JP2023522005A - コーティングされたセンサゾーンを有するレチクルポッド - Google Patents

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Abstract

センサゾーンは、乾式コーティング法を使用してレチクル容器の内側ポッド上に形成される。センサゾーンは、特定のスペクトル反射率を有する個別のゾーンである。センサゾーンは、ポッドの部分の距離を決定するためにツールによって読み取ることができるように位置決めされる。個別のゾーンおよびこれらの個別のゾーンを適用するための乾式コーティング法の使用は、材料または他の湿式コーティングが適用された材料で完全にめっきされた内側ポッドと比較して、レチクル容器の内側ポッドを洗浄またはその反射率を維持することの不整合および困難性の問題を克服する。【選択図】図１Ａ

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０２０年４月１７日に出願された米国仮出願第６３／０１１，５８１号の利益および優先権を主張し、上記の開示は、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、レチクルポッド、特に極紫外線（ＥＵＶ）レチクルポッドなどのレチクルポッド上のセンサゾーンの形成を対象とする。
レチクルポッドは、極紫外線（ＥＵＶ）処理中などの半導体処理中に使用されるフォトリソグラフィマスクを収容するために使用される。レチクルポッドは、処理中に１つまたは複数のツールによって取り扱われ操作される金属内側ポッドを含むことができる。ツールのいくつかは、ツール内の１つまたは複数のセンサからの内側ポッドの距離を決定するために反射率を使用することができる。レチクルポッドは、典型的には、脱イオン（ＤＩ）水を使用して洗浄され、これはいくつかの材料の酸化を引き起こす可能性がある。
レチクルポッドの内側ポッドは、反射率および外観を改善し、ＤＩ水洗浄によって引き起こされる酸化による反射率の損失に抵抗するために、クロムで湿式コーティングすることができる。しかし、レチクルポッドの形状は、湿式コーティングが困難である。
本開示は、レチクルポッド、特に極紫外線（ＥＵＶ）レチクルポッドなどのレチクルポッド上のセンサゾーンの形成を対象とする。
乾式コーティングプロセスを使用して反射コーティングをレチクルポッド上の個別のセンサゾーンに選択的に適用することによって、レチクルポッド全体の湿式コーティングを必要とせずにプロセスツール上のセンサとインターフェースするための反射材料を提供することができる。加えて、反射コーティングは、所望の厚さおよび強度を有するように提供することができる。
一実施形態では、ポッドは、ベースプレート表面を有するベースプレートを含む。ベースプレート表面は、ベースプレート表面材料と、反射材料とを含む。ベースプレート表面の反射材料は、１つまたは複数の個別のベースプレートセンサゾーンに配置される。ポッドはまた、カバー表面を有するカバーを含む。カバー表面は、カバー表面材料と、反射材料とを含む。カバー表面の反射材料は、１つまたは複数のカバーセンサゾーンに配置される。
一実施形態では、ポッドは、ＥＵＶレチクルポッドである。一実施形態では、ポッドは、外側ポッドドームと、外側ポッド扉とをさらに含み、ポッドドームおよびポッド扉は、扉がポッドドームに取り付けられるときにポッドドーム内にベースプレートおよびカバーを収納するように構成される。
一実施形態では、反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する。一実施形態では、反射材料は、クロムを含む。一実施形態では、反射材料のみが、クロムを含む。
一実施形態では、１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび１つまたは複数のカバーセンサゾーンは、ポッドと検出器との間の距離が１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび１つまたは複数のカバーセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる。
一実施形態では、ベースプレート表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つを含み、カバー表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つである。
一実施形態では、レチクルポッドを製造する方法は、乾式コーティングプロセスを使用して、反射材料をレチクルポッドのベースプレートの１つまたは複数の個別のベースプレートセンサゾーンの各々に適用することと、乾式コーティングプロセスを使用して、反射材料をレチクルポッドのカバーの１つまたは複数の個別のカバーセンサゾーンの各々に適用することとを含む。
