CN115552332A - 具有涂层感测区的光罩盒 - Google Patents

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Abstract

使用干式涂布方法在光罩容器的内盒上产生感测区。所述感测区是具有特定光谱反射率的离散区。所述感测区经定位使得其可通过工具读取以确定所述盒的部分的距离。与用材料完全镀覆的内盒或其它湿式涂布施覆的材料相比，使用离散区及干式涂布方法用于施覆所述离散区会克服清洁或维持所述光罩容器的内盒的反射比时的不一致性及困难的问题。

Description

具有涂层感测区的光罩盒
相关申请案的交叉引用
本申请案主张2020年4月17日申请的第63/011,581号美国临时申请案的利益及优先权，所述申请案的全部内容出于所有目的以引用的方式并入本文中。
技术领域
本公开涉及光罩盒，特定来说，光罩盒(例如极紫外线(EUV)光罩盒)上的感测区的形成。
背景技术
光罩盒用于装纳在半导体处理期间(例如在极紫外线(EUV)处置期间)使用的光刻掩模。光罩盒可包含在处理期间由一或多个工具处置及操纵的金属内盒。一些工具可使用反射比来确定内盒与工具内的一或多个传感器的距离。通常使用去离子(DI)水来清洁光罩盒，这可导致一些材料的氧化。
光罩盒的内盒可用铬湿式涂布，以改进反射比及外观，且抵抗因由DI水清洁引起的氧化所致的反射比损失。然而，光罩盒的形状引起湿式涂布的困难。
发明内容
本公开涉及光罩盒，特定来说光罩盒(例如极紫外线(EUV)光罩盒)上的感测区的形成。
通过使用干式涂布工艺将反射涂层选择性地施覆到所述光罩盒上的离散感测区，可提供反射材料以与工艺工具上的传感器介接，而无需对整个光罩盒进行湿式涂布。另外，可提供所述反射涂层使得其具有所要厚度及强度。
在实施例中，一种盒包含具有底板表面的底板。所述底板表面包含底板表面材料及反射材料。所述底板表面的所述反射材料安置于一或多个离散底板感测区中。所述盒还包含具有盖表面的盖。所述盖表面包含盖表面材料及所述反射材料。所述盖表面的所述反射材料安置于一或多个盖感测区中。
在实施例中，所述盒是EUV光罩盒。在实施例中，所述盒进一步包含外盒圆顶及外盒门，所述盒圆顶及所述盒门经配置以在所述门附接到所述盒圆顶时将所述底板及所述盖容纳于所述盒圆顶内。
在实施例中，所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。在实施例中，所述反射材料包含铬。在实施例中，仅所述反射材料包含所述铬。
在实施例中，所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区经定位使得可从读取所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
在实施例中，所述底板表面包含铝或镍中的一者且所述盖表面是铝或镍中的一者。
在实施例中，一种生产光罩盒的方法包含：使用干式涂布工艺将反射材料施覆到所述光罩盒的底板的一或多个离散底板感测区中的每一者；以及使用所述干式涂布工艺将所述反射材料施覆到所述光罩盒的盖的一或多个离散盖感测区中的每一者。
在实施例中，所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。
在实施例中，所述干式涂布工艺是选自由以下组成的群组：物理气相沉积、溅镀沉积、化学气相沉积及等离子体增强化学气相沉积。
在实施例中，所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区经定位使得可从读取所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
附图说明
可结合附图考虑各种阐释性实施例的以下描述而完整地理解本公开。
图1A展示根据实施例的光罩盒的底板的底部平面图。
图1B展示根据实施例的光罩盒的盖的底部平面图。
图1C展示图1B中所展示的光罩盒的盖的侧视图。
图2展示根据实施例的生产光罩盒的方法的流程图。
图3展示根据实施例的包含外盒及内盒的光罩盒。
图4展示根据实施例的极紫外线(EUV)工具中的光罩盒的示意图。
虽然本公开易有各种修改及替代形式，但已在图中通过实例展示且将详细描述其细节。然而，应理解，不旨在将本公开的方面限于所描述的特定阐释性实施例。相反地，旨在涵盖落在本公开的精神及范围内的所有修改、等效物及替代。
