CN110983277A - 一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法 - Google Patents

一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，包括以下步骤：(1)提供圆柱状或者管状金属材料作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理；(2)提供平均粒径D50为10～80μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末，所述稀土金属粉末为镝、铽或者镨中的一种，所述稀土合金粉末为镝和铽的合金，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm，所述稀土合金粉末的氧含量低于1500ppm；(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层。本发明方法制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，大幅度降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。

Description

一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复 方法
技术领域
本发明属于靶材制备领域，具体涉及一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法。
背景技术
为了提高钕铁硼(NdFeB)永磁材料的矫顽力，目前常使用的方法是采用重稀土元素靶材通过磁控溅射镀膜方式溅射到钕铁硼永磁材料表面形成覆盖层，经高位晶界扩散将稀土元素扩散至磁体内部以达到提高磁体矫顽力，现有的稀土靶材主要以平面靶为主，平面靶的利用率只有30％～35％，稀土元素使用量大，导致钕铁硼永磁材料的生产成本高，而且现有的靶材对钕铁硼永磁材料的矫顽力的改善效果还有待提高。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法。
为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供圆柱状或者管状金属材料作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理；
(2)提供平均粒径D50为10～80μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末，所述稀土金属粉末为镝(Dy)、铽(Tb)或者镨(Pr)中的一种，所述稀土合金粉末为镝和铽的合金，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm，所述稀土合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层。
上述方法制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，大幅度降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。
优选地，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中的主气压力为2～8Mpa，送粉气压力为2～10Mpa，主气加热温度为100～1000℃，喷涂距离为10～80mm。
发明人经过研究发现，上述方法的特定的冷喷涂过程中的喷涂参数进一步提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，进一步降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。
优选地，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以130～180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10～20mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
发明人经过研究发现，上述方法的特定的冷喷涂过程中的喷涂参数进一步提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，进一步降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。
优选地，所述步骤(2)中，提供平均粒径D50为60～75μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末。
发明人经过研究发现，上述方法使用平均粒径D50为60～75μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末制备用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材，进一步提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，进一步降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。
优选地，所述步骤(3)中，主气加热温度为900～1000℃。
优选地，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中保持靶材基管以150～180r/min的转速旋转，冷喷涂过程中主气压力为6～7Mpa，喷涂层的厚度为8～15mm；
所述步骤(1)中，喷砂处理的喷砂压力为0.2～0.6Mpa，靶材基管为不锈钢管。
发明人经过研究发现，上述方法的特定的冷喷涂过程中的喷涂参数进一步提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，进一步降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。
本发明还提供一种上述任一所述方法制备得到的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材。
本发明还提供一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的修复方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供使用过的圆柱状或者管状旋转稀土残靶作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂处理的喷砂压力为0.2～0.6Mpa；
(2)提供平均粒径D50为10～80μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末，所述稀土金属粉末为镝、铽或者镨中的一种，所述稀土合金粉末为镝和铽的合金，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm，所述稀土合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层。
上述方法可以利用使用过的稀土靶材残靶进行回收再利用，在使用后的残靶表面经过处理，在残靶基础上进行修复加工成完整的靶材，进一步节约了生产成本。
优选地，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中的主气压力为2～8Mpa，送粉气压力为2～10Mpa，主气加热温度为100～1000℃，喷涂距离为10～80mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以130～180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10～20mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
优选地，所述步骤(2)中，提供平均粒径D50为60～75μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末；
所述步骤(3)中，主气加热温度为900～1000℃，冷喷涂过程中保持靶材基管以150～180r/min的转速旋转，冷喷涂过程中主气压力为6～7Mpa。
本发明的有益效果在于：本发明提供了一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材及制备方法和修复方法，本发明方法制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材提高了稀土元素制备旋转稀土靶材过程中沉积至靶材的稀土元素的利用率，大幅度降低了生产成本，提高了钕铁硼永磁材料的矫顽力。本发明用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法简单，制备得到的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的密度远高于热喷涂技术，氧含量远低于热喷涂技术，良率高，易于规模化生产。本发明用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法相对于浇铸成型的靶材而言具有晶粒尺寸小，加工余量低，设备能耗低，生产成本低，不必要准备大量模具。
具体实施方式
为更好的说明本发明的目的、技术方案和优点，下面将结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.35Mpa；
(2)提供平均粒径D50为25μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为4.5Mpa，送粉气压力为5.2Mpa，主气加热温度为300℃，喷涂距离为30mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以130r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，密度94.3％，氧含量1350ppm，靶材表面有凹坑，稀土元素利用率为30％。
实施例2
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为30μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为5Mpa，送粉气压力为5.5Mpa，主气加热温度为450℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以150r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为18mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，密度96.5％，氧含量1100ppm，靶材表面有小凹坑，稀土元素利用率为38％。
实施例3
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为45μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为5.5Mpa，送粉气压力为5.5Mpa，主气加热温度为780℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以150r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为20mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量880ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为43％。
