CN101006554A - 标线保护构件、标线运送装置、曝光装置及标线运送方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种标线运送装置，即使在设置有保护十字构件的保护构件的情况下，当运送标线并在曝光装置上安装时，也可安装在适当的位置。位置测定装置29对标线1的下面上所形成的位置测定用标志26的位置进行测定，由此对标线1的位置进行测定。位置测定装置30对下盖2b的下面上所形成的位置测定用标志27的位置进行测定，并利用它们测定下盖2b的位置。如知道标线1的位置和下盖2b的位置，则可知标线1和下盖2b的相对位置偏离。由此，当利用运送装置运送搭载了标线1的下盖2b，并在曝光装置上进行设置时，借由考虑该偏离而决定下盖2b的停止位置，可将标线1在曝光装置上正确地进行设置。

Description

标线保护构件、标线运送装置、曝光装置及标线运送方法

技术领域

本发明是关于一种标线保护构件、标线运送装置、曝光装置以及标线的运送方法，特别是关于适合在将EUV曝光装置作为对象的情况下使用的。

背景技术

近年来，伴随半导体积体电路的微细化，为了提高因光的衍射界限而受到限制的光学系统的析像能力，开发有一种取代现有习知的紫外线而使用与其相比波长短(11～14nm)的EUV光的投影蚀刻技术。此技术最近被称作EUV(Extreme UltraViolet，超紫外线光)蚀刻，作为可得到利用现有习知的波长190nm左右的光线的光蚀刻无法实现的、70nm以下的析像力的技术而受到期待。

在EUV光的波长区域的物质的复数折射率n，由n＝1-δ-ik(i为复数符号)表示，折射率的虚部k表示极短紫外线的吸收。因为δ、k与1相比非常小，所以在该区域上的折射率非常接近于1。因此，可不使用现有习知的透镜那种透过折射型的光学元件，而使用利用反射的光学系统。

这种EUV曝光装置的概要如图12所示。从EUV光源31所发出的EUV光32入射照明光学系统33，并通过作为准直仪透镜(collimator mirror)进行作用的凹面反射镜34大致形成平行光束，入射由一对复眼透镜35a及35b构成的光学积分仪35。作为一对复眼透镜35a及35b，可使用例如美国专利第6452661号公报(专利文献1)所揭示的复眼透镜。另外，关于复眼透镜的更加详细的构成及作用，在专利文献1中详细地进行了说明，所以为了说明上的便利而省略其说明。

这样，在第2复眼透镜35b的反射面的附近，即光学积分仪35的射出面的附近，形成具有设定形状的实质的面光源。从实质的面光源所发出的光，由平面反射镜36进行偏转后，在标线R上形成细长的圆弧形的照明区域(省略用于形成圆弧形的照明区域的孔径板的图示)。来自被照明的标线R的图案的光，通过由复数个反射镜(在图12中例如为6个反射镜M1～M6)构成的投影光学系统PL，在晶圆W上形成标线图案的像。另外，标线R由标线载台所支持，晶圆W由晶圆载台所支持，且借由使该标线载台、晶圆载台进行移动(扫描)，而使标线R面的图案像全体在晶圆W上进行转印，但省略标线载台、晶圆载台的图示。

[专利文献1]美国专利第6452661号公报

EUV光也可由空气进行吸收，所以其镜筒内需要保持为高度的真空，在标线的运送系统方面需要下特别的工夫。

而且，即使作为在这种EUV曝光装置中所使用的标线，也可使用反射型的。在通常的使用可视光或紫外线的曝光装置的标线中，为了保护图案面，使用称作pellicle(薄膜)的透明薄膜。但是，在EUV曝光装置中，由于没有像前述那样透明的材料，所以不能形成薄膜，而使图案面露出。借此，在标线的运送时和保管时，需要利用其他的装置进行保护，以免在图案面上附着异物。

另外，在运送标线的情况下，当利用运送装置直接运送标线时，有可能因标线和运送装置的接触而弄伤图案面，或因与图案面以外部分的磨擦而产生尘粒。因此，使标线形成利用保护构件进行保护的状态，并采用将保护构件进行运送的方式较佳。

但是，在为了该目的而采用将保护标线全体和图案面的保护构件进行运送的方式的情况下，如标线和保护构件的相对位置关系产生偏离，则在将保护构件运送到标线载台后，再将标线安装在标线载台上时，有可能无法将标线安装在适当的位置上。

发明内容

本发明的目的是提供一种鉴于这些问题而形成的，即使在设置有保护标线全体和图案面的保护构件的情况下，在传送标线并在曝光装置的标线载台上进行安装时，也可将标线安装在适当的位置的标线传送装置，及适于使用于该目的的标线保护构件，及具有该标线运送装置的曝光装置，以及可达成该目的的标线的运送方法。

本发明的第1观点是提供一种对曝光装置所使用的标线的至少一部分进行保护的标线保护构件，设置有用于对其位置进行检测的标志。

此标线保护构件由于设置有用于对其位置进行检测的标志，所以可作为在后面所述的各装置中所使用的标线保护构件使用。

本发明的第2观点是，在上述标线保护构件中，作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件具有对前述标线的形成有图案的面进行保护的第1构件、对与形成有图案的面相反的面进行保护的第2构件；前述第1构件和第2构件各自设置有前述标志。

