RU2418886C2 - Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок - Google Patents

Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок Download PDF

Info

Publication number
RU2418886C2
RU2418886C2 RU2007144640/02A RU2007144640A RU2418886C2 RU 2418886 C2 RU2418886 C2 RU 2418886C2 RU 2007144640/02 A RU2007144640/02 A RU 2007144640/02A RU 2007144640 A RU2007144640 A RU 2007144640A RU 2418886 C2 RU2418886 C2 RU 2418886C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
powder
less
niobium
ppm
microns
Prior art date
Application number
RU2007144640/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2007144640A (ru
Inventor
Штефан ЦИММЕРМАНН (DE)
Штефан ЦИММЕРМАНН
Уве ПАПП (DE)
Уве ПАПП
Ханс КЕЛЛЕР (DE)
Ханс КЕЛЛЕР
Стивен Альфред МИЛЛЕР (US)
Стивен Альфред МИЛЛЕР
Original Assignee
Х.К. Штарк Гмбх
Х.К. Штарк Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Х.К. Штарк Гмбх, Х.К. Штарк Инк. filed Critical Х.К. Штарк Гмбх
Publication of RU2007144640A publication Critical patent/RU2007144640A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2418886C2 publication Critical patent/RU2418886C2/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • H01J35/02Details
    • H01J35/04Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/10Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
    • H01J35/108Substrates for and bonding of emissive target, e.g. composite structures
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F7/00Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression
    • B22F7/06Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools
    • B22F7/08Manufacture of composite layers, workpieces, or articles, comprising metallic powder, by sintering the powder, with or without compacting wherein at least one part is obtained by sintering or compression of composite workpieces or articles from parts, e.g. to form tipped tools with one or more parts not made from powder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04Impact or kinetic deposition of particles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00X-ray tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/08Targets (anodes) and X-ray converters
    • H01J2235/081Target material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/08Targets (anodes) and X-ray converters
    • H01J2235/083Bonding or fixing with the support or substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2235/00X-ray tubes
    • H01J2235/08Targets (anodes) and X-ray converters
    • H01J2235/085Target treatment, e.g. ageing, heating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/4902Electromagnet, transformer or inductor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу восстановления или изготовления мишени распыления или анода рентгеновской трубки, в котором поток газа образует газопорошковую смесь с порошком из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей двух или более из них и их сплавов с по меньшей мере двумя из них или с другими металлами. Порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм. Газовому потоку сообщают сверхзвуковую скорость и направляют сверхзвуковую струю на поверхность объекта, подлежащего восстановлению или изготовлению. В результате получают огнеупорное покрытие высокого качества. 4 н. и 25 з.п. ф-лы, 13 ил., 4 табл.

