RU2010119943A - Удаление посторонних металлов из неорганических силанов - Google Patents
Удаление посторонних металлов из неорганических силанов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010119943A RU2010119943A RU2010119943/05A RU2010119943A RU2010119943A RU 2010119943 A RU2010119943 A RU 2010119943A RU 2010119943/05 A RU2010119943/05 A RU 2010119943/05A RU 2010119943 A RU2010119943 A RU 2010119943A RU 2010119943 A RU2010119943 A RU 2010119943A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- foreign metal
- content
- foreign
- silanes
- silane
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
- C01B33/046—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10778—Purification
- C01B33/10784—Purification by adsorption
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/10—Inorganic adsorbents
- B01D2253/106—Silica or silicates
- B01D2253/108—Zeolites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
1. Способ обработки состава, содержащего неорганические силаны и по крайней мере один посторонний металл и/или включающего посторонний металл соединение, отличающийся тем, что состав вводят в контакт с не менее чем одним адсорбционным средством и получают состав, в котором снижено содержание постороннего металла и/или включающего посторонний металл соединения. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что неорганические силаны выбирают из галогенсиланов, гидридных галогенсиланов, гидридных органосиланов, гидридных силанов, из галогенсиланов, замещенных по крайней мере одним органическим остатком, и/или из гидридных галогенсиланов, замещенных по крайней мере одним органическим остатком, и/или из смесей этих силанов. ! 3. Способ по п.2, отличающийся тем, что галогеном является хлор. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что неорганические силаны представляют собой мономеры, димеры, олигомеры и/или полимеры. ! 5. Способ по п.1, отличающийся тем, что включающее посторонний металл соединение выбирают из галогенидов металлов, гидридов металлов, из замещенных органическими остатками галогенидов металлов и/или из замещенных органическими остатками гидридов металлов. ! 6. Способ по п.1, отличающийся тем, что температура кипения включающего посторонний металл соединения лежит в пределах ±20°С по отношению к температуре кипения неорганического силана при нормальном давлении. ! 7. Способ по п.1, отличающийся тем, что посторонний металл и/или включающее посторонний металл соединение представлены бором, алюминием, натрием, калием, литием, магнием, кальцием и/или железом. ! 8. Способ по п.1, отличающийся тем, что содержание постороннего м�
Claims (20)
1. Способ обработки состава, содержащего неорганические силаны и по крайней мере один посторонний металл и/или включающего посторонний металл соединение, отличающийся тем, что состав вводят в контакт с не менее чем одним адсорбционным средством и получают состав, в котором снижено содержание постороннего металла и/или включающего посторонний металл соединения.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что неорганические силаны выбирают из галогенсиланов, гидридных галогенсиланов, гидридных органосиланов, гидридных силанов, из галогенсиланов, замещенных по крайней мере одним органическим остатком, и/или из гидридных галогенсиланов, замещенных по крайней мере одним органическим остатком, и/или из смесей этих силанов.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что галогеном является хлор.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что неорганические силаны представляют собой мономеры, димеры, олигомеры и/или полимеры.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что включающее посторонний металл соединение выбирают из галогенидов металлов, гидридов металлов, из замещенных органическими остатками галогенидов металлов и/или из замещенных органическими остатками гидридов металлов.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что температура кипения включающего посторонний металл соединения лежит в пределах ±20°С по отношению к температуре кипения неорганического силана при нормальном давлении.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что посторонний металл и/или включающее посторонний металл соединение представлены бором, алюминием, натрием, калием, литием, магнием, кальцием и/или железом.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что содержание постороннего металла и/или включающего посторонний металл соединения снижается на 50-99 мас.%.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что содержание постороннего металла и/или содержание включающего посторонний металл соединения в каждом отдельном случае снижается до менее 100 мкг/кг.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что адсорбционное средство является гидрофильным и/или гидрофобным.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что адсорбционное средство выбирают из группы органических смол, активированных углей, силикатов и/или цеолитов.
12. Способ по п.1, отличающийся тем, что его реализуют в периодическом или в непрерывном режиме.