依此结构，可在第1构件和第2构件间收纳标线并进行保护。而且，由于可各自设置标志，所以可分别对彼此的位置进行检测。

本发明的第3观点是，在上述标线保护构件中，作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件对前述标线的形成有图案的面中的至少形成有图案的区域进行保护。

在反射型标线中，由于未形成有图案的面及未形成有图案的区域未必一定要进行保护，所以在本装置中，可使构件的数目少，构造变得简单。另外，即使在图案形成区域以外，当存在校准标志和ID标志等尘粒的附着会形成问题的区域时，也对这些区域进行保护为佳。

本发明的第4观点是提供一种用于运送标线的装置，包括：标线运送部，运送由标线保护构件所覆盖的状态的标线，其中前述标线保护构件用于对前述标线的至少一部分进行保护；当测定前述标线的位置时，对前述标线保护构件的位置进行测定的第2位置测定装置。

依此结构，由于利用第1位置测定装置对标线的位置进行测定，并利用第2位置测定装置对标线保护构件的位置进行测定，所以可知道标线和保护构件的相对位置关系。

在将标线至少与保护构件的一部分一起进行运送的情况下，由于运送装置将保护构件进行保持并运送，所以对曝光装置的标线载台等的运送目的地的标线的定位，可由将保护构件进行保持的运送装置进行。

由于知道标线和保护构件的相对位置关系，所以可将标线正确地定位到运送目的地，对于将保护构件运送到哪一位置为佳也变得更明确，因此，能够将标线对运送目的地正确地进行定位。

本发明的第5观点是，在前述运送标线的装置中，作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件具有对前述标线的形成有图案的面进行保护的第1构件、对与形成有图案的面相反的面进行保护的第2构件；前述第2位置测定装置独立地测定前述第1构件和第2构件的位置。

依此结构，不只是形成有图案的面，未形成图案的面也可利用保护构件进行保护，使保护变得完全。

本发明的第6观点是，在前述运送标线的装置中，作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；前述标线保护构件对前述标线的形成有图案的面中的至少形成有图案的区域进行保护。

依此结构，由于可只对形成有图案的面中的至少形成有图案的区域利用保护构件进行保护，所以保护构件的构成变得简单。

本发明的第7观点是，在前述运送标线的装置中，具有位置修正装置，根据前述第1位置测定装置及第2位置测定装置所测定的标线的位置及前述标线保护构件的位置，对前述标线保护构件及标线的位置进行修正。

依此结构，在本装置中，由于具有根据利用第1位置测定装置及第2位置测定装置所测定的标线的位置及前述标线保护构件的位置，对标线保护构件及标线的位置进行修正的位置修正装置，所以在将标线(也存在与标线保护构件一起运送的情况)向标线载台进行运送之前，可预先对标线保护构件及标线的位置进行修正，当按照决定了运送装置的顺序将标线运送到标线载台时，可使标线位于标线载台上的适当位置。另外，本装置中的位置修正装置只要具有对标线保护构件、标线的位置中的至少一个位置进行修正的机能的即可。

另外，在运送装置自身具有位置修正机能的情况下，没有必要设置特别的位置修正装置。在这种情况下，也可包含于本装置中，而使运送装置兼为位置修正装置。

本发明的第8观点是，在前述运送标线的装置中，具有位置修正装置，根据前述第1位置测定装置及第2位置测定装置所测定的标线的位置及前述标线保护构件的位置，对前述第1构件及前述标线的位置进行修正。

本发明的第9观点是，在前述运送标线的装置中，前述标线运送部将标线保护构件所保护的标线向标线载台进行运送，并在前述标线载台搭载前述标线后，再将前述标线保护构件从前述标线载台向其他的位置进行运送；具有在将前述标线在前述标线载台进行搭载之前，进行利用前述位置修正装置的前述标线保护构件或前述第1构件和前述标线的位置修正的机能。

依此结构，由于具有在将前述标线在前述标线载台上进行搭载之前，进行利用位置修正装置的前述标线保护构件或前述第1构件和标线的位置修正的机能，所以当按照决定了运送装置的顺序将标线运送到标线载台时，可使标线位于标线载台上的适当位置。

另外，标线的位置修正并不限于在校准载台等上进行这样的情况，也包括借由变化运送装置的运送目标位置而进行的情况。

本发明的第10观点是，在前述运送标线的装置中，前述标线的运送部具有在将标线载台所搭载的前述标线从前述标线载台进行回收时，借由将前述标线保护构件运送到前述标线载台并由前述标线保护构件对前述标线进行保护，然后将前述标线保护构件和标线进行运送，而将前述标线从前述标线载台进行回收的机能，且具有在将前述标线保护构件向前述标线载台进行运送之前，利用前述第2测定装置对前述标线保护构件的位置进行测定的机能。

也就是说，在预先测定标线保护构件的位置后，将该标线保护构件运送到标线载台，并利用标线保护构件对标线进行保护。届时，由于预先对标线保护构件的位置进行测定，所以可使标线和标线保护构件正确地进行位置对合，并可防止因两者的异常接触而产生破损或产生尘粒。