Description

Настоящее изобретение относится к способу нанесения слоев, содержащих лишь небольшие количества газообразных примесей, например кислорода, на мишени распыления или аноды рентгеновских трубок.
Нанесение огнеупорных металлических покрытий на поверхности связано с многочисленными проблемами.
В известных способах металл обычно полностью или частично расплавляют, в результате чего металлы легко окисляются или принимают другие газообразные примеси. По этой причине обычные способы, такие как нанесение покрытия путем наплавки с помощью дуговой сварки и плазменное распыление, должны проводиться в атмосфере инертного газа или в вакууме.
В этом случае приходится затрачивать большие средства на оборудование, размер конструкционных компонентов ограничен и, тем не менее, содержание газообразных примесей является неудовлетворительным.
Введение больших количеств тепла, распространяющегося в покрываемый объект, приводит к очень высокой вероятности коробления и делает невозможным использование этих способов в случае сложных конструкционных компонентов, которые часто включают в себя также компоненты, плавящиеся при низких температурах. Такими конструкционными компонентами, в частности, являются так называемые мишени распыления, то есть источники металла, которые используются при катодном распылении металла. Поэтому сложные конструкционные компоненты приходится перед обработкой демонтировать, что, как правило, означает, что на практике обработка оказывается неэкономичной и сводится лишь к утилизации материала (превращение в лом) конструкционных компонентов.
При плазменном распылении в вакууме в слой покрытия переходят, кроме того, примеси вольфрама и меди, содержащиеся в используемых электродах, что, как правило, нежелательно. Например, если для защиты от коррозии используют слой тантала или ниобия, эти примеси снижают защитное действие покрытия в результате образования так называемых микрогальванических элементов. В случае мишеней распыления это загрязнение может привести к тому, что компоненты станут непригодными для использования.
Кроме того, указанные способы являются металлургическими процессами с расплавлением, которые всегда включают присущие им недостатки, такие как, например, одномерный рост частиц. Это происходит, в частности, в лазерных процессах, в которых подходящий порошок наносят на поверхность и расплавляют с помощью лазерного луча. Еще одной проблемой является пористость, которая наблюдается, в частности, в том случае, когда металлический порошок сначала наносят, а затем его расплавляют с помощью источника тепла. И действительно, была предпринята описанная в WO 02/064287 попытка решения этих проблем путем поверхностного расплавления и спекания частиц порошка с помощью потока энергии, такого как, например, лазерные лучи. Однако результаты не всегда являются удовлетворительными, аппаратура требует больших затрат средств, а проблемы, связанные с введением хотя и уменьшенного, но тем не менее значительного количества тепла в сложный конструкционный компонент, остаются.
В WO-A-03/106051 раскрыт способ и устройство для холодного распыления под низким давлением. Этот процесс характеризуется тем, что нанесение покрытия из частиц порошка на поверхность рабочей детали осуществляется путем распыления в газе в основном при температуре окружающей среды. Чтобы ускорить распыляемые частицы порошка, процесс проводят при низком давлении окружающей среды, более низком, чем атмосферное давление. При таком процессе на поверхности рабочей детали образуется порошковое покрытие.
В ЕР-А 1382720 раскрыт другой способ и устройство для холодного распыления под низким давлением. В этом процессе покрываемую мишень и пушку холодного распыления помещают в вакуумную камеру, в которой поддерживается давление ниже 80 кПа. При таком давлении на поверхности рабочей детали образуется порошковое покрытие.
Принимая во внимание вышеописанный уровень техники, задача изобретения состояла в том, чтобы предложить новый способ повторного использования мишеней распыления или анодов рентгеновских трубок, в котором нет необходимости в утилизации материалов или демонтаже мишени, и который отличается введением малого количества тепла и низкими затратами на аппаратуру и обладает при этом широкими возможностями его применения с различными материалами основы и распыляемыми материалами или анодами рентгеновских трубок, и в котором напыляемый металл не расплавляется или не расплавляется поверхностно в процессе распыления.
Задача настоящего изобретения достигается тем, что с помощью способа согласно п.1 формулы изобретения на заданную поверхность наносят подходящий огнеупорный металл.
Для этой цели пригодны, как правило, те способы, в которых, в отличие от обычных термических способов распыления (пламенное, плазменное, высокоскоростное пламенное, дуговое, вакуумное плазменное распыление, а также плазменное распыление при низком давлении) и наплавки, не происходит поверхностного расплавления или расплавления материала покрытия, вызванного термической энергией, генерируемой в аппаратуре для нанесения покрытия. В этом контексте следует избегать контакта с пламенем или горячими газами сжигания, так как и то и другое может вызвать окисление частиц порошка и, следовательно, повышение содержания кислорода в слоях.
Указанные способы известны специалисту в данной области, например, как холодное газовое распыление, способы холодного распыления, холодное газодинамическое распыление, кинетическое распыление, и описаны, например, в ЕР-А-484533. Способ, описанный в DE-A-10253794, также пригоден согласно изобретению. Особенно пригодны для процесса согласно изобретению так называемый холодный способ распыления или кинетический способ распыления; в частности пригоден холодный способ распыления, описанный в ЕР-А-484533, который включен в настоящее описание посредством ссылки.
Применяемый с успехом способ нанесения покрытий на поверхность мишеней распыления или поверхность анодов рентгеновских трубок заключается в том, что поток газа образует газопорошковую смесь с порошком из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей по меньшей мере двух из них или их сплавов друг с другом или с другими металлами, причем порошок имеет размер частиц в диапазоне от 0,5 до 150 мкм, газовому потоку сообщают сверхзвуковую скорость и формируют сверхзвуковую струю, обеспечивающую скорость порошка в газопорошковой смеси от 300 до 2000 м/с, предпочтительно от 300 до 1200 м/с, и направляют струю на поверхность объекта.
На поверхности объекта соударяющиеся частицы металлического порошка образуют слой сильнодеформированных частиц. Количество частиц порошка, присутствующих в струе, предпочтительно должно быть таким, чтобы обеспечивалась плотность потока частиц в диапазоне от 0,01 г/с·см2 до 200 г/с·см2, предпочтительно от 0,01 г/с·см2 до 100 г/с·см2, более предпочтительно от 0,01 г/с·см2 до 20 г/с·см2 и наиболее предпочтительно от 0,05 г/с·см2 до 17 г/с·см2.
Плотность потока частиц рассчитывается по формуле F=m/(π/4·D2), где F означает плотность потока частиц, D - поперечное сечение сопла, m - массовый расход порошка. Типичной нормой расхода частиц является, например, 70 г/мин = 1,1667 г/с.
При низких значениях D менее 2 мм могут быть получены значения плотности потока частиц, заметно большие, чем 20 г/с·см2. В этом случае F легко может принимать значения 50 г/с·см2 или даже выше при более высоких значениях расхода частиц.
В общем, в качестве газа, с которым металлический порошок образует газопорошковую смесь, используют инертный газ, такой как аргон, неон, гелий или азот, или смеси двух или более из них.
В некоторых случаях может быть использован воздух. При соблюдении требований безопасности можно использовать водород или смеси водорода с другими газами.
В предпочтительном варианте способ распыления включает стадии:
- обеспечения распылительного отверстия смежно поверхности, на которую должно быть путем распыления нанесено покрытие;
- подведения к распылительному отверстию порошка дисперсного материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей по меньшей мере двух из них или их сплавов друг с другом или с другими металлами, причем порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм и порошок находится под давлением;
- подведения инертного газа под давлением к распылительному отверстию для создания статического давления в распылительном отверстии и формирование распыления указанного дисперсного материала и газа на покрываемую поверхность;
- размещения распылительного отверстия в зоне низкого давления окружающей среды, которое составляет менее 1 атмосферы и которое по существу ниже статического давления у распылительного отверстия с целью обеспечить существенное ускорение распыления указанного дисперсного материала и газа на покрываемую поверхность.
В другом предпочтительном варианте способ распыления осуществляют с использованием пушки холодного распыления, причем и покрываемую мишень, и пушку холодного распыления размещают внутри вакуумной камеры при давлении ниже 80 кПа, предпочтительно в диапазоне от 0,1 до 50 кПа и наиболее предпочтительно в диапазоне от 2 до 10 кПа.
Дальнейшие предпочтительные варианты выполнения изобретения описаны в формуле изобретения.
Огнеупорный металл, используемый в порошковой форме в качестве порошка согласно изобретению, в общем имеет чистоту 99% или выше, например 99,5%, или 99,7%, или 99,9%.
Согласно изобретению огнеупорный металл предпочтительно имеет чистоту по меньшей мере 99,95%, в пересчете на металлические примеси, в частности, по меньшей мере 99,995%, или по меньшей мере 99,999%, в частности, по меньшей мере 99,9995%.
При использовании вместо индивидуального огнеупорного металла, сплава, такую чистоту имеет по меньшей мере огнеупорный металл, но предпочтительно, чтобы такую чистоту имел весь сплав, что дает возможность получать покрытие соответственно высокой чистоты.
Металлический порошок содержит, кроме того, кислород в количестве менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода составляет менее 100 частей на миллион. В частности, пригодны огнеупорные металлические порошки, имеющие чистоту по меньшей мере 99,7%, предпочтительно по меньшей мере 99,9%, в частности, по меньшей мере 99,95%, и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
В частности, пригодны огнеупорные металлические порошки, имеющие чистоту по меньшей мере 99,95%, в частности, по меньшей мере 99,995% и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
В частности, пригодны огнеупорные металлические порошки, имеющие чистоту по меньшей мере 99,999%, в частности, по меньшей мере 99,9995% и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
Желательно, чтобы во всех вышеприведенных порошках общее содержание других неметаллических примесей, таких как углерод, азот или водород, было менее 500 частей на миллион, предпочтительно менее 150 частей на миллион.
В частности, желательно, чтобы содержание кислорода составляло 50 или менее частей на миллион, содержание азота 25 или менее частей на миллион и содержание углерода 25 или менее частей на миллион.
Предпочтительно, чтобы содержание металлических примесей было 500 или менее частей на миллион, предпочтительно 100 или менее частей на миллион и наиболее предпочтительно 50 или менее частей на миллион, в частности 10 или менее частей на миллион.
Подходящими металлическими порошками являются, например, многие из огнеупорных металлических порошков, которые пригодны также для производства конденсаторов.
Такие металлические порошки могут быть приготовлены восстановлением соединения огнеупорного металла с помощью восстановителя и, предпочтительно, с последующим раскислением. Такой способ, например, предусматривает восстановление оксида вольфрама или оксида молибдена в потоке водорода при повышенной температуре. Приготовление металлических порошков описывается, например, в следующих публикациях: Schubert, Lassner, "Tungsten", Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, 1999 или Brauer, "Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie", Ferdinand Enke Verlag Stuttgart, 1981, p.1530.
В случае тантала и ниобия приготовление проводят обычно путем восстановления гептафтортанталатов щелочных металлов или гептафтортанталатов щелочноземельных металлов или оксидов, таких как, например, гептафтортанталат натрия, гептафтортанталат калия, гептафторниобат натрия или гептафторниобат калия, щелочным или щелочноземельным металлом. Согласно этому способу восстановление может проводиться в расплаве солей с добавлением, например, натрия или в газовой фазе, предпочтительно, с использованием паров кальция или паров магния. Также можно смешивать и нагревать соединение огнеупорного металла со щелочным или щелочноземельным металлом. Предпочтительной может быть атмосфера водорода. Специалисту в данной области известны многочисленные способы, пригодные для достижения этой цели, а также известны и многочисленные технологические параметры, из которых он может выбрать подходящие условия реакции. Пригодные способы описаны, например, в US 4483819 и WO 98/37249.
После восстановления предпочтительно проводят раскисление. Раскисление может проводиться, например, путем смешения огнеупорного металлического порошка с Mg, Ca, Ва, La, Y и Се и последующего нагревания или же путем нагревания огнеупорного металла в присутствии газопоглотительного вещества в атмосфере, которая делает возможным перенос кислорода из металлического порошка на газопоглотительное вещество. Затем огнеупорный металлический порошок обычно освобождают от солей раскисляющего агента кислотой и водой и сушат. Следует подчеркнуть, что, если для снижения содержания кислорода применяют металлы, то целесообразно, чтобы содержание металлических примесей поддерживалось на низком уровне.
Еще один способ приготовления чистых порошков с низким содержанием кислорода включает восстановление гидрида огнеупорного металла щелочноземельным металлом в качестве восстановителя, так, как это раскрыто, например, в WO 01/12364 и ЕР-А-1200218.
Кроме того, настоящее изобретение относится к способу восстановления или изготовления мишени распыления (источник металла в способах катодного распыления металла). В этом способе поток газа образует газопорошковую смесь с порошком из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония или смесей двух или более из них или их сплавов с по меньшей мере двумя из них или с другими металлами, причем порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм, и газовому потоку сообщают сверхзвуковую скорость и направляют сверхзвуковую струю на поверхность объекта, подлежащего восстановлению или изготовлению.
Мишень распыления является источником металла в способах катодного распыления металла. Эти мишени используют для производства интегральных схем, полупроводников и других электрических, магнитных и оптических изделий. Во время процессов распыления, металлическая поверхность мишени распыления, как правило, изнашивается неравномерно, что приводит к появлению бороздок на поверхности. Во избежание загрязнения материалом опорной пластины или даже катастрофического прорыва охлаждающей воды, мишени распыления находятся в работе не вплоть до того момента, когда начинает расходоваться слой огнеупорного материала, но сразу выводятся из процесса незадолго до наступления этого момента, так чтобы к моменту включения в работу новой мишени распыления было израсходовано лишь относительно небольшое количество огнеупорного материала. Однако большинство отработанных мишеней может быть продано только как лом или же их материалы могут быть переработаны для повторного использования, так как до сих пор восстановление мишеней было связано с необходимостью удалять опорную пластину и присоединить ее к новой огнеупорной металлической пластине. Опорная пластина в данном случае является менее ценной частью мишени распыления.
