TW200404935A - Composition for matte layer formation, release sheet using the same, and synthetic leather produced using said release sheet - Google Patents

Description

200404935 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關，無光感合成皮革製造用脫模片、及形 成此脫模片之組成物；詳細的說，是不經壓紋加工、起毛 加工、就具有漆黑性高之消光面，適合於無光感合成皮革 製造上，形成無光層用之組成物；及有關以其組成物製成 之無光感合成皮革製造用脫模片。 【先前技術】 合成皮革的製造方法之一是，在脫模片上塗佈如氨基 甲酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、聚醯胺樹脂、及氨基酸樹脂等 之合成皮革組成物，經乾燥或硬化後，於組成物之上塗佈 黏著劑’再以織布等之基布膠粘，將脫模片自合成皮革組 成物剝離，即得合成皮革之方法；用此方法製造的合成皮 革，因控制脫模片之表面狀態，而可獲得含有種種表面形 狀之合成皮革；也就是說，合成皮革之表面形狀是，複製 所使用脫模片的表面形態而形成；欲得所期望之合成皮革 ’控制脫模片的表面形態是必要的。 合成皮革中，特別是要求品質嚴格的消光型合成皮革 ，可以製出不褪色、具漆黑性，即所謂無光感的合成皮革 獲得此等消光型合成皮革的方法中，有在脫模片製造 的押出層合步驟之際，以壓紋滾筒做爲冷卻滾筒、或脫模 片以既成薄膜膠粘而形成時，其膠粘用薄膜之製膜步驟中 (2) (2)200404935 ，以壓紋滾筒做爲冷卻滾筒等製成表面具有凹凸形狀的脫 模片，將此脫模片表面之凹凸形狀複製於合成皮革上的方 法；或將脫模片整體經過壓紋加工，製成以凹凸形狀之壓 紋賦形的脫模片，將此脫模片表面之凹凸形狀複製於合成 皮革上的方法；以及將所得合成皮革經起毛加工，而得具 有消光面合成皮革之方法等。 此等方法所得之合成皮革，都經適度的消光；進行壓 紋加工等，也不能授予微細的凹凸形狀；濃度，如黑色之 合成皮革中，不能授與充份的漆黑性；及，施行起毛加工 的方法，必須設置一個新的步驟，使製造步驟複雜化，而 且會引起成本增加。 另一方面；特開昭60- 1 5 8249號公報上記載，消光 型之所謂無光感之合成皮革的製造方法，是以二氧化矽、 碳酸鈣等之無機顏料、消光腊做爲消光劑，添加於脫模片 組成物中，塗佈於基材上形成脫模片的方法，已開發出來 (請參照專利文獻1 )。 不過，以添加消光劑的組成物塗佈後之脫模片，爲得 到充份的消光效果，必須在組成物中添加所定量的無機顏 料等；添加量太多時，該消光劑會自脫模片脫落，發生所 謂落粉現象。 又，爲提高消光效果，就是增加消光劑的添加量，也 會發生由於消光劑本身之間的凝集力，而自脫模片表面析 出的現象，不能獲得所期望具有微細凹凸形狀的脫模片， 也得不到具有漆黑性及無光感的合成皮革。 (3) (3)200404935 上述之特開昭6 0- 1 5 8〗49號公報又有如下之記載， 含消光用微粒子之脫模片用組成物中，因含有微粒子之故 ，雖會顯出某種程度的消光感，但仍難以獲得不褪色且具 有漆黑性的合成皮革。 爲獲得無光感之合成皮革，必須使用做爲消光劑的微 細粒子，但是脫模片用組成物中添加微細粒子時，組成物 的流動性會下降，產生了塗佈性惡化的問題。 又’將塗佈液塗佈於缺乏平滑性的基材上，以形成脫 模片時，乾燥性會降低，如以強熱乾燥時，產生了會傷及 脫模片之平滑性的問題。 又，以一般用紙做爲基材時，於脫模片形成之際，容 易產生靜電；而且，以此脫模片製造合成皮革的過程中， 有合成皮革自脫模片剝離的步驟，很難避免產生靜電；如 此’脫模片製造等產生靜電時，在脫模片表面及合成皮革 上，會發生割裂痕的問題。 即是說，本發明以提供一種不經壓紋加工、起毛加工 ’亦具有漆黑性高的消光面、適合無光感合成皮革之製造 上’形成無光層用之組成物，及使用該組成物製成無光感 合成皮革製造用脫模片爲目的。 又’以提供一種製造平滑性優異，能抑制靜電之產生 ’沒有割傷裂痕之合成皮革的無光感合成皮革製造用脫模 片爲另一目的。 【發明內容】 -8 - (4) (4)200404935 〔發明之揭示〕 爲解決上述之g果題，本發明之形成無光層用組成物， 係以含有熱硬化性樹脂、與消光劑等必要成份所成之形成 無光層用組成物；上述消光劑，是由含有一種或兩種以上 之有機及/或無機的多孔性微粒子所成；而上述多孔性微 粒子’其平均拉徑在0.5〜20/zm之範圍，比表面積在1 〜1 000平方公尺/公克之範圍；使用含有以此微粒子所成 消光劑之組成物製造脫模片，可以得到具有漆黑性、不發 生褪色、無光感的合成皮革。 又，本發明的第一形態是’上述之多孔性微粒子是經 表面處理而成，以能均勻分散於形成無光層用組成物中爲 宜；更適合的是，上述表面處理中，上述熱硬化性樹脂屬 水溶性時’爲無機表面處理；上述熱硬化性樹脂屬非水溶 性時’爲有機表面處理；使用此經無機或有機表面處理的 微粒子做爲消光劑，以提高形成無光層用塗佈液中之分散 性，就算增加微粒子之含有量，也不會使塗佈性降低；又 ，因微粒子均勻分散，於形成無光層時，可以形成均勻的 凹凸表面。 上述多孔性微粒子之含有量，對形成無光層用組成物 之重量基準，以5〜50重量％較爲適宜；含有上述範圍 的微粒子，可以獲得均勻、漆黑性優異的無光感合成皮革 ;多孔性微粒子，以選自二氧化矽、碳酸鈣、滑石粉、或 含有此等一種以上之混合物，特別適合。 本發明之形成無光層用組成物，其較適合的形態是， -9 - (5) (5)200404935 更含有脫模劑；形成無光層用組成物含有脫模劑時，於脫 模片自合成皮革剝離之際，會使剝離抵抗力降低，可以很 容易地將脫模片剝下。 