本发明的第11观点是，在前述运送标线的装置中，具有在对前述第1构件和前述第2构件的位置进行测定后，根据其测定结果，使前述第1构件和前述第2构件进行位置对合并合为一体的机能。

在对第1构件和前述第2构件的位置进行测定后，借由根据该测定结果，使前述第1构件和前述第2构件进行位置对合且并合为一体，可防止因两者的异常接触而产生破损或产生尘粒。使第1构件和前述第2构件合为一体，不只是保护标线的情况，有时也可在不对标线进行保护的情况下进行。这是因为，在例如第1构件和第2构件由下盖、上盖构成的情况下，借由将它们合成一体可防止其中进入尘粒。

本发明的第12观点为提供一种曝光装置，具有前述的标线运送装置。

在此曝光装置中，当使标线被运送到标线载台上时，可使其位于正确的位置，并在该状态下将标线在标线载台上进行保持。借此，可使标线载台上所搭载的标线校准装置的标志检测范围变得相对狭窄，而且，标志检测时间也可缩短。

本发明的第13观点为提供一种标线的运送方法，应用于曝光装置所使用的标线，是一种将把用于保护标线的至少一部分的标线保护构件所覆盖的标线，从前述保护构件上取下，并运送到前述曝光装置的标线载台上的方法；其特征在于：具有测定工程，在运送的途中，在将前述标线从前述保护构件取下之前，对前述标线的位置和前述标线保护构件的位置进行测定。

依此结构，当使标线运送到标线载台上时，可使其位于正确的位置，并在该状态下将标线在标线载台上进行保持。另外，标线的取下在将标线在标线载台上搭载之前或搭载之后都可以进行。另外，作为本装置的详细内容、变形，可进行前述第4手段至第11手段的说明中所说明那样的动作，或附加这些动作。

如利用本发明，即使在设置用于保护标线全体和图案面的保护构件的情况下，也可提供当运送标线并在标线载台上进行载置时，将标线在适当的位置上进行载置的标线运送装置，及适于该目的使用的标线保护构件，及具有这种标线运送装置的曝光装置，以及可达成这种目的的标线运送方法。

附图说明

图1所示为标线、净化过滤箱(CFP)及标线载体(RSP)的关系的概要图。

图2所示为标线、净化过滤箱(CFP)及标线载体(RSP)的组装图。

图3所示为图2的分解斜视图。

图4所示为作为本发明的实施形态的1个例子的标线运送装置、曝光装置的概要模式图。

图5所示为从空气标线储存柜取出标线载体的情形。

图6所示为在标线载体开启工具内，从标线载体取出净化过滤箱的情形。

图7所示为承载室的概要图。

图8所示为真空标线库的结构概要图。

图9所示为CFP开启工具的结构，及将净化过滤箱分离为上盖和下盖，并将标线在载置于下盖上的状态下取出的状态的概要图。

图10所示为在曝光装置内将标线和下盖进行运送的状态的概要图。

图11所示为在CFP开启工具中所设置的位置测定装置的概要图。

图12所示为EUV曝光装置的概要图。

1：标线                2：净化过滤箱

2a：上盖               2b：下盖

2c：过滤器             2d：透明窗

2e：突出部             2f：位置检测用标志

2g：定位销             2h：标线保持用突起

2i、2j：透过窗         3：标线载台

3a：基座               3b：盖部

3c：突出部             3d：突起

3e：销                 11：空气标线储存柜

11a：立板              11b：横板

12：空气机械手臂       12a：自动臂

13：标线载体开启工具   14：空气机械手臂

14a：自动臂            15：承载室

15a、15b：门           15c：放置台

16：真空机械手臂       16a：真空自动臂

17：真空标线库         17a：立板

17b：横板              18：CFP开启工具

18a：立板              18b：横板

19：曝光装置           19a：标线载台

20a：标线载体ID读出器  20b：标线ID读出器

21：温度补偿灯         22：校准用载台

22a：贯通孔            25、26、27：位置测定用标志

28～30：位置测定装置   31：EUV光源

32：EUV光              33：照明光学系统

34：凹面反射镜         35：光学积分仪

35a、35b：复眼透镜     36：平面反射镜

PL：投影光学系统       R：标线

M1～M6：反射镜         W：晶圆

具体实施方式

下面，利用图示对本发明的实施形态的例子进行说明，但最初对以本发明的实施形态作为前提的标线和标线保护构件的关系进行说明。图1所示为标线、作为标线保护构件的净化过滤箱(CFP)以及标线载体(RSP：也称作标线标准机械介面盒；标准机械介面盒：SMIF pod；SMIF：StandardMechanical Interface)的关系的概要图。

标线1在具有上盖2a和下盖2b的净化过滤箱2内，以被上盖2a和下盖2b夹于其间的形态进行收纳并保护。另外，净化过滤箱2被收纳在具有基座3a和盖部3b的标线载体3内。另外，标线载体3有时也被称作标线标准机械介面盒(RSP)。而且，在标线载体3内，也收纳有多个净化过滤箱2，但在以下的实施形态的说明中，是对收纳有1个净化过滤箱2的例子进行说明。