具体实施方式
本公开涉及光罩盒，特定来说，光罩盒(例如极紫外线(EUV)光罩盒)上的感测区的形成。
图1A展示根据实施例的光罩盒的底板的底部的平面图。底板100形成光罩盒的内盒的部分。底板100包含一或多个感测区102。
底板100包含形成底板100的表面的底板表面材料。底板表面材料可为用于形成底板的材料，例如铝或用于光罩盒的底板100的任何其它合适的材料。特定来说，底板100可进一步包含用于操纵光罩盒或底板100的特征。底板表面材料可为施覆到底板100以形成底板100的表面的涂层，例如镍涂层。
在一或多个实施例中，至少一个感测区102可设置在底板100的表面上。感测区102是由反射材料制成的离散区。感测区102是形成于底板100的表面的片段上的反射材料的界定区。一或多个感测区102覆盖小于底板100的整个表面的区域。感测区102可具有任何合适的形状，以用于呈现待通过一或多个传感器(例如包含在处置包含底板100的光罩盒的工具中的传感器)读取的反射材料。感测区102可包含感测区材料，所述感测区材料可为与底板100表面上的周围底板材料不同的材料。例如，底板100可由铝制成，其中感测区材料经施覆到底板100上的暴露铝材料或镍涂层上以形成离散感测区102。在实施例中，感测区材料可经安置且与施覆到底板100的表面材料的涂层接触以形成离散感测区102。在实施例中，感测区102可施覆到由与感测区102中使用的感测区材料不同的材料制成的涂层。在实施例中，感测区102可施覆到包含与感测区102相同的至少一些材料但通过不同于干式涂布的方法提供的涂层。例如，可将铬涂层施覆到用于底板100的铬表面材料，其中感测区102通过用干式涂布方法施覆额外铬，以与作为镍上的湿式涂布铬的底板表面材料相比在所述感测区102内提供不同密度、厚度及均匀性的铬而形成。
感测区102可设置在底板100的任何部分上，其中传感器可尝试检测底板100。在实施例中，感测区102设置在底板100的底表面上，且当底板100与盖(例如在图1B中展示及在下文描述的盖150)组装在一起时，感测区102从光罩盒的底部可见。在实施例中，底板100上包含一个感测区102。在实施例中，底板上包含多个感测区102。在实施例中，感测区102定位于底板100的底表面上，使得当包含底板100的光罩盒组装完成时，感测区102未被例如图1B及1C中所展示的盖150的盖遮蔽。在图1A中展示的实施例中，四个感测区102设置于底板100上，其中四个感测区102设置于底板100的底表面上。
感测区102中使用的反射材料具有经选择用于配合使用包含底板100的盒的工具的检测系统使用的已知光谱反射比。在一些实施例中，反射材料可具有不同于底板表面材料的反射比的反射比，例如大于或小于底板表面材料的反射比。感测区102可在位于已知预定范围内的一或多个预定波长下提供光谱反射比，使得由感测区102反射的光与内盒底板100距使用光罩的工具(例如(举例来说)用于处理晶片的极紫外线(EUV)工具)的参考的特定距离相关联。作为非限制性实例，对于一或多个预定波长中的至少一者，感测区102中的每一者的光谱反射比的范围在大约57％与大约63％之间。在实施例中，感测区102中的每一者在880nm的波长下具有在大约57％与大约63％之间的光谱反射比。感测区可包含具有所要光谱反射比性质且能够通过干式涂布方法进行施覆的任何合适的反射材料。反射材料可为经选择使得其在通过工具处理期间不会起反应的惰性材料。作为非限制性实例，反射材料可包含铬。在实施例中，仅包含在光罩盒中的一或多个感测区102及152包含铬。
反射材料可通过干式涂布方法(例如物理气相沉积(PVD)、溅渡沉积、化学气相沉积(CVD)及等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD))提供于感测区102中。与例如镀覆整个底板100的湿式涂布方法相比，所得感测区102可在所述感测区102内具有更耐久且均匀的涂层。经改进耐久性又可改进感测区102的外观及适当反射率的维持。
图1B展示根据实施例的光罩盒的盖150的底表面的平面图，且图1C展示图1B中所展示的光罩盒的盖150的侧视图。盖150包含感测区152。