本發明的另一形態，合成皮革製造用脫模片係由塗佈 上述形成無光層用組成物所成無光層、與支撐上述無光層 的基材而成；在上述無光層表面上形成的微細凹凸部份， 其凹凸部份的算術平均粗糙度（Ra )爲0.5〜1 5 // m ;使 用此種表面形態的脫模片，不經壓紋加工、起毛加工，也 可以製造無光感的合成皮革。 本發明第二形態之合成皮革製造用脫模片，是由表面 上具有微細凹凸的無光層、與支撐上述無光層的基材而成 之合成皮革製造用脫模片；上述無光層是以脫模性樹脂層 所成，在上述凹凸部份的凹部之底，似設置有可殘留具脫 模性透性樹脂之空間；使用此脫模片製造合成皮革，不但 可以授予更高的瀝青表皮感之外觀與觸覺，同時在不同顏 色之合成皮革重覆操作製造時，於微細凹凸部份的凸部之 底’也會有具脫模性之透明合成樹脂殘留，可以獲得脫模 性優異、能耐重覆操作的脫模片。 又’適合的形態爲，上述凹凸部份的算術平均粗糙度 (Ra )在〇 . 5〜1 5 // m之間，上述凹凸部份之凸部與凸部 之平均間隔（Sm)在0.5〜10/zm，上述凹凸部份之平均 傾斜角（Θ a)爲：4.5° S 0 a< 90。；具有此種凹凸面的 無光層’可以由上述形成無光層用組成物塗佈而形成。 上述第一及第二形態之合成皮革製造用脫模片，以在 -10- (6) (6)200404935 上述無光層、與上述基材之間，設置平滑化層爲佳；在基 材上設置平滑化層，可以獲得基材表面不受影響，具有均 勻微細凹凸表面的脫模片。 上述平滑化層，以由上述形成無光層用組成物中，除 去上述多孔性微粒子之組成物所成者爲佳；形成平滑化層 用組成物，隨使用之組成物，可以增加平滑化層與無光層 的密著性，不會發生層間剝離現象；特別是平滑化層含有 平坦劑時，可提高其平滑性。 本發明之第三形態的合成皮革製造用脫模片，爲由上 述形成無光層用組成物塗佈而成之組成物、與支撐上述無 光層的基材所成；上述無光層，是由形成兩層以上之多層 的脫模性樹脂層所成；上述多層構成之無光層中，除與上 述基材面相接之層外，至少上述脫模性樹脂層的各層，含 有由矽氧改質樹脂或含矽氧樹脂組成物所成脫模劑，而且 接近上述無光層表面，上述脫模劑之含有量較多；此脫模 性樹脂層兩層以上之多層構造，而基材之平滑性缺乏，該 脫模性樹脂層不加厚不行時也一樣，各層可形成較薄的層 ;而且，可使平滑性較基材近旁的層提高，塗佈液之乾燥 時間不長；又，與基材相接以外之層中，靠近脫模片表面 ，其砂氧改質樹脂或砂氧樹脂之配合比率較高，各層間之 黏著性不會受損’可得平滑性優異的脫模片。 上述本發明之各形態的合成皮革製造用脫模片中，基 材的表面電阻以1 . ο X 1 0 12 Ω以下爲宜；特別是，基材爲 含有有機高分子導電劑及/或無機導電劑所成、或者上述 -11 - (7) (7)200404935 基材之任何一面上，塗佈上述有機高分子導電劑及/或無 機導電劑者；上述導電劑之含有量，對基材以在0.0 5〜 3.00公克/平方公尺之範圍爲佳；基材具有如此之電阻， 在脫模片製造時，及使用該脫模片製造合成皮革時，可以 防止靜電的產生。 本發明之另一形態爲合成皮革，是使用上述脫模片製 造而得者。 又，本發明合成皮革製造之適合形態爲，不經壓紋加 工、起毛加工製造而得。 而且，又一形態爲，本發明之合成皮革，是使用脫模 片製造而得；其特徵爲具有0.5〜1 5 // m之表面算術粗糙 度（R a )、以及0 . 5 %〜1 0 % 的8 5 °光澤度。 〔用以實施發明之最佳型態〕 就本發明之實施形態，做詳細說明如下。 首先，爲在本發明之脫模片上形成無光層，就形成無 光層用組成物加以說明；本發明之形成無光層用組成物， 爲含有做爲必要成份的熱硬化性樹脂、與消光劑所成；消 光劑是，由無機或有機之多孔性微粒子而成；無機之微粒 子，可以使用碳酸鈣、高嶺土、滑石粉、黏土、氧化鈦、 氧化鋅、二氧化矽、氧化鋁、氫氧化鎂、氫氧化鋁等之微 粒子；有機之微粒子可以使用三聚氰胺樹脂、聚苯乙烯、 聚丙燔、四氟化乙烯樹脂、砂氧樹脂、.澱粉、丙烯酸樹脂 等之微粒子；又’合成皮革之製造上用脫模片，多在高溫 -12- (8) (8)200404935 下使用，以耐熱性優異的無機微粒子較爲適合；此等微粒 子之中，就碳酸鈣、二氧化矽、滑石粉做下列之說明；以 容易形成所定比表面積、粒徑之標準者爲佳；二氧化矽是 特別適合的。 此等微粒子必須是多孔性的；也就是說，使用比表面 積在1〜1 000平方公尺/公克之範圍的微粒子；又，其孔 徑大小以50 A 〜5 00 A爲宜；比表面積，於微粒子之粒 徑相同時，隨孔徑之大小與其孔數之多少而變（孔徑小而 孔數多時，其比表面積增加）；此比表面積，也就是說， 使用具有所定之孔徑、與所定之孔數的多孔性微粒子所成 的消光劑，於微粒子表面上形成的孔洞部份，會使光產生 散射，使複製其表面形狀的合成皮革，具有漆黑性、且不 發生褪色；另一方面，粒徑只有數//m的微粒子中，會引 起以糜散射爲主體的光散射，此散射係與波長無關之散射 ，物體色會看成白色；已往使用含微粒子脫模片的合成皮 革，可能是因爲這個理由，而在其表面上發生褪色現象； 本發明之脫模片，含有上述多孔性微粒子，微粒子的孔洞 部份（孔徑爲數A〜數百A )亦發生光散射，此散射是以 瑞利散射（Rayleigh Scattering )爲主體；瑞利散射，其 散射光強度隨波長而改變，觀測者必須觀測瑞利散射、與 糜散射兩方之散射光；基於這個理由，使用本發明之脫模 片製造的合成皮革，實現了不會起褪色現象、且具有漆黑 性無光感之表面。 比表面積，以〜5 00平方公尺/公克爲佳，以〇〇 (9) (9)200404935 〜2 00平方公尺/公克最好；比表面積低於1平方公尺/公 克時，一顆微粒中存在的孔數過少，不能期待光散射的效 果；另一方面，使用比表面積超過1000平方公尺/公克的 微粒子時，孔徑過小不能引起光散射；又，使用含有此範 圍之多孔性微粒子的塗佈液，由於塗佈液中之組成物及溶 劑成份，適度的被吸收進微粒子的孔中，塗佈液中含有所 定量的微粒子時，也可以不使塗佈性惡化，而形成均勻的 塗膜。 