Поэтому существует потребность в способе, который либо делает возможным восстановление мишени распыления без необходимости отсоединять для этого опорную пластину, либо делает возможным осаждать распыляемый материал непосредственно на опорную пластину.
С этой целью бороздку в использованной мишени распыления снова наполняют доверху соответствующим огнеупорным металлом путем холодного распыления, как описано выше. Для этого сверхзвуковую струю газопорошковой смеси направляют на бороздку и перемещают по всей длине бороздки, принимая во внимание также и ее форму. Эту процедуру повторяют столько раз, сколько необходимо, чтобы снова наполнить доверху бороздку, так что в результате поверхность мишени снова становится равномерно плоской поверхностью и/или материал наполнения слегка возвышается над поверхностью мишени. Предпочтительно, сверхзвуковую струю газопорошковой смеси затем направляют на остающуюся поверхность мишени и проводят ее по всей длине, ширине и форме поверхности мишени, пока не будет получен плоский слой равномерной толщины мишени распыления. Полученную шероховатую поверхность можно затем отшлифовать и отполировать обычными методами для получения гладкой поверхности требуемого качества.
Во время изготовления новой мишени распыления слой покрытия наносят на опорную пластину. Поэтому, в зависимости от конструкции мишени, сверхзвуковую струю газопорошковой смеси либо направляют на всю поверхность опорной пластины мишени распыления и проводят по всей длине, ширине и форме поверхности мишени, пока на мишени распыления не будет получен плоский слой равномерной и достаточной толщины, который полностью покрывает поверхность мишени распыления, либо покрывают лишь контактный участок для плазмы, что в результате дает значительную экономию материала.
Толщина слоя покрытия обычно составляет более 0,01 мм. Предпочтительными являются слои с толщиной в диапазоне от 0,1 до 100 мм, более предпочтительно - от 0,5 до 50 мм, еще более предпочтительно - от 5 до 45 мм, еще более предпочтительно - от 8 до 40 мм, еще более предпочтительно - от 10 до 30 мм, еще более предпочтительно - от 10 до 20 мм и наиболее предпочтительно - от 10 до 15 мм.
Чистота полученных слоев и содержание кислорода в полученных слоях не должны отклоняться более чем на 50%, предпочтительно более чем на 20% от чистоты порошка и соответственно от содержания кислорода в порошке.
Это может быть достигнуто предпочтительно в том случае, если покрытие на подлежащую восстановлению мишень распыления наносят в атмосфере инертного газа. В качестве инертного газа предпочтительно использовать аргон, так как благодаря его более высокой плотности в сравнении с воздухом он имеет тенденцию покрывать объект, на который наносится покрытие, и оставаться над ним, особенно, если мишень распыления находится в емкости, которая препятствует улетучиванию или вытеканию аргона, и если производится постоянное пополнение аргона.
Способ согласно настоящему изобретению особенно пригоден для восстановления или изготовления мишеней распыления, потому что, с одной стороны, во время изготовления термомеханическими способами часто появляются предпочтительные кристаллографические ориентации, которые могут изменяться через различные интервалы, так что вместо равномерной текстуры получаются так называемые полосы, то есть области различных предпочтительных ориентации. В термомеханических способах это может быть предотвращено только ценой больших затрат. С другой стороны, способ согласно настоящему изобретению позволяет получать равномерную текстуру, в которой предпочтительные ориентации изменяются, например, менее чем на 30% относительно любой заданной плоскости на поверхности, проходящей перпендикулярно, параллельно или по диагонали относительно нормали к поверхности, и предпочтительные ориентации изменяются менее чем на 30% относительно толщины огнеупорного металлического слоя.
Способ согласно настоящему изобретению позволяет также получать равномерное распределение размеров частиц (размер зерна) в слоях, так что образования полос различного размера частиц не происходит, если только это не требуется.
Как показывает опыт, в способах, в которых порошок наносят на мишень распыления и расплавляют, происходит образование пузырей и рост частиц. В способе согласно настоящему изобретению такое явление невозможно.
После нанесения покрытия поверхность мишени распыления должна быть отшлифована и отполирована для получения гладкой поверхности требуемого качества. Это может быть достигнуто обычными методами согласно уровню техники.
При изготовлении новой мишени распыления покрытие наносят на опорные средства, например, на опорную пластину. В общем и целом эта пластина представляет собой пластину из меди или алюминия или сплава по меньшей мере одного из этих металлов с бериллием. Эта опорная пластина может содержать каналы, в которых находится охлаждающая среда.
Опорная пластина, а следовательно, и мишень распыления может иметь форму пластины с круглым или угловым поперечным сечением, например, стержня, цилиндра, блока или любую другую заданную форму. К ней могут быть прикреплены дополнительные конструкционные элементы, змеевик с охлаждающей жидкостью и/или более крупные резервуары для охлаждающей жидкости и/или сложные фланцы или другие механические или электрические структуры.
Слои, наносимые в соответствии с настоящим изобретением, или слои, которые создаются во время изготовления или восстановления мишени распыления, имеют высокую чистоту и низкое содержание кислорода.
Содержание кислорода в этих слоях составляет предпочтительно менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода составляет менее 100 частей на миллион. В частности, эти слои имеют чистоту по меньшей мере 99,7%, предпочтительно по меньшей мере 99,9%, в частности, по меньшей мере 99,95% и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
В частности, эти слои имеют чистоту по меньшей мере 99,95%, в частности, по меньшей мере 99,995% и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
В частности, эти слои имеют чистоту 99,999%, в частности, по меньшей мере 99,9995% и содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, или менее 500 частей на миллион, или менее 300 частей на миллион, в частности, содержание кислорода менее 100 частей на миллион.
Слои согласно настоящему изобретению предпочтительно имеют общее содержание других неметаллических примесей, таких как углерод, азот или водород, предпочтительно менее 500 частей на миллион и особенно предпочтительно менее 150 частей на миллион. Согласно предлагаемому способу также могут получены слои с более высоким содержанием примесей.
Нанесенный слой имеет содержание газообразных примесей, которое отклоняется не более чем на 50%, или не более чем на 20%, или не более чем на 10%, или не более чем на 5%, или не более чем на 1% от их содержания в исходном порошке, из которого эти слои были получены. В данном контексте термин «отклоняются» следует понимать как означающий, в частности, увеличение; таким образом, предпочтительно полученные покрытия имеют содержание газообразных примесей, не превышающее более чем на 50% их содержание в исходном порошке.
Нанесенные слои предпочтительно имеют содержание кислорода, которое отклоняется не более чем на 5%, в частности, не более чем на 1% от содержания кислорода в исходном порошке.
Целесообразно, чтобы во всех вышеупомянутых слоях общее содержание других неметаллических примесей, таких как углерод, азот или водород, составляло менее 500 частей на миллион и особенно предпочтительно менее 150 частей на миллион.
В частности, содержание кислорода составляет 50 или менее частей на миллион, содержание азота составляет 25 или менее частей на миллион и содержание углерода составляет 25 или менее частей на миллион.
Оптимальное содержание металлических примесей составляет 50 или менее частей на миллион, в частности 10 или менее частей на миллион.
Кроме того, в предпочтительном варианте изобретения слои имеют плотность по меньшей мере 97%, предпочтительно более 98%, в частности, более 99% или 99,5%. Плотность слоя здесь является мерой закрытого характера и пористости покрытия. Плотность слоя 97% означает, что слой имеет плотность 97% от плотности основной массы материала. Закрытый, в основном свободный от пор слой всегда имеет плотность более 99,5%. Плотность может быть определена либо анализом изображений поперечного сечения такого слоя, либо методом гелиевой пикнометрии. Последний метод менее предпочтителен, так как в случае очень плотных слоев поры, присутствующие в слоях, удаленных дальше от поверхности, не определяются, и в результате прибор показывает меньшую пористость, чем она есть на самом деле. Плотность может быть определена путем анализа изображений, при этом вначале определяют общую площадь исследуемого слоя в зоне изображения микроскопа и затем эту площадь относят к площадям пор. Поры, расположенные далеко от поверхности и близко к границе раздела между слоем и подложкой, также фиксируются этим методом. Высокая плотность по меньшей мере 97%, предпочтительно более 98%, в частности, более 99°/о или 99,5% имеет важное значение, в частности, для изготовления или восстановления мишеней распыления.
Слои показывают высокую механическую прочность, обусловленную их высокой плотностью и высокой деформацией частиц. Поэтому, например, в случае тантала прочность составляет по меньшей мере 80 МПа, более предпочтительно по меньшей мере 100 МПа и наиболее предпочтительно по меньшей мере 140 МПа, при условии, что в качестве газа, с которым металлический порошок образует смесь, применяют азот.
При использовании гелия прочность обычно составляет по меньшей мере 150 МПа, предпочтительно по меньшей мере 170 МПа, более предпочтительно по меньшей мере 200 МПа и наиболее предпочтительно по меньшей мере 250 МПа.
Настоящее изобретение, таким образом, относится также к мишеням распыления, включающим по меньшей мере один слой из огнеупорных металлов ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей двух или более из них или сплавов двух или более из них или сплавов с другими металлами, имеющими вышеупомянутые свойства.
В частности, слои представляют собой слои тантала или ниобия.
Предпочтительно слои из вольфрама, молибдена, титана, циркония или смесей двух или более из них, или сплавов двух или более из них, или сплавов с другими металлами, более предпочтительно слои из тантала или ниобия наносят методом холодного распыления на поверхность покрываемой подложки. Неожиданно было установлено, что используя такие порошки или порошковые смеси, предпочтительно используя порошки тантала или ниобия, имеющие пониженное содержание кислорода, например, содержание кислорода менее 1000 частей на миллион, можно получать методом холодного распыления слоев с очень высокими скоростями осаждения, выше 90%. В этих слоях холодного распыления содержание кислорода в металле почти не изменяется в сравнении с содержанием кислорода в порошках. Эти полученные методом холодного распыления слои показывают значительно более высокие плотности в сравнении со слоями, полученными плазменным распылением или вакуумным распылением. Кроме того, эти слои холодного распыления могут быть получены без какой-либо текстуры или с небольшой текстурой, в зависимости от свойств порошка и параметров процесса нанесения.
Мишени распыления, содержащие слои, нанесенные холодным распылением, позволяют получать в процессе распыления тонкие слои, имеющие однородность и удельное электрическое сопротивление, сравнимые с соответствующими величинами тонких слоев, полученных с помощью обычных мишеней распыления.
Неожиданно было установлено, что с понижением содержания кислорода в полученных методом холодного распыления слоях мишени плотность и другие свойства распыленных слоев улучшаются.
Металлические порошки, включающие сплавы, псевдосплавы и порошковые смеси огнеупорных металлов с подходящими для этой цели неогнеупорными металлами, также пригодны для их использования в способах согласно настоящему изобретению. Этими способами могут быть изготовлены или восстановлены также мишени распыления с тем же сплавом или псевдосплавом. Они включают, в частности, сплавы, псевдосплавы и порошковые смеси огнеупорного металла, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, циркония и титана, с металлом, выбранным из группы, состоящей из кобальта, никеля, родия, палладия, платины, меди, серебра и золота. Такие порошки принадлежат уровню техники, в принципе, известны специалисту в данной области и описаны, например, в ЕР-А-774315 и ЕР-А-1138420. Они могут быть приготовлены обычными способами; так, порошковые смеси могут быть получены путем однородного смешения уже готовых к применению металлических порошков, причем смешение порошков может проводиться как перед их использованием в способе согласно настоящему изобретению, так и во время получения газопорошковой смеси.
Порошки из сплава, как правило, могут быть получены путем расплавления и смешения сплавляемых компонентов друг с другом. Согласно изобретению, в качестве порошков из сплава также могут быть использованы так называемые предварительно сплавленные порошки. Такими порошками являются порошки, получаемые способом, в котором смешивают и затем восстанавливают соединения, например, соли, оксиды и/или гидриды компонентов сплава, так что могут быть получены однородные смеси соответствующих металлов.
Кроме того, настоящее изобретение позволяет использовать также псевдосплавы. Под псевдосплавами подразумеваются материалы, которые получают не с помощью обычных металлургических способов с расплавлением, но, например, путем измельчения, спекания, пропитки металлом или распылительной сушки/агломерации с последующим спеканием материалов друг с другом или без спекания.
Известными материалами являются, например, сплавы вольфрама с медью или смеси вольфрама с медью, свойства которых известны и перечислены ниже в качестве примера:
Figure 00000001
Известны также сплавы молибдена с медью или смеси молибдена с медью в тех же соотношениях, что и приведенные выше.
Известны также сплавы молибдена с серебром или смеси молибдена с серебром, содержащие, например, 10, 40 или также 65% (мас.) молибдена.
Известны также сплавы вольфрама с серебром или смеси вольфрама с серебром, содержащие, например, 10,40 или также 65% (мас.) вольфрама.
Эти вольфрамовые сплавы могут применяться, например, в качестве тепловых труб, тепловых стоков или, в общем и целом, в качестве систем управления температурой.
