CZ2007356A3 - Zpusob výroby naprašovacích targetu - Google Patents

Zpusob výroby naprašovacích targetu Download PDF

Info

Publication number
CZ2007356A3
CZ2007356A3 CZ20070356A CZ2007356A CZ2007356A3 CZ 2007356 A3 CZ2007356 A3 CZ 2007356A3 CZ 20070356 A CZ20070356 A CZ 20070356A CZ 2007356 A CZ2007356 A CZ 2007356A CZ 2007356 A3 CZ2007356 A3 CZ 2007356A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
target
powder
powdered
targets
metal
Prior art date
Application number
CZ20070356A
Other languages
English (en)
Inventor
Bouša@Martin
Kondás@Ján
Jirku@David
Huml@Jirí
Novotný@Jindrich
Original Assignee
Safina, A. S.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Safina, A. S. filed Critical Safina, A. S.
Priority to CZ20070356A priority Critical patent/CZ2007356A3/cs
Priority to PCT/CZ2008/000054 priority patent/WO2008141593A1/en
Publication of CZ2007356A3 publication Critical patent/CZ2007356A3/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04Impact or kinetic deposition of particles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

Zpusob výroby trubkových a planárních naprašovacích targetu spocívá v depozici kovových prášku, jejich smesí s oxidy kovu a oxidu kovu metodou studeného nástriku - ,,cold dynamic spray". Po vytvorenípožadované vrstvy nástriku a opracování povrchu na požadované rozmery vzniká výrobek vhodný pro použití v naprašovacích zarízeních pro tvorbu funkcních a dekorativních vrstev v sklárském, strojírenském, automobilovém a elektrotechnickém prumyslu.