又，本發明之形成無光層用組成物所使用的微粒子， 其粒徑大小在平均粒徑1〜6 // m之範圍；使用此粒徑尺 寸範圍之微粒子’可得合成皮革表面之觸感最好的無光感 ;適宜的粒徑尺寸爲2〜5//m，以2.5/zm〜3.5//m較好 ;粒徑小於1 # m時，很難有無光的感覺；另一方面，粒 徑超過6 // m時，脫模片的無光層表面可能被刮下來，成 爲落粉的原因；又，形成無光層用塗佈液中有微粒子沉澱 發生，致使塗佈液之安定性惡化。 又，此等之多孔性微粒子，以經表面處理者爲佳；上 述熱硬化性樹脂爲水溶性時，以經無機表面處理爲佳；又 ’上述熱硬化性樹脂爲非水溶性時，以經有機表面處理爲 佳；如此，微粒子之表面，經無機或有機物質改質，如下 述之說明，可提局其與熱硬化性樹脂之相溶性；於基材上 形成無光層時’也可以抑制微粒子之凝聚；又，做爲塗佈 液時’可增加流動性；塗佈液中含有所定量之微粒子，也 不損害塗佈性。 -14- (10) (10)200404935 此種有機物質，可以使用，聚乙烯腊、石油腊、以及 有機矽化合物等等，其中以有機矽化合物，特別適用。 上述由多孔性微粒子所成消光劑的含有量，對形成無 光層用組成物’以5〜5 0重量％爲宜；該組成物中消光 劑之含量低於5重量％時，不能形成所望之無光層；另 一方面’超過50重量。/。時，在基材上塗佈該組成物之際 ，其塗佈適性會降低，難以得到均勻的表面，含有量以7 〜2 0重量％爲佳，以1 〇〜1 5重量％最好。 構成本發明之形成無光層用組成物的熱硬化性樹脂， 可以使用醇酸系樹脂、甲醇基三聚氰胺樹脂、甲氧基甲醇 基三聚氰胺樹脂等之三聚氰胺系樹脂等等；此等樹脂可以 適當混合使用；又，製成脫模片時，爲抑制多孔性微粒子 之所謂落粉，以使用三聚氰胺系樹脂爲佳。 本發明之形成無光層用組成物，除上述之外，以含有 脫模劑爲佳；含有脫模劑時，使用脫模片製造合成皮革之 際，容易將脫模片與合成皮革剝離；又，所得合成皮革之 表面狀態良好；此種脫模劑，沒有特別的限制，可以使用 矽氧樹脂、醇酸樹脂、醇酸樹脂與矽氧樹脂的共聚合體、 或特開平2- 28242號公報所掲示的矽氧改質氨基醇酸樹 脂、以及此等之混合物；又，上述脫模劑之含有量，以〇 〜6 0重量％爲宜，以3 〇〜6 〇重量％爲佳；脫模劑含量 增加時，合成皮革容易剝離，但超過60重量％時，脫模 片表面之摩擦阻力降低太多，成爲脫模片底版卷曲崩落的 原因；又，在合成皮革製造中，將合成皮革塗佈物塗佈於 -15- (11) (11)200404935 脫模片上之際，使塗佈物之濕潤性惡化，致塗佈物流失。 其次，就上述使用形成無光層用組成物所得本發明之 脫模片、及其製造方法說明如下。 圖1爲本發明第一形態的合成皮革製造用脫模片之範 例剖面圖；如圖1所示，脫模片（1 〇 )是，以在基材（1 )上設置平滑化層（2 )，更於其上設置無光層（3 )所構 成； 此構成中，平滑化層可以提高基材之平滑性；如基材 使用紙、不織布等表面比較粗糙的材料時，基材（1 )與 無光層（3 )之間，以設置平滑化層（2 )爲佳；使基材表 面平滑，可以形成平滑且均勻的無光層；其結果，在合成 皮革製造時，於基材表面存在的花紋，可以防止其在合成 皮革之表面出現斑點；又，合成皮革製造後，剝離脫模片 時，剝離阻力不大，可以很容易地將脫模片自合成皮革剝 形成平滑化層用組成物，沒有特別的限制，可以使用 自上述形成無光層用組成物中，除去多孔性微粒子的組成 物；與無光層的密著性良好，耐剝離性優異；又，平滑化 層，在形成充分厚度的無光層時，沒有特別設置的必要； 無光層的厚度太厚時會使乾燥性降低，在不妨礙形成表面 之微細凹凸（4 )的範圍內’以形成較薄的無光層爲所望 ;但是，形成較薄的無光層時，會發生點狀脫落等表面缺 陷，此種缺陷之補救，以形成平滑化層較爲適當。 又，使用紙爲基材時，平滑化層爲白土塗佈層亦佳， -16- (12) (12)200404935 此時平滑化層之厚度以20〜40//m爲宜，以20〜30/zm 更好，設置此白土塗佈層’可使紙之平面變得平滑，可於 其上形成均勻的無光層。 在構成平滑化層的組成物中，含有平坦劑亦佳；形成 平滑化層的組成物中含有平坦劑’能使塗佈面（在基材上 形成之平滑化層的表面）上產生的凹凸，有經時平坦化的 作用；加以，防止塗膜表面之柚子皮、皺紋、針孔、泡沬 、凸起物、割裂痕、陷穴等之發生的表面平滑化作用。 此平坦劑，在不妨害其與形成於平滑化層上的無光層 間之黏著性時，沒有特別的限制；可以使用矽氧油 '矽氧 改質樹脂等之矽氧系樹脂之外，也可以使用稱爲有機高分 子平坦劑的高分子物質；又，如使用矽氧油做爲平坦劑時 ，矽氧油聚集於塗膜表面，形成一種阻擋層，使溶劑均勻 蒸發，塗膜的表面張力也下降，可得適當的效果；僅僅使 用矽氧油，會降低後黏著性，以有機高分子平坦劑與矽氧 油倂用，減少矽氧油的添加量爲佳。 有機高分子平坦劑，溶解於樹脂溶液中，可降低其表 面張力，而且不使後黏著性下降；對此沒有特別的限制； 可以使用聚乙烯醇縮丁醛、低分子量纖維素等；使用此等 高分子物質之混合物，塗佈液之粘度會上升，動力粘度能 抑制泡沬的上升，可使塗膜表面平滑；後黏著性，是指平 滑化層與無光層之黏著性；此黏著性弱時，在合成皮革的 製造中，脫模片自合成皮革剝離之際，無光層與合成皮革 同時從平滑化層剝離。 (13) (13)200404935 內部硬化型砂氧樹脂、氟系共聚合樹脂等，雖其後黏 著性較上述之高分子平坦劑爲差，但仍可做爲平坦劑使用 ;內部硬化型矽氧樹脂，可爲矽氧之丙烯酸酯，具體的說 ’可以使用丙烯酸矽烷、甲基丙烯酸矽烷、丙烯酸矽氧、 甲基丙烯酸矽氧、及苯基矽氧丙烯酸酯、苯基矽氧甲基丙 烯酸酯等等；更具體的，丙烯酸矽烷類有，丙烯醯氧基丙 基甲基二甲氧基矽烷、丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷；甲 基丙烯酸矽烷類有，甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽 烷、甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。 