, 0.25 ∼ 34°인 것이 바람직 하다.

이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 살펴 보도록 한다.

도 2는 본 발명에 따른 파티클검사장치의 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하여 검사하는 상태를 보인 도면이고, 도 3은 본 발명에 따른 파티클검사장치의 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하여 검사하는 상태를 보인 도면이며, 도 4는 본 발명에 따른 다용도홀더의 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하여 본 단면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하여 본 단면도이며, 도 7은 본 발명에 따른 파티클검사장치의 전체 구성을 보인 도면이다.

본 발명의 구성은, 웨이퍼(50)와 포토마스크(60)의 파티클을 검사하도록 하는 검사장치에 있어서, 크롬패턴(52)(62)이 상부면에 각각 형성된 상기 웨이퍼(50) 및 포토마스크(60)를 선택적으로 안치하도록 하는 다용도 홀더(30)와; 상기 다용도 홀더(30)를 저면에서 지지하는 홀더척(70)과; 상기 홀더척(70)을 지지대(84)로 지지하고, 진공압력을 가하여 흡착 고정시키도록 하는 진공관로(82)를 구비하는 진공장치(80)와; 상기 진공장치(80)를 저면에서 지지하고 홀더척(70)을 수평으로 이동하도록 하는 스테이지(86)와; 상기 웨이퍼(60)에 경사지게 설치된 광원(22)에서 조사된 레이저광을 결함부위(64)에서 반사한 상태에서 받아들여서 분석하도록 하는 씨씨디카메라(10)로 구성된다.

그리고, 상기 다용홀더(30)의 상부면에는 레이저광이 산란되는 것을 방지하도록 하는 블랙으로 된 코팅부(44)를 형성하도록 한다.

그리고, 상기 다용도 홀더(30)는, 포토마스크안치부(34)에 포토마스크(34)가 안치하여 유동되는 것을 방지하도록 모서리부분에 삽입공(36)을 형성하고, 연질의 고정부재(38)를 삽입하여 포토마스크(34)를 고정하도록 한다.

상기 고정부재(30)는, 고무재인 것이 바람직 하고, 지름이 3 ∼ 4mm정도를 갖는 것이 바람직 하다.

상기 다용도 홀더(30)의 중앙부분 저면에 지그(Jig)를 삽입하도록 하는 복수의 지그홀(40)을 형성하도록 한다.

상기 지그홀(40)은, 가로 × 세로 길이가 3mm ×4mm정도로 형성되는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 다용도 홀더(30)의 측면부분에 센서로 위치를 인식하는 플랫존(43)을 형성하고, 이 플랫존(43)의 저면부분에 홀더를 로딩할 수 있는 홀더로딩홈(42)을 형성하도록 한다.

상기 홀더로딩홈(42)은, 가로 × 세로 길이가 3mm ×4mm정도로 형성되고, 깊이가 3 ∼ 4 mm정도로 형성되는 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 다용도 홀더(30)의 가장자리 저면에는 서서히 경사져 있는 경사면부(33)를 형성하여 다용도 홀더(30)를 홀더척(70)의 안치부(72)에서 장착 혹은 분리가 용이하게 구성하도록 한다.

상기 경사면부(33)는, 2 ∼ 6mm의 너비(a)와, 0.5 ∼ 1.5mmm의 높이(b)를 갖는 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 다용도 홀더(30)는, 상기 포토마스크안치부(34)로 부터 저면 사이의 두께(c)는, 5 ∼ 7mm인 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 다용도 홀더(30)에서 상기 포토마스크안치부(34)와 공간부(46) 바닥면 사이의 두께(d)는, 0.3 ∼ 1mm정도로 형성하도록 한다.

한편, 상기 다용도 홀더(30)는 알루미늄재, 글래스파이버 혹은 경화프라스틱재 중에 어느 하나인 것이 바람직 하다.

상기 다용도 홀더(30)는, 알루미늄재 혹은 다른 금속재에 테프론코팅을 하여 사용할 수 있다.

이하, 상기한 본 발명에 따른 다용도홀더를 사용하여 검사하는 방법을 살펴 보도록 한다.

도 2에 도시된 바와 같이, 스캐터링 검사장치를 사용하여 포토마스크(50)를 검사하는 공정을 살펴 보도록 한다.

웨이퍼(60)를 안치하는 웨이퍼안치부(32)와 더불어 포토마스크(50)를 안치하는 포토마스크안치부(34)를 구비하는 다용도 홀더(30)에 포토마스크(50)를 안치하도록 한다.

그리고, 상기 단계 후에 상기 포토마스크(50)의 유동을 방지하기 위하여 모서리에 형성된 삽입공(36)에 고무재인 고정부재(38)를 삽입하여 압입 고정하도록 한다.

상기 단계 후에 상기 포토마스크(50)가 안치된 다용도 홀더(30)를 척홀더(70)에 안치하고, 진공장치(80)에서 진공관로(82)로 진공을 가하여 다용도 홀더(30)를 고정하도록 한다.