Также могут применяться сплавы вольфрама с рением, но металлический порошок в этом случае представляет собой сплав следующего состава: молибден - от 94 до 99% (мас.), предпочтительно от 95 до 97% (мас.), ниобий - от 1 до 6% (мас.), предпочтительно от 2 до 4% (мас.), цирконий - от 0,05 до 1% (мас.), предпочтительно от 0,05 до 0,02% (мас.). Подобно порошкам из чистого огнеупорного металла, эти сплавы могут применяться с чистотой по меньшей мере 99,95% в процессах восстановления или изготовления мишеней распыления методом холодного газового распыления.
Материалы, пригодные для применения в способах согласно настоящему изобретению, перечислены в таблицах 1-15. Отдельные материалы обозначены номером таблицы, за которым следует номер комбинации компонентов и количество неогнеупорного металла, как в таблице 1. Например, материал 22.0005 обозначает материал, описанный в таблице 22, где точный состав определяется неогнеупорным металлом и его количеством, как приведено в таблице 1, позиция 5.
Подходящие сплавы ниобия перечислены в таблице 1.
Таблица 1
Огнеупорный металл Неогнеупорный металл Количество неогнеупорного металла, % (мас.)
1.001 ниобий кобальт 2-5
1.002 ниобий никель 2-5
1.003 ниобий родий 2-5
1.004 ниобий палладий 2-5
1.005 ниобий платина 2-5
1.006 ниобий медь 2-5
1.007 ниобий серебро 2-5
1.008 ниобий золото 2-5
1.009 ниобий кобальт 5-10
1.010 ниобий никель 5-10
1.011 ниобий родий 5-10
1.012 ниобий палладий 5-10
1.013 ниобий платина 5-10
1.014 ниобий медь 5-10
1.015 ниобий серебро 5-10
1.016 ниобий золото 5-10
1.017 ниобий кобальт 10-15
1.018 ниобий никель 10-15
1.019 ниобий родий 10-15
1.020 ниобий палладий 10-15
1.021 ниобий платина 10-15
1.022 ниобий медь 10-15
1.023 ниобий серебро 10-15
1.024 ниобий золото 10-15
1.025 ниобий кобальт 15-20
1.026 ниобий никель 15-20
1.027 ниобий родий 15-20
1.028 ниобий палладий 15-20
1.029 ниобий платина 15-20
1.030 ниобий медь 15-20
1.031 ниобий серебро 15-20
1.032 ниобий золото 15-20
1.033 ниобий кобальт 20-25
1.034 ниобий никель 20-25
1.035 ниобий родий 20-25
1.036 ниобий палладий 20-25
1.037 ниобий платина 20-25
1.038 ниобий медь 20-25
1.039 ниобий серебро 20-25
1.040 ниобий золото 20-25
1.041 ниобий кобальт 25-30
1.042 ниобий никель 25-30
1.043 ниобий родий 25-30
1.044 ниобий палладий 25-30
1.045 ниобий платина 25-30
1.046 ниобий медь 25-30
1.047 ниобий серебро 25-30
1.048 ниобий золото 25-30
Таблица 2: Таблица 2 включает 48 сплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является тантал, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 3: Таблица 3 включает 48 сплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является вольфрам, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 4: Таблица 4 включает 48 сплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является молибден, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 5: Таблица 5 включает 48 сплавов, причем вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является титан, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 6: Таблица 6 включает 48 псевдосплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является тантал, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 7: Таблица 7 включает 48 псевд-сплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является вольфрам, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 8: Таблица 8 включает 48 псевдосплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является молибден, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 9: Таблица 9 включает 48 псевдосплавов, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является титан, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 10: Таблица 10 включает 48 порошковых смесей, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является тантал, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 11: Таблица 11 включает 48 порошковых смесей, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является вольфрам, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 12: Таблица 12 включает 48 порошковых смесей, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является молибден, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 13: Таблица 13 включает 48 порошковых смесей, причем, вместо ниобия, огнеупорным металлом в них является титан, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 14: Таблица 14 включает 48 псевдосплавов, причем огнеупорным металлом в них является ниобий, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Таблица 15: Таблица 15 включает 48 порошковых смесей, причем огнеупорным металлом в них является ниобий, а неогнеупорный металл и его количество в мас.% те же, что указаны в таблице 1.
Металлические порошки, включающие сплавы, псевдосплавы и порошковые смеси различных огнеупорных металлов друг с другом, также пригодны для использования в способах по настоящему изобретению.
Так, например, известны и пригодны для использования в способах согласно настоящему изобретению сплавы молибдена и титана в соотношении 50:50 атомных процентов или также сплавы вольфрама и титана в количестве около 90:10 мас.%.
В принципе, однако, все сплавы огнеупорных металлов друг с другом пригодны для использования в способах согласно настоящему изобретению.
Двухкомпонентные сплавы, псевдосплавы и порошковые смеси огнеупорных металлов, пригодные для использования в способах по настоящему изобретению, перечислены в таблицах 16-36. Индивидуальные материалы обозначены номером таблицы, за которым следует номер комбинации компонентов, как в таблице 16. Например, материал 22.005 обозначает материал, описанный в таблице 22, где точный состав определяется огнеупорными металлами, перечисленными в таблице 16, позиция 5, и количеством, указанным в таблице 22.
Таблица 16
Пригодные двухкомпонентные сплавы огнеупорных металлов
Компонент 1 Компонент 2
16.001 Nb Та
16.002 Nb W
16.003 Nb Мо
16.004 Nb Ti
16.005 Та Nb
16.006 Та W
16.007 Та Мо
16.008 Та Ti
16.009 W Та
16.010 W Nb
16.011 W Мо
16.012 W Ti
16.013 Мо Та
16.014 Мо Nb
16.015 Мо W
16.016 Мо Ti
16.017 Ti Та
16.018 Ti Nb
16.019 Ti W
16.020 Ti Мо
Таблица 17: Таблица 17 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 2-5 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 18: Таблица 18 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 5-10 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 19: Таблица 19 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 10-15 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 20: Таблица 20 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 15-20 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 21: Таблица 21 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 20-25 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 22: Таблица 22 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 25-30 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 23: Таблица 23 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 30-35 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 24: Таблица 24 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 35-40 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 25: Таблица 25 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 40-45 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 26: Таблица 26 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 45-50 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 27: Таблица 27 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 50-55 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 28: Таблица 28 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 55-60 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 29: Таблица 29 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 60-65 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 30: Таблица 30 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 65-70 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 31: Таблица 31 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 70-75 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 32: Таблица 32 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 75-80 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 33: Таблица 33 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 80-85 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 34: Таблица 34 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 85-90 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 35: Таблица 35 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 90-95 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
Таблица 36: Таблица 36 включает 20 сплавов, псевдосплавов и порошковых смесей в соответствии с таблицей 16, где компонент 1 присутствует в количестве 95-99 мас.%, компонент 2 присутствует в количестве до 100 мас.% и индивидуальные компоненты смеси те же, что указаны в таблице 16.
В принципе таким же способом, что и мишени распыления, можно восстанавливать или изготовлять аноды рентгеновских трубок, предпочтительно вращающиеся аноды рентгеновских трубок. В частности, пригодны сплавы вольфрама с рением или металлические порошки и сплавы следующего состава: молибден - от 94 до 99 мас.%, предпочтительно от 95 до 97 мас.%, ниобий - от 1 до 6 мас.%, предпочтительно от 2 до 4 мас.%, цирконий - от 0,05 до 1 мас.%, предпочтительно от 0,05 до 0,02 мас.%.
Аноды рентгеновских трубок, предпочтительно вращающиеся аноды рентгеновских трубок, часто имеют на своей задней стороне припаянный обычным образом слой графита для рассеяния тепла. Этот слой для рассеяния тепла может быть нанесен также с использованием способа, предлагаемого в настоящем изобретении, например, путем нанесения подходящего сплава или металлического порошка, содержащего частицы графита или частицы иного вещества, обладающего высокой теплоемкостью, методом холодного газового распыления.
Примеры
Способ приготовления подходящих порошков
Приготовление танталового порошка
Порошок гидрида тантала смешивали с 0,3 мас.% магния и смесь помещали в вакуумную печь. Печь откачивали и заполняли аргоном. Давление составляло 860 мм рт.ст., и поток аргона поддерживали. Температуру печи постепенно повышали до 650°С, каждый раз повышая на 50°С, и после того как устанавливалась постоянная температура, поддерживали в течение четырех часов. Затем температуру печи повышали до 1000°С, также каждый раз повышая ее на 50°С, и после того как устанавливалась постоянная температура, поддерживали в течение шести часов. По истечении этого времени печь отключали и охлаждали до комнатной температуры под аргоном. Магний и образовавшиеся соединения удаляли обычным образом путем промывки кислотой. Полученный танталовый порошок имел размер частиц -100 меш (<150 мкм), содержание кислорода 77 частей на миллион и удельную ВЕТ-поверхность 255 см2/г.
Приготовление титанового порошка
Процедура была такой же, как и для приготовления танталового порошка. Полученный титановый порошок имел содержание кислорода 93 части на миллион.
Приготовление предварительно сплавленного титано-танталового порошка
Готовили смесь порошка гидрида тантала с порошком гидрида титана в молярном соотношении 1:1 и смешивали ее с 0,3 мас.% магния. Процедура была такой же, как и для приготовления танталового порошка. Полученный титано-танталовый порошок имел содержание кислорода 89 частей на миллион.
Получение покрытий
Получали слои тантала и ниобия. В качестве танталового порошка использовали AMPERIT® 150.090 и в качестве ниобиевого порошка - AMPERIT® 160.090, оба этих материала являются коммерчески доступными и выпускаются фирмой Н.С.Starck GmbH в Госларе. Использовали коммерчески доступное сопло типа МОС 29 от CGT GmbH в Ампфинге.
Материал Тантал Тантал Ниобий Ниобий
Сопло МОС 29 МОС 29 МОС 29 МОС 29
Определение скорости подачи при
0,52 нм3/ч:
3,0 об/мин (г/30 с/г/мин) 35,5/71,0 35,5/71,0 14,7/29,4 14,7/29,4
4,0 об/мин (г/30 с/г/мин) 19,8/39,6 19,8/39,6
Данные о перемещении:
Скорость струи/сопла по подложке
(м/мин) (мм/с) 20/333 20/333 20/333 20/333
Линейная подача (мм) 1,5 1,5 1,5 1,5
Расстояние от струи (мм) 30 30 30 30
Технологический газ: азот гелий азот гелий
Давление (бар) 30 28 30 28
Расход (нм3/ч) 65 190/Не181 60 190/Не181
Содержание газа-носителя (%) 8 3(N2) 8 3(N2)
Подача порошка
Расход порошка (г/мин) 71 71 39,6 39,6
Количество проходов 3 3 3 3
Подложки 1FTa 1FS 1FV 1FTa 1FV 2FS 2FS 2FV 1RS 2FS 2FV 1RV
1FS 1RV 1RS 1RV 1RS 1RV 1RS
Толщина листа перед (мм) 2,86 2,92 2,91 2,84
Толщина листа после (мм) 3,38 3,44 3,35 3,36
Толщина слоя (мкм) 520,00 520,00 436,00 524,00
Пористость/плотность 0,9%/99,1% 2,2%/97,8%
Подложки: Подложки помещали бок о бок на носитель образца и покрывали при вышеуказанных условиях испытания. Обозначение подложки составлено следующим образом: Первый номер указывает количество идентичных подложек, лежащих бок о бок.
Следующая буква указывает на то, был ли вначале введен плоский (F) образец или круглый (R, труба) образец. Последующие буквы указывают на материал, где Та обозначает тантал, S - конструкционную сталь и V - нержавеющую сталь (хромоникелевую сталь).
Были получены очень прочные и плотные слои, которые имели низкую пористость и прекрасную адгезию к соответствующим подложкам.
На фигурах 1-10 показаны фотографии поперечного сечения полученных танталовых покрытий, выполненные с помощью оптического микроскопа. Не было обнаружено никаких включений меди или вольфрама, подобных тем, которые появляются в соответствующих покрытиях при вакуумно-плазменном распылении. Пористость определялась автоматически с помощью программы анализа изображений Imageaccess.
На фигурах 11-13 показаны в качестве мишеней распыления танталовые диски до и после нанесения покрытия, готовые для сборки после шлифования и полирования.
Фигура 1: Нетравленое поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: гелий.
Фигура 2: Нетравленое поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: гелий, общий вид при относительно небольшом увеличении.
Фигура 3: Поперечное сечение танталового слоя, травленое гидрофтористой кислотой, технологический газ: гелий, общий вид при относительно небольшом увеличении.
Фигура 4: Поперечное сечение танталового слоя, травленое гидрофтористой кислотой, технологический газ: гелий.
Фигура 5: Зона изображения, использованная для определения пористости, поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: гелий.
Фигура 6: Поперечное сечение танталового слоя, травленое гидрофтористой кислотой, поверхность раздела с подложкой, технологический газ гелий.
Фигура 7: Нетравленое поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: азот, общий вид при относительно небольшом увеличении.
Фигура 8: Нетравленое поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: азот.
Фигура 9: Зона изображения, использованная для определения пористости, поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: азот.
Фигура 10: Нетравленое поперечное сечение танталового слоя, технологический газ: азот, большое увеличение.
Фигура 11: Танталовый диск в качестве мишени распыления перед нанесением покрытия.
Фигура 12: Танталовый диск в качестве мишени распыления после нанесения покрытия (12а: вид сверху; 12b: вид сбоку).
Фигура 13: Танталовый диск в качестве мишени распыления после нанесения покрытия и готовый для сборки после шлифования и полирования (один диск покрыт с использованием азота в качестве технологического газа и один диск покрыт с использованием гелия в качестве технологического газа).