一実施形態では、反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する。
一実施形態では、乾式コーティングプロセスは、物理気相堆積、スパッタ堆積、化学気相堆積、およびプラズマ強化化学気相堆積からなる群から選択される。
一実施形態では、１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび１つまたは複数のカバーセンサゾーンは、ポッドと検出器との間の距離が１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび１つまたは複数のカバーセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる。
本開示は、添付の図面に関連する様々な例示的な実施形態の以下の説明を考慮することにより、より完全に理解され得る。
一実施形態によるレチクルポッドのベースプレートの底面図である。 一実施形態によるレチクルポッドのカバーの底面図である。 図１Ｂに示すレチクルポッドのカバーの側面図である。 一実施形態によるレチクルポッドを製造する方法のフローチャートである。 一実施形態による外側ポッドおよび内側ポッドを含むレチクルポッドを示す図である。 一実施形態による極紫外線（ＥＵＶ）ツールにおけるレチクルポッドの概略図である。
本開示は、様々な修正および代替の形式に従順であるが、それらの詳細は、例として図面に示され、詳細に説明される。しかし、その意図は、本開示の態様を説明される特定の例示的な実施形態に限定することではないことを理解されたい。それどころか、その意図は、本開示の趣旨および範囲内にあるすべての修正、同等物、および代替案を包含することである。
本開示は、レチクルポッド、特に極紫外線（ＥＵＶ）レチクルポッドなどのレチクルポッド上のセンサゾーンの形成を対象とする。
図１Ａは、一実施形態によるレチクルポッドのベースプレートの底部の平面図を示す。ベースプレート１００は、レチクルポッドの内側ポッドの一部を形成する。ベースプレート１００は、１つまたは複数のセンサゾーン１０２を含む。
ベースプレート１００は、ベースプレート１００の表面を形成するベースプレート表面材料を含む。ベースプレート表面材料は、アルミニウムなどのベースプレートの形成に使用される材料、またはレチクルポッドのベースプレート１００のための任意の他の適切な材料とすることができる。ベースプレート１００は、特にレチクルポッドまたはベースプレート１００を操作するための特徴をさらに含むことができる。ベースプレート表面材料は、ニッケルコーティングなど、ベースプレート１００の表面を形成するためにベースプレート１００に適用されるコーティングとすることができる。
１つまたは複数の実施形態では、少なくとも１つのセンサゾーン１０２をベースプレート１００の表面上に設けることができる。センサゾーン１０２は、反射材料で作製された個別のゾーンである。センサゾーン１０２は、ベースプレート１００の表面のセグメント上に形成された反射材料の画定された領域である。１つまたは複数のセンサゾーン１０２は、ベースプレート１００の全表面よりも小さい面積を覆う。センサゾーン１０２は、ベースプレート１００を含むレチクルポッドを取り扱うツールに含まれるセンサなど、１つまたは複数のセンサによって読み取られる反射材料を提示するための任意の適切な形状を有することができる。センサゾーン１０２は、ベースプレート１００の表面上の周囲のベースプレート材料とは異なる材料とすることができるセンサゾーン材料を含むことができる。例えば、ベースプレート１００は、アルミニウムで作製されてもよく、センサゾーン材料は、ベースプレート１００上の露出したアルミニウム材料またはニッケルコーティングに適用され、個別のセンサゾーン１０２を形成する。一実施形態では、センサゾーン材料は、ベースプレート１００の表面材料に適用されたコーティングと接触して配置され、個別のセンサゾーン１０２を形成することができる。一実施形態では、センサゾーン１０２は、センサゾーン１０２で使用されるセンサゾーン材料とは異なる材料で作製されるコーティングに適用することができる。一実施形態では、センサゾーン１０２は、センサゾーン１０２と同じ材料の少なくともいくつかを含むが、乾式コーティングとは異なる方法によって提供されるコーティングに適用することができる。例えば、クロムコーティングをベースプレート１００のためのクロム表面材料に適用することができ、センサゾーン１０２は、乾式コーティング法によって追加のクロムを適用することによって形成され、ニッケル上の湿式コーティングされたクロムであるベースプレート表面材料と比較して、それらのセンサゾーン１０２内で異なる密度、厚さ、および均一性でクロムを提供する。