盖150经配置以连结到底板(例如图1A中展示的底板100)，以形成经配置以容纳光罩的光罩盒。盖150可经配置使得光罩装纳部分158通过底板100围封。特定来说，盖150可进一步包含用于操纵光罩盒或盖150的特征。盖150可由例如铝的任何合适的材料制成。盖150的表面是盖表面材料，所述盖表面材料可为形成盖150的主体的材料，或涂层(例如形成于所述材料上的镍)。
除设置于底板100上的感测区102外或代替设置于底板100上的感测区102，一或多个感测区152也可设置于盖150上。一或多个感测区152是包含反射材料的离散区。一或多个感测区152覆盖小于盖150的整个表面的区域。反射材料可通过干式涂布工艺进行施覆。感测区152可具有任何合适的形状，以用于呈现待通过一或多个传感器(例如包含在处置包含盖150的光罩盒的工具中的传感器)读取的反射材料。感测区152可使用与待配合盖150使用的底板上的感测区相同或不同的反射材料，例如图1A中展示的底板100上的感测区102的反射材料。一或多个感测区可设置于盖150上，使得当盖150与底板(例如底板100)组合以形成光罩盒的内盒时，可通过工具读取一或多个感测区。在实施例中，感测区152经定位使得当包含底板及盖150的光罩盒组装完成时，感测区152未被例如图1A中展示的底板100的底板遮蔽。在图1B及1C中展示的实施例中，提供四个感测区152，其中两个感测区152在从盖的侧156的延伸部154的底表面上(如在图1B中可见)，且两个感测区盖150的面向外的侧表面上(如在图1C中可见)。
感测区152中使用的反射材料具有经选择用于配合使用包含盖150的盒的工具的检测系统使用的已知光谱反射比。反射材料可为经选择使得其在通过工具处理期间不会起反应的惰性材料。感测区152可在位于已知预定范围内的一或多个预定波长下提供光谱反射比，使得由感测区152反射的光与内盒盖150距工具(例如用于使用光罩处理晶片的极紫外线(EUV)工具)的参考的特定距离相关联。作为非限制性实例，对于一或多个预定波长中的至少一者，感测区152中的每一者的光谱反射比的范围在大约57％与大约63％之间。在实施例中，感测区152中的每一者在880nm的波长下具有在大约57％与大约63％之间的光谱反射比。感测区152可包含具有所要光谱反射比性质且能够通过干式涂布方法进行施覆的任何合适的反射材料。反射材料可为经选择使得其在通过工具处理期间不会起反应的惰性材料。作为非限制性实例，反射材料可包含铬。在实施例中，仅包含在光罩盒中的一或多个感测区102及152包含铬。
反射材料可通过干式涂布方法(例如物理气相沉积(PVD)、溅渡沉积、化学气相沉积(CVD)及等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD))提供于感测区152中。与例如镀覆整个盖150的湿式涂布方法相比，所得感测区152可在所述感测区152内具有更耐久且均匀的涂层。继而，经改进耐久性可改进感测区152的外观及适当反射率的维持。
盖150可包含用于其包含在其中的光罩盒的功能的进一步特征。例如，盖150可包含形成经配置以容纳例如光刻掩模的光罩的内部空间的部分的光罩装纳部分154。
图2展示根据实施例的生产光罩盒的方法的流程图。方法200包含：提供底板202；任选地涂布底板204；使用干式涂布方法将反射材料施覆到底板上的一或多个感测区206；提供盖208；任选地涂布盖210；及使用干式涂布方法将反射材料施覆到盖上的一或多个感测区212。方法的一些实施例还可包含抛光步骤，其中抛光一或多个感测区以实现所要光谱反射率。
在202处，可提供底板。底板是用于光罩盒中的成型底板。底板可为用于光罩盒底板的任何合适的材料，作为非限制性实例，例如铝。在202处提供的底板可包含完成底板的所有特征，例如在202处提供底板时，界定光罩装纳部分的壁、光罩支撑件、用于与盖接合的特征、用于与使用或操纵光罩的工具内的自动化接合的特征及类似者。
在204处，可任选地涂布底板。涂层可为待施覆到底板的任何合适的涂层，例如用于改进外观、提供耐磨性、提供与处理工具中的用途兼容的惰性表面或此涂层的任何其它所要功能的涂层。在204处施覆的涂层可通过湿式涂布工艺，例如镀覆或任何其它涂布方法，包含将底板浸没于液体内。在204处，可将一或多个此类涂层施覆到底板。在204施覆到底板的涂层中的一者可为镍。