图2所示为如这样所述的使标线1收纳在净化过滤箱2内，使净化过滤箱2收纳在标线载体3上的状态的组装图，图3为其分解斜视图。另外，在以下的图示中，对与前述图示所示的构成要素相同的构成要素，付以相同的符号且有时省略其说明。

盖部3b由透明的树脂等组成。而且，在2处位置设置有用于在运送标线载体3时，使空气机械手臂(Air Robot)12挂上提起的突出部3c。

上盖2a通常由铝等金属形成，具有过滤器2c，且具有由玻璃等形成的透明窗2d。过滤器2c是用于防止尘粒等微细粒子的透过并确保充分的传导性，即使在净化过滤箱2的上盖2a和下盖2b进行扣合而形成内部空间时，也可缩小外部和内部空间的气压差，而不在上盖2a和下盖2b上施加因压力差所形成的力。如后面所说明的，净化过滤箱2在大气中和高真空状态的空间来回动作，所以需要通过这种过滤器的内压调整机构。透明窗2d用于可从外部对标线1的状态进行观察。

而且，在上盖2a上，在图的左右2处位置设置有突出部2e，但它们如后面所说明的，用于借由将该部分挂在保持构件上进行保持，并将下盖2b向下拉，而使上盖2a和下盖2b进行分离。另外，在上盖2a上设置用于检测其位置的位置检测用标志2f，并如后面所说明的，借由利用位置测定装置对该位置进行测定而检测上盖2a的位置。

下盖2b通常由铝等金属形成，且形成2个一对的位置定位销2g分别设置于四个角部，并利用该位置定位销2g，在保持标线时进行标线1的平面方向的定位。而且，在3个位置设置标线保持用突起2h，并利用该标线保持用突起2h，对标线1进行3点支撑。

另外，在下盖2b上设置有2个由玻璃等构成的透过窗2i、2j。它们用于在本发明的主要部分即标线位置测定装置中，从下盖2b的下侧对标线1上所形成的标志和ID标志进行观察。在图示中是设置于2处位置，但如标线1上所形成的位置对合用标志的位置一定，则也可只在1处设置。

在基座3a上，设置有3根用于与下盖2b上所设置的孔(在图3中形成内侧而未图示)平缓嵌合的销3e，借此完成下盖2b和基座3a的粗略定位。而且，在基座3a上，设置有用于对下盖2b进行4点支持的突起3d。

另外，在下盖2b上也与上盖2a同样地设置有位置测定用的标志，但在图3中形成于背面侧而未图示。另外，在标线1上设置有位置测定用的标志，但同样形成于背面侧而未图示。标线1的下面形成图案形成面，这是为了尽可能地抑制因重力而在形成有图案的面上附着尘粒等。

标线1在如图2所示被净化过滤箱2和标线载体3双重收纳的状态下，被运送到标线运送装置。下面，关于本发明的实施形态的标线运送装置，说明其概要。

图4所示为本发明的实施形态的1个例子的标线运送装置和曝光装置的概要图。从外部所运送的标线1被收纳在空气标线储存柜(air reticlestocker)11内。或者，在被收纳在空气标线储存柜11内的状态下被送入。然后，利用空气机械手臂12被送入标线载体开启工具(reticle carrieropener)13，将净化过滤箱2从标线载体3内取出到标线载体开启工具13内的洁净环境中。然后，利用空气机械手臂14，使净化过滤箱2被取出并送入到承载室(load lock)15中。另外，含有空气机械手臂14的承载室15和标线载体开启工具13间的光路形成洁净环境。

然后，在承载室15内，进行真空抽吸，使承载室15内及净化过滤箱2内形成真空状态。真空抽吸完成后，使净化过滤箱2由真空机械手臂(VaccumRobot)16从承载室15内取出。即，在承载室15中安装有2个门15a、15b，当承载室15为大气开放状态时，关闭门15b并打开门15a，将净化过滤箱2从标线载体开启工具13内送入，然后，关闭门15a进行真空抽吸，并在真空抽吸完成后，打开门15b，利用真空机械手臂16将净化过滤箱2从真空区域内取出。

送入到真空区域内的净化过滤箱2，被送入真空标线库(rectilelibrary)17中，并在那里被临时保管。实际上，当在曝光装置19中使用标线1时，收纳它们的净化过滤箱2由真空机械手臂16从真空标线库17被取出，并送入到CFP开启工具18内，且利用CFP开启工具18，使净化过滤箱2的上盖2a从标线1和下盖2b被分离。另外，CFP开启工具18如后面所说明的，具有标线1和下盖2b的预校准机构。

然后，标线1在载置于下盖2b上的状态下，利用真空机械手臂16，被运送到曝光装置19的标线载台19a上。然后，利用标线载台19a具有的静电吸盘进行固定，并与下盖2b分离而使用于曝光中。被分离的下盖2b由真空机械手臂16被返回到CFP开启工具18内，并在保持于真空机械手臂16中的状态下进行待机，直至标线1的使用结束。