センサゾーン１０２は、センサがベースプレート１００の検出を試みることができるベースプレート１００の任意の部分に設けることができる。一実施形態では、センサゾーン１０２は、ベースプレート１００の底面上に設けられ、ベースプレート１００が図１Ｂに示され以下に説明されるカバー１５０などのカバーと組み立てられたときにレチクルポッドの底部から見える。一実施形態では、１つのセンサゾーン１０２がベースプレート１００上に含まれる。一実施形態では、複数のセンサゾーン１０２がベースプレート上に含まれる。一実施形態では、センサゾーン１０２は、ベースプレート１００を含むレチクルポッドが組み立てられたとき、図１Ｂおよび図１Ｃに示すカバー１５０などのカバーによって覆い隠されないように、ベースプレート１００の底面上に位置する。図１Ａに示す実施形態では、４つのセンサゾーン１０２がベースプレート１００上に設けられ、４つのセンサゾーン１０２がベースプレート１００の底面上に設けられる。
センサゾーン１０２で使用される反射材料は、ベースプレート１００を含むポッドを使用するツールの検出システムで使用するために選択された既知のスペクトル反射率を有する。いくつかの実施形態では、反射材料は、ベースプレート表面材料の反射率よりも大きいまたは小さいなど、ベースプレート表面材料の反射率とは異なる反射率を有することができる。センサゾーン１０２は、センサゾーン１０２によって反射された光が、レチクルを使用するツール、例えばウエハを処理するための極紫外線（ＥＵＶ）ツールを用いて基準からの内側ポッドベースプレート１００の特定の距離に関連付けられるように、既知の所定の範囲内にある１つまたは複数の所定の波長でスペクトル反射率を提供することができる。非限定的な例として、センサゾーン１０２の各々のスペクトル反射率についての範囲は、１つまたは複数の所定の波長の少なくとも１つについて、約５７％～約６３％である。一実施形態では、センサゾーン１０２の各々は、８８０ｎｍの波長で約５７％～約６３％のスペクトル反射率を有する。センサゾーンは、所望のスペクトル反射率性質を有し、乾式コーティング法によって適用することが可能な任意の適切な反射材料を含むことができる。反射材料は、ツールによる処理中に反応しないように選択された不活性材料とすることができる。反射材料は、非限定的な例として、クロムを含むことができる。一実施形態では、レチクルポッドに含まれる１つまたは複数のセンサゾーン１０２および１５２のみがクロムを含む。
反射材料は、物理気相堆積（ＰＶＤ）、スパッタ堆積、化学気相堆積（ＣＶＤ）、およびプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥ－ＣＶＤ）などの乾式コーティング法によってセンサゾーン１０２に提供することができる。結果として得られるセンサゾーン１０２は、ベースプレート１００全体のめっきなどの湿式コーティング法と比較して、それらのセンサゾーン１０２内でより耐久性があり均一なコーティングを有することができる。耐久性の改善は、ひいては、センサゾーン１０２についての外観および適切な反射率の維持を改善することができる。
図１Ｂは、一実施形態によるレチクルポッドのカバー１５０の底面の平面図を示し、図１Ｃは、図１Ｂに示すレチクルポッドのカバー１５０の側面図を示す。カバー１５０は、センサゾーン１５２を含む。
カバー１５０は、図１Ａに示すベースプレート１００などのベースプレートに接合され、レチクルを収納するように構成されたレチクルポッドを形成するように構成される。カバー１５０は、レチクル収容部分１５８がベースプレート１００によって取り囲まれるように構成することができる。カバー１５０は、特にレチクルポッドまたはカバー１５０を操作するための特徴をさらに含むことができる。カバー１５０は、アルミニウムなどの任意の適切な材料で作製することができる。カバー１５０の表面は、カバー表面材料であり、カバー表面材料は、カバー１５０の本体を形成する材料またはその材料上に形成されたニッケルなどのコーティングとすることができる。
ベースプレート１００上に設けられたセンサゾーン１５２に加えて、またはその代わりに、カバー１５０上に１つまたは複数のセンサゾーン１０２を設けることができる。１つまたは複数のセンサゾーン１５２は、反射材料を含む個別のゾーンである。１つまたは複数のセンサゾーン１５２は、カバー１５０の全表面よりも小さい面積を覆う。反射材料は、乾式コーティングプロセスによって適用することができる。センサゾーン１５２は、カバー１５０を含むレチクルポッドを取り扱うツールに含まれるセンサなど、１つまたは複数のセンサによって読み取られる反射材料を提示するための任意の適切な形状を有することができる。センサゾーン１５２は、図１Ａに示すベースプレート１００上のセンサゾーン１０２の反射材料など、カバー１５０と共に使用されるベースプレート上のセンサゾーンからの同じまたは異なる反射材料を使用することができる。カバー１５０がベースプレート１００などのベースプレートと組み合わされてレチクルポッドの内側ポッドを形成するとき、１つまたは複数のセンサゾーンがツールによって読み取ることができるように、１つまたは複数のセンサゾーンをカバー１５０上に設けることができる。一実施形態では、センサゾーン１５２は、ベースプレートおよびカバー１５０を含むレチクルポッドが組み立てられたとき、図１Ａに示すベースプレート１００などのベースプレートによって覆い隠されないように位置する。図１Ｂおよび図１Ｃに示す実施形態では、４つのセンサゾーン１５２が設けられ、センサゾーン１５２のうちの２つは図１Ｂに見られるようにカバーの側部１５６から延長部１５４の底面上にあり、もう２つのセンサゾーンは図１Ｃに見られるようにカバー１５０の外向きの側面上にある。
