JPH0666383B2 - マスク・レチクル収納体 - Google Patents
マスク・レチクル収納体Info
- Publication number
- JPH0666383B2 JPH0666383B2 JP25618886A JP25618886A JPH0666383B2 JP H0666383 B2 JPH0666383 B2 JP H0666383B2 JP 25618886 A JP25618886 A JP 25618886A JP 25618886 A JP25618886 A JP 25618886A JP H0666383 B2 JPH0666383 B2 JP H0666383B2
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- JP
- Japan
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- mask
- reticle
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- storage unit
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、集積回路製造工場および液晶表示装置製造工
場等のホト・リソ工程において、マスクまたはレチクル
の使用管理を行なうために用いられるマスク・レチクル
収納体に関する。
場等のホト・リソ工程において、マスクまたはレチクル
の使用管理を行なうために用いられるマスク・レチクル
収納体に関する。
（従来の技術） 集積回路の製造工場および液晶表示装置の製造工場等の
ホト・リソ工程では、一品種を作り上げるまでに相当数
のマスク（ウエハ１枚分の回路に対応するパターンフィ
ルム）またはレチクル（チップ１枚分の回路に対応する
パターンフィルム）が使用される。
ホト・リソ工程では、一品種を作り上げるまでに相当数
のマスク（ウエハ１枚分の回路に対応するパターンフィ
ルム）またはレチクル（チップ１枚分の回路に対応する
パターンフィルム）が使用される。
そして近年、ホト・リソ工程で使用される露光処理装置
には、専用コンピュータにより多数のマスクまたはレチ
クルの使用管理を行ない、自動的にマスクまたはレチク
ルをローディングする機能を備えたものが出現してい
る。
には、専用コンピュータにより多数のマスクまたはレチ
クルの使用管理を行ない、自動的にマスクまたはレチク
ルをローディングする機能を備えたものが出現してい
る。
またマスクまたはレチクルの収納ケースにバーコードを
つけ、これによりマスクまたはレチクルの使用管理を行
なう露光処理装置も開発されているが、一般にこのよう
な露光処理装置は上位の全体管理用コンピュータと接続
され、使用管理が集約的に行なわれるようにされている
場合が多い。
つけ、これによりマスクまたはレチクルの使用管理を行
なう露光処理装置も開発されているが、一般にこのよう
な露光処理装置は上位の全体管理用コンピュータと接続
され、使用管理が集約的に行なわれるようにされている
場合が多い。
ところでこのように集約的にマスクまたはレチクルの使
用管理を行なう方式によると、今後、多品種少量生産の
度合が進むにつれ、管理用コンピュータに相当多くの情
報が集中することになるが、万一全体管理用コンピュー
タが故障した場合には、マスクまたはレチクルの使用管
理が行なえなくなり、生産ラインが直ちに停止していま
うという問題がある。
用管理を行なう方式によると、今後、多品種少量生産の
度合が進むにつれ、管理用コンピュータに相当多くの情
報が集中することになるが、万一全体管理用コンピュー
タが故障した場合には、マスクまたはレチクルの使用管
理が行なえなくなり、生産ラインが直ちに停止していま
うという問題がある。
また全体管理用コンピュータの負担が増大すると、確実
で迅速なマスクまたはレチクルの管理が困難になるとい
う問題もある。
で迅速なマスクまたはレチクルの管理が困難になるとい
う問題もある。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は、このような問題を解消するためになされたも
ので、全体管理用コンピュータの故障により生産ライン
が停止するようなことがなく、またホト・リソ工程にお
けるプロセスの変更等にも柔軟に対応することができ、
生産性が大幅に向上するシステムを実現することができ
るマスク・レチクル収納体の提供を目的としている。
ので、全体管理用コンピュータの故障により生産ライン
が停止するようなことがなく、またホト・リソ工程にお
けるプロセスの変更等にも柔軟に対応することができ、
生産性が大幅に向上するシステムを実現することができ
るマスク・レチクル収納体の提供を目的としている。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明のマスク・レチクル収納体は、ホト・リソ工程に
使用されるマスクまたはレチクルを収納する収納部と、
この収納部内に収納されたマスクまたはレチクルに関す
る情報を記憶する外部から読み書き自在な情報記憶手段
と、外部と光により通信を行う通信手段と、前記情報記
憶手段及び前記通信手段に電力を供給するバックアップ
電源とを備えている。
使用されるマスクまたはレチクルを収納する収納部と、
この収納部内に収納されたマスクまたはレチクルに関す