当标线1的使用结束时，真空机械手臂16将下盖2b运送到标线载台19a。然后，当在停止于设定位置的状态下解除静电吸盘的固定时，标线1被载置于下盖2b上。在该状态下，真空机械手臂16将下盖2b运送到CFP开启工具18内，并在CFP开启工具18内使先分离的上盖2a覆盖下盖2b。然后，真空机械手臂16将净化过滤箱2返回到真空标线库17中进行保管。

当将净化过滤箱2从真空区域中取出时，利用真空机械手臂16将真空标线库17中的净化过滤箱2置入承载室15中，并在那里使承载室15内形成大气压后，利用空气机械手臂14返回到标线载体开启工具13中，且在标线载体3中进行收纳并存储于空气标线储存柜11内。然后，将空气标线储存柜11内收纳的所需的标线载体3，由操作人员或自动装置送出到外部。

另外，在图4中，20a为用于读取标线载体3的识别符号的标线载体ID读出器，20b为用于读取标线1和净化过滤箱2的识别符号的标线载体ID读出器，并利用它们读取标线载体3和标线1、净化过滤箱2的资讯，且将作为目的的标线1供给到曝光装置，或将从曝光装置上取下的标线1，在设定的净化过滤箱2、标线载体3中进行收纳。21为温度补偿灯，为了对标线1在真空抽吸时所遭受的温度降低进行补偿，而进行标线的温度调节。

图5所示为从空气标线储存柜11取出标线载体3的情形。空气标线储存柜为由立板11a和横板11b构成的机架(另1张立板11a省略图示)，且在各横板11b上载置有收纳了标线1和净化过滤箱2的标线载体3。利用空气机械手臂12的自动臂12a，保持收纳有所选择的标线的标线载体3，并向标线载体开启工具13运送。标线载体开启工具13采用与众所周知的标线标准机械介面盒(RSP)同样的构成，其详细的说明省略。图6所示为利用标线载体开启工具13，使标线载体3的盖部3b和基座3a被分离的状态。虽然，标线载体开启工具13的框体未图示，但借由利用自动臂12使标线载体13的上板上所配置的标线载体3被固定，并使标线载体开启工具13的上板的一部分与基座3a一起向下方移动，可使净化过滤箱2配置于标线载体开启工具内的洁净环境中。空气机械手臂的自动臂14a进入标线载体开启工具13内，并将在载置于基座3a上的状态下暴露于洁净环境中的净化过滤箱2，由自动臂14a挟持取出，且收纳在承载室15内。然后，借由使基座3a再次上升而使盖部3b和基座3a合为一体，并使空的标线载体返回到空气标线储存柜11中。然后，选择下面所需要的标线，并按照与上述相同的要领运送到承载室15。

图7所示为承载室15的概要。该图所示为在门15a打开且门15b关闭的状态下，利用自动臂14a所运送的净化过滤箱2被载置于放置台15c上的状态。从该状态关闭门15a并进行真空抽吸后，打开门15b并利用真空机械手臂16取出净化过滤箱2。另外，在图4和图7中，门15a和门15b的位置并不相同，但图示的情况只是一个例子，它们的位置关系可为任一种情况。另外，当在真空抽吸中打开净化过滤箱2时，有可能在标线上附着尘粒，所以在承载室进行真空抽吸或大气开放时，预先利用机械装置等进行固定以免使箱2打开为佳。

图8所示为真空标线库17的结构的概要图。真空标线库17为由立板17a和横板17b构成的机架(另1张立板17a省略图示)，在各横板17b的上面载置有收纳了标线1的净化过滤箱2。另外，之所以使各横板17b形成L字形，是为了可形成一种使净化过滤箱2的末端浮起的状态，并使真空自动臂16a的顶端部插入下盖2b的下部，而将下盖2b捞起。

图9所示为CFP开启工具18的结构，及将净化过滤箱2分离为上盖2a和下盖2b并使标线1在载置于下盖2b上的状态下被取出的状态的概要图。

CFP开启工具18为由立板18a和横板18b所构成的1层机架(另1张立板18a省略图示)，且上盖2a的突出部2e挂在横板18b的上面，使上盖2a垂下。

当从横板18b的上方，在以真空自动臂16a的顶端部支持下盖2b的下面这样的状态下，将净化过滤箱2取下来时，上盖2a的突出部2e挂在横板18b上，另外当下降真空自动臂16a的位置时，下盖2b和其上所搭载的标线1直接朝下降落，但上盖2a因为突出部2e挂在横板18b上，所以如图示那样被保持存留在横板18b上，而进行上盖2a、下盖2b、标线1的分离。在该状态下，借由沿箭形符号的方向牵拉真空自动臂16a，可取出下盖2b上所载置的标线1。

另外，在CFP开启工具18上，设置有校准用载台22。该校准用载台22可如图示那样，进行向X方向、与其成直角的Y方向的移动，及以与它们成直角的Z方向为轴的旋转(θ)。另外，在本例中载置上盖2a的横板18b是固定地，但在想要调整上盖位置的情况下，也可设置驱动装置并使其进行移动。