Claims (29)

1. Способ восстановления или изготовления мишени распыления или анода рентгеновской трубки, включающий образование газопорошковой смеси потока газа с порошком из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей двух или более из них и их сплавов с по меньшей мере двумя из них или с другими металлами, причем порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм, сообщение газовому потоку сверхзвуковой скорости и направление сверхзвуковой струи на поверхность объекта, подлежащего восстановлению или изготовлению.
2. Способ по п.1, в котором порошок добавляют в газ в таком количестве, что обеспечивают плотность потока частиц в диапазоне от 0,01 до 200 г/с·см2, предпочтительно от 0,01 до 100 г/с·см2, более предпочтительно от 0,01 до 20 г/с·см2 и наиболее предпочтительно от 0,05 до 17 г/с·см2.
3. Способ по п.1, в котором распыление включает стадии обеспечения распылительного отверстия смежно поверхности, на которую должно быть путем распыления нанесено покрытие, подведения к распылительному отверстию порошка дисперсного материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей по меньшей мере двух из них или их сплавов друг с другом или с другими металлами, причем порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм, и порошок находится под давлением, подведения инертного газа под давлением к распылительному отверстию для создания статического давления у распылительного отверстия и формирование распыленной струи указанного дисперсного материала и газа на покрываемую поверхность и размещения распылительного отверстия в зоне низкого давления окружающей среды, которое составляет менее 1 атм и которое, по существу, меньше, чем статическое давление у распылительного отверстия, для обеспечения существенного ускорения распыленной струи указанного дисперсного материала и газа на покрываемую поверхность.
4. Способ по п.1, в котором распыление осуществляют с использованием пушки холодного распыления, причем и покрываемую мишень и пушку холодного распыления располагают в вакуумной камере при давлении ниже 80 кПа, предпочтительно от 0,1 до 50 кПа и наиболее предпочтительно от 2 до 10 кПа.
5. Способ по п.1, в котором частицы порошка, ударяющиеся о поверхность объекта, образуют слой.
6. Способ по п.1, в котором перед восстановлением опорную пластину анода рентгеновской трубки не удаляют.
7. Способ по п.1, в котором скорость порошка в газопорошковой смеси составляет от 300 до 2000 м/с, предпочтительно от 300 до 1200 м/с.
8. Способ по п.1, в котором нанесенный слой имеет размер частиц от 5 до 150 мкм, предпочтительно от 10 до 50 мкм или от 10 до 32 мкм, или от 10 до 38 мкм, или от 10 до 25 мкм, или от 5 до 15 мкм.
9. Способ по п.1, в котором металлический порошок содержит газовые примеси в количестве от 200 до 2500 ч./млн, в пересчете на массу.
10. Способ по п.1, в котором металлический порошок имеет содержание кислорода менее 1000 ч./млн, или менее 500 ч./млн, или менее 300 ч./млн, в частности менее 100 ч./млн.
11. Способ по п.1, в котором нанесенный слой имеет содержание кислорода менее 1000 ч./млн, или менее 500 ч./млн, или менее 300 ч./млн, более конкретно менее 100 ч./млн.
12. Способ по п.1, в котором нанесенный слой имеет содержание газовых примесей, отличающееся не более чем на 50% от содержания газовых примесей в исходном порошке.
13. Способ по п.1, в котором нанесенный слой имеет содержание газовых примесей, отличающееся не более чем на 20%, или не более чем на 10%, или не более чем на 5%, или не более чем на 1%, от содержания газовых примесей в исходном порошке.
14. Способ по п.1, в котором нанесенный слой имеет содержание кислорода, отличающееся не более чем на 5%, более конкретно, не более чем на 1% от содержания кислорода в исходном порошке.
15. Способ по п.1, в котором содержание кислорода в нанесенном слое не превышает 100 ч./млн.
16. Способ по п.1, в котором нанесенный металлический слой содержит тантал или ниобий.
17. Способ по п.1, в котором толщина слоя составляет от 10 мкм до 10 мм или от 50 мкм до 5 мм.
18. Способ по одному из пп.1-17, в котором слои наносят холодным распылением на поверхность покрываемого объекта, предпочтительно слои тантала или ниобия.
19. Способ по п.18, в котором полученные слои имеют содержание кислорода ниже 1000 ч./млн.
20. Применение порошка из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония или их сплавов друг с другом или с другими металлами с размером частиц 150 мкм в способе по любому из пп.1-19.
21. Применение порошка из материала, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония или их сплавов друг с другом или с другими металлами, с размером частиц 150 мкм или менее для изготовления или восстановления мишеней распыления или анода рентгеновских трубок.
22. Применение по п.20 или 21, в котором применяемый металлический порошок имеет содержание кислорода 300 ч./млн или менее и размер частиц 150 мкм или менее.
23. Применение по п.20 или 21, в котором ниобиевый или танталовый порошок имеет размер частиц 150 мкм или менее и содержание кислорода менее 300 ч./млн.
24. Применение по п.20 или 21, в котором вольфрамовый или молибденовый порошок имеет размер частиц от 0,5 до 150 мкм, предпочтительно от 3 до 75 мкм, в частности от 5 до 50 мкм, или от 10 до 32 мкм, или от 10 до 38 мкм, или от 10 до 25 мкм, или от 5 до 15 мкм и содержание кислорода 500 ч./млн или менее.
25. Применение по п.20 или 21, в котором металлический порошок представляет собой сплав следующего состава, мас.%: молибден от 94 до 99, предпочтительно от 95 до 97, ниобий - от 1 до 6, предпочтительно от 2 до 4, цирконий - от 0,05 до 1, предпочтительно от 0,05 до 0,02.
26. Применение по п.20 или 21, в котором металлический порошок представляет собой сплав, псевдосплав или порошковую смесь огнеупорного металла, выбранного из группы, состоящей из ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, циркония и титана, с металлом, выбранным из группы, состоящей из кобальта, никеля, родия, палладия, платины, меди, серебра и золота.
27. Применение по п.20 или 21, в котором металлический порошок включает вольфрамо-рениевый сплав.
28. Применение по п.20 или 21, в котором металлический порошок включает смесь титанового порошка с вольфрамовым порошком или молибденовым порошком.
29. Изделие вида мишень распыления или анод рентгеновской трубки, содержащее по меньшей мере один слой металлов ниобия, тантала, вольфрама, молибдена, титана, циркония, смесей двух или более из них или сплавов двух или более из них или сплавов с другими металлами, изготовленное или восстановленное способом по любому из пп.1-19.
RU2007144640/02A 2005-05-05 2006-04-28 Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок RU2418886C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US67805205P 2005-05-05 2005-05-05
US60/678,052 2005-05-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007144640A RU2007144640A (ru) 2009-06-10
RU2418886C2 true RU2418886C2 (ru) 2011-05-20