る情報を記憶する外部から読み書き自在な情報記憶手段
と、外部と光により通信を行う通信手段と、前記情報記
憶手段及び前記通信手段に電力を供給するバックアップ
電源とを備えている。
（作用） 本発明のマスク・レチクル収納体では、外部から書込み
および読出しが自在な記憶部に、収納部に収納されてい
るマスクまたはレチクルの使用に関する情報が記憶され
るので、情報がマスクまたはレチクルと共に各工程に搬
送されることになり、マスクまたはレチクルの使用に関
する情報が分散処理され、管理用コンピュータの負担が
大幅に低減される。
および読出しが自在な記憶部に、収納部に収納されてい
るマスクまたはレチクルの使用に関する情報が記憶され
るので、情報がマスクまたはレチクルと共に各工程に搬
送されることになり、マスクまたはレチクルの使用に関
する情報が分散処理され、管理用コンピュータの負担が
大幅に低減される。
また、バックアップ電源を備え、外部との通信は、光に
よって行われるので、外部から電気的な接触端子を接触
させずにアクセスすることができ、端子の接触によって
塵埃が発生することがない。したがって、半導体製造工
程の塵埃の発生を嫌う環境下において使用した場合でも
発塵源となって歩留まりを低下させることを防止するこ
とができる。
よって行われるので、外部から電気的な接触端子を接触
させずにアクセスすることができ、端子の接触によって
塵埃が発生することがない。したがって、半導体製造工
程の塵埃の発生を嫌う環境下において使用した場合でも
発塵源となって歩留まりを低下させることを防止するこ
とができる。
（実施例） 以下、本発明の実施例の詳細を図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は、本発明のマスク・レチクル収納体の一実施例
の構成を示す斜視図である。
の構成を示す斜視図である。
本実施例のマスク・レチクル収納体１は、箱型に形成さ
れ、マスクまたはレチクルを収納する収納部２と、内部
にマイクロコンピュータ３が実装された板状部４とから
構成され、板状部４の一縁部には外部接続用の端子５が
設けられている。
れ、マスクまたはレチクルを収納する収納部２と、内部
にマイクロコンピュータ３が実装された板状部４とから
構成され、板状部４の一縁部には外部接続用の端子５が
設けられている。
第２図は、前記マイクロコンピュータ３の機能構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
このマイクロコンピュータ３は、所定のプロトコル（SE
CS,MAP等）を記憶した内部制御用のＲＯＭ６と、情報記
憶用のＲＡＭ７と、演算用のＣＰＵ８と、通信制御用の
ＬＳＩ９とから構成され、前記端子５を通じて外部と接
続可能であり、外部との非接続時にはバックアップ電源
１０によりＲＡＭ７の情報を保持するようにされてい
る。
CS,MAP等）を記憶した内部制御用のＲＯＭ６と、情報記
憶用のＲＡＭ７と、演算用のＣＰＵ８と、通信制御用の
ＬＳＩ９とから構成され、前記端子５を通じて外部と接
続可能であり、外部との非接続時にはバックアップ電源
１０によりＲＡＭ７の情報を保持するようにされてい
る。
本実施例のマスク・レチクル収納体１では、外部との通
信によりＲＡＭ７内の情報の書込みおよび読出しが行な
われる。
信によりＲＡＭ７内の情報の書込みおよび読出しが行な
われる。
そしてＲＡＭ７には、例えばマスクまたはレチクルの名
称、番号、ゴミの付着状況、アライメントプログラム、
ペリクル使用の有無、洗浄回数、使用回数、装填日数、
使用優先順位、使用される露光処理装置の名称および番
号等を示す情報が書込まれる。
称、番号、ゴミの付着状況、アライメントプログラム、
ペリクル使用の有無、洗浄回数、使用回数、装填日数、
使用優先順位、使用される露光処理装置の名称および番
号等を示す情報が書込まれる。
これらの情報はマスク・レチクル収納体１の搬送中には
バックアップ電源１０からの電力により保持され、マス
ク・レチクルストッカ（後述）内または露光処理装置へ
の装填中には端子５からの電力により保持されて、収納
部２内のマスクまたはレチクルと共に各工程へ搬送され
る。
バックアップ電源１０からの電力により保持され、マス
ク・レチクルストッカ（後述）内または露光処理装置へ
の装填中には端子５からの電力により保持されて、収納
部２内のマスクまたはレチクルと共に各工程へ搬送され
る。
第３図は本実施例のマスク・レチクル収納体１を用いて
マスクまたはレチクルの搬送を自動化したホト・リソ工
程のシステム構成を示す図である。
マスクまたはレチクルの搬送を自動化したホト・リソ工
程のシステム構成を示す図である。
このシステムには、マスク・レチクル収納体１を収納す
るとともに、全体管理用コンピュータ（図示せず）とオ
ンライン接続されているマスク・レチクル管理専用コン
ピュータ（図示せず）を備えたマスク・レチクルストッ
カＡが設けられている。
るとともに、全体管理用コンピュータ（図示せず）とオ
ンライン接続されているマスク・レチクル管理専用コン
ピュータ（図示せず）を備えたマスク・レチクルストッ
カＡが設けられている。
まず全体管理用コンピュータからマスク・レチクルスト
ッカＡのマスク・レチクル管理専用コンピュータに、ホ
ト・リソ工程に入るウエハにどのマスクまたはレチクル
を使用するかという情報が送信される。