在一些实施例中，在206，可使用干式涂布方法将反射材料施覆到底板上的一或多个离散位置以形成感测区。干式涂布方法可为不包含在涂布期间将液体施覆到底板的任何方法。作为非限制性实例，干式涂布方法可为物理气相沉积(PVD)、溅渡沉积、化学气相沉积(CVD)及等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)。在206将反射材料施覆到其的一或多个感测区是离散区，且这些离散区组成小于底板的整个表面。可通过例如在沉积期间通过干式涂布方法施覆的掩模来界定一或多个感测区，其中掩模仅允许在一或多个感测区上进行沉积。
在206处施覆到底板的反射材料具有经选择用于配合使用包含底板的盒的工具的检测系统使用的已知光谱反射比。反射材料可为经选择使得其在工具内使用光罩盒期间不会起反应的惰性材料。作为非限制性实例，反射材料可包含铬。反射材料可经施覆到感测区使得感测区在位于已知预定范围内的一或多个预定波长下提供光谱反射比，使得由感测区反射的光与内盒底板距工具(例如用于使用光罩进行处理的极紫外线(EUV)工具)的参考的特定距离相关联。作为非限制性实例，对于一或多个预定波长中的至少一者，感测区中的每一者的光谱反射比的范围在大约50％与大约70％之间。在实施例中，感测区中的每一者在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射比。
在208处，提供盖。盖是用于光罩盒的成型盖。盖可为用于光罩盒盖的任何合适的材料，作为非限制性实例，例如铝。在208提供的盖可包含完成盖的所有特征，例如在208处提供盖时，界定光罩装纳部分的壁、用于与底板接合的特征、用于与使用光罩的工具内的自动化接合的特征及类似者。
任选地，在210处涂布盖。涂层可为待施覆到盖的任何合适的涂层，例如用于改进外观、提供耐磨性、提供与使用光罩进行处理的用途兼容的惰性表面或此涂层的任何其它所要功能的涂层。在210处施覆的涂层可通过湿式涂布工艺，例如镀覆或任何其它涂布方法，包含将盖浸没于液体内。在210处，一或多个此类涂层可施覆盖。在210处施覆到盖的一或多个涂层可为与在204处施覆到底板的涂层相同的涂层。在210处施覆到盖的一或多个涂层可包含不同于在204处施覆到底板的一或多个涂层的一或多个涂层。在210处施覆的涂层中的一者可为镍。
在一些实施例中，在212，可使用干式涂布方法将反射材料施覆到盖上的一或多个离散位置以形成感测区。干式涂布方法可为不包含在涂布期间将液体施覆到盖的任何方法。作为非限制性实例，干式涂布方法可为物理气相沉积(PVD)、溅渡沉积、化学气相沉积(CVD)及等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)。在212将反射材料施覆到其的一或多个感测区是离散区，且这些离散区组成小于盖的整个表面。可通过例如在沉积期间通过干式涂布方法施覆的掩模来界定一或多个感测区，其中掩模仅允许在一或多个感测区上进行沉积。
在212施覆到盖的反射材料具有经选择用于配合使用包含盖的盒的工具的检测系统使用的已知光谱反射比。反射材料可为经选择使得其在光罩正被使用时不会起反应的惰性材料。作为非限制性实例，反射材料可包含铬。反射材料可经施覆到感测区使得感测区在位于已知预定范围内的一或多个预定波长下提供光谱反射比，以允许由感测区反射的光与内盒底板距工具(例如用于使用光罩进行处理的极紫外线(EUV)工具)的参考的特定距离相关联。作为非限制性实例，对于一或多个预定波长中的至少一者，感测区中的每一者的光谱反射比的范围在大约50％与大约70％之间。在实施例中，感测区中的每一者在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射比。在一些情况中，可抛光感测区以实现所要光谱反射率。
在方法200期间处理的底板及盖可用作用于装纳光罩的光罩盒的内盒，以例如装纳待在晶片的极紫外线(EUV)处理中使用的光刻掩模。
图3展示根据实施例的包含外盒及内盒的光罩盒。光罩盒300包含内盒302，内盒302包含盖304及底板306。光罩盒300进一步包含外盒308，外盒308包含外盒圆顶310及外盒门312。光罩盒300可用于围封光罩316。光罩316可为任何合适的光罩，作为如非限制性实例，例如在使用极紫外线(EUV)处理晶片时使用的光刻掩模。