Family

ID=36999989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007144640/02A RU2418886C2 (ru) 2005-05-05 2006-04-28 Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок

Country Status (16)

Country Link
US (1) US7910051B2 (ru)
EP (1) EP1880036A2 (ru)
JP (1) JP4904341B2 (ru)
KR (1) KR101342823B1 (ru)
CN (2) CN101368262B (ru)
AU (1) AU2006243448B2 (ru)
BR (1) BRPI0611451A2 (ru)
CA (1) CA2607091C (ru)
HK (1) HK1123830A1 (ru)
IL (1) IL186909A0 (ru)
MX (1) MX2007013601A (ru)
NO (1) NO20076128L (ru)
RU (1) RU2418886C2 (ru)
TW (1) TWI403598B (ru)
WO (1) WO2006117145A2 (ru)
ZA (1) ZA200709470B (ru)

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030002043A1 (en) * 2001-04-10 2003-01-02 Kla-Tencor Corporation Periodic patterns and technique to control misalignment
CA2606478C (en) * 2005-05-05 2013-10-08 H.C. Starck Gmbh Method for coating a substrate surface and coated product
JP4904341B2 (ja) 2005-05-05 2012-03-28 ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング スパッタターゲット及びx線アノードを製造又は再処理するための被覆方法
US7837929B2 (en) * 2005-10-20 2010-11-23 H.C. Starck Inc. Methods of making molybdenum titanium sputtering plates and targets
US20080078268A1 (en) 2006-10-03 2008-04-03 H.C. Starck Inc. Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof
MX2009004773A (es) * 2006-11-07 2009-05-21 Starck H C Gmbh Metodo para revestir una superficie de sustrato y producto revestido.
US20080145688A1 (en) 2006-12-13 2008-06-19 H.C. Starck Inc. Method of joining tantalum clade steel structures
WO2008081585A1 (ja) * 2007-01-05 2008-07-10 Kabushiki Kaisha Toshiba スパッタリングターゲットとその製造方法
US8784729B2 (en) * 2007-01-16 2014-07-22 H.C. Starck Inc. High density refractory metals and alloys sputtering targets
US8197894B2 (en) * 2007-05-04 2012-06-12 H.C. Starck Gmbh Methods of forming sputtering targets
CZ2007356A3 (cs) * 2007-05-22 2008-12-03 Safina, A. S. Zpusob výroby naprašovacích targetu
FR2920440B1 (fr) * 2007-08-31 2010-11-05 Commissariat Energie Atomique Procede de traitement anti-corrosion d'une piece par depot d'une couche de zirconium et/ou d'alliage de zirconium
KR100994973B1 (ko) * 2008-05-20 2010-11-18 한양대학교 산학협력단 초음속 유동 적층성형기술을 이용한 스퍼터링 타겟의제조방법
DE102008024504A1 (de) * 2008-05-21 2009-11-26 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen
US8246903B2 (en) 2008-09-09 2012-08-21 H.C. Starck Inc. Dynamic dehydriding of refractory metal powders
US8043655B2 (en) 2008-10-06 2011-10-25 H.C. Starck, Inc. Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes
FR2944294A1 (fr) * 2009-04-10 2010-10-15 Saint Gobain Couche obtenue par pulverisation d'une cible comprenant au moins un compose a base d'une poudre de molybdene
FR2944295B1 (fr) 2009-04-10 2014-08-15 Saint Gobain Coating Solutions Cible a base de molybdene et procede d'elaboration par projection thermique d'une cible
FR2944293B1 (fr) 2009-04-10 2012-05-18 Saint Gobain Coating Solutions Procede d'elaboration par projection thermique d'une cible
DE102009037894A1 (de) 2009-08-18 2011-02-24 Mtu Aero Engines Gmbh Dünnwandiges Strukturbauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102009057444A1 (de) 2009-12-08 2011-06-09 Dürr Systems GmbH Lackieranlagenbauteil mit einer Oberflächenbeschichtung
US8449818B2 (en) 2010-06-30 2013-05-28 H. C. Starck, Inc. Molybdenum containing targets
US8449817B2 (en) 2010-06-30 2013-05-28 H.C. Stark, Inc. Molybdenum-containing targets comprising three metal elements
JP5702964B2 (ja) * 2010-07-27 2015-04-15 日本発條株式会社 アース電極の接点及びその製造方法
JP5808066B2 (ja) 2011-05-10 2015-11-10 エイチ.シー.スターク インク. 複合ターゲット
US20140126702A1 (en) * 2011-06-08 2014-05-08 Comet Holding Ag X-ray emitter
US9412568B2 (en) 2011-09-29 2016-08-09 H.C. Starck, Inc. Large-area sputtering targets
KR20140054419A (ko) * 2011-10-14 2014-05-08 가부시키가이샤 아루박 타겟 어셈블리 및 그 제조 방법
US9162286B2 (en) * 2011-12-05 2015-10-20 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Glass substrate film sputtering target and preparing method thereof
WO2013090516A1 (en) * 2011-12-16 2013-06-20 H.C. Starck Inc. Spray rejuvenation of sputtering targets
JP5958822B2 (ja) * 2011-12-22 2016-08-02 日立金属株式会社 Mo合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびMo合金スパッタリングターゲット材
CN102615288A (zh) * 2012-03-26 2012-08-01 宁波福沃德新材料科技有限公司 一种冷喷涂用球形金属钼颗粒的制备方法
EP3473748B1 (en) * 2012-04-04 2024-01-17 Commonwealth Scientific and Industrial Research Organisation A process for producing a titanium load-bearing structure
US9334565B2 (en) * 2012-05-09 2016-05-10 H.C. Starck Inc. Multi-block sputtering target with interface portions and associated methods and articles
US9335296B2 (en) 2012-10-10 2016-05-10 Westinghouse Electric Company Llc Systems and methods for steam generator tube analysis for detection of tube degradation
CN103060793A (zh) * 2013-02-01 2013-04-24 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材
JP6284004B2 (ja) * 2013-02-15 2018-02-28 日立金属株式会社 Mo合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびMo合金スパッタリングターゲット材
US20140315392A1 (en) * 2013-04-22 2014-10-23 Lam Research Corporation Cold spray barrier coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof
CN103215614B (zh) * 2013-04-27 2015-05-27 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种含冷喷涂钽中间层的金属氧化物阳极的制备方法
JP2016531203A (ja) 2013-08-01 2016-10-06 エイチ.シー. スターク インコーポレイテッド スパッタリングターゲットの部分的スプレー修復
RU2542196C1 (ru) * 2013-12-19 2015-02-20 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт машиноведения им. А.А. Благонравова Российской академии наук (ИМАШ РАН) Способ нанесения покрытия на стальную основу
RU2013158730A (ru) * 2013-12-27 2015-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный аэрокосмический университет имени академика С.П. Королева" (национальный исследовательский университет)" (СГАУ) Способ изготовления катодной мишени для распыления керамических материалов
FR3018081B1 (fr) * 2014-03-03 2020-04-17 Acerde Procede de reparation d'une anode pour l'emission de rayons x et anode reparee
EP3129176A1 (en) 2014-04-11 2017-02-15 H.C. Starck Inc. High purity refractory metal sputtering targets which have a uniform random texture manufactured by hot isostatic pressing high purity refractory metal powders
CN105895474A (zh) * 2014-05-06 2016-08-24 苏州艾默特材料技术有限公司 一种x射线管阳极靶的制备方法
JP6475829B2 (ja) * 2014-07-03 2019-02-27 プランゼー エスエー 層の製造方法
AT14346U1 (de) 2014-07-08 2015-09-15 Plansee Se Target und Verfahren zur Herstellung eines Targets
US10501827B2 (en) * 2014-09-29 2019-12-10 The United Statesd of America as represented by the Secretary of the Army Method to join dissimilar materials by the cold spray process
CZ306441B6 (cs) * 2014-12-05 2017-01-25 Safina, A.S. Způsob výroby kovového tělesa s homogenní, jemnozrnnou strukturou pomocí technologie Cold Spray, kovové těleso takto vyrobené, a způsob opravy použitých kovových odprášených těles
CN104805406B (zh) * 2015-04-17 2017-06-06 无锡舒玛天科新能源技术有限公司 铝钪旋转靶材及其制备方法
CN104894448B (zh) * 2015-06-10 2018-07-06 深圳市威勒科技股份有限公司 一种钒硅合金靶材及其制备方法
CN104894449A (zh) * 2015-06-10 2015-09-09 深圳市威勒达科技开发有限公司 一种钒钼合金靶材及其制备方法
JP6919814B2 (ja) * 2015-07-27 2021-08-18 日立金属株式会社 ポリシリコンtftのゲート電極形成用ターゲット材
WO2017164301A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 Jx金属株式会社 Ti-Ta合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
FR3062324B1 (fr) * 2017-01-30 2019-03-22 Safran Aircraft Engines Procede de fabrication de pieces realisees en metallurgie des poudres comportant l’application d'un revetement
US11935662B2 (en) 2019-07-02 2024-03-19 Westinghouse Electric Company Llc Elongate SiC fuel elements
CA3151605C (en) 2019-09-19 2023-04-11 Westinghouse Electric Company Llc Apparatus for performing in-situ adhesion test of cold spray deposits and method of employing
CN110983277A (zh) * 2019-12-30 2020-04-10 广州市尤特新材料有限公司 一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法
CN111118460B (zh) * 2020-01-10 2022-06-03 广州市尤特新材料有限公司 一种旋转钛靶及其制备方法
CN111235536B (zh) * 2020-03-17 2021-11-12 贵研铂业股份有限公司 一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材及其制备方法
WO2023028693A1 (en) * 2021-09-03 2023-03-09 Concordia University Method and system for cold deposition of powdered materials on a substrate
CN114196925A (zh) * 2021-12-13 2022-03-18 广东省科学院新材料研究所 一种含稀土金属的铜镍合金靶材、其制备方法及应用
CN114686740B (zh) * 2022-04-02 2022-10-04 太原理工大学 一种高温抗磨钼合金涂层及其制备方法