当要进行标线1的校准(位置调整)时，如在以真空自动臂16a的顶端部挟持载置有标线1的下盖2b的状态下，使真空自动臂16a下降，则可将下盖2b载置于校准载台22上。以在将下盖2b载置于校准载台22上的状态下，可使真空自动臂16a下降到真空自动臂16a的顶端部不与下盖2b接触的位置的形态，而使校准载台22的中央部形成凸形。另外，在校准载台22的中央部，设置有贯通孔22a，而这是为了如后面所说明的，可利用位置检测装置，对下盖2b的位置及标线1的位置进行检测。

图10所示为在曝光装置内将标线1和下盖2b进行运送的状态的概要图。23为曝光装置的镜筒，24为曝光装置的标线载台19a(在图10中未图示)上所设置的静电吸盘。当利用真空自动臂16a，将下盖2b上所载置的标线1运送到设定的位置，并利用静电吸盘24进行固定时，只是标线1被固定在标线载台19a上，而下盖2b被一直保持在真空自动臂16a上。在该状态下，利用真空自动臂16a，使下盖2b返回到CFP开启装置18内。另外，在静电吸盘24的固定之前，利用真空机械手臂16或其他的装置，预先将标线按压在静电吸盘24上为佳。

这样，使下盖2b在CFP开启工具18内待机直至标线1的使用结束，但为了不使尘粒等进入到下盖2b中，也可返回使上盖2a和下盖2b合在一起的状态，并将空的净化过滤箱2，使用真空机械手臂16返回到真空标线库17中，且在那里进行保管。

在这种情况下，也可在标线的使用结束时，将对应的净化过滤箱2利用标线ID读出器20b识别并取出，且运送到CFP开启工具18，在以前述那样的方法将上盖2a和下盖2b进行分离后，利用真空机械手臂16使下盖2b移动到标线载台19a的位置，并收取标线1。

如利用这种构成，则真空机械手臂16变得自由，所以当将标线使用于曝光中时，可将其他的标线向真空标线库17进行运送，或进行后面所使用的标线的校准。

而且，也可在CFP开启工具18中，形成使上盖2a和下盖2b合在一起的状态，并由真空自动臂16a进行保持且待机。这样一来，不会使下盖2b中进入尘粒等，且与将空的净化过滤箱2返回到真空标线库17的情况相比，能够缩短运送时间。

以上，对将标线1从标线载台19回收到净化过滤箱2的方法进行了说明，而另外将净化过滤箱2在标线载体3内进行收纳并送出的方法，只需将从前述标线载体3取出净化过滤箱2并送入到CFP开启工具18内的工程反向进行即可，对业内人士来说，应该不需要再进行说明。

在以上的说明中，将标线1在内部进行收纳并保护的净化过滤箱2，由上盖2a和下盖2b构成。但是，标线1的保护不只是形成有图案的下面，有时还存在只要能够对下面中的图案形成区域等需要保护的区域进行即可的情况，在这种情况下，不需要上盖2a，且下盖的形状也不相同。在这种操作标线保护构件的情况下，在CFP开启工具18中不需要将上盖2a进行分离的机构，只要具有用于进行标线1的校准的校准载台22和后述的位置测定装置即可。借此，使该部分装置的构成变得简单。另外，无论哪一种情况，在由真空机械手臂进行校准的情况下，有时校准载台22也不需要。

而且，在以上的说明中，真空标线库17和CFP开启工具18为不同的装置，但可以将它们进行合并而形成一个装置。即，可采用使真空标线库17的机架的一个与CFP开启工具18的机架相同的构成，且可将校准载台22设置在真空标线库17中。

图11所示为在CFP开启工具18中所设置的位置测定装置的概要。在本实施形态中，标线1、上盖2a、下盖2b的位置测定装置与其相对应，且在标线1、上盖2a、下盖2b上分别设置有位置测定用标志。在上盖2a上设置有位置测定用标志25(在图3中被表示为2f)，在标线1上设置有位置测定用标志26，在下盖2b上设置有位置测定用标志27。

而且，设置有用于检测位置测定用标志25的位置的位置检测装置28、用于检测位置测定用标志26的位置的位置测定装置29、用于检测位置测定用标志27的位置的位置测定装置30。作为各位置测定用标志25、26、27的形状的例子，一般为使平行于图11的X方向的线、平行于Y方向的线进行交差的标线，及在X方向和Y方向两个方向上配置线和空间图案的2维线和空间图案，在该实施形态中，在上盖2a、标线1、下盖2b上沿Y方向设置2个这些标志(例如参照图3的2f)。因此，位置测定装置28～30也各具有2个检测器。

位置测定装置28在形成上盖2a从横板18b上垂下的状态时，借由对位置测定用标志25的位置进行测定，而测定上盖2a的位置。位置测定装置29在形成下盖2b载置于校准载台22上的状态时，通过贯通孔22a和透过窗2j对标线1的下面上所形成的位置测定用标志26的位置进行测定，并借此测定标线1的位置。位置测定装置30在形成下盖2b载置于校准载台22上的状态时，通过贯通孔22a和透过窗2j对下盖2b的下面上所形成的位置测定用标志27的位置进行测定，并借此测定下盖2b的位置。