内盒302包含盖304及底板306。盖304及底板306经配置以连结在一起。盖304及底板306在一起界定内部空间，所述内部空间经定大小且经塑形以容纳光罩，例如将在晶片的极紫外线(EUV)处理中使用的光刻掩模。在一些实施例中，盖304及底板306中的至少一者可各自包含一或多个感测区314，所述一或多个感测区314是包含反射材料的离散区。在一些实施例中，盖304及底板306两者各自包含感测区314的一或多者。感测区314可为如上文描述的感测区102及152。在图3中展示的视图中，当从图3的视角观看时，沿着盖304的侧表面的感测区314是可见的，而其它感测区通过其它组件隐藏。其它感测区304可例如设置于在图3的透视图中不可见的侧或底表面上，例如在图1A及1B中展示的感测区102及152的位置中。可通过干式涂布工艺将反射材料施覆到盖304及底板306的感测区。盖304可为例如在上文描述及在图1B中展示的盖150。底板306可为例如在上文描述及在图1A中展示的底板100。
外盒308经配置以将内盒302容纳于由外盒圆顶310及外盒门312界定的内部空间内。例如，在光罩盒300的运输及处置期间，外盒圆顶可紧固到外盒门312以围封内部空间且装纳内盒302。外盒圆顶310及外盒门312可各自包含一或多种聚合物材料或完全由一或多种聚合物材料制成。
图4展示根据实施例的极紫外线(EUV)工具中的光罩盒的示意图。在图4中展示的实施例中，内盒400放置到工具402中。
内盒400可为光罩盒的任何合适的内盒，例如内盒302，或包含底板100及盖150的内盒。内盒400包含多个感测区404。
工具402可为对内盒400进行处置或操作的任何合适的工具。作为非限制性实例，工具402可为使用光罩(例如光刻掩模)的极紫外线(EUV)工具。工具402可在真空腔室中，其中内盒400从外盒(未展示)移除且放置到真空腔室内的工具402中。在在工具402中使用光罩期间，可从内盒400的底板移除盖以显露装纳于内盒400内的光罩。工具402包含光源406及检测器408。光源406及检测器408经定位使得由光源406提供的光可通过感测区404反射向检测器408，且在检测器408处检测的光可确定距内盒400的距离。光源可提供一或多个预定波长(作为非限制性实例，包含880nm)的光。内盒400的感测区404可在位于已知预定范围内的一或多个预定波长下提供光谱反射比，以允许在检测器408处检测的光与内盒400的特定距离相关联。作为非限制性实例，对于一或多个预定波长中的至少一者，感测区404中的每一者的光谱反射比的范围在大约50％与大约70％之间。在实施例中，感测区404中的每一者在880nm下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射比。
方面：
应理解，方面1至9中的任一者可与方面10至16中的任一者组合。
方面1.一种盒，其包括：
底板，其具有底板表面，所述底板表面包含底板表面材料；
盖，其具有盖表面，所述盖表面包含盖表面材料；以及
一或多个离散感测区，所述感测区中的每一者包含反射材料，所述一或多个离散感测区安置于所述底板表面及所述盖表面中的一者或两者上。
方面2.根据方面1所述的盒，其中所述盒是EUV光罩盒。
方面3.根据方面2所述的盒，其进一步包括外盒圆顶及外盒门，所述盒圆顶及所述盒门经配置以在所述门附接到所述盒圆顶时将所述底板及所述盖容纳于所述盒圆顶内。
方面4.根据方面1至3中的任一方面所述的盒，其中所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。
方面5.根据方面1至4中的任一方面所述的盒，其中所述反射材料具有不同于所述底板表面材料的反射率的反射率。
方面6.根据方面1至5中的任一方面所述的盒，其中所述反射材料包含铬。
方面7.根据方面6所述的盒，其中仅所述反射材料包含所述铬。
方面8.根据方面1至7中的任一方面所述的盒，其中所述一或多个感测区经定位使得可从读取所述一或多个感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
方面9.根据方面1至8中的任一方面所述的盒，其中所述底板表面包含铝或镍中的一者且所述盖表面是铝或镍中的一者。
方面10.根据方面1至9中的任一方面所述的盒，其中所述底板表面及所述盖表面中的每一者包含所述离散感测区中的一或多者。
方面11.一种生产光罩盒的方法，其包括：
使用干式涂布工艺将反射材料施覆到所述光罩盒的底板或所述光罩盒的盖中的一者上的一或多个离散感测区中的每一者。
方面12.根据方面11所述的方法，其中所述反射材料具有不同于所述底板的光谱反射率及所述盖的光谱反射率的光谱反射率。