Family Cites Families (121)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3990784A (en) 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
US4011981A (en) 1975-03-27 1977-03-15 Olin Corporation Process for bonding titanium, tantalum, and alloys thereof
US4073427A (en) 1976-10-07 1978-02-14 Fansteel Inc. Lined equipment with triclad wall construction
US4140172A (en) 1976-12-23 1979-02-20 Fansteel Inc. Liners and tube supports for industrial and chemical process equipment
US4291104A (en) 1978-04-17 1981-09-22 Fansteel Inc. Brazed corrosion resistant lined equipment
US4202932A (en) 1978-07-21 1980-05-13 Xerox Corporation Magnetic recording medium
DE3130392C2 (de) 1981-07-31 1985-10-17 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur Herstellung reiner agglomerierter Ventilmetallpulver für Elektrolytkondensatoren, deren Verwendung und Verfahren zur Herstellung von Sinteranoden
US4459062A (en) 1981-09-11 1984-07-10 Monsanto Company Clad metal joint closure
CA1202599A (en) 1982-06-10 1986-04-01 Michael G. Down Upgrading titanium, zirconium and hafnium powders by plasma processing
DE3309891A1 (de) 1983-03-18 1984-10-31 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren
US4508563A (en) 1984-03-19 1985-04-02 Sprague Electric Company Reducing the oxygen content of tantalum
US4818629A (en) 1985-08-26 1989-04-04 Fansteel Inc. Joint construction for lined equipment
US4722756A (en) 1987-02-27 1988-02-02 Cabot Corp Method for deoxidizing tantalum material
US4915745A (en) 1988-09-22 1990-04-10 Atlantic Richfield Company Thin film solar cell and method of making
US5242481A (en) 1989-06-26 1993-09-07 Cabot Corporation Method of making powders and products of tantalum and niobium
US5147125A (en) 1989-08-24 1992-09-15 Viratec Thin Films, Inc. Multilayer anti-reflection coating using zinc oxide to provide ultraviolet blocking
US4964906A (en) 1989-09-26 1990-10-23 Fife James A Method for controlling the oxygen content of tantalum material
JP3031474B2 (ja) * 1989-12-26 2000-04-10 株式会社東芝 高純度タンタル材,タンタルターゲット,薄膜および半導体装置の製造方法
DE69016433T2 (de) 1990-05-19 1995-07-20 Papyrin Anatolij Nikiforovic Beschichtungsverfahren und -vorrichtung.
US5091244A (en) 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5270858A (en) 1990-10-11 1993-12-14 Viratec Thin Films Inc D.C. reactively sputtered antireflection coatings
US5612254A (en) 1992-06-29 1997-03-18 Intel Corporation Methods of forming an interconnect on a semiconductor substrate
US5693203A (en) 1992-09-29 1997-12-02 Japan Energy Corporation Sputtering target assembly having solid-phase bonded interface
US5305946A (en) 1992-11-05 1994-04-26 Nooter Corporation Welding process for clad metals
US5679473A (en) 1993-04-01 1997-10-21 Asahi Komag Co., Ltd. Magnetic recording medium and method for its production
JPH06346232A (ja) * 1993-06-11 1994-12-20 Asahi Glass Co Ltd スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法
US5466355A (en) * 1993-07-15 1995-11-14 Japan Energy Corporation Mosaic target
US6103392A (en) 1994-12-22 2000-08-15 Osram Sylvania Inc. Tungsten-copper composite powder
US5795626A (en) 1995-04-28 1998-08-18 Innovative Technology Inc. Coating or ablation applicator with a debris recovery attachment
US5993513A (en) 1996-04-05 1999-11-30 Cabot Corporation Method for controlling the oxygen content in valve metal materials
US5954856A (en) 1996-04-25 1999-09-21 Cabot Corporation Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom
US5859654A (en) 1996-10-31 1999-01-12 Hewlett-Packard Company Print head for ink-jet printing a method for making print heads
AU6495398A (en) 1997-02-19 1998-09-09 H.C. Starck Gmbh & Co. Kg Tantalum powder, method for producing same powder and sintered anodes obtained from it
US5972065A (en) 1997-07-10 1999-10-26 The Regents Of The University Of California Purification of tantalum by plasma arc melting
EP1034566A1 (en) 1997-11-26 2000-09-13 Applied Materials, Inc. Damage-free sculptured coating deposition
US6911124B2 (en) 1998-09-24 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Method of depositing a TaN seed layer
JPH11269639A (ja) * 1998-03-24 1999-10-05 Sumitomo Metal Mining Co Ltd スパッタリングターゲットの再生方法
US6171363B1 (en) 1998-05-06 2001-01-09 H. C. Starck, Inc. Method for producing tantallum/niobium metal powders by the reduction of their oxides with gaseous magnesium
US6189663B1 (en) 1998-06-08 2001-02-20 General Motors Corporation Spray coatings for suspension damper rods
DE19847012A1 (de) 1998-10-13 2000-04-20 Starck H C Gmbh Co Kg Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung
FR2785897B1 (fr) 1998-11-16 2000-12-08 Commissariat Energie Atomique Couche mince d'oxyde d'hafnium et procede de depot
US6328927B1 (en) 1998-12-24 2001-12-11 Praxair Technology, Inc. Method of making high-density, high-purity tungsten sputter targets
US6197082B1 (en) 1999-02-17 2001-03-06 H.C. Starck, Inc. Refining of tantalum and tantalum scrap with carbon
US6558447B1 (en) 1999-05-05 2003-05-06 H.C. Starck, Inc. Metal powders produced by the reduction of the oxides with gaseous magnesium
US6139913A (en) 1999-06-29 2000-10-31 National Center For Manufacturing Sciences Kinetic spray coating method and apparatus
JP2001020065A (ja) 1999-07-07 2001-01-23 Hitachi Metals Ltd スパッタリング用ターゲット及びその製造方法ならびに高融点金属粉末材料
US6261337B1 (en) 1999-08-19 2001-07-17 Prabhat Kumar Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy
US6521173B2 (en) 1999-08-19 2003-02-18 H.C. Starck, Inc. Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy
JP2001085378A (ja) 1999-09-13 2001-03-30 Sony Corp 半導体装置およびその製造方法
US6258402B1 (en) 1999-10-12 2001-07-10 Nakhleh Hussary Method for repairing spray-formed steel tooling
JP2001131767A (ja) * 1999-11-09 2001-05-15 Takuo Hashiguchi 金属皮膜形成方法
RU2166421C1 (ru) 1999-12-06 2001-05-10 Государственный космический научно-производственный центр им. М.В. Хруничева Способ восстановления изделий
TW570987B (en) * 1999-12-28 2004-01-11 Toshiba Corp Components for vacuum deposition apparatus and vacuum deposition apparatus therewith, and target apparatus
US6331233B1 (en) 2000-02-02 2001-12-18 Honeywell International Inc. Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture
US7122069B2 (en) 2000-03-29 2006-10-17 Osram Sylvania Inc. Mo-Cu composite powder
US6502767B2 (en) 2000-05-03 2003-01-07 Asb Industries Advanced cold spray system
US20030023132A1 (en) 2000-05-31 2003-01-30 Melvin David B. Cyclic device for restructuring heart chamber geometry
JP2001347672A (ja) 2000-06-07 2001-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録ヘッドの製造方法ならびにインクジェットプリンタ
JP2004523881A (ja) 2000-09-27 2004-08-05 ニューピーツー・インコーポレイテッド 半導体デバイスの製造
US6498091B1 (en) 2000-11-01 2002-12-24 Applied Materials, Inc. Method of using a barrier sputter reactor to remove an underlying barrier layer
US6669782B1 (en) 2000-11-15 2003-12-30 Randhir P. S. Thakur Method and apparatus to control the formation of layers useful in integrated circuits
US6491208B2 (en) 2000-12-05 2002-12-10 Siemens Westinghouse Power Corporation Cold spray repair process
CN2454045Y (zh) * 2000-12-08 2001-10-17 大连理工大学 超音速冷喷涂装置
US6444259B1 (en) 2001-01-30 2002-09-03 Siemens Westinghouse Power Corporation Thermal barrier coating applied with cold spray technique
CN1221684C (zh) 2001-02-14 2005-10-05 H·C·施塔克公司 高熔点金属制品的再生
US7794554B2 (en) 2001-02-14 2010-09-14 H.C. Starck Inc. Rejuvenation of refractory metal products
KR100966682B1 (ko) 2001-02-20 2010-06-29 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 균일한 조직을 갖는 내화성 금속판 및 이 금속판의 제작방법
US6915964B2 (en) * 2001-04-24 2005-07-12 Innovative Technology, Inc. System and process for solid-state deposition and consolidation of high velocity powder particles using thermal plastic deformation
US6722584B2 (en) 2001-05-02 2004-04-20 Asb Industries, Inc. Cold spray system nozzle
US7053294B2 (en) 2001-07-13 2006-05-30 Midwest Research Institute Thin-film solar cell fabricated on a flexible metallic substrate
US7175802B2 (en) * 2001-09-17 2007-02-13 Heraeus, Inc. Refurbishing spent sputtering targets
US6770154B2 (en) 2001-09-18 2004-08-03 Praxair S.T. Technology, Inc. Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target
US7081148B2 (en) 2001-09-18 2006-07-25 Praxair S.T. Technology, Inc. Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target
US6861101B1 (en) 2002-01-08 2005-03-01 Flame Spray Industries, Inc. Plasma spray method for applying a coating utilizing particle kinetics
US6986471B1 (en) 2002-01-08 2006-01-17 Flame Spray Industries, Inc. Rotary plasma spray method and apparatus for applying a coating utilizing particle kinetics
RS65004A (en) 2002-01-24 2006-10-27 H.C. Starck Inc. Refractory metal and alloy refining by laser forming and melting
US6627814B1 (en) 2002-03-22 2003-09-30 David H. Stark Hermetically sealed micro-device package with window
BE1014736A5 (fr) 2002-03-29 2004-03-02 Alloys For Technical Applic S Procede de fabrication et de recharge de cibles pour pulverisation cathodique.
US6896933B2 (en) 2002-04-05 2005-05-24 Delphi Technologies, Inc. Method of maintaining a non-obstructed interior opening in kinetic spray nozzles
JP3898082B2 (ja) * 2002-04-12 2007-03-28 株式会社東芝 複合金属の製造方法及び複合金属部材
US20030219542A1 (en) 2002-05-25 2003-11-27 Ewasyshyn Frank J. Method of forming dense coatings by powder spraying
DE10224777A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-18 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen
DE10224780A1 (de) 2002-06-04 2003-12-18 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen
US6759085B2 (en) 2002-06-17 2004-07-06 Sulzer Metco (Us) Inc. Method and apparatus for low pressure cold spraying
US7128988B2 (en) 2002-08-29 2006-10-31 Lambeth Systems Magnetic material structures, devices and methods
JP4883546B2 (ja) 2002-09-20 2012-02-22 Jx日鉱日石金属株式会社 タンタルスパッタリングターゲットの製造方法
US7108893B2 (en) 2002-09-23 2006-09-19 Delphi Technologies, Inc. Spray system with combined kinetic spray and thermal spray ability
US20040065546A1 (en) 2002-10-04 2004-04-08 Michaluk Christopher A. Method to recover spent components of a sputter target
CA2444917A1 (en) 2002-10-18 2004-04-18 United Technologies Corporation Cold sprayed copper for rocket engine applications
US6749002B2 (en) 2002-10-21 2004-06-15 Ford Motor Company Method of spray joining articles
DE10253794B4 (de) 2002-11-19 2005-03-17 Hühne, Erwin Dieter Niedertemperatur Hochgeschwindigkeits-Flammspritzsystem
TW571342B (en) 2002-12-18 2004-01-11 Au Optronics Corp Method of forming a thin film transistor
TWI341337B (en) * 2003-01-07 2011-05-01 Cabot Corp Powder metallurgy sputtering targets and methods of producing same
DE60313222T2 (de) * 2003-02-20 2008-01-03 N.V. Bekaert S.A. Verfahren zur herstellung eines zerstäubungstargets
JP4637819B2 (ja) * 2003-02-24 2011-02-23 テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド スパッタリングターゲットを製造するための方法および装置
JP4422975B2 (ja) * 2003-04-03 2010-03-03 株式会社コベルコ科研 スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP4008388B2 (ja) 2003-06-30 2007-11-14 シャープ株式会社 半導体キャリア用フィルムおよびそれを用いた半導体装置、液晶モジュール
US7170915B2 (en) 2003-07-23 2007-01-30 Intel Corporation Anti-reflective (AR) coating for high index gain media
US7208230B2 (en) 2003-08-29 2007-04-24 General Electric Company Optical reflector for reducing radiation heat transfer to hot engine parts
US7128948B2 (en) 2003-10-20 2006-10-31 The Boeing Company Sprayed preforms for forming structural members
WO2005073418A1 (ja) 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Tungsten Co., Ltd. タングステン系焼結体およびその製造方法
US6905728B1 (en) 2004-03-22 2005-06-14 Honeywell International, Inc. Cold gas-dynamic spray repair on gas turbine engine components
US20050220995A1 (en) * 2004-04-06 2005-10-06 Yiping Hu Cold gas-dynamic spraying of wear resistant alloys on turbine blades
US20060021870A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-02 Applied Materials, Inc. Profile detection and refurbishment of deposition targets
US20060045785A1 (en) * 2004-08-30 2006-03-02 Yiping Hu Method for repairing titanium alloy components
US20060042728A1 (en) 2004-08-31 2006-03-02 Brad Lemon Molybdenum sputtering targets
US20060090593A1 (en) 2004-11-03 2006-05-04 Junhai Liu Cold spray formation of thin metal coatings
US20060121187A1 (en) 2004-12-03 2006-06-08 Haynes Jeffrey D Vacuum cold spray process
US7479299B2 (en) * 2005-01-26 2009-01-20 Honeywell International Inc. Methods of forming high strength coatings
US7399335B2 (en) 2005-03-22 2008-07-15 H.C. Starck Inc. Method of preparing primary refractory metal
JP4904341B2 (ja) 2005-05-05 2012-03-28 ハー.ツェー.スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング スパッタターゲット及びx線アノードを製造又は再処理するための被覆方法
US20060251872A1 (en) 2005-05-05 2006-11-09 Wang Jenn Y Conductive barrier layer, especially an alloy of ruthenium and tantalum and sputter deposition thereof
CA2606478C (en) 2005-05-05 2013-10-08 H.C. Starck Gmbh Method for coating a substrate surface and coated product
US7837929B2 (en) * 2005-10-20 2010-11-23 H.C. Starck Inc. Methods of making molybdenum titanium sputtering plates and targets
US20080078268A1 (en) 2006-10-03 2008-04-03 H.C. Starck Inc. Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof
MX2009004773A (es) 2006-11-07 2009-05-21 Starck H C Gmbh Metodo para revestir una superficie de sustrato y producto revestido.
US20080145688A1 (en) 2006-12-13 2008-06-19 H.C. Starck Inc. Method of joining tantalum clade steel structures
US8784729B2 (en) 2007-01-16 2014-07-22 H.C. Starck Inc. High density refractory metals and alloys sputtering targets
US8197894B2 (en) 2007-05-04 2012-06-12 H.C. Starck Gmbh Methods of forming sputtering targets
US8246903B2 (en) 2008-09-09 2012-08-21 H.C. Starck Inc. Dynamic dehydriding of refractory metal powders
US8043655B2 (en) 2008-10-06 2011-10-25 H.C. Starck, Inc. Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes

Also Published As

Publication number Publication date
TW200710244A (en) 2007-03-16
AU2006243448A1 (en) 2006-11-09
WO2006117145A2 (en) 2006-11-09
CN101368262A (zh) 2009-02-18
MX2007013601A (es) 2008-03-18
JP2008540823A (ja) 2008-11-20
CA2607091A1 (en) 2006-11-09
US7910051B2 (en) 2011-03-22
CN101287857B (zh) 2011-07-13
IL186909A0 (en) 2008-02-09
WO2006117145A3 (en) 2007-01-11
US20080216602A1 (en) 2008-09-11
KR20080006624A (ko) 2008-01-16
HK1123830A1 (en) 2009-06-26
KR101342823B1 (ko) 2013-12-17
BRPI0611451A2 (pt) 2010-09-08
CA2607091C (en) 2014-08-12
CN101368262B (zh) 2012-06-06
EP1880036A2 (en) 2008-01-23
NO20076128L (no) 2008-01-29
JP4904341B2 (ja) 2012-03-28
AU2006243448B2 (en) 2011-09-01
RU2007144640A (ru) 2009-06-10
CN101287857A (zh) 2008-10-15
TWI403598B (zh) 2013-08-01
ZA200709470B (en) 2009-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2418886C2 (ru) Способ нанесения покрытий для изготовления или восстановления мишеней распыления и анодов рентгеновских трубок
EP2104753B1 (en) Method for coating a substrate and coated product
US8802191B2 (en) Method for coating a substrate surface and coated product
JP2000266055A (ja) 耐蝕耐摩耗性摺動部材およびその製造方法
JP2000239068A (ja) 耐プラズマ性材料及び部品

Legal Events

Date Code Title Description
TK4A Correction to the publication in the bulletin (patent)

Free format text: AMENDMENT TO CHAPTER -FG4A- IN JOURNAL: 14-2011

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20181210