センサゾーン１５２で使用される反射材料は、カバー１５０を含むポッドを使用するツールの検出システムで使用するために選択された既知のスペクトル反射率を有する。反射材料は、ツールによる処理中に反応しないように選択された不活性材料とすることができる。センサゾーン１５２は、センサゾーン１５２によって反射された光が、レチクルを使用してウエハを処理するための極紫外線（ＥＵＶ）ツールなどのツールを用いて基準からの内側ポッドカバー１５０の特定の距離に関連付けられるように、既知の所定の範囲内にある１つまたは複数の所定の波長でスペクトル反射率を提供することができる。非限定的な例として、センサゾーン１５２の各々のスペクトル反射率についての範囲は、１つまたは複数の所定の波長の少なくとも１つについて、約５７％～約６３％である。一実施形態では、センサゾーン１５２の各々は、８８０ｎｍの波長で約５７％～約６３％のスペクトル反射率を有する。センサゾーン１５２は、所望のスペクトル反射率性質を有し、乾式コーティング法によって適用することが可能な任意の適切な反射材料を含むことができる。反射材料は、ツールによる処理中に反応しないように選択された不活性材料とすることができる。反射材料は、非限定的な例として、クロムを含むことができる。一実施形態では、レチクルポッドに含まれる１つまたは複数のセンサゾーン１０２および１５２のみがクロムを含む。
反射材料は、物理気相堆積（ＰＶＤ）、スパッタ堆積、化学気相堆積（ＣＶＤ）、およびプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥ－ＣＶＤ）などの乾式コーティング法によってセンサゾーン１５２に提供することができる。結果として得られるセンサゾーン１５２は、カバー１５０全体のめっきなどの湿式コーティング法と比較して、それらのセンサゾーン１５２内でより耐久性があり均一なコーティングを有することができる。耐久性の改善は、ひいては、センサゾーン１５２についての外観および適切な反射率の維持を改善することができる。
カバー１５０は、それが含まれるレチクルポッドの機能のためのさらなる特徴を含むことができる。例えば、カバー１５０は、フォトリソグラフィマスクなどのレチクルを収納するように構成された内部空間のレチクル収容部分１５４オーミング部分を含むことができる。
図２は、一実施形態によるレチクルポッドを製造する方法のフローチャートを示す。方法２００は、ベースプレートを設けること２０２と、任意選択でベースプレートをコーティングすること２０４と、乾式コーティング法を使用して反射材料をベースプレート上の１つまたは複数のセンサゾーンに適用すること２０６と、カバーを設けること２０８と、任意選択でカバーをコーティングすること２１０と、乾式コーティング法を使用して反射材料をカバー上の１つまたは複数のセンサゾーンに適用すること２１２とを含む。方法のいくつかの実施形態はまた、１つまたは複数のセンサゾーンが研磨されて所望のスペクトル反射率を達成する研磨ステップを含むことができる。
２０２において、ベースプレートを設けることができる。ベースプレートは、レチクルポッドに使用するための形成されたベースプレートである。ベースプレートは、非限定的な例として、アルミニウムなど、レチクルポッドベースプレートに適した任意の材料とすることができる。２０２で設けられるベースプレートは、ベースプレートが２０２で設けられる時点で、レチクル収容部分を画定する壁、レチクル支持体、カバーと係合するための特徴、レチクルを使用または操作するツール内のオートメーションと係合するための特徴など、完成したベースプレートのすべての特徴を含むことができる。
２０４において、ベースプレートを任意選択でコーティングすることができる。コーティングは、ベースプレートに適用される任意の適切なコーティング、例えば外観を改善し、耐摩耗性を提供し、処理ツールでの使用に適合する不活性表面を提供するコーティング、またはそのようなコーティングの任意の他の所望の機能であり得る。２０４で適用されるコーティングは、めっきなどの湿式コーティングプロセス、または液体内にベースプレートを浸漬することを含む任意の他のコーティング法によることができる。２０４において、１つまたは複数のそのようなコーティングをベースプレートに適用することができる。２０４でベースプレートに適用されるコーティングの１つは、ニッケルとすることができる。