그리고, 상기 단계 후에 상기 광원(22)에서 조사된 레이저광으로 포토마스크(50)의 결함부위(54)에서 산란된 광을 씨씨디카메라(10)에서 받아 들여 결함을 분석하도록 한다.

한편, 상기 광원(22)에서 조사되는 레이저광은 포토마스크(50) 상에 형성된 크롬패턴(52)에서 반사되거나, 석영인 포토마스크(50)에서 투과되어 반사되어지거나, 결함부위(54)에서 소정각도로 굴절 반사되어져 씨씨디카메라(10)로 입사되어지게되고, 이 입사된 신호를 패턴과 결함부부위를 서로 비교하여서 결함을 분석하도록한다.

이 때, 상기 다용도 홀더(30)의 상부면에 코팅되어져 있는 블랙 코팅부(44)에 의하여 광원(22)에서 조사된 광이 불필요하게 산란되는 것을 방지하여 검사에 도움을 주게 된다.

상기 광원(22)의 입사각도는, 0.25°∼ 34°인 것이 바람직 하다.

도 3에 도시된 바와 같이, 스캐터링 검사장치를 사용하여 웨이퍼(60)를 검사하는 공정을 살펴 보도록 한다.

웨이퍼(60)를 안치하는 웨이퍼안치부(32)와 더불어 포토마스크(50)를 안치하는 포토마스크안치부(34)를 구비하는 다용도 홀더(30)에 웨이퍼(60)를 안치하도록 한다.

그리고, 상기 단계 후에 상기 웨이퍼(60)가 안치된 다용도 홀더(30)를 척홀더(70)에 안치하고 진공장치(80)에서 진공관로(82)로 진공을 가하여 흡착 고정하도록 한다.

상기 단계 후에 상기 광원(22)에서 조사된 레이저광으로 웨이퍼(60)의 결함부위(64)에서 산란된 광을 씨씨디카메라(10)에서 받아 들여 결함을 분석하도록 한다.

상기 광원(22)의 입사각도는, 0.25°∼ 34°인 것이 바람직하다.

상기 웨이퍼(60)는, 다크필드 플랫(Dark Field Flat)재질로서, 레이저광이 투과 되지 않아 산란이 없으므로 분석에 어려움은 없다.

도 7은 본 발명의 파티클 검사장치를 상세하게 보인 도면으로서, 사용 상태를 살펴 보면, 다용도 홀더(30)에 포토마스크(50)를 설치한 상태에서 다용도 홀더(30)를 진공장치(80)로 흡착하여 고정하도록 한다.

그리고, 상기 스테이지(26)에 대하여 프리얼라인부(24)를 이동하여 다용도홀더(30)의 X-Y얼라인 위치를 맞추도록 한다.

이러한 상태에서 광원(22)에서 레이저광을 조사하여 미러(20) 및 회전미러(18)를 거쳐 공간을 이동하여 포토마스크(50)에 경사지게 조사하도록 한다.

그리고, 상기 반사된 광은 렌즈부(16)를 지나 빔스플리트(12)를 거쳐 씨씨디카메라(10) 및 이미지카메라(14)에서 입사되어 분석되어진다.

따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 파티클 검사장치의 다용도 홀더 및 그를 이용한 검사방법에 의하면, 진공장치에 의하여 지지대에 고정되는 척에 다용도홀더를 설치함에 있어서, 상기 다용도홀더를 웨이퍼 형상을 갖도록 제조하여 그 상부면에 포토마스크를 안치하는 포토마스안치부와 웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부를 구비하고, 이 다용도홀더의 상부면에 코팅부를 형성하여 광원에서 조사되는 레이저광의 산란을 방지하므로 웨이퍼만을 검사할 수 있는 스캐터링방식(Scattering Type)의 검사장치를 웨이퍼와 포토마스크를 겸용으로 검사하므로 원가를 절감하여 생산성을 향상하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.

또한, 종래에는 포토마스크를 검사하는 경우, 리플렉턴스방식만을 이용하므로 검사에 시간이 많이 걸렸으나, 스캐터링방식의 검사장치를 사용하여 포토마스크를 검사하므로 검사시간을 대폭적으로 줄여주어 작업성을 향상하는 장점을 지닌다.