又，界面活性劑也可以用爲有機高分子型平坦劑，此 等具有使表面張力下降的作用；使用的溶劑，沒有特別的 限制；以醇系或乳化之水系爲塗佈之必要溶劑。 使用有機系溶劑時，有機高分子平坦劑，可以使用上 述之高分子物質、矽氧改質共聚合樹脂、氟系共聚合樹脂 等，例如沙利努系列（商品名，日信化學工業製）等可以 使用；又，如答連、福隆連、聚福隆（商品名、共榮油脂 工業製）等低分子量纖維素之有機共聚體亦適用。 此等有機高分子型平坦劑，可兩種以上倂用，例如於 低分子量纖維素中，添加內部硬化型矽氧樹脂，可以得到 良好的結果。 此有機高分子型平坦劑，對形成平滑化層用組成物， 以添加〇. 〇 1〜3重量％爲宜；添加量係低ο = 〇 1重量％時 ，不能獲得平坦效果；另一方面，超過3重量％時，會 使後黏著性降低。 -18- (14) (14)200404935 又，本發明第二形態的合成皮革製造用脫模片，如圖 2所示，上述無光層（3)，由2層以上之多層形成的脫 模性樹脂層（3 a )及（3 b )所成；而且上述多層構成的無 光層中，至少與上述基材面相接層（3 b )除外之上述脫模 性樹脂層的各層（3 a )，由含有矽氧改質樹脂、或含矽氧 之樹脂組成物所成脫模劑，而且靠近上述無光層表面，上 述脫f吴劑之含有量較多。 以上述添加矽氧樹脂等之樹脂塗佈後，經乾燥形成平 滑性優良的無光層時，首先，如果必要塗佈較厚的上述樹 脂，塗佈較厚時其乾燥性會降低，若以強熱加快其乾燥速 度’則將損傷其平滑性；對此問題，雖以形成多層無光層 的方法做爲解決之對策，但是形成無光層的樹脂中，含有 石夕氧改質樹脂或砂氧樹脂時，僅將相同組成的塗佈液重覆 層合，對後來層合的無光層之接受性及黏著性會惡化。 本發明之脫模片，如上述由具有多層構造脫模性樹脂 層所形成的無光層，基材之平滑性並不充分，無光層之厚 度又希望較厚時，各層的厚度也可以使用較薄者，而且， 可以提高下層脫模層的平滑性，可有效率的形成不降低乾 燥性、且平滑之無光層；又，多層構成之無光層中，至少 最內層除外的外側脫模性樹脂層，含有矽氧改質樹脂或矽 氧樹脂’而且外側脫模性樹脂層之矽氧改質樹脂或矽氧樹 脂的配合比率較多之故，不會損及各脫模性樹脂層間的黏 著性。 又’關於最內層的無光層，如有做爲增加平滑性層之 -19- (15) (15)200404935 作用時亦佳，脫模性並非必要；沒有必要添加矽氧改質樹 脂或矽氧樹脂等脫模劑，其配合比率爲〇亦可；僅僅平坦 性良好是必要的，矽氧改質樹脂或矽氧樹脂用爲平坦劑， 只限定少量用亦可；又，與上述之平坦劑倂用亦佳，以其 他之平坦劑取代亦可。 本發明第三形態的合成皮革用脫模片，爲以表面具有 微細凹凸的無光層、與支撐上述無光層的基材所成合成皮 革製造用之脫模片；上述無光層是由脫模性樹脂層而成； 上述凹凸部份的凹部之底，設置有似可殘留具脫模性透明 樹脂之部位；使用具有凹部之底可殘留透明樹脂的無光層 之脫f吴片’可獲得授予優雅觸感，所謂瀝青表面觸感的合 成皮革；又，使用透明樹脂後，接著製造不同色、淡色的 合成皮革·，也不會受到之前製造合成皮革顏色的影響，可 以安全的重覆使用脫模片。 圖3爲，本發明中其脫模性樹脂層表面具有凹凸部份 的脫模片，於凹部之底，經塗佈之透明合成樹脂層的一部 份’殘留有透明樹脂之步驟的範例剖面圖。 無光層（3 )在基材（1 )上形成後，於無光層（3 ) 之上塗佈透明合成樹脂液，加熱乾燥形成透明合成樹脂層 (5 )後’自脫模片（1 〇 )將透明合成樹脂層（5 )剝下， 無光層（3 )之微細凹凸（4 )之凹部的底部上，殘留有破 裂的透明合成樹脂（5 ’）。 也就是說’在脫模片（1 0 )之無光層（3 )的表面上 ’塗佈透明合成樹脂液’合成樹脂液流入微細凹凸的凹部 -20- (16) (16)200404935 ’加熱乾fe?形成皮膜’形成透明合成樹脂層（5 )後，自 脫模片（1 0 )將透明合成樹脂層（5 )剝離，滲入微細凹 凸之凹部的透明合成樹脂層（5 )，因剝離時的阻力大於 其破裂強度之故，在剝離過程中發生破斷，而使透明合成 樹脂（5 ’）殘留於凹部之底部（請參照圖4 );殘留的透 明合成樹脂（5 ’）之破裂面，呈不規則的微細凹凸形狀， 無光層（3 )之整體表面，呈現大小不一的微細凹凸形狀 ’爲授予合成皮革表面似瀝青表皮觸感之適宜形狀；接著 ，使用脫模紙製造合成皮革，也能授予其表面呈現以瀝青 表皮感的觸感。 使用的樹脂，沒有特別的限制；使流入凹部的一部份 樹脂，可在適當的破裂強度下破裂爲必要條件，因此之故 ，以自合成皮革之表面層用樹脂組成物中，去除著色劑後 之樹脂組成物等，最適合使用；具體的說，聚氨基甲酸酯 合成皮革（以下簡稱PU皮革）中使用的糊狀聚氨基甲酸 酯組成物（含著色劑以外之添加劑亦可，固形份爲20〜 50重量％ )、聚氯乙烯合成皮革用聚氯乙烯組成物（通 常使用聚氯乙烯液膠，含有著色劑以外之可塑劑、安定劑 等之添加劑亦可）等都可以使用；此等合成樹脂之塗佈方 法，可以使用刮刀塗佈、滾筒塗佈、照相凹版塗佈等眾所 周知的塗佈方法；又，如圖5所示，於無光層與基材之間 ，如上述說明，設置平滑化層（2 )亦可。 支撐平滑化層及無光層之基材，除了可以使用牛皮紙 、上等紙、或鑄塗紙等之紙外，聚對苯二甲酸乙烯酯、聚 -21 - (17) (17)200404935 萘二酸乙烯酯等之聚酯、各種尼龍等之聚醯胺、聚丙烯等 之塑膠薄膜、合成紙、金屬箔、織布、不織布等之都可以 使用；此等單獨或適當層合使用都可以。 