位置测定装置28、29、30的构成是通过光学显微镜并利用2维摄像装置对十字线即位置测定用标志25、26、27的像进行摄像，且借此对位置测定用标志25、26、27的X方向位置、Y方向位置进行检测，能够利用于现有习知的曝光装置中所使用的众所周知的显微镜等，所以省略其说明。另外，由于位置测定用标志25、26、27各形成有2个，所以能够检测上盖2a、标线1、下盖2b的围绕Z轴的旋转。

对利用CFP开启工具18将上盖2a和下盖2b进行分离后，到在标线载台上载置标线为止的校准顺序进行说明。对利用开启工具18被分离的下盖2b的位置测定用标志27，由位置测定装置30进行测定。该位置测定装置30可为相对低倍的显微镜，且使标志检测区域相对较广为佳。以使位置测定装置30所测定的标志27被配置在设定位置的形态，使校准载台22沿X、Y方向及围绕Z轴的旋转方向进行移动。然后，利用位置测定装置29对标线1上所形成的位置测定用的标志26进行测定。该位置测定装置为相对高倍的显微镜较佳。高倍的显微镜存在标志检测区域相对变窄的倾向，但可利用标志27的校准而使标志26进入该相对狭窄的检测区域内。根据标志26的测定结果，使校准载台沿X、Y方向及围绕Z轴的旋转方向进行移动，以使标志26配置于设定的位置。如这样被定位的标线1及下盖2b再次由真空自动臂进行保持后，被运送向标线载台，并使标线1在标线载台上进行固定。标线1在标线载台上利用其他的校准系统进行定位，但如上所述，标线在标线载台上进行载置的前被校准，所以标线载台上所搭载的对准系统可使标志检测区域相对变窄，容易提高测定精度。另外，也可不使校准载台26移动，而利用真空自动臂进行定位。在这种情况下，可在测定位置对合标志27的位置后，调整真空自动臂的位置，然后对位置对合标志26的位置进行测定，并考虑该位置测定结果且向标线载台进行运送。另外，也存在并用校准载台22和真空自动臂16的情况。例如，可利用真空自动臂16进行X、Y方向的位置对合，并利用校准载台22对围绕Z轴的旋转进行调整。在这种情况下，下盖2b的位置对合是在校准载台22上进行位置测定后，利用真空自动臂抬起下盖2b并调整X、Y方向的位置，然后载置于校准载台22上。围绕Z轴的旋转调整在利用真空自动臂的调整之前或之后，由校准载台22进行。然后，当在测定位置对合用标志26并利用校准载台22进行了围绕Z轴的旋转调整之后，向标线载台进行运送时，利用真空自动臂进行X、Y方向的位置调整，并将标线在标线载台上进行载置。

进行标线1的位置和下盖2b的位置的测定，是为了这样的目的。另外，如可使对标线1上所设置的位置对合用标志26进行测定的位置测定装置29的检测区域足够大，并必须进行测定，则不需要下盖2b上所设置的位置对合用标志27的测定。

另外，在标线1的使用结束，并为了将标线1从标线载台19a进行回收而将下盖2b运送到标线载台19a之前，进行下盖2b的位置测定为佳。如解除标线载台19a的静电吸盘24的固定，并将标线1载置于下盖2b上，则当标线1和下盖2b的位置关系未形成正规的位置时，标线1和下盖2b发生异常接触(例如标线1未恰当地嵌入图3所示的定位销2g间，而形成浮起的状态或相互摩擦)，形成标线1的破损和尘粒的产生等的原因。

为了防止该问题，借由测定位置测定用标志27的位置而得知下盖2b的位置，从而得知利用真空自动臂16a将下盖2b运送到标线载台19a，并使真空自动臂16a停止于设定的位置的情况下的、标线1和下盖2b的相对位置关系，并使真空自动臂16a的停止位置只修正位置偏离的量。或者，在得知使真空自动臂16a停止于设定的位置的情况下的、标线1和下盖2b的相对位置关系，并利用校准载台22使下盖2b的位置只修正该量后，再利用真空机械手臂16运送到标线载台19a的设定位置。

借由测定位置测定用标志25的位置的上盖2a的位置测定，是为了在标线1的使用结束且标线1被载置于下盖2b上并进行回收时，和为了防止尘粒进入上述的箱内而关闭上盖和下盖并置于大气环境的情况下等，使上盖2a和下盖2b正确地合为一体而进行。即，是在CFP开启工具18内将下盖2b由真空自动臂16a抬起，并嵌入从横板18b吊下的上盖2a中，但此时如在上盖2a和下盖2b之间产生位置偏离，则下盖2b不能与上盖2a恰当地对合，有可能彼此损伤，或因异常接触而产生尘粒。

因此，在将下盖2b嵌入上盖2a之前，对上盖2a和下盖2b的相对位置进行测定，并对真空自动臂16a的位置进行调整以使它们恰当地进行嵌入后再上升。或者，在具有校准载台22的情况下，利用校准载台22对下盖2b的位置进行调整后，利用真空自动臂16抬起。