Description

Způsob výroby naprašovacích targetů
Oblast techniky
Vynález se týká technologie na výrobu naprašovacích targetů (sputtering targets) metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“.
Dosavadní stav techniky
Naprašovací targety jsou používány zejména pro nanášení metalických nebo oxidických vrstev při výrobě velkoplošného skla, ve strojírenském a automobilovém průmyslu k tvorbě ochranných, dekorativních nebo funkčních vrstev a při výrobě pokročilých elektrotechnických součástek.
V současnosti se naprašovací targety vyrábějí klasickými metalurgickými postupy a to buď práškovou metalurgií tak, jak je uvedeno v dokumentu US20070086909, kdy se target vyrábí sintrováním výchozího práškového kovu metodou izostatického lisování za tepla - „hot isostatic pressing“, dále tavením s následným odléváním do příslušné formy a tvářením, tepelným nástřikem plazmou, elektrickým obloukem čí plamenem nebo extruzí. Cílem těchto technologií je vždy dosáhnout co nejvíce homogenní a jemnozmné struktury. Metalografická velikost zm je přitom jedním z rozhodujících parametrů funkčnosti targetů a nesmí přesáhnout 100 mikrometrů. V zásadě platí, že čím menší má target zrno, tím kvalitnější povlaky jím lze následně naprášit a zároveň tím. větší životností a využitelnosti target dosahuje, což má zásadní ekonomický a kvalitativní vliv pro uživatele těchto targetů.
Ze stavu techniky je známo, že pro dosažení požadované finální mikrostruktury naprašovacích targetů klasickými technologiemi je nutné po odlití nebo zformování targetů provádět rekrystalizační žíhání spojené s mechanickou deformací targetů. Dále je u těchto technologií nutné, že po výrobě se většinou musí připevnit na podkladovou desku buď pájením, lepením nebo mechanickou montáží.
Trubkové nebo ploché intermetalické naprašovací targety vyráběné práškovou metalurgii se po kompaktaci lisováním musí slinovat za zvýšených teplot a většinou v inertní atmosféře, přičemž hustota takto vyrobeného targetů dosahuje maximálně 85 % teoretické hustoty materiálu.
Trubkové nebo ploché naprašovací targety vyráběné tepelným nástřikem pomocí plazmového, obloukového nebo plamenného hořáku se přímo nanášejí na nosnou- trubku nebo desku a po nástřiku tepelně opracovávají z důvodu eliminace pnutí vzniklých v nastříkaném materiálů a mezi nastříkaným a podkladovým materiálem. Tato technika pak vede k růstu zma takto vyrobeného produktu a navíc opět praktická hustota targetů dosahuje maximálně 90 % teoretické hustoty.
Podstata vynálezu
Výše uvedené nedostatky odstraňuje podstata tohoto vynálezu, kterou je způsob výroby naprašovacích targetů metodou studeného nástřiku „cold dynamic spray“, který spočívá i i » I u u tlít , lili I I
]. I I, f
I i t r l
Ll l « t v akceleraci práškových kovů, jejich slitin, směsí s jinými kovy a oxidy kovů nebo přímo oxidy kovů (keramickými materiály) na rychlost převyšující 500m/s a zajišťující tak dostatečnou plastickou deformaci a spojení prachových částic při dopadu na substrát. Zároveň tato technologie umožňuje renovaci použitých targetů doplněním odprášené vrstvy, a tak jejich bezproblémovou recyklaci a znovuvyužití.
Metoda (technika) studeného nástřiku -„cold dynamic spray“ využívá schopnosti částic se při dopadu na podložní materiál plasticky deformovat, a v důsledku toho i spojovat při překročení kritické rychlosti, která obvykle činí 500 m/s. Za účelem dosažení supersonických rychlostí částic byly vyvinuty vysokotlaká zařízení, umožňující orientovaný tok částic. Nosným, tj. akceleračním plynem bývá obvykle helium, dusík nebo vzduch a velkou výhodou této nové technologie na rozdíl od tepelných nástřiků vrstev je, že depozice probíhá za nízkých teplot do asi 600 °C podle typu stříkaného materiálu, čímž ve vznikající vrstvě nevzniká mechanické pnutí.
Cílem vynálezu je konkrétně způsob výroby trubkových nebo planámích naprašovacích targetů (sputtering targets) pomocí nástřiku prášků kovů nebo směsí prášků kovů na podkladový materiál metodou studeného nástřiku - „cold dynámic spray“.
Kovem je podle vynálezu míněn jakýkoliv prvek z periodické tabulky prvků vykazující kovové vlastnosti.
Dalším výhodným provedením vynálezu je, že práškovým materiálem jsou slitinové prášky kovů, přičemž kovem může být jakýkoliv kov tvořící slitiny.
J
Konkrétním dalším výhodným provedením vynálezu je, že práškovým materiálem jsou směsi čistých práškových kovů nebo slitinové prášky kovů s práškovými oxidy kovů.
V ještě dalším výhodném provedení jsou práškovým materiálem směsi práškových oxidů kovů a jejich směsi.
Oxidy kovu jsou ve smyslu vynálezu míněny sloučeniny jakéhokoliv prvku z periodické tabulky prvků vykazující kovové vlastnosti s kyslíkem.
Způsob podle výnálezu zahrnuje nástřik práškových materiálů, kdy rychlost jednotlivých částic prášku dosahuje rychlostí 500 - 1500 m/s, s výhodou 600 - 1000 m/s pomocí proudu plynů, kterými jsou helim (He), dusík (N2) nebo vzduch, přičemž se prášek s vysokou kinetickou energií při nárazu na podkladový materiál, tj. trubku v případě trubkových naprašovacích targetů nebo plochou formu v případě planámích naprašovacích targetů, plasticky deformuje, spojuje a vytváří vrstvu požadované tloušťky.
Podkladovým materiálem (nosičem) může být ocel, keramika, sklo, plast nebo papír.
Tímto způsobem lze vyrábět naprašovací targety s libovolnou tloušťkou vrstvy naprašovaného materiálu od tloušťky vrstvy 5 mikrometrů až po neomezenou tloušťku, typicky do 100 až 300 mm, přičemž odpadá nutnost mechanického tváření a tepelného zpracování za účelem dosažení požadované struktury targetů) Mezi opěrnou deskou a targetem nastříkaným podle tohoto vynálezu nevznikají žádná mechanická pnutí a vytváří se jemnozmná struktura, kterou lze velmi jednoduše řídit volbou vhodné granulometrie stříkaného prášku.
► t
I » 1
·. i t t i ( i ii ♦ t