上述基材的表面電阻（Ω)，以在 l.OxlO12以下爲 宜，特別是在以含有有機高分子導電劑及/或無機導電劑 所成之上述基材、或在上述基材的任一面塗佈上述有機高 分子導電劑及/或無機導電劑所成者；上述導電劑之含有 量，對基材以在〇.〇5〜3.00公克/平方公尺之範圍爲佳。 基材的電阻，在上述之範圍，可獲得防止靜電帶電的 效果；於無光層形成時，使用脫模片製造合成皮革時，可 防止因產生靜電而導致無光層表面、合成皮革上割裂痕等 的發生。 此構成基材之主原料的配合如下；紙漿配合是，以闊 葉樹漂白牛皮紙紙漿（L- BKP )及針葉樹漂白牛皮紙紙漿 (N- BKP )爲紙漿纖維主體，以廢紙、舊紙漿等適當配 合而成；又，添加劑可以使用內加塡料劑、陽離子化澱粉 、脂肪酸酯系及特殊石油腊系等之消泡劑；在基材塡料加 壓步驟中，將以玉米澱粉、表面塡料劑、導電劑等配合後 的塡料加壓液塗佈於原紙上，經此塡料加壓步驟，塡料加 壓液塗佈在基材的雙面，基材內部亦被浸漬。 使用之導電劑爲有機高分子導電劑及/或無機導電劑 :有機高分子導電劑，可以使用聚乙烯醇、聚丙烯酸醯胺 、聚乙二醇等之非離子性聚合體、磺化苯乙烯樹脂等之具 陰離子性極性基聚合體，第四級氨化銨等之第四級銨鹽陽 -22- (18) (18)200404935 離子性聚合體等等；又，無機導電劑，可以使用氧化鈣、 鋁酸鈉、氧化鋅、氧化錫、氯化鈣、氯化鋰、氯化鉀、氯 化鎂、氯化鈉、碳黑等等。 上述導電劑之含有量，或者’基材表面上之塗佈量， 以0.05〜3.0公克/平方公尺爲宜，以0.2〜2.0公克/平方 公尺之範圍爲佳；導電劑量低於〇.〇5公克/平方公尺時， 基材表面之電阻容易超出1.〇χ ι〇12Ω之値，防止靜電帶 電的效果不足，在形成無光層、以其製造合成皮革時，由 於產生靜電，致無光層、合成皮革發生割裂痕；又，導電 劑量超過3.0公克/平方公尺時，也不能獲得更上一層防 止靜電帶電的效果，不利於材料成本。 另一方面，以塑膠薄膜、金屬箔爲基材時，通常其表 面都很平滑，雖可不用上述之平滑化層，但與無光層之黏 著性不足，可在基材表面施以電暈放電處理、臭氧處理等 之易黏著性處理及塗佈底層塗料等等。 如此在基材上形成平滑化層及無光層的形成方法是， 將上述之形成平滑化層用組成物塗佈於基材上；塗佈方法 可以採用條棒塗佈法、氣動刮塗法、刮板塗佈法、擠壓塗 佈法、氣刀刮塗法、滾筒塗佈法、照相凹版塗佈法、轉移 塗佈法、逗點塗佈法、平滑塗佈法、微凹版塗佈法、逆輥 塗佈法、多滾筒塗佈法、漏漬塗佈法、棒桿塗佈法、輕觸 塗佈法、門式滾筒塗佈法、降簾式塗佈法、滑動塗佈法、 噴泉塗佈法、以及狹縫模頭塗佈法等等；塗佈後，經乾燥 固化形成平滑化層；其次，以形成無光層用組成物之塗佈 -23- (19) (19)200404935 液，依與上述相同的方法，可以形成無光層。 如此製造而得之脫模片，其平滑化層之厚度，以塗佈 液乾燥後之塗佈量，在0.5〜10公克/平方公尺之範圍爲 佳；低於〇 . 5公克/平方公尺時，不能期待平滑化層之效 果，超過10公克/平方公尺時，會引起乾燥速度、加工速 度降低，在成本上也不適宜。 又，無光層之厚度，以塗佈液乾燥後之塗佈量，在 1.0〜20公克/平方公尺之範圍爲佳；低於1.0公克/平方 公尺時，很難形成均勻的塗膜；另一方面，塗膜較厚雖然 可以獲得充分無光感的表面、或較適合的脫模性，但是超 過20公克/平方公尺時，會引起乾燥速度、加工速度降低 ，在成本上不適合。 由此而得的脫模片表面，其無光層表面上形成凹凸部 (4 )，無光層表面之平均算術粗糙度（Ra)爲0.5〜15 // m ;較適合的是，無光層表面凹凸部的凸部與凸部間之 平均間隔（Sm)爲0.5〜10//m。 又，在設置有可殘留透明樹脂之凹部的脫模片中，以 凹凸部的算術平均粗糙度（Ra)爲0.5〜15 /z m，上述凹 凸部的凸部與凸部間之平均間隔（S m )爲0.5〜1 0 // m， 而且上述凹凸之平均傾斜角（θα)爲4.5° S 0a< 90°較 佳；微細凹凸的算術平均粗糙度（Ra )及凹凸之平均間隔 (Sm)是，依JIS B- 0 60 1 - 1 994「表面粗糙度之定義及 表示」爲基準測定之値，其測定條件如下列所述。 -24- (20) 200404935 〔測定條件〕

觸針之前端半徑：5 /z m 載重：4mN 截斷値：由表1之標準値選擇。 基準長度：由表2之標準値選擇。 測定機器：表面粗糙度測定裝置Su ft eet- 201〔室梅 也製〕

粗糙度（Ra)之範圍 (// m ) 截斷値 λ c ( mm ) 評價長度 La ( mm) 0.00 6<Ra^ 0.02 0.08 0.4 0.02<Ra^ 0. 1 0.25 1.25 0. l<Ra^ 2.0 0.8 4.0 2.0<Ra^ 10.0 2.5 12.5 10.0<Rag 80.0 8.0 40.0

表2 平均間隔（Sm)之範 圍 (β m) 基準長度 L ( m m ) 評價長度 L η ( mm) 0.013<Sm^ 0.04 0.08 0.4 0.04<Sm^ 0. 13 0.25 1.25 0.13<Sm^ 0.4 0.8 4.0 〇.4<Sm$ 1 .3 2.5 12.5 1 .3<Sm ^ 4.0 8.0 40.0 -25- (21) (21)200404935 以如上之脫模片製造合成皮革的方法，可使用眾所周 知的糊狀塗佈法（氯乙烯合成皮革法，以下簡稱Pvc皮 革法）、或乾式法（聚氨基甲酸酯合成皮革法，以下簡稱 PU皮革法）。 也就是說，在脫模片的無光層表面上，塗佈合成皮革 之表皮層用樹脂組成物，經加熱乾燥形成表皮層之被膜後 ;於此表皮層上用黏著劑將基本張開膠粘之，經乾燥，成 熟後’將脫模片剝離，可製造表面上賦有微細凹凸的合成 皮革。 上述合成皮革之表皮層用樹脂組成物，如爲PVC皮 革時，係以聚氯乙烯爲主成份，適當添加可塑劑、發泡劑 、安定劑、著色劑等而成可使用之PVC糊狀物；又，爲 P U皮革時，係以聚氨基甲酸酯溶液爲主成份，因應需求 添加著色劑及其他添加劑，固形份2 0〜5 0重量％ ，爲可 使用者，此表皮層用組成物之塗佈，可以下列眾所周知的 塗佈方法進行’如刮刀塗佈法、滾筒塗佈法、逆輥塗佈法 、照相凹版塗佈法等等。 