实施例4
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为45μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为4.8Mpa，送粉气压力为5.2Mpa，主气加热温度为810℃，喷涂距离为30mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为18mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量900ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为48％。
实施例5
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为55μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为5.5Mpa，送粉气压力为5.8Mpa，主气加热温度为900℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量780ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为55％。
实施例6
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.5Mpa；
(2)提供平均粒径D50为75μm的铽金属粉末，所述铽金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为6.5Mpa，送粉气压力为5Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量730ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为60％。
实施例7
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为55μm的镝铽合金粉末，所述镝铽合金粉末中镝元素的重量百分比为50％，所述镝铽合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述镝铽合金粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为6Mpa，送粉气压力为6.3Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为18mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量730ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为68％。
实施例8
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为75μm的镝铽合金粉末，所述镝铽合金粉末中镝元素的重量百分比为30％，所述镝铽合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述镝铽合金粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为6Mpa，送粉气压力为6.3Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为18mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量690ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为73％。
实施例9
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供304不锈钢钢管作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂压力0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为75μm的镝铽合金粉末，所述镝铽合金粉末中镝元素的重量百分比为10％，所述镝铽合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述镝铽合金粉末在所述靶材基管表面形成10mm厚的喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为7Mpa，送粉气压力为7.3Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为18mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量670ppm，靶材表面无凹坑，稀土元素利用率为75％。
实施例10
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的修复方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供使用过的管状旋转铽元素残靶作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂处理的喷砂压力为0.4Mpa；
(2)提供平均粒径D50为75μm的铽金属粉末，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为7Mpa，送粉气压力为7Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例方法修复后的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量730ppm，修复区域靶材表面平整，无凹坑。
实施例11
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的修复方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供使用过的管状旋转镝元素残靶作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂处理的喷砂压力为0.3Mpa；
(2)提供平均粒径D50为65μm的镝金属粉末，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为6.6Mpa，送粉气压力为7Mpa，主气加热温度为950℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为15mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量760ppm，修复区域靶材表面平整，无凹坑。
实施例12
作为本发明实施例的一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的修复方法，所述方法包括以下步骤：
(1)提供使用过的管状旋转镝铽合金残靶作为靶材基管，镝铽合金中镝元素的重量比为15％，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂处理的喷砂压力为0.3Mpa；
(2)提供平均粒径D50为75μm的镝铽合金粉末，镝铽合金中镝元素的重量比为15％，所述镝铽合金中粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层，冷喷涂过程中的主气压力为7Mpa，送粉气压力为7Mpa，主气加热温度为980℃，喷涂距离为20mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
本实施例制备的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的喷涂层厚度10mm，氧含量680ppm，修复区域靶材表面平整，无凹坑。
最后所应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
(1)提供圆柱状或者管状金属材料作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理；
(2)提供平均粒径D50为10～80μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末，所述稀土金属粉末为镝、铽或者镨中的一种，所述稀土合金粉末为镝和铽的合金，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm，所述稀土合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中的主气压力为2～8Mpa，送粉气压力为2～10Mpa，主气加热温度为100～1000℃，喷涂距离为10～80mm。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以130～180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10～20mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，提供平均粒径D50为60～75μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，主气加热温度为900～1000℃。
6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中保持靶材基管以150～180r/min的转速旋转，冷喷涂过程中主气压力为6～7Mpa，喷涂层的厚度为8～15mm；
所述步骤(1)中，喷砂处理的喷砂压力为0.2～0.6Mpa，靶材基管为不锈钢管。
7.一种如权利要求1-6任一所述方法制备得到的用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材。
8.一种用于钕铁硼永磁材料的旋转稀土靶材的修复方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
(1)提供使用过的圆柱状或者管状旋转稀土残靶作为靶材基管，并对所述靶材基管表面进行喷砂处理，喷砂处理的喷砂压力为0.2～0.6Mpa；
(2)提供平均粒径D50为10～80μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末，所述稀土金属粉末为镝、铽或者镨中的一种，所述稀土合金粉末为镝和铽的合金，所述稀土金属粉末的氧含量低于1500ppm，所述稀土合金粉末的氧含量低于1500ppm；
(3)通过冷喷涂将所述稀土金属粉末或者稀土合金粉末在所述靶材基管表面形成喷涂层。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，冷喷涂过程中的主气压力为2～8Mpa，送粉气压力为2～10Mpa，主气加热温度为100～1000℃，喷涂距离为10～80mm，冷喷涂过程中使用喷枪进行冷喷涂，所述喷枪的喷射方向与所述靶材基管的A切面垂直，所述A切面为喷枪的喷射方向所在的直线与所述靶材基管交点处的切面，冷喷涂过程中保持靶材基管以130～180r/min的转速旋转，所述喷枪的移动速度为10～20mm/s且喷枪的移动方向与所述靶材基管的轴平行。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，提供平均粒径D50为60～75μm的稀土金属粉末或者稀土合金粉末；
所述步骤(3)中，主气加热温度为900～1000℃，冷喷涂过程中保持靶材基管以150～180r/min的转速旋转，冷喷涂过程中主气压力为6～7Mpa。
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