另外，在这种情况下，当标线1的位置对下盖2b在不恰当的位置被收纳在下盖2b中时，如在该状态下关闭上盖和下盖，有时标线会发生破损。因此，不只是上盖2a和下盖2b的位置，也测定标线1的位置，并测定标线1对下盖2b是否配置在正常的位置上为佳。如标线的位置不恰当，可进行再次返回标线载台并吸附标线，且将下盖的位置调整后重新载置于下盖上的方法，及设置只修正标线的位置的其他机构的方法，以及不载置上盖而直接通过承载室向装置外送出的方法。另外，在不载置上盖而向装置外送出的情况下，上盖也另行向装置外送出。另外，在采用作为保护构件不具有上盖2a而只具有下盖2b，并只保护标线1的图案的形式时，当然不需要上盖2a和下盖2b的位置对合。

另外，在上述的说明中，只对X、Y方向和围绕Z轴的旋转进行位置对合，但也可对围绕X、Y各轴的旋转等进行位置对合。

而且，以上的说明是将EUV曝光装置作为例子进行了说明，但本发明在除了EUV曝光装置以外的曝光装置和检查装置、掩膜清洗装置等运送装置中，也可依据需要进行应用。

Claims (15)

1、一种标线保护构件，为一种对曝光装置所使用的标线的至少一部分进行保护的标线保护构件，其特征在于：

设置有用于对其位置进行检测的校准标志。

2、根据权利要求1所述的标线保护构件，其特征在于：作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件具有对前述标线的形成有图案的面进行保护的第1构件、对与形成有图案的面相反的面进行保护的第2构件；前述第1构件和第2构件各自设置有前述校准标志。

3、根据权利要求1所述的标线保护构件，其特征在于：作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件对前述标线的形成有图案的面中的、至少形成有图案的区域进行保护。

4、一种标线运送装置，为用于运送标线的装置，其特征在于包括：

标线运送部，运送由标线保护构件所覆盖的标线，其中前述标线保护构件用于对前述标线的至少一部分进行保护；

第1位置测定装置，用于测定前述标线的位置；以及

第2位置测定装置，用于测定前述标线保护构件的位置。

5、根据权利要求4所述的标线运送装置，其特征在于：作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；该标线保护构件具有对前述标线的形成有图案的面进行保护的第1构件、对与形成有图案的面相反的面进行保护的第2构件；前述第2位置测定装置独立地测定前述第1构件和第2构件的位置。

6、根据权利要求4所述的标线运送装置，其特征在于：作为保护对象的标线为在单面上形成图案的反射型标线；前述标线保护构件对前述标线的形成有图案的面中的、至少形成有图案的区域进行保护。

7、根据权利要求4所述的标线运送装置，其特征在于：具有位置修正装置，根据前述第1位置测定装置及第2位置测定装置所测定的标线的位置及前述标线保护构件的位置，对前述标线保护构件及标线的位置进行修正。

8、如权利要求5所述的标线运送装置，其特征在于：具有位置修正装置，根据前述第1位置测定装置及第2位置测定装置所测定的标线的位置及前述标线保护构件的位置，对前述第1构件及前述标线的位置进行修正。

9、根据权利要求7所述的标线运送装置，其特征在于：前述标线运送部将标线保护构件所保护的标线向标线载台进行运送，并在前述标线搭载于前述标线载台之后，再将前述标线保护构件从前述标线载台向其他的位置运送；该标线运送装置具有如下的功能：在将前述标线搭载在前述标线载台之前，利用前述位置修正装置进行前述标线保护构件或前述第1构件和前述标线的位置修正。

10、根据权利要求8所述的标线运送装置，其特征在于：前述标线运送部将标线保护构件所保护的标线向标线载台进行运送，并在前述标线搭载于前述标线载台之后，再将前述标线保护构件从前述标线载台向其他的位置运送；该标线运送装置具有如下的功能：在将前述标线搭载在前述标线载台之前，利用前述位置修正装置进行前述标线保护构件或前述第1构件和前述标线的位置修正。

11、根据权利要求4所述的标线运送装置，其特征在于：前述标线的运送部具有如下的功能：在将标线载台所搭载的前述标线从前述标线载台上回收时，借由将前述标线保护构件运送到前述标线载台并由前述标线保护构件对前述标线进行保护，然后运送前述标线保护构件和标线，而将前述标线从前述标线载台回收，且在将前述标线保护构件向前述标线载台进行运送之前，利用前述第2测定装置对前述标线保护构件的位置进行测定。

12、根据权利要求5所述的标线运送装置，其特征在于具有如下的功能：在对前述第1构件和前述第2构件的位置进行测定后，根据其测定结果，使前述第1构件和前述第2构件进行位置对合且并合为一体。

13、根据权利要求5所述的标线运送装置，其特征在于具有如下的功能：在对前述第1构件和前述第2构件的位置进行测定后，根据其测定结果，使前述第1构件和前述第2构件进行位置对合且并合为一体。

14、一种曝光装置，其特征在于：具有权利要求4所述的标线运送装置。

15、一种标线的运送方法，应用于曝光装置所使用的标线，是一种把用于保护标线的至少一部分的标线保护构件所覆盖的标线，从前述保护构件取下，并运送到前述曝光装置的标线载台的方法；其特征在于：具有测定工程，在运送的途中，在将前述标线从前述保护构件上取下之前，对前述标线的位置和前述标线保护构件的位置进行测定。

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