I I t « I i * I » '· f I ( t i> ► i r i
I < » i t II.
Oproti tepelným nástřikům je obrovskou výhodou metody studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ pro výrobu naprašovacích targetů, že vzniká kompaktní homogenní vrstva, bez vnitřního mechanického pnutí, čímž vylučuje následné žíhání, a tím významně šetří náklady na výrobu a zvyšuje kvalitu takto vyrobeného targetu, jemné krystalické struktury dané volbou velikosti zrn prášků a dosahující 99% hustoty ve srovnání s teoretickou hustotou nastříkávaného materiálu a s porozitou menší než 0,5 % objemu targetu.
Další výhodou naprašovacích targetů pomocí metody studeného nástřiku -_„cold dynamic .. spray“ je uniformí jemnozmná a izotropní struktura, což zajišťuje oproti ostatním technikám výroby stejné vlastnosti targetu ve všech jeho částech a tyto vlastnosti lze snadno řídit volbou vhodných parametrů stříkaného prášku.
Dle vynálezu bylo dále zjištěno, že metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ lze dosáhnout požadovaných strukturních parametrů přímo při tvorbě základního tvaru targetu, čímž odpadají nákladné operace mechanického tváření a žíhání. Zároveň metoda studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ umožňuje zkrácení výrobních časů o 30 %.
Velkou výhodou uvedené metody studeného nástřiku - „cold spray“ je to, že zcela vylučuje výše uvedené operace připevnění targetu na podkladovou desku, protože tvorba targetu probíhá přímo na základovou desku, kdy target je spojen s podkladovou deskou pomocí plastické deformace dopadajících částic materiálu targetu.
Dalším přínosem vynálezu je, že metoda studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ umožňuje výrobu, na rozdíl od uvedeného stavu techniky, intermetalických targetů s hustotou minimálně 99 % teoretické hustoty daného materiálu, což má opět pozitivní vliv na kvalitu naprašovaného povlaku a životnost targetu.
Příklady provedení
Záměrem následujících příkladů je ilustrovat podrobněji předmět vynálezu, přičemž uvedené příklady nejsou žádným způsobem omezující a rozsah vynálezu je vymezen patentovými nároky.
Příklad č.l
K výrobě trubkového targetu bylo použito 25 000 g stříbrného prášku o ryzosti 99,99 % s velikostí zm v rozsahu 1 až 32 mikrometrů získaného sítováním vstupující suroviny. Jako podkladový materiál byla použita ocelová trubka o průměru 115 mm z materiálu AISI316L otryskaná korundovým práškem. V průběhu osmi hodin byl metodou studeného nástřiku „cold dynamic spray“ vytvořen stříbrný target, tj. stříbrná vrstva na podkladové ocelové trubce o rovnoměrné tloušťce 22 mm. Následně byl z části targetu proveden metalurgický výbrus (Obr.l) ze kterého vyplývá, že zrnitost targetu je menší než 32 mikrometrů, přičemž porozita byla menší než 0,05 %. Target byl následně odprašován a bylo provedeno vyhodnocení se srovnávacím stříbrným targetem vyrobeným odléváním s následným tvářením a tepelným opracováním. Životnost targetu vyrobeného metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ byla o 16 % vyšší.
Příklad č.2
i. ť »
I I i t i ► t« t»
K výrobě planámího targetu bylo použito 20 000 g prášku zinkové slitiny s obsahem 2 % hliníku o ryzosti 99,99 % s velikostí zrn v rozsahu 1 až 32 mikrometrů získané sítováním vstupující suroviny. Jako podkladový materiál byla použita ocelová podložní deska z materiálu AISI316L otryskaná korundovým práškem a opatřená grafitovým separačním nátěrem. V průběhu pěti hodin byl metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ vytvořen Zn target s obsahem hliníku 2 %, tj. ZnA12 vrstva na podkladové ocelové desce o rovnoměrné tloušťce lOmm. Porozita targetu byla menší než 0,25 %. Target byl následně odprašován a bylo provedeno vyhodnocení se srovnávacím ZnA12 targetem vyrobeným , plazmovým nástřikem s tepelným opracováním. Životnost targetu vyrobeného metodou metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ byla o 10 % vyšší.
i
Příklad č.3
K výrobě trubkového targetu bylo použito 9 300 g niklového prášku o ryzosti 99,99 % s velikostí zm v rozsahu 1 až 80 mikrometrů a 700 g vanadového prášku o ryzosti 99,99 % s velikostí zm v rozsahu 1 až 32 mikrometrů získaného sítováním vstupující suroviny. Jako podkladový materiál byla použita ocelová deska o rozměru 100 mm x 300 m z materiálu AISI316L otryskaná korundovým práškem. V průběhu čtyřech hodin byl metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ vytvořen Ni target s obsahem vanadu 7 %, tj. NiV7 vrstva na podkladové ocelové desce o rovnoměrné tloušťce 38,7 mm. Porozita targetu byla menší než 0,30 %. Target byl následně odprašován a bylo provedeno vyhodnocení se srovnávacím ZnA12 targetem vyrobeným plazmovým nástřikem s tepelným opracováním. Životnost targetu vyrobeného metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ byla o 12% vyšší.
Příklad č.4
K výrobě trubkového targetu bylo použito 15 000 g T1O2 prášku o ryzosti 99,99 % s velikostí zm v rozsahu 1 až 32 mikrometrů a 750 g Ti prášku o ryzosti 99,99 % s velikostí zm v rozsahu 1 až 32 mikrometrů. Jako podkladový materiál byla použita ocelová trubka o průměru 115 mm z materiálu AISI316L otryskaná korundovým práškem. V průběhu šesti hodin byl metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ vytvořen TiOi,9 target, tj. T1O2 + Ti vrstva na podkladové ocelové trubce o rovnoměrné tlouštce 20 mm. Porozita byla menší než 0,25 %. Target byl následně odprašován a bylo provedeno vyhodnocení se srovnávacím ΤίΟι,ο targetem vyrobeným plazmovým nástřikem a následovním tepelným opracováním. Životnost targetu vyrobeného metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ byla o 14 % vyšší.
I í Průmyslová využitelnost
Naprašovací targety vyrobené metodou studeného nástřiku - „cold dynamic spray“ podle tohoto vynálezu mohou nahradit naprašovací targety vyráběné klasickými technologiemi.