13. Способ по одному из пп.1-12, отличающийся тем, что по крайней мере один неорганический силан соответствует общей формуле I
где 1≤n≤5, 0≤a≤12, 0≤b≤12;
Х в силане в каждом отдельном случае независимо от других означает атом галогена и
R в силане в каждом отдельном случае независимо от других означает линейную, разветвленную и/или циклическую алкильную группу с числом атомов углерода от одного до шестнадцати или арильную группу.
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что неорганический силан, у которого n=1, Х означает атом хлора, 0≤a≤3, 0≤b≤3 и a+b≤3, соответствует общей формуле
R означает линейную, разветвленную и/или циклическую алкильную группу с числом атомов углерода от одного до шестнадцати или означает арильную группу.
15. Способ по п.13, отличающийся тем, что силан представляет собой моносилан, монохлорсилан, дихлорсилан, трихлорсилан, тетрахлорсилан, метилтрихлорсилан, диметилдихлорсилан и/или триметилхлорсилан.
16. Состав, содержащий по крайней мере один неорганический силан общей формулы I
где 1≤n≤5, 0≤a≤12, 0≤b≤12;
Х в силане в каждом отдельном случае независимо от других означает атом галогена и
R в силане в каждом отдельном случае независимо от других означает линейную, разветвленную и/или циклическую алкильную группу с числом атомов углерода от одного до шестнадцати или арильную группу, отличающийся тем, что содержание постороннего металла и/или содержание включающего посторонний металл соединения в каждом отдельном случае не превышает 100 мкг/кг.
17. Состав по п.16, отличающийся тем, что неорганический силан, у которого n=1, Х означает атом хлора, 0≤a≤3, 0≤b≤3 и a+b≤3, соответствует общей формуле
R означает линейную, разветвленную и/или циклическую алкильную группу с числом атомов углерода от одного до шестнадцати или означает арильную группу.
18. Состав по п.16 или 17, отличающийся тем, что содержание постороннего металла и/или содержание включающего посторонний металл соединения в каждом отдельном случае составляет менее 25 мкг/кг.
19. Применение органической смолы, активированного угля, силиката и/или цеолита для снижения содержания по крайней мере одного постороннего металла и/или по крайней мере одного включающего посторонний металл соединения на составах, содержащих неорганические силаны.
20. Применение по п.19 для снижения содержания по крайней мере одного постороннего металла и/или по крайней мере одного включающего посторонний металл соединения на составах, содержащих неорганические силаны по одному из пп.16-18.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007050199A DE102007050199A1 (de) | 2007-10-20 | 2007-10-20 | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
DE102007050199.6 | 2007-10-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010119943A true RU2010119943A (ru) | 2011-11-27 |
Family
ID=40032410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010119943/05A RU2010119943A (ru) | 2007-10-20 | 2008-08-20 | Удаление посторонних металлов из неорганических силанов |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100266489A1 (ru) |
EP (1) | EP2203384A1 (ru) |
JP (1) | JP2011500489A (ru) |
KR (1) | KR20100087106A (ru) |
CN (1) | CN101412513A (ru) |
BR (1) | BRPI0817668A2 (ru) |
CA (1) | CA2701771A1 (ru) |
DE (1) | DE102007050199A1 (ru) |
RU (1) | RU2010119943A (ru) |
WO (1) | WO2009049944A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2605126C1 (ru) * | 2014-06-05 | 2016-12-20 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный университет" (ФГБУ ВПО ВГУ) | Способ получения гидрофобизированного клиноптилолитового туфа |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
DE102005041137A1 (de) | 2005-08-30 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid |
DE102005046105B3 (de) * | 2005-09-27 | 2007-04-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Monosilan |
DE102006003464A1 (de) * | 2006-01-25 | 2007-07-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung |
DE102007007874A1 (de) * | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Silane |
DE102007059170A1 (de) * | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
DE102008002537A1 (de) * | 2008-06-19 | 2009-12-24 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfernung von Bor enthaltenden Verunreinigungen aus Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens |
JP5206185B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2013-06-12 | 東亞合成株式会社 | 高純度クロロポリシランの製造方法 |
DE102008054537A1 (de) * | 2008-12-11 | 2010-06-17 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus Siliciumverbindungen durch Adsorption und/oder Filtration |
DE102009027729A1 (de) | 2009-07-15 | 2011-01-27 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
DE102009027730A1 (de) * | 2009-07-15 | 2011-01-27 | Evonik Degussa Gmbh | Verahren und Verwendung von aminofunktionellen Harzen zur Dismutierung von Halogensilanen und zur Entfernung von Fremdmetallen |
KR101629061B1 (ko) * | 2009-08-27 | 2016-06-09 | 덴카 주식회사 | 클로로실란의 정제 방법 |
DE102009053804B3 (de) | 2009-11-18 | 2011-03-17 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hydridosilanen |
DE102010002342A1 (de) | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Verwendung der spezifischen Widerstandsmessung zur indirekten Bestimmung der Reinheit von Silanen und Germanen und ein entsprechendes Verfahren |
CN101913610B (zh) * | 2010-09-21 | 2012-07-25 | 乐山乐电天威硅业科技有限责任公司 | 去除三氯氢硅中硼杂质的方法 |
DE102011004058A1 (de) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Evonik Degussa Gmbh | Monochlorsilan, Verfahren und Vorrichtung zu dessen Herstellung |
WO2012167126A1 (en) | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Purdue Research Foundation | Ion generation using modified wetted porous materials |
CN102701217A (zh) * | 2012-06-19 | 2012-10-03 | 中国恩菲工程技术有限公司 | 一种二氯二氢硅除杂设备 |
CN102701216B (zh) * | 2012-06-19 | 2015-06-03 | 中国恩菲工程技术有限公司 | 一种二氯二氢硅除杂方法 |
JP6069167B2 (ja) * | 2013-10-23 | 2017-02-01 | 信越化学工業株式会社 | 多結晶シリコンの製造方法 |
CN103553058B (zh) * | 2013-11-11 | 2015-07-22 | 新特能源股份有限公司 | 一种高纯精制三氯氢硅的生产工艺 |
DE102014203810A1 (de) * | 2014-03-03 | 2015-09-03 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung reiner Octachlortrisilane und Decachlortetrasilane |
DE102014013250B4 (de) * | 2014-09-08 | 2021-11-25 | Christian Bauch | Verfahren zur Aufreinigung halogenierter Oligosilane |
DE102014220539A1 (de) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | Wacker Chemie Ag | Reinigung von Chlorsilanen mittels Destillation und Adsorption |
US9786478B2 (en) | 2014-12-05 | 2017-10-10 | Purdue Research Foundation | Zero voltage mass spectrometry probes and systems |
JP6948266B2 (ja) | 2015-02-06 | 2021-10-13 | パーデュー・リサーチ・ファウンデーションPurdue Research Foundation | プローブ、システム、カートリッジ、およびその使用方法 |
DE102016206090A1 (de) | 2016-04-12 | 2017-10-12 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Abtrennung von Aluminiumchlorid aus Silanen |
CN109553636B (zh) * | 2017-09-27 | 2021-03-09 | 湖北兴瑞硅材料有限公司 | 一种有机硅氧烷混合环体除杂的方法 |
CN109179426A (zh) * | 2018-11-19 | 2019-01-11 | 天津科技大学 | 一种反应精馏去除三氯氢硅中甲基二氯硅烷的装置和方法 |
CN109575065B (zh) * | 2018-12-25 | 2023-05-16 | 金宏气体股份有限公司 | 一种高纯正硅酸乙酯的生产方法及生产系统 |
WO2021034526A1 (en) * | 2019-08-22 | 2021-02-25 | Dow Silicones Corporation | Process for purifiying silicon compounds |
CN114247180B (zh) * | 2021-12-24 | 2023-07-04 | 亚洲硅业(青海)股份有限公司 | 一种含氧基团的活性炭在去除四氯化硅中的杂质的应用 |
CN116459788B (zh) * | 2022-01-11 | 2024-09-17 | 烟台万华电子材料有限公司 | 一种乙硅烷提纯剂及其制备方法和应用 |
CN116924415B (zh) * | 2023-06-26 | 2024-10-25 | 中化学华陆新材料有限公司 | 一种超高纯度石英砂的制备方法 |
Family Cites Families (69)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2877097A (en) * | 1958-05-06 | 1959-03-10 | Guenter A Wolff | Method of purification of silicon compounds |