도 1은 종래의 파티클 검사장치의 구성을 보인 도면이고,

도 2는 본 발명에 따른 파티클검사장치의 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하여 검사하는 상태를 보인 도면이고,

도 3은 본 발명에 따른 파티클검사장치의 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하여 검사하는 상태를 보인 도면이며,

도 4는 본 발명에 따른 다용도 홀더의 사시도이고,

도 5는 본 발명에 따른 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하여 본 단면도이고,

도 6은 본 발명에 따른 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하여 본 단면도이며,

도 7은 본 발명에 따른 파티클검사장치의 전체 구성을 보인 도면이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

10 : 씨씨디카메라 12 : 빔스플리트

14 : 이미지카메라 16 : 렌즈부

18 : 회전미러 20 : 미러

22 : 광원 24 : 프리얼라인부

26 : 스테이지 30 : 다용도홀더

32 : 웨이퍼안치부 34 : 포토마스크안치부

36 : 삽입공 38 : 고정부재

40 : 지그홀 42 : 홀더로딩홈

44 : 코팅부 46 : 공간부

50 : 포토마스크 52 : 크롬패턴

60 : 웨이퍼 62 : 크롬패턴

70 : 홀더척 80 : 진공장치

82 : 진공관로 84 : 지지대

Claims (16)

1. 웨이퍼와 포토마스크의 파티클을 검사하도록 하는 검사장치에 있어서,

   크롬패턴이 상부면에 각각 형성된 상기 웨이퍼 및 포토마스크를 선택적으로 안치하도록 하는 다용도 홀더와;

   상기 다용도 홀더를 저면에서 지지하는 홀더척과;

   상기 홀더척을 지지대로 지지하고, 진공압력을 가하여 흡착 고정시키도록 하는 진공관로를 구비하는 진공장치와;

   상기 진공장치를 저면에서 지지하고, 홀더척을 수평으로 이동하도록 하는 스테이지와;

   상기 웨이퍼에 경사지게 레이저광을 조사하는 광원에서 조사된 레이저광을 결함부위에서 반사한 상태에서 받아들여서 분석하도록 하는 씨씨디카메라로 구성된 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 다용홀더의 상부면에는 레이저광이 산란되는 것을 방지하도록 하는 블랙으로 된 코팅부를 형성하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더는, 포토마스크안치부에 포토마스크가 안치되어 유동되는 것을 방지하도록 모서리부분에 삽입공을 형성하고, 연질의 고정부재를 삽입하여 포토마스크를 고정하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 고정부재는, 고무재인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더의 중앙부분 저면에 지그를 삽입하도록 하는 복수의 지그홀을 형성하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더의 측면부분에 센서로 위치를 인식하는 플랫존을 형성하고, 이 플랫존의 저면부분에 홀더를 로딩할 수 있는 홀더로딩홈을 형성하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더의 가장자리 저면에는 서서히 경사져 있는 경사면부를 형성하여 다용도 홀더를 홀더척의 안치부에서 장착 혹은 분리가 용이하도록 구성하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
8. 제 7 항에 있어서, 상기 경사면부는, 2 ∼ 6mm의 너비와, 0.5 ∼ 1.5mmm의 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
9. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더는, 상기 포토마스크안치부로 부터 저면 사이의 두께는, 5 ∼ 7mm인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
10. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더에서 상기 포토마스크안치부와 공간부 바닥면 사이의 두께는, 0.3 ∼ 1mm정도인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
11. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도 홀더는, 알루미늄재, 글래스파이버 혹은 경화프라스틱재중에 어느 하나인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
12. 제 1 항에 있어서, 상기 다용도홀더의 포토마스크안치부에 시각형상의 LCD기판을 안치하는 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더.
13. 스캐터링 검사장치를 이용한 검사방법에 있어서,

    웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부와 더불어 포토마스크를 안치하는 포토마스크안치부를 구비하는 다용도 홀더에 포토마스크를 안치하는 단계와;

    상기 단계 후에 상기 포토마스크의 유동을 방지하기 위하여 모서리에 형성된 삽입공에 고무재인 고정부재를 삽입하여 압입 고정하는 단계와;

    상기 단계 후에 상기 포토마스크가 안치된 다용도 홀더를 척홀더에 안치하고 진공장치에서 진공관로로 진공을 가하여 흡착 고정하는 단계와;

    상기 단계 후에 상기 광원에서 조사된 레이저광으로 포토마스크의 결함부위에서 산란된 광을 씨씨디카메라에서 받아 들여 결함을 분석하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법.
14. 제 13 항에 있어서, 상기 광원의 입사각도는, 0.25°∼ 34°인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법.
15. 스캐터링 검사장치를 이용한 검사방법에 있어서,

    웨이퍼를 안치하는 웨이퍼안치부와 더불어 포토마스크를 안치하는 포토마스크안치부를 구비하는 다용도 홀더에 웨이퍼를 안치하는 단계와;

    상기 단계 후에 상기 웨이퍼가 안치된 다용도 홀더를 척홀더에 안치하고 진공장치에서 진공관로로 진공을 가하여 흡착 고정하는 단계와;

    상기 단계 후에 상기 광원에서 조사된 레이저광으로 웨이퍼의 결함부위에서 산란된 광을 씨씨디카메라에서 받아 들여 결함을 분석하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법.
16. 제 15 항에 있어서, 상기 광원의 입사각도는, 0.25°∼ 34°인 것을 특징으로 하는 파티클 검사장치의 다용도 홀더를 이용한 검사방법.