Claims (10)

  1. PAT Ε Ν Τ Ο V É- Ν Á R O K Υ
    1. Způsob výroby naprašovacích targetů, zejména trubkových nebo planámích naprašovacích targetů, vyznačující se tím, že zahrnuje depozici práškových materiálů metodou studeného nástřiku - cold dynamic spray.
  2. 2. Způsob výroby podle nároku 1, vyznačující se tím, žepráškovým materiálem je čistý práškový kov nebo směs čistých práškových kovů..
    1 β· ♦
  3. 3. Způsob výroby podle nároku 1, vyznačující se tím, že práškovým materiálem jsou slitinové prášky kovů.
  4. 4. Způsob výroby podle nároku 1, vyznačující se tím, že práškovým materiálem jsou směsi čistých práškových kovů nebo slitinové prášky kovů s práškovými oxidy kovů.
  5. 5. Způsob výroby podle nároku 1, vyznačující se tím, že práškovým materiálem jsou práškové oxidy kovů a jejich směsi.
  6. 6. Způsob podle kteréhokoliv z předchozích nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že velikost zm nanášeného práškového materiálu je v rozsahu od 1 do 100 mikrometrů.
  7. 7. Způsob podle kteréhokoliv z předchozích nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že rychlost jednotlivých částic práškového materiálu je 500 až 1500 m/s, s výhodou 600 až 1000 m/s.
  8. 8. Způsob podle kteréhokoliv z předchozích nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že depozice práškových materiálů probíhá při teplotě do asi 600 °C.
  9. 9. Způsob podlé kteréhokoliv z předchozích nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že tloušťka vrstvy naprašovaného práškového materiálu je nejméně 5 mikrometrů.
  10. 10. Způsob podle kteréhokoliv z předchozích nároků 1 až 9, vyznačující se tím, že porozita výsledného targetu je nižší než 0,5 % celkového objemu targetu.
CZ20070356A 2007-05-22 2007-05-22 Zpusob výroby naprašovacích targetu CZ2007356A3 (cs)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ20070356A CZ2007356A3 (cs) 2007-05-22 2007-05-22 Zpusob výroby naprašovacích targetu
PCT/CZ2008/000054 WO2008141593A1 (en) 2007-05-22 2008-05-13 Method for production of sputtering targets