いくつかの実施形態では、２０６において、乾式コーティング法を使用して、反射材料をベースプレート上の１つまたは複数の個別の場所に適用してセンサゾーンを形成することができる。乾式コーティング法は、コーティング中に液体をベースプレートに適用することを含まない任意の方法であり得る。乾式コーティング法は、非限定的な例として、物理気相堆積（ＰＶＤ）、スパッタ堆積、化学気相堆積（ＣＶＤ）、およびプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥ－ＣＶＤ）であり得る。２０６で反射材料が適用される１つまたは複数のセンサゾーンは、個別のゾーンであり、これらの個別のゾーンは、ベースプレートの全表面よりも少ない部分を構成する。１つまたは複数のセンサゾーンは、例えば、乾式コーティング法による堆積中に適用されるマスクを通して画定することができ、マスクは、１つまたは複数のセンサゾーン上にのみ堆積を可能にする。
２０６でベースプレートに適用される反射材料は、ベースプレートを含むポッドを使用するツールの検出システムで使用するために選択された既知のスペクトル反射率を有する。反射材料は、ツール内のレチクルポッドの使用中に反応しないように選択された不活性材料とすることができる。反射材料は、非限定的な例として、クロムを含むことができる。反射材料は、センサゾーンによって反射された光が、レチクルを使用して処理を行うための極紫外線（ＥＵＶ）ツールなどのツールを用いて基準からの内側ポッドベースプレートの特定の距離に関連付けられるように、センサゾーンが既知の所定の範囲内にある１つまたは複数の所定の波長でスペクトル反射率を提供するようにセンサゾーンに適用することができる。非限定的な例として、センサゾーンの各々のスペクトル反射率についての範囲は、１つまたは複数の所定の波長の少なくとも１つについて、約５０％～約７０％である。一実施形態では、センサゾーンの各々は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する。
２０８において、カバーが設けられる。カバーは、レチクルポッド用に形成されたカバーである。カバーは、非限定的な例として、アルミニウムなど、レチクルポッドカバーに適した任意の材料とすることができる。２０８で設けられるカバーは、カバーが２０８で設けられる時点で、レチクル収容部分を画定する壁、ベースプレートと係合するための特徴、レチクルを使用するツール内のオートメーションと係合するための特徴など、完成したカバーのすべての特徴を含むことができる。
任意選択で、２１０において、カバーがコーティングされる。コーティングは、カバーに適用される任意の適切なコーティング、例えば外観を改善し、耐摩耗性を提供し、レチクルを使用した処理での使用に適合する不活性表面を提供するコーティング、またはそのようなコーティングの任意の他の所望の機能であり得る。２１０で適用されるコーティングは、めっきなどの湿式コーティングプロセス、または液体内にカバーを浸漬することを含む任意の他のコーティング法によることができる。２１０において、１つまたは複数のそのようなコーティングをカバーに適用することができる。２１０でカバーに適用される１つまたは複数のコーティングは、２０４でベースプレートに適用されるコーティングと同じコーティングとすることができる。２１０でカバーに適用される１つまたは複数のコーティングは、２０４でベースプレートに適用される１つまたは複数のコーティングとは異なる１つまたは複数のコーティングを含むことができる。２１０で適用されるコーティングの１つは、ニッケルとすることができる。
いくつかの実施形態では、２１２において、乾式コーティング法を使用して、反射材料をカバー上の１つまたは複数の個別の場所に適用してセンサゾーンを形成することができる。乾式コーティング法は、コーティング中に液体をカバーに適用することを含まない任意の方法であり得る。乾式コーティング法は、非限定的な例として、物理気相堆積（ＰＶＤ）、スパッタ堆積、化学気相堆積（ＣＶＤ）、およびプラズマ強化化学気相堆積（ＰＥ－ＣＶＤ）であり得る。２１２で反射材料が適用される１つまたは複数のセンサゾーンは、個別のゾーンであり、これらの個別のゾーンは、カバーの全表面よりも少ない部分を構成する。１つまたは複数のセンサゾーンは、例えば、乾式コーティング法による堆積中に適用されるマスクを通して画定することができ、マスクは、１つまたは複数のセンサゾーン上にのみ堆積を可能にする。