以此方法所得的合成皮革是，不經壓紋加工、起毛加 工，也具高漆黑性消光面的無光感合成皮革；又，脫模片 表面的形狀，可複製於合成皮革的表面；合成皮革表面的 算術粗糙度（R a )爲0 · 5〜1 5 // m，如此所得合成皮革表 面的光澤度於85°入射/85°反射時，測得其光澤度在0.5 〜1 0 % 之範圍。 -26- (22) 200404935 又’使用無光層的凹部有透明樹脂殘留的脫模片，所 得合成皮革中，其表面形成含有脫模型的透明樹脂層，不 僅可獲得似瀝青表皮感的觸感，也很難被污染，就算被污 染時也很容易除去污物。 【實施方式】 以實施例，就本發明說明如下；本發明對下列實施例 沒有特別的限制；本發明之申請專利範圍上記載之技術性 思想與實質，具有同一構成，同樣的作用效果，任何相關 者均包括在本發明之技術範圍內。 〔實施例〕 〔實施例1〜3〕 使用1 5 5公克/平方公尺的鑄塗紙（王子製紙製）做 爲基材’於其表面上以滾筒塗佈法，塗佈下列組成之形成 平滑化層用塗佈液，其乾燥時之塗佈量約爲5公克/平方 公尺’經160 °C /分鐘以上之條件下加熱乾燥，形成平滑 化層。 形成平滑化層用塗佈液之組成： 三聚氰胺樹脂 2 2 0重量份 (梅拉2 8、日立化成製） 醇酸樹脂 1 〇 〇重量份 (夫答爾卡多133- 60日立化成製） 8.4重量份 酸觸媒（對甲苯磺酸） -27- (23) 200404935 溶劑（甲苯/正丁醇、重量比1 / 1 ) 9 8 0重量份 其次，在所得平滑化層上，以滾筒塗佈法將含有如表 3所示之種種矽的下列組成之形成無光層用塗佈液塗佈之 ’其乾燥時之塗佈量爲10公克/平方公尺，經180 C 1分 鐘以上之條件下加熱乾燥，形成無光層，即得實施例1〜 3的脫模片。 形成無光層用塗佈液之組成：

羥甲基化三聚氰胺樹脂 5 0重量份 矽氧改質醇酸樹脂 5 0重量份 酸觸媒（對甲苯磺酸） 4.2重量份 多孔性微粒子（矽，請參照表3 ) 1 〇重量份 溶劑（甲基/正丁醇、重量比1 / 1 ) 5 00重量份

將上述形成無光層用塗佈液，塗佈在平滑化層上，不 發生流失現象，可得均勻的塗佈；加熱硬化後平滑化層與 無光層之黏著性亦很良好；圖6爲由實施例1所得脫模片 表面的電子顯微鏡照相圖。 又，以此製成實施例1〜3的脫模片之無光層表面， 其算術平均粗縫度（Ra )如表3所示。 使用以此製成實施例1〜3的各個脫模片，分別製成 下述PVC合成皮革、與PU合成皮革之二種類的合成皮 革 ° 〔無光感PVC合成皮革之製作〕 在上述實施例1脫模比之無光層表面上，依刮刀塗佈 -28- (24) (24)200404935 法，將由PVC樹脂（分子量1000) 100重量份、DOP可 塑劑60重量份、發泡劑5重量份、安定劑2.5重量份、 著色劑（大日精化工業製、聖家歇分NET- 5 7 94黑色）15 重量份之比率，混合調製而成的形成合成皮革表皮層用 PVC組成物（糊狀）塗佈之；其乾燥時之塗佈量爲150 公克/平方公尺；在19〇 °C 〜2〇〇 °C 2分鐘以上之條件 下，加熱乾燥後，於其上以黏著劑將基本膠粘，經乾燥熟 成後，剝去脫模片，即得PVC合成皮革-1。 所得PVC合成皮革-1，剝離阻力小很容易剝離，爲 具有高漆黑性無光感之表面；又，將所得PVC合成皮革_ 1，在85°入射/85°反射之條件下測定其光澤度，測定結 果如表3所示；又，實施例1所得PVC合成皮革-1之 表面的電子顯微鏡照相如圖7所示。 〔無光感PU合成皮革之製作〕 在上述實施例1脫模片之無光層表面上，依刮刀塗 佈法，將由聚氨基甲酸酯（大日精化工業製，雷札敏NE-8811) 100重量份、著色劑（大日精化工業製，聖家歇分 NET- 5794黑色）15重量份、甲苯25重量份、異丙醇25 重量份之比率，混合調製而成的形成合成皮革表皮層用 PU組成物（粗狀）塗佈之；其乾燥時之塗佈量爲1 5 0公 克/平方公尺；在1〇〇〜120 °C 2分鐘以上之條件下，加 熱乾燥後，於其上以黏著劑將基布膠粘，經乾燥熟成後， 剝去脫模片，即得PU合成皮革-1。 -29- (25) 200404935 所得P U合成皮革-1，剝離阻力小很容易剝離，爲 具有高漆黑性無光感之表面；又，上述PU合成皮革-1 之製作，重覆進行三次以上後，可獲得與只進行一次者相 同的具無光感表面之合成皮革。 〔比較例1及2〕 形成無光層用塗佈液中，所使用多孔性微粒子變更爲 ’使用如表3所示之微粒子以外，其他都和實施例1相同 之條件’製成脫模片；使用所得脫模片，依與實例1相同 之條件’分別製成各合成皮革；測定所得脫模片之算術平 均粗Μ度（Ra )，及以此脫模片製成PVC合成皮革之光 澤度’其測定結果如表3所示。

表3 微粒子（矽） 脫模片 P VC合 成皮革 粒徑 比表面積 表面處理 表面粗糙度Ra 光澤度 (“ m) (m2 / g) (/z m) (% ) 實施例1 〜2.5 1 50 有機 2.0 1.2 實施例2 1.0 200 有機 1.0 1.1 實施例3 1 0.0 60 有機 10.2 1.6 比較例1 2.5 1500 有機 2.1 17.0 比較例2 2.5 0.1 無機 1.7 20.0 -30- (26) (26)200404935 〔實施例4〕 〔兼具無光感與瀝青表皮觸感之PVC合成皮革的製f乍] 於上述實施例1之脫模片製作中，除使用以平均粒徑 5.2/zm (比表面積340〜350平方公尺/公克），經有機表 面處理之矽（富士市西利西亞製，塞西利亞456) 10重量 份、與平均粒徑2.5/zm (比表面積：340〜350平方公尺/ 公克）、經有機表面處理之矽（富士市西利西亞製，塞西 利亞4 3 6 ) 1 