ッカＡのマスク・レチクル管理専用コンピュータに、ホ
ト・リソ工程に入るウエハにどのマスクまたはレチクル
を使用するかという情報が送信される。
次にマスク・レチクルストッカＡ内のマスク・レチクル
管理専用コンピュータは、ゴミ検査装置Ｂにマスクまた
はレチクル上のゴミ検査を行なわせ、ゴミの付着状況と
ともに、このマスクまたはレチクルを使用する露光処理
装置名、アライメントプログラム等をマスク・レチクル
収納体１のＲＡＭ７に書込み、マスク・レチクル収納体
１を搬送用ロボットＭに渡し、必要に応じて洗浄装置Ｃ
により洗浄を行なわせる。
管理専用コンピュータは、ゴミ検査装置Ｂにマスクまた
はレチクル上のゴミ検査を行なわせ、ゴミの付着状況と
ともに、このマスクまたはレチクルを使用する露光処理
装置名、アライメントプログラム等をマスク・レチクル
収納体１のＲＡＭ７に書込み、マスク・レチクル収納体
１を搬送用ロボットＭに渡し、必要に応じて洗浄装置Ｃ
により洗浄を行なわせる。
搬送用ロボットＭはマスク・レチクル収納体１を受取る
と、このマスク・レチクル収納体１内のマイクロコンピ
ュータ３と通信を行ない、ＲＡＭ７に書込まれている露
光処理装置の名称を示す情報を読出して、マスク・レチ
クル収納体１をその露光処理装置Ｄへ搬送しローディン
グする。
と、このマスク・レチクル収納体１内のマイクロコンピ
ュータ３と通信を行ない、ＲＡＭ７に書込まれている露
光処理装置の名称を示す情報を読出して、マスク・レチ
クル収納体１をその露光処理装置Ｄへ搬送しローディン
グする。
マスク・レチクル収納体１がローディングされた露光処
理装置Ｄは、マスク・レチクル収納体１内のマイクロコ
ンピュータ３と通信を行ない、マスクまたはレチクルの
使用に関する各情報を読出す。
理装置Ｄは、マスク・レチクル収納体１内のマイクロコ
ンピュータ３と通信を行ない、マスクまたはレチクルの
使用に関する各情報を読出す。
そしてマスクまたはレチクルが使用された後には、露光
処理装置Ｄから前記ＲＡＭ７に使用回数等の情報が書込
まれ、マスク・レチクル収納体１は再び搬送ロボットＭ
によりマスク・レチクルストッカＡに搬送される。
処理装置Ｄから前記ＲＡＭ７に使用回数等の情報が書込
まれ、マスク・レチクル収納体１は再び搬送ロボットＭ
によりマスク・レチクルストッカＡに搬送される。
かくして本実施例では、マスク・レチクル収納体１内の
ＲＡＭ７に、収納部２内に収容されているマスクまたは
レチクルの使用に関する情報が書込まれ、この情報がマ
スクまたはレチクルと共に搬送されるので、マスクまた
はレチクルの使用に関する情報を分散処理させることが
でき、全体管理用コンピュータの負担が従来に比べて大
幅に低減される。
ＲＡＭ７に、収納部２内に収容されているマスクまたは
レチクルの使用に関する情報が書込まれ、この情報がマ
スクまたはレチクルと共に搬送されるので、マスクまた
はレチクルの使用に関する情報を分散処理させることが
でき、全体管理用コンピュータの負担が従来に比べて大
幅に低減される。
なお上述した実施例では、マスク・レチクル収納体と外
部との通信および電源の供給等を端子接続により行なっ
ているが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、例えば光を用いた無接点方式、あるいは磁気カッ
プリング方式等により通信を行うよう構成してもよい。
部との通信および電源の供給等を端子接続により行なっ
ているが、本発明はかかる実施例に限定されるものでは
なく、例えば光を用いた無接点方式、あるいは磁気カッ
プリング方式等により通信を行うよう構成してもよい。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明のマスク・レチクル収納体で
は、外部から書込み読出しが自在な記憶部に、収納部に
収納されているマスクまたはレチクルの使用に関する情
報が記憶されるので、情報がマスクまたはレチクルと共
に各工程に搬送されることになり、マスクまたはレチク
ルの使用に関する情報を分散処理することができ、全体
管理用コンピュータの負担が大幅に低減される。
は、外部から書込み読出しが自在な記憶部に、収納部に
収納されているマスクまたはレチクルの使用に関する情
報が記憶されるので、情報がマスクまたはレチクルと共
に各工程に搬送されることになり、マスクまたはレチク
ルの使用に関する情報を分散処理することができ、全体
管理用コンピュータの負担が大幅に低減される。
したがって全体管理用コンピュータの故障により生産ラ
インが停止するようなことがなく、またホト・リソ工程
におけるプロセスの変更等にも柔軟に対応することがで
き、生産性が大幅に向上したシステムを実現することが
できる。
インが停止するようなことがなく、またホト・リソ工程
におけるプロセスの変更等にも柔軟に対応することがで
き、生産性が大幅に向上したシステムを実現することが
できる。
また、本発明によれば、外部との通信を光により行い、
かつ、バックアップ電源を備えているので、電気的な接
続端子が不要であり、接続端子の挿入時に生じる塵の発
生もなく発塵源となって歩留まりを低下させることを防
止することができる。
かつ、バックアップ電源を備えているので、電気的な接
続端子が不要であり、接続端子の挿入時に生じる塵の発
生もなく発塵源となって歩留まりを低下させることを防
止することができる。
第１図は本発明のマスク・レチクル収納体の一実施例の