２１２でカバーに適用される反射材料は、カバーを含むポッドを使用するツールの検出システムで使用するために選択された既知のスペクトル反射率を有する。反射材料は、レチクルが使用されているときに反応しないように選択された不活性材料とすることができる。反射材料は、非限定的な例として、クロムを含むことができる。反射材料は、センサゾーンによって反射された光が、レチクルを使用して処理を行うための極紫外線（ＥＵＶ）ツールなどのツールを用いて基準からの内側ポッドベースプレートの特定の距離に関連付けられることを可能にするために、センサゾーンが既知の所定の範囲内にある１つまたは複数の所定の波長でスペクトル反射率を提供するようにセンサゾーンに適用することができる。非限定的な例として、センサゾーンの各々のスペクトル反射率についての範囲は、１つまたは複数の所定の波長の少なくとも１つについて、約５０％～約７０％である。一実施形態では、センサゾーンの各々は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する。場合によっては、センサゾーンは、所望のスペクトル反射率を達成するために研磨されてもよい。
方法２００の間に処理されるベースプレートおよびカバーは、例えば、ウエハの極紫外線（ＥＵＶ）処理に使用されるフォトリソグラフィマスクを収容するために、レチクルを収容するためのレチクルポッドの内側ポッドとして使用することができる。
図３は、一実施形態による外側ポッドおよび内側ポッドを含むレチクルポッドを示す。レチクルポッド３００は、内側ポッド３０２を含み、内側ポッド３０２は、カバー３０４と、ベースプレート３０６とを含む。レチクルポッド３００は、外側ポッドドーム３１０および外側ポッド扉３１２を含む外側ポッド３０８をさらに含む。レチクルポッド３００は、レチクル３１６を取り囲むために使用することができる。レチクル３１６は、非限定的な例として、極紫外線（ＥＵＶ）を使用してウエハを処理する際に使用されるフォトリソグラフィマスクなどの任意の適切なレチクルであり得る。
内側ポッド３０２は、カバー３０４と、ベースプレート３０６とを含む。カバー３０４およびベースプレート３０６とは、互いに接合されるように構成される。カバー３０４およびベースプレート３０６は共に、レチクル、例えばウエハの極紫外線（ＥＵＶ）処理に使用されるフォトリソグラフィマスクを収納するようなサイズおよび形状の内部空間を画定する。いくつかの実施形態では、カバー３０４およびベースプレート３０６の少なくとも１つは各々、反射材料を含む個別のゾーンである１つまたは複数のセンサゾーン３１４を含むことができる。いくつかの実施形態では、カバー３０４とベースプレート３０６の両方は各々、センサゾーン３１４の１つまたは複数を含む。センサゾーン３１４は、上述のようにセンサゾーン１０２および１５２とすることができる。図３に示す図では、カバー３０４の側面に沿ったセンサゾーン３１４が見え、図３の視点から見ると、他のゾーンは他の構成要素によって隠されている。他のセンサゾーン３０４は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示すセンサゾーン１０２および１５２の位置など、図３の斜視図では見えない側面または底面上に設けることができる。反射材料は、乾式コーティングプロセスによってカバー３０４およびベースプレート３０６のセンサゾーンに適用することができる。カバー３０４は、例えば、上述され図１Ｂに示すカバー１５０とすることができる。ベースプレート３０６は、例えば、上述され図１Ａに示すベースプレート１００とすることができる。
外側ポッド３０８は、外側ポッドドーム３１０および外側ポッド扉３１２によって画定された内部空間内に内側ポッド３０２を収納するように構成される。外側ポッドドームは、例えばレチクルポッド３００の搬送および取り扱い中、内部空間を取り囲み、内側ポッド３０２を収容するために外側ポッド扉３１２に固定することができる。外側ポッドドーム３１０および外側ポッド扉３１２は各々、１つまたは複数のポリマー材料を含むか、またはそれらから完全に作製することができる。
図４は、一実施形態による極紫外線（ＥＵＶ）ツールにおけるレチクルポッドの概略図を示す。図４に示す実施形態では、内側ポッド４００がツール４０２内に載置される。
内側ポッド４００は、内側ポッド３０２などのレチクルポッド、またはベースプレート１００およびカバー１５０を含む内側ポッドの任意の適切な内側ポッドとすることができる。内側ポッド４００は、複数のセンサゾーン４０４を含む。
ツール４０２は、内側ポッド４００上で取り扱われるか動作する任意の適切なツールであり得る。非限定的な例として、ツール４０２は、フォトリソグラフィマスクなどのレチクルを使用する極紫外線（ＥＵＶ）ツールとすることができる。ツール４０２は真空チャンバ内にあってもよく、内側ポッド４００は外側ポッド（図示せず）から取り外され、真空チャンバ内のツール４０２内に載置される。ツール４０２内のレチクルの使用中、カバーを内側ポッド４００のベースプレートから取り外し、内側ポッド４００内に収容されたレチクルを露出させることができる。ツール４０２は、光源４０６と、検出器４０８とを含む。光源４０６および検出器４０８は、光源４０６によって提供された光がセンサゾーン４０４によって検出器４０８に向かって反射され得、検出器４０８で検出された光が内側ポッド４００までの距離を決定することができるように位置決めされる。光源は、非限定的な例として、８８０ｎｍを含む１つまたは複数の所定の波長で光を提供することができる。内側ポッド４００のセンサゾーン４０４は、検出器４０８で検出された光が内側ポッド４００の特定の距離に関連付けられることを可能にするために、既知の所定の範囲内にある１つまたは複数の所定の波長でスペクトル反射率を提供することができる。非限定的な例として、センサゾーン４０４の各々のスペクトル反射率についての範囲は、１つまたは複数の所定の波長の少なくとも１つについて、約５０％～約７０％である。一実施形態では、センサゾーン４０４の各々は、８８０ｎｍで約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する。