0重量份之混合物，做爲多孔性微粒子之外， 其他都和實施例丨相同，製得脫模片-4 ;於所得脫模片-4之無光層表面上做爲合成皮革的表皮層，依照相凹版塗 佈法，首先以由PVC (分子量1〇〇〇) 1〇〇重量份、DOP可 塑膠60重量份、水分散型矽氧系脫模型（氨基改質矽氧 樹脂）1重量份之比率，混合而得PVC組成物（糊狀） 塗佈、乾燥之；其乾燥時之塗佈量爲2公克/平方公尺； 其次，依刮刀塗佈法，將由PVC樹脂（分子量1 000 ) 100重量份、DOP可塑劑60重量份、發泡劑5重量份、 安定劑2.5重量份、著色劑（大日精化工業製，聖家歇分 NET- 5 7 94黑色）15重量份之比率，混合調製而成的形成 合成皮革表皮層用PVC組成物（糊狀）塗佈之；其乾燥 時之塗佈量爲150公克/平方公尺；更在190〜200 °C 2分 鐘以上之條件下，加熱乾燥後，於其上以黏著劑將基布膠 粘，經乾燥、熟成後，剝去脫模片，即得PVC合成皮革- 4 〇 所得PVC合成皮革-4，其表面上形成具脫模性呈透 -31 - (27) (27)200404935 明狀之薄PVC樹脂層，爲兼具無光感與瀝青表皮觸感之 細緻表面；又，剝離後之脫模片表面上，其微細凹凸部份 的凹部之底，尙有PVC透明樹脂殘留，但著色PVC ( PVC 合成皮革之一邊）樹脂，則完全沒有殘留。 以實施例4所使用的脫模片，使不同顏色之PVC合 成皮革重覆製作5次，脫模片剝離時的阻力一樣很小，容 易剝離；又，合成皮革表皮層之著色PVC樹脂，也沒有 轉移到脫模片上，可以連續使用脫模片，能有效率的製造 具優異無光感表面的PVC合成皮革。 〔實施例5〕 〔兼具無光感與瀝青表皮觸感之PU合成皮革的製作〕 使用與實施例4製作的脫模片相同之脫模片，以其無 光層之表面做爲合成皮革的表皮層，依照相凹版塗佈法， 首先以聚氨基甲酸酯組成物（大日精化工業製，雷札敏 N E - 8 8 1 1 ) 1 0 0重量份、矽氧系脫模劑（氨基改質矽氧樹 脂）0 · 5重量份、環氧改質矽氧樹脂〇 · 5重量份、及甲苯 2 5重量份與異丙醇（以下稱爲I p a ) 2 5重量份之混合溶 劑之比率，混合而得塗佈液塗佈、乾燥之；其乾燥時之塗 佈量爲1 .5公克/平方公尺；其次，依刮刀塗佈法，於其 上以由聚氨基甲酸酯（大日精化工業製，雷札敏N E - 8 8 1 1 )100重量份、著色劑（大日精化工業製，聖家歇分NET-5794 黑色 ） 15 重量份 、甲苯 25 重 量份與 異丙醇 25 重量 份之混合溶劑之比率，混合調製而成的形成合成皮革表皮 -32- (28) (28)200404935 it用PU組成物（黑色糊狀）塗佈之；其乾燥時之塗佈量 爲150公克/平方公尺；在1〇〇〜12〇 分鐘以上之條 件下’加熱乾燥後，於其上以黏著劑將基布膠粘，經乾燥 '熟成後，剝去脫模片，即得UV合成皮革-5。 所得PU合成皮革-5，其表面上形成具脫模性呈透 明狀之薄PU樹脂層；與實施例4相同的，製成含有兼具 無光感、與瀝青表皮觸感之表面，且漆黑性優異的PU合 成皮革；又’剝離後之脫模片表面上，其微細凹凸部份的 凹部之底，尙有PU透明樹脂殘留，但著色PU ( PU合成 皮革之一邊）樹脂，則完全沒有殘留。 以實施例5所使用的脫模片，使不同顏色之PU合成 皮革重覆製作5次，脫模片剝離時的阻力一樣很小，容易 剝離；又，合成皮革表皮層之著色PU樹脂，也沒有轉移 到脫模片上，可以連續使用脫模片，能有效率的製造具優 異無光感表面的PU合成皮革。 〔實施例6〕 於上述實施例1之脫模片製作中，除使用平均粒徑 5.2 // m (比表面積3 40〜3 5 0平方公尺/公克）經有機表面 處理之矽（富士市西利西亞製，塞西利亞4 5 6 ) 4 0重量份 做爲多孔性微粒子之外，其他都和實施例1相同，製得脫 模片-6。 於所得脫模片-6之無光層表面上形成的微細凹凸部 份，其算術平均粗糙度（Ra )爲0.5 4 // m、凹凸之平均間 -33- (29) (29)200404935 隔（S m )爲9 /z m、凹凸之平均傾斜角（0 a )爲4 7。， 授予合成皮革表面上瀝青表皮感的外觀與觸感之微細凹凸 形狀良好。 依下述製成表皮層由表面側具有脫模性之薄透明樹脂 層、與內層側爲著色之樹脂層，共兩層構成，而得之p U 合成皮革；首先，在脫模片-6之無光層表面上，依照相 凹版塗佈法，以由聚氨基甲酸酯組成物（大日精化工業製 ’雷札敏NE- 8 8 1 1 ) 1 00重量份、矽氧系脫模劑（氨基改 質砂氧樹脂）0 · 5重量份、環氧改質矽氧樹脂〇 . 5重量份 、及甲苯2 5重量份與異丙醇2 5重量份之混合溶劑之比率 ’混合而得塗佈液塗佈、乾燥之；其乾燥時之塗佈量爲 2.0公克/平方公尺；其次，依刮刀塗佈法，於其上以由聚 氨基甲酸酯（大日精化工業製，雷札敏NE_ 8 8 1 1 ) 1 00重 量份、著色劑（大日精化工業製 '聖家歇分NET- 5194紅 色·）1 5重量份、甲苯2 5重量份、異丙醇2 5重量份之比 率’混合調製而成形成合成皮革表皮層用PU組成物（紅 色糊狀）塗佈之；其乾燥時之塗佈量爲150公克/平方公 尺；在100〜120 °C 2分鐘以上之條件下，加熱乾燥後， 於其上以黏著劑將基佈膠粘，經乾燥、熟成後，剝去脫模 片，即得PU合成皮革-6。 所得PU合成皮革-6，其表皮層是，由在著色Pu 樹脂層之面上，形成具有脫模性之薄透明PU樹脂層所構 成’呈現獨特的柔順感，爲具有良好瀝青表皮感的外觀與 觸感者；又’剝離後之脫模片表面上，其微細凹凸部份的 -34- (30) (30)200404935 凹部之底，尙有PU透明樹脂殘留，但著色PU ( PU合成 皮革之一邊）樹脂，則完全沒有殘留。 以實施例5所使用的脫模片，使不同顏色之PU合成 皮革重覆製作5次，脫模片剝離時的阻力一樣很小’容易 剝離；又，合成皮革表皮層之著色pu樹脂，也沒有轉移 到脫模片上，可以連續使用脫模片，能有效率的製造具優 異無光感表面的pu合成皮革。 