DE2546957C3 (de) * | 1975-10-20 | 1980-10-23 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fuer Elektronik-Grundstoffe Mbh, 8263 Burghausen | Verfahren zur Reinigung von Halogensilanen |
IT1088820B (it) * | 1977-12-05 | 1985-06-10 | Smiel Spa | Processo di purificazione di clorosilani impiegabili nella preparazione di silicio per elettronica |
US4713230A (en) * | 1982-09-29 | 1987-12-15 | Dow Corning Corporation | Purification of chlorosilanes |
JPH0688772B2 (ja) * | 1985-02-27 | 1994-11-09 | 昭和電工株式会社 | ジクロロシランの精製法 |
US4786493A (en) * | 1985-11-22 | 1988-11-22 | Estee Lauder Inc. | Hair protection composition |
DE3711444A1 (de) * | 1987-04-04 | 1988-10-13 | Huels Troisdorf | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan |
DE3744211C1 (de) * | 1987-12-24 | 1989-04-13 | Huels Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Cyanopropylalkoxysilanen und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens |
DE3828549A1 (de) * | 1988-08-23 | 1990-03-08 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur entfernung von silanverbindungen aus silanhaltigen abgasen |
JP2570409B2 (ja) * | 1988-12-06 | 1997-01-08 | 三菱マテリアル株式会社 | クロロポリシランの精製方法 |
DE3908791A1 (de) * | 1989-03-17 | 1990-09-20 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von siliciumorganischen verbindungen |
DE4021869A1 (de) * | 1990-07-09 | 1992-01-16 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur verhinderung von verfaerbungen in vinylacetoxysilanen |
US5208359A (en) * | 1990-07-09 | 1993-05-04 | Huels Aktiengesellschaft | Process for the preparation of di-tert.butoxydiacetoxysilane |
DE4025866A1 (de) * | 1990-08-16 | 1992-02-20 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von mercaptosilanen |
US5445742A (en) | 1994-05-23 | 1995-08-29 | Dow Corning Corporation | Process for purifying halosilanes |
EP0702017B1 (de) * | 1994-09-14 | 2001-11-14 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen bzw. chloridfreien aminofunktionellen Organosilanen |
DE4434200C2 (de) * | 1994-09-24 | 2002-06-27 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 3-Acryloxypropylalkoxysilanen |
DE4435390C2 (de) * | 1994-10-04 | 2001-07-26 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Aminopropylalkoxysilanen in Gegenwart von geformten polymeren Rhodiumkomplex-Katalysatoren und deren Verwendung |
CA2161181A1 (en) * | 1994-10-25 | 1996-04-26 | Frank Kropfgans | Process for the preparation of 3-halo- and -pseudohaloalkylsilane esters |
DE4438032C2 (de) * | 1994-10-25 | 2001-09-27 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Hydrogenalkoxysilanen |
DE19516386A1 (de) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von an chlorfunktionellen Organosilanen armen bzw. freien aminofunktionellen Organosilanen |
DE19520737C2 (de) * | 1995-06-07 | 2003-04-24 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkylhydrogenchlorsilanen |
US6168652B1 (en) * | 1995-10-23 | 2001-01-02 | Dow Corning Corporation | Process for purifying halosilanes |
DE19632157A1 (de) * | 1996-08-09 | 1998-02-12 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von 3-Halogen-Propyl-Organosilanen |
JP3965734B2 (ja) * | 1997-09-11 | 2007-08-29 | 株式会社ニコン | 石英ガラスおよびその製造方法 |
DE19644561C2 (de) * | 1996-10-26 | 2003-10-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Fluoralkyl-Gruppen tragenden Silicium-organischen Verbindungen |
DE19649027A1 (de) * | 1996-11-27 | 1998-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von Organocarbonoyloxysilanen |
DE19649028A1 (de) * | 1996-11-27 | 1998-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Carbonoyloxysilanen |
DE19649023A1 (de) * | 1996-11-27 | 1998-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Entfernung von Restmengen an acidem Chlor in Carbonoyloxysilanen |
TW436500B (en) * | 1997-06-17 | 2001-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | N-[ω-(methyl),ω-(silyl)]alkyl-N-organocarboxamides, oligomeric and polycondensed Si-containing compounds thereof, processes for their preparation, and their use |