態様：
態様１～９のいずれかは、態様１０～１６のいずれかと組み合わせることができることが理解される。
態様１．ベースプレート表面を有するベースプレートであって、前記ベースプレート表面は、ベースプレート表面材料を含むベースプレートと、
カバー表面を有するカバーであって、前記カバー表面は、カバー表面材料を含むカバーと、
１つまたは複数の個別のセンサゾーンであって、前記センサゾーンの各々は、反射材料を含み、前記１つまたは複数の個別のセンサゾーンは、前記ベースプレート表面および前記カバー表面の一方または両方に配置される、１つまたは複数の個別のセンサゾーンと
を備える、ポッド。
態様２．前記ポッドは、ＥＵＶレチクルポッドである、態様１に記載のポッド。
態様３．外側ポッドドームと、外側ポッド扉とをさらに備え、前記ポッドドームおよび前記ポッド扉は、前記扉が前記ポッドドームに取り付けられるときに前記ポッドドーム内に前記ベースプレートおよび前記カバーを収納するように構成される、態様２に記載のポッド。
態様４．前記反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する、態様１～３のいずれか一項に記載のポッド。
態様５．前記反射材料は、前記ベースプレート表面材料の反射率とは異なる反射率を有する、態様１～４のいずれか一項に記載のポッド。
態様６．前記反射材料は、クロムを含む、態様１～５のいずれか一項に記載のポッド。
態様７．前記反射材料のみが、前記クロムを含む、態様６に記載のポッド。
態様８．前記１つまたは複数のセンサゾーンは、前記ポッドと検出器との間の距離が前記１つまたは複数のセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる、態様１～７のいずれか一項に記載のポッド。
態様９．前記ベースプレート表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つを含み、前記カバー表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つである、態様１～８のいずれか一項に記載のポッド。
態様１０．前記ベースプレート表面および前記カバー表面の各々は、前記個別のセンサゾーンの１つまたは複数を含む、態様１～９のいずれか一項に記載のポッド。
態様１１．レチクルポッドを製造する方法であって、
乾式コーティングプロセスを使用して、反射材料を前記レチクルポッドのベースプレートまたは前記レチクルポッドのカバーの一方の上の１つまたは複数の個別のセンサゾーンの各々に適用すること
を含む、方法。
態様１２．前記反射材料は、前記ベースプレートのスペクトル反射率および前記カバーのスペクトル反射率とは異なるスペクトル反射率を有する、態様１１に記載の方法。
態様１３．前記反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する、態様１１～１２のいずれか一項に記載の方法。
態様１４．前記ベースプレートまたは前記カバーの前記一方は、表面材料を含み、前記反射材料は、前記表面材料の反射率とは異なる反射率を有する、態様１１～１３のいずれか一項に記載の方法。
態様１５．コーティングを前記ベースプレートおよび前記カバーの前記一方に適用することをさらに含む、態様１１～１４のいずれか一項に記載の方法。
態様１６．前記乾式コーティングプロセスは、物理気相堆積、スパッタ堆積、化学気相堆積、およびプラズマ強化化学気相堆積からなる群から選択される、態様１１～１５のいずれか一項に記載の方法。
態様１７．前記１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび前記１つまたは複数のカバーセンサゾーンは、前記ポッドと検出器との間の距離が前記１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび前記１つまたは複数のカバーセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる、態様１１～１６のいずれか一項に記載の方法。