【圖式簡單說明】 (圖1)爲本發明第一形態之合成皮革製造用脫模片 的模式剖面圖。 (圖2 )爲本發明第二形態之合成皮革製造用脫模片 的模式剖面圖。 (圖3 )爲使用本發明第三形態之合成皮革製造用脫 模片，以製造合成皮革之步驟說明的要部模式剖面圖。 (圖4 )爲本發明第三形態之合成皮革製造用脫模片 之一例的模式剖面圖。 (圖5)爲本發明第三形態之合成皮革製造用脫模片 之另一例的模式剖面圖。 (圖6 )爲由實施例1所得合成皮革製造用脫模片之 表面的電子顯微鏡照相圖。 (圖7 )爲由實施例1所得P V C合成皮革-〗之表面 的電子顯微鏡照相圖。 -35- (31) (31)200404935 〔符號說明〕 1 :基材 2 :平滑化層 3 :無光層 3 a，3 b :脫模性樹脂層 4 :表面之微細凹凸部份 5 :透明之合成樹脂層 5 ’ ：凹部之底，殘留之透明合成樹脂 1 〇 :脫模片

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Claims (1)

1. (1) (1)200404935 拾、申請專利範圍 1. 一種形成無光層用組成物，其特徵爲含有作爲必 要成份之熱硬化性樹脂與消光劑；消光劑是由含有一種或 兩種以上之有機及/或無機的多孔性微粒子所成；多孔性 微粒子之平均粒徑在0.5〜20/zm之範圍，比表面積在1 〜1000平方公尺/公克之範圍，爲適用於合成皮革之製造 的形成無光層用組成物。 2. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中之多孔性 微粒子’經過表面處理，均句分散於形成無光層用組成物 中〇 3 .如申請專利範圍第2項之組成物，其中之表面處 理，熱硬化性樹脂屬水溶性時，爲無機表面處理；熱塑性 樹脂屬非水溶性時，爲有機表面處理。 4. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中多孔性微 粒子之含有量，對形成無光層用組成物之重量基準，在5 〜5 0重量％ 之範圍。 5. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中之多孔性 微粒子係選自二氧化矽、碳酸鈣、滑石、或含此等一種以 上之混合物。 6. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中更含有脫 模劑。 7 . —種製造合成皮革用脫模片，其特徵爲以申請專 利範圍第1〜6中任一項之形成無光層用組成物塗佈而成 之無光層、與支撐無光層的基材所成製造合成皮革用之脫 -37- (2) (2)200404935 模片；於無光層表面，形成有微細之凹凸部份；此凹凸部 份之算術平均粗糙度（Ra )在0.5〜1 5 // m之範圍。 8. —種製造合成皮革用脫模片，其特徵爲由表面具 有微細凹凸部份之無光層、與支撐無光層的基材所成；無 光層係由脫模性樹脂層所成；在凹凸部份的凹部之底，係 殘存有具脫模性透明樹脂。 9. 如申請專利範圍第8項之脫模片，其中凹凸部份 之算術平均粗糙度（Ra )在0.5〜1 5 // m之範圍，凹凸部 份之凸部的凸部與與凸部之平均間隔（Sm)在0.5〜10 // m之範圍、凹凸之平均傾斜角（0 a )爲 4.5° S 0 a< 90〇 。 10. 如申請專利範圍第8項之脫模片，其中之脫模性 樹脂層，係以如申請專利範圍第1〜6項之形成無光層用 組成物，經塗佈等步驟所形成。 11. 如申請專利範圍第8項之脫模片，其中於無光層 與基材之間，設置有平滑化層。 12. 如申請專利範圍第11項之脫模片，其中之平滑 化層，係由如申請專利範圍第1項之形成無光層用組成物 中，除去多孔性微粒子後之組成物所成。 13. 如申請專利範圍第1 1項之脫模片，其中之平滑 化層更含有平坦劑。 1 4 . 一種製造合成皮革用脫模片，其特徵爲以如申請 專利範圍第6項之形成無光層用組成物，經塗佈等步驟而 成之無光層、與支撐無光層之基材所成；無光層係由形成 -38- (3) 200404935 2層以上之多層的脫模性樹脂層所成；在多層構成之無光 層中’至少除與基材面相接之層以外的脫模性樹脂層之各 層’含有以聚矽氧改質樹脂或含矽氧之樹脂組成物所成之 脫模劑，而且愈靠近無光層表面處，其脫模劑之含有量愈 多。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之脫模片，其中多層構 成之無光層中，至少與基材面相接之層除外的各層，更含 有平坦劑。 16. 如申請專利範圍第7、8、或14項之脫模片，其 中基材之表面電阻（Ω)在l.OxlO12以下。 17. 如申請專利範圍第7、8、或14項之脫模片，其 中基材係由含有機高分子導電劑及/或無機導電劑所成， 或者’在基材的任何一面，塗佈有機高分子導電劑及/或 無機導電劑而成者；該導電劑之含量，對基材在〇 . 〇 5〜 3.00公克/平方公尺之範圍。 18. —種合成皮革，其特徵爲使用如申請專利範圍第 7、8、或1 4項之脫模片製造而成。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之合成皮革，其中合成 皮革表皮之最外層爲透明樹脂層。 2 0.如申請專利範圍第1 9項之合成皮革，其中透明 樹脂層係具有脫模性。 2 1 .如申請專利範圍第1 8項之合成皮革，其爲實質 上不進行壓紋加上及/或起毛加工而製得者。 22. 一種合成皮革’其特徵爲使用脫模片製造而得， -39- (4)200404935 算術表面粗糙度（Ra )在0.5〜1 5 // m之範圍，8 5 °光澤 度爲〇 . 5〜1 0 % 之範圍。

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