DE19746862A1 (de) * | 1997-10-23 | 1999-04-29 | Huels Chemische Werke Ag | Vorrichtung und Verfahren für Probenahme und IR-spektroskopische Analyse von hochreinen, hygroskopischen Flüssigkeiten |
DE19805083A1 (de) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Glycidyloxypropyltrialkoxysilanen |
DE19821156B4 (de) * | 1998-05-12 | 2006-04-06 | Degussa Ag | Verfahren zur Minderung von Resthalogengehalten und Farbzahlverbesserung in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen und die Verwendung von Aktivkohle dazu |
DE19837010A1 (de) * | 1998-08-14 | 2000-02-17 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Acetoxysilanen |
DE19847786A1 (de) * | 1998-10-16 | 2000-04-20 | Degussa | Vorrichtung und Verfahren zum Befüllen und Entleeren eines mit brennbarem sowie aggressivem Gas beaufschlagten Behälters |
DE19849196A1 (de) * | 1998-10-26 | 2000-04-27 | Degussa | Verfahren zur Neutralisation und Minderung von Resthalogengehalten in Alkoxysilanen oder Alkoxysilan-basierenden Zusammensetzungen |
EP0999215B1 (de) * | 1998-11-06 | 2004-07-28 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen |
EP0999214B1 (de) * | 1998-11-06 | 2004-12-08 | Degussa AG | Verfahren zur Herstellung von chloridarmen oder chloridfreien Alkoxysilanen |
DE19918115C2 (de) * | 1999-04-22 | 2002-01-03 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorsilanen |
DE19918114C2 (de) * | 1999-04-22 | 2002-01-03 | Degussa | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Vinylchlorsilanen |
DE19934576C2 (de) * | 1999-07-23 | 2003-12-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Epoxysilanen |
DE19954635A1 (de) * | 1999-11-13 | 2001-05-17 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen |
DE19963433A1 (de) * | 1999-12-28 | 2001-07-12 | Degussa | Verfahren zur Abscheidung von Chlorsilanen aus Gasströmen |
DE10057482A1 (de) * | 2000-11-20 | 2002-05-23 | Solarworld Ag | Verfahren zur Reinigung von Trichlorsilan |
DE10058620A1 (de) * | 2000-11-25 | 2002-05-29 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Aminoalkylsilanen |
DE10116007A1 (de) * | 2001-03-30 | 2002-10-02 | Degussa | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von im Wesentlichen halogenfreien Trialkoxysilanen |
DE10126669A1 (de) * | 2001-06-01 | 2002-12-05 | Degussa | Verfahren zur Spaltung von cyclischen Organosilanen bei der Herstellung von aminofunktionellen Organoalkoxysilanen |
EP1306381B1 (de) * | 2001-10-10 | 2012-09-12 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur Hydrosilylierung ungesättigter aliphatischer Verbindungen |
DE10243022A1 (de) * | 2002-09-17 | 2004-03-25 | Degussa Ag | Abscheidung eines Feststoffs durch thermische Zersetzung einer gasförmigen Substanz in einem Becherreaktor |
DE10330022A1 (de) * | 2003-07-03 | 2005-01-20 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Iow-k dielektrischen Filmen |
DE10357091A1 (de) * | 2003-12-06 | 2005-07-07 | Degussa Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Abscheidung feinster Partikel aus der Gasphase |
DE102004008442A1 (de) * | 2004-02-19 | 2005-09-15 | Degussa Ag | Siliciumverbindungen für die Erzeugung von SIO2-haltigen Isolierschichten auf Chips |
DE102004010055A1 (de) * | 2004-03-02 | 2005-09-22 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Silicium |
EP1761460A2 (en) * | 2004-03-19 | 2007-03-14 | Entegris, Inc. | Method and apparatus for purifying inorganic halides and oxyhalides using zeolites |
DE102004025766A1 (de) * | 2004-05-26 | 2005-12-22 | Degussa Ag | Herstellung von Organosilanestern |
DE102004027563A1 (de) * | 2004-06-04 | 2005-12-22 | Joint Solar Silicon Gmbh & Co. Kg | Silizium sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102004037675A1 (de) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid |
DE102004038718A1 (de) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Joint Solar Silicon Gmbh & Co. Kg | Reaktor sowie Verfahren zur Herstellung von Silizium |
DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
WO2006094714A1 (de) * | 2005-03-05 | 2006-09-14 | Joint Solar Silicon Gmbh & Co. Kg | Reaktor und verfahren zur herstellung von silizium |
DE102005041137A1 (de) * | 2005-08-30 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid |
DE102005046105B3 (de) * | 2005-09-27 | 2007-04-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Monosilan |
DE102006003464A1 (de) * | 2006-01-25 | 2007-07-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung |
DE102007023759A1 (de) * | 2006-08-10 | 2008-02-14 | Evonik Degussa Gmbh | Anlage und Verfahren zur kontinuierlichen industriellen Herstellung von Fluoralkylchlorsilan |
DE102007007874A1 (de) * | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Silane |
DE102007052325A1 (de) * | 2007-03-29 | 2009-05-07 | Erk Eckrohrkessel Gmbh | Verfahren zum gleitenden Temperieren chemischer Substanzen mit definierten Ein- und Ausgangstemperaturen in einem Erhitzer und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE102007048937A1 (de) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen |
DE102007059170A1 (de) * | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
DE102009053804B3 (de) * | 2009-11-18 | 2011-03-17 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hydridosilanen |
-
2007
- 2007-10-20 DE DE102007050199A patent/DE102007050199A1/de not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-08-20 KR KR1020107008471A patent/KR20100087106A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-08-20 CA CA2701771A patent/CA2701771A1/en not_active Abandoned
- 2008-08-20 US US12/738,246 patent/US20100266489A1/en not_active Abandoned
- 2008-08-20 EP EP08803098A patent/EP2203384A1/de not_active Ceased
- 2008-08-20 JP JP2010529312A patent/JP2011500489A/ja not_active Withdrawn
- 2008-08-20 RU RU2010119943/05A patent/RU2010119943A/ru unknown
- 2008-08-20 BR BRPI0817668 patent/BRPI0817668A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-08-20 WO PCT/EP2008/060863 patent/WO2009049944A1/de active Application Filing
- 2008-10-17 CN CNA2008101714446A patent/CN101412513A/zh active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2605126C1 (ru) * | 2014-06-05 | 2016-12-20 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный университет" (ФГБУ ВПО ВГУ) | Способ получения гидрофобизированного клиноптилолитового туфа |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101412513A (zh) | 2009-04-22 |
JP2011500489A (ja) | 2011-01-06 |
BRPI0817668A2 (pt) | 2015-03-31 |
WO2009049944A1 (de) | 2009-04-23 |
EP2203384A1 (de) | 2010-07-07 |
DE102007050199A1 (de) | 2009-04-23 |
CA2701771A1 (en) | 2009-04-23 |
KR20100087106A (ko) | 2010-08-03 |
US20100266489A1 (en) | 2010-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2010119943A (ru) | Удаление посторонних металлов из неорганических силанов | |
JP2012511529A5 (ru) | ||
JP5653427B2 (ja) | 無機シランからの異種金属の除去 | |
KR101037641B1 (ko) | 통합 클로로실란 시스템 내에서 고비점 화합물의 재순환 | |
JP5738289B2 (ja) | ハロゲンシランを不均化するため及び異種金属を除去するための方法及びアミノ官能性樹脂の使用 | |
JP5579078B2 (ja) | ハロゲンシラン中の元素、例えばホウ素の含分を低減させるための装置及び方法 | |
US9669400B2 (en) | Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin | |
JP2011514871A5 (ru) | ||
CN114258396B (zh) | 用于纯化硅化合物的方法 | |
JP2005067979A (ja) | クロロシラン類の精製方法 | |
KR20170027824A (ko) | 클로로실레인의 정제 방법 | |
JP7301998B2 (ja) | オルガノシランを変換する方法 | |
JP2000159779A (ja) | 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法 | |
JP2004250317A (ja) | クロロシラン類の精製方法 | |
EP0474394B1 (en) | Silane products from reaction of silicon monoxide with organic halides | |
KR102618387B1 (ko) | 할로실란 함유 조성물내 보론 화합물의 함량을 감소시키는 방법 | |
US5095131A (en) | Metal assisted alkylation of silica | |
JP6743326B1 (ja) | 精製クロロシラン類の製造方法 | |
KR20100098725A (ko) | 알킬 클로로실란의 직접 합성의 잔류물로부터의 알킬 클로로실란의 제조 방법 |