態様１８．前記乾式コーティングプロセスを使用して、前記反射材料を前記レチクルポッドの前記ベースプレートまたは前記レチクルポッドの前記カバー上の１つまたは複数の個別のセンサゾーンの各々に適用することをさらに含む、態様１１～１７のいずれか一項に記載の方法。
本出願で開示される例は、すべての点において例示的であり、限定的ではないと見なされるべきである。本開示の範囲は、前述の説明ではなく添付の特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内にあるすべての変更は、特許請求の範囲に包含されることを意図している。

Claims (19)

  1. ベースプレート表面を有するベースプレートであって、前記ベースプレート表面は、ベースプレート表面材料を含むベースプレートと、
    カバー表面を有するカバーであって、前記カバー表面は、カバー表面材料を含むカバーと、
    １つまたは複数の個別のセンサゾーンであって、前記センサゾーンの各々は、反射材料を含み、前記１つまたは複数の個別のセンサゾーンは、前記ベースプレート表面および前記カバー表面の一方または両方に配置される、１つまたは複数の個別のセンサゾーンと
    を備える、ポッド。
  2. 前記ポッドは、ＥＵＶレチクルポッドである、請求項１に記載のポッド。
  3. 外側ポッドドームと、外側ポッド扉とをさらに備え、前記ポッドドームおよび前記ポッド扉は、前記扉が前記ポッドドームに取り付けられるときに前記ポッドドーム内に前記ベースプレートおよび前記カバーを収納するように構成される、請求項２に記載のポッド。
  4. 前記反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する、請求項１に記載のポッド。
  5. 前記反射材料は、前記ベースプレート表面材料の反射率とは異なる反射率を有する、請求項１に記載のポッド。
  6. 前記反射材料は、クロムを含む、請求項１に記載のポッド。
  7. 前記反射材料のみが、前記クロムを含む、請求項６に記載のポッド。
  8. 前記１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンは、前記ポッドと検出器との間の距離が前記１つまたは複数のセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる、請求項１に記載のポッド。
  9. 前記ベースプレート表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つを含み、前記カバー表面は、アルミニウムまたはニッケルの１つである、請求項１に記載のポッド。
  10. 前記ベースプレート表面および前記カバー表面の各々は、前記個別のセンサゾーンの１つまたは複数を含む、請求項１に記載のポッド。
  11. レチクルポッドを製造する方法であって、
    乾式コーティングプロセスを使用して、反射材料を前記レチクルポッドのベースプレートまたは前記レチクルポッドのカバーの一方の上の１つまたは複数の個別のセンサゾーンの各々に適用すること
    を含む、方法。
  12. 前記反射材料は、前記ベースプレートのスペクトル反射率および前記カバーのスペクトル反射率とは異なるスペクトル反射率を有する、請求項１１に記載の方法。
  13. 前記反射材料は、８８０ｎｍの波長で約５０％～約７０％のスペクトル反射率を有する、請求項１１に記載の方法。
  14. 前記ベースプレートまたは前記カバーの前記一方は、表面材料を含み、前記反射材料は、前記表面材料の反射率とは異なる反射率を有する、請求項１１に記載の方法。
  15. コーティングを前記ベースプレートおよび前記カバーの前記一方に適用することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
  16. 前記乾式コーティングプロセスは、物理気相堆積、スパッタ堆積、化学気相堆積、およびプラズマ強化化学気相堆積からなる群から選択される、請求項１１に記載の方法。
  17. 前記１つまたは複数のセンサゾーンは、前記ポッドと検出器との間の距離が前記１つまたは複数のベースプレートセンサゾーンおよび前記１つまたは複数のカバーセンサゾーンを読み取ることから決定され得るように位置決めされる、請求項１１に記載の方法。
  18. 前記乾式コーティングプロセスを使用して、前記反射材料を前記レチクルポッドの前記ベースプレートまたは前記レチクルポッドの前記カバー上の１つまたは複数の個別のセンサゾーンの各々に適用することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
  19. 前記反射材料を研磨し、前記１つまたは複数の個別のセンサゾーンで所望の反射率を達成することをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
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