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CZ20070356A CZ2007356A3 (cs) 2007-05-22 2007-05-22 Zpusob výroby naprašovacích targetu

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CZ2007356A3 true CZ2007356A3 (cs) 2008-12-03

Family

ID=39712139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ20070356A CZ2007356A3 (cs) 2007-05-22 2007-05-22 Zpusob výroby naprašovacích targetu

Country Status (2)

Country Link
CZ (1) CZ2007356A3 (cs)
WO (1) WO2008141593A1 (cs)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ306441B6 (cs) * 2014-12-05 2017-01-25 Safina, A.S. Způsob výroby kovového tělesa s homogenní, jemnozrnnou strukturou pomocí technologie Cold Spray, kovové těleso takto vyrobené, a způsob opravy použitých kovových odprášených těles

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103930591A (zh) * 2011-10-14 2014-07-16 株式会社爱发科 靶组合件及其制造方法
CN103060793A (zh) * 2013-02-01 2013-04-24 基迈克材料科技(苏州)有限公司 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材
CN104817277B (zh) * 2015-04-21 2017-04-19 福建省诺希科技园发展有限公司 一种采用银复合靶材制备防辐射玻璃的方法及其制品
CN114231918A (zh) * 2021-12-31 2022-03-25 东莞市精研粉体科技有限公司 一种大尺寸平面金属靶材的制备方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1203210C (zh) * 2003-04-25 2005-05-25 西安交通大学 一种陶瓷涂层的制备方法
CA2607091C (en) * 2005-05-05 2014-08-12 H.C. Starck Gmbh Coating process for manufacture or reprocessing of sputter targets and x-ray anodes

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ306441B6 (cs) * 2014-12-05 2017-01-25 Safina, A.S. Způsob výroby kovového tělesa s homogenní, jemnozrnnou strukturou pomocí technologie Cold Spray, kovové těleso takto vyrobené, a způsob opravy použitých kovových odprášených těles

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008141593A1 (en) 2008-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2104753B1 (en) Method for coating a substrate and coated product
Novoselova et al. Formation of TiAl intermetallics by heat treatment of cold-sprayed precursor deposits
WO2013042635A1 (ja) 積層体及び積層体の製造方法
JPH0688175A (ja) 耐摩耗性及び耐食性を有する非晶質合金ベース金属仕上げ物及びその製造方法
RU2439198C2 (ru) Способ получения износостойкого композиционного наноструктурированного покрытия
WO2013054521A1 (ja) ターゲットアセンブリ及びその製造方法
CZ2007356A3 (cs) Zpusob výroby naprašovacích targetu
US4562090A (en) Method for improving the density, strength and bonding of coatings
CN105908047B (zh) 一种钛铝硅钽合金材料及其制备方法
CN113122837A (zh) 一种基于冷喷涂工艺的AgCuTiX合金箔带钎料及其制备方法
CN101545087B (zh) 微复合Fe-Al/Al2O3陶瓷涂层及其制备方法
CN106119663B (zh) 水泥回转窑上过渡带内表面用合金粉体、制备及其涂层
WO2014073633A1 (ja) コールドスプレー用粉末およびこれを用いたスパッタリングターゲットの製造方法
JP2988281B2 (ja) 溶射用セラミックス・金属複合粉末及び溶射被膜の形成方法
RU2421844C1 (ru) Способ изготовления композиционного катода
JPH0913177A (ja) サーメット肉盛り金属部品及びその製造方法
JP4119667B2 (ja) 複合サーメット粉末およびその製造方法
JPH093618A (ja) TiB2系コーティングの製造方法及びこうして製造されたコーティング物品
Tomochika et al. Fabrication of NiTi intermetallic compound by a reactive gas laser atomization process
KR101922805B1 (ko) 박리방지를 위한 용사코팅층 제조방법 및 이를 이용한 용사코팅층
Sammaiah et al. Effect of heat treatment & machining process for deposition of Al2O3 nano particles on steel
CZ2006324A3 (cs) Optický prvek pro promenné dopravní znacky, informacní tabule, výstražné blikace a podobne
CN111763938A (zh) 高硬度材料涂层结构及其制备方法
Roh et al. Direct energy Deposition of Mo powDer prepareD by electroDe inDuction Melting gas atoMization
JPH09268361A (ja) 硼化物系サーメット溶射用粉末