方面13.根据方面11至12中的任一方面所述的方法，其中所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。
方面14.根据方面11至13中的任一方面所述的盒，其中所述底板或所述盖中的所述一者包含表面材料，所述反射材料具有不同于所述表面材料的反射率的反射率。
方面15.根据方面11至14中的任一方面所述的方法，其进一步包括将涂层施覆到所述底板及所述盖中的所述一者。
方面16.根据方面11至15中的任一方面所述的方法，其中所述干式涂布工艺是选自由以下组成的群组：物理气相沉积、溅镀沉积、化学气相沉积及等离子体增强化学气相沉积。
方面17.根据方面11至16中的任一方面所述的方法，其中一或多个底板感测区及一或多个盖感测区经定位使得可从读取所述一或多个底板感测区及所述一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
方面18.根据方面11至17中的任一方面所述的方法，其进一步包括使用所述干式涂布工艺将所述反射材料施覆到所述光罩盒的所述底板或所述光罩盒的所述盖上的一或多个离散感测区中的每一者。
本申请案中公开的实例在所有方面中被视为阐释性而非限制性。本公开的范围通过所附权利要求书而非通过前述描述指示；且在权利要求书的等效物的意义及范围的范围内的所有改变皆旨在涵括于其中。

Claims (19)

1.一种盒，其包括：
底板，其具有底板表面，所述底板表面包含底板表面材料；
盖，其具有盖表面，所述盖表面包含盖表面材料；以及
一或多个离散感测区，所述感测区中的每一者包含反射材料，所述一或多个离散感测区安置于所述底板表面及所述盖表面中的一者或两者上。
2.根据权利要求1所述的盒，其中所述盒是EUV光罩盒。
3.根据权利要求2所述的盒，其进一步包括外盒圆顶及外盒门，所述盒圆顶及所述盒门经配置以在所述门附接到所述盒圆顶时将所述底板及所述盖容纳于所述盒圆顶内。
4.根据权利要求1所述的盒，其中所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。
5.根据权利要求1所述的盒，其中所述反射材料具有不同于所述底板表面材料的反射率的反射率。
6.根据权利要求1所述的盒，其中所述反射材料包含铬。
7.根据权利要求6所述的盒，其中仅所述反射材料包含所述铬。
8.根据权利要求1所述的盒，其中一或多个底板感测区经定位使得可从读取所述一或多个感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
9.根据权利要求1所述的盒，其中所述底板表面包含铝或镍中的一者且所述盖表面是铝或镍中的一者。
10.根据权利要求1所述的盒，其中所述底板表面及所述盖表面中的每一者包含所述离散感测区中的一或多者。
11.一种生产光罩盒的方法，其包括：
使用干式涂布工艺将反射材料施覆到所述光罩盒的底板或所述光罩盒的盖中的一者上的一或多个离散感测区中的每一者。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述反射材料具有不同于所述底板的光谱反射率及所述盖的光谱反射率的光谱反射率。
13.根据权利要求11所述的方法，其中所述反射材料在880nm的波长下具有在大约50％与大约70％之间的光谱反射率。
14.根据权利要求11所述的方法，其中所述底板或所述盖中的所述一者包含表面材料，所述反射材料具有不同于所述表面材料的反射率的反射率。
15.根据权利要求11所述的方法，其进一步包括将涂层施覆到所述底板及所述盖中的所述一者。
16.根据权利要求11所述的方法，其中所述干式涂布工艺是选自由以下组成的群组：物理气相沉积、溅镀沉积、化学气相沉积及等离子体增强化学气相沉积。
17.根据权利要求11所述的方法，其中所述一或多个感测区经定位使得可从读取一或多个底板感测区及一或多个盖感测区确定所述盒与检测器之间的距离。
18.根据权利要求11所述的方法，其进一步包括使用所述干式涂布工艺将所述反射材料施覆到所述光罩盒的所述底板或所述光罩盒的所述盖上的一或多个离散感测区中的每一者。
19.根据权利要求18所述的方法，其进一步包括抛光所述反射材料以实现所述一或多个离散感测区处的所要反射率。
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