構成を示す斜視図、第２図は同実施例におけるマイクロ
コンピュータの機能構成を示すブロック図、第３図は同
実施例のマスク・レチクル収納体を用いたホト・リソ工
程のシステム構成を示す図である。 １……マスク・レチクル収納体、２……収納部、３……
マイクロコンピュータ、４……板状部、５……端子、６
……ＲＯＭ、７……ＲＡＭ、８……ＣＰＵ、９……ＬＳ
Ｉ、１０……バックアップ電源、Ａ……レチクルストッ
カ、Ｂ……検査装置、Ｃ……洗浄装置、Ｄ……処理露光
装置、Ｍ……搬送ロボット
構成を示す斜視図、第２図は同実施例におけるマイクロ
コンピュータの機能構成を示すブロック図、第３図は同
実施例のマスク・レチクル収納体を用いたホト・リソ工
程のシステム構成を示す図である。 １……マスク・レチクル収納体、２……収納部、３……
マイクロコンピュータ、４……板状部、５……端子、６
……ＲＯＭ、７……ＲＡＭ、８……ＣＰＵ、９……ＬＳ
Ｉ、１０……バックアップ電源、Ａ……レチクルストッ
カ、Ｂ……検査装置、Ｃ……洗浄装置、Ｄ……処理露光
装置、Ｍ……搬送ロボット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (3)
- 【請求項１】ホト・リソ工程に使用されるマスクまたは
レチクルを収納する収納部と、 この収納部内に収納されたマスクまたはレチクルに関す
る情報を記憶する外部から読み書き自在な情報記憶手段
と、 外部と光により通信を行う通信手段と、 前記情報記憶手段及び前記通信手段に電力を供給するバ
ックアップ電源と を備えていることを特徴とするマスク・レチクル収納
体。 - 【請求項２】前記情報記憶手段には、マスクまたはレチ
クルのゴミの付着状況、アライメントプログラム、ペリ
クル使用の有無、洗浄回数、使用回数、装填日時、使用
優先順位、使用される露光処理装置の名称および番号等
の少なくとも一つを示す情報が記憶されることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のマスク・レチクル収納
体。 - 【請求項３】前記情報記憶手段は、情報記憶用ＲＡＭ
と、内部制御用ＲＯＭと、演算用ＣＰＵとを備えたこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のマスク・レチ
クル収納体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25618886A JPH0666383B2 (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | マスク・レチクル収納体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25618886A JPH0666383B2 (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | マスク・レチクル収納体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63110627A JPS63110627A (ja) | 1988-05-16 |
| JPH0666383B2 true JPH0666383B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=17289128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25618886A Expired - Lifetime JPH0666383B2 (ja) | 1986-10-28 | 1986-10-28 | マスク・レチクル収納体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666383B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI417649B (zh) * | 2005-12-28 | 2013-12-01 | 尼康股份有限公司 | 十字標記運送裝置、曝光裝置、十字標記運送方法以及十字標記的處理方法 |
| JP2012099663A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Toshiba Corp | マスク搬送システムおよびマスク搬送用アダプタ |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58177938U (ja) * | 1982-05-22 | 1983-11-28 | 相合 征一郎 | 自動化ラインにおける搬送用ボツクス |
| JPS61236136A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Hitachi Ltd | ウエハカセツト治具 |
-
1986
- 1986-10-28 JP JP25618886A patent/JPH0666383B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63110627A (ja) | 1988-05-16 |
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