JP2000159779A - 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法 - Google Patents
濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の再分
配法を提供することである。 【構成】 その再分配法は、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣を、有効量の再分配触媒の存在下で１５０℃
〜５００℃の温度においてアルキルトリハロシラン及び
テトラハロシランから成る群から選択したハロシランと
接触させて、ジアルキルジハロシランから成る再分配生
成物を生成させる工程から成る。本法に存在する触媒の
少なくとも一部は、直接法及び得られるモノシランの単
離の実施中に現場で生成する。
配法を提供することである。 【構成】 その再分配法は、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣を、有効量の再分配触媒の存在下で１５０℃
〜５００℃の温度においてアルキルトリハロシラン及び
テトラハロシランから成る群から選択したハロシランと
接触させて、ジアルキルジハロシランから成る再分配生
成物を生成させる工程から成る。本法に存在する触媒の
少なくとも一部は、直接法及び得られるモノシランの単
離の実施中に現場で生成する。
Description
【０００１】
【産業の利用分野】本発明は、濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣の再分配法である。その再分配法は、濃ア
ルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分配触
媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハロシ
ランから成る群から選択したハロシランと接触させて、
ジアルキルジハロシランから成る再分配生成物を生成さ
せる工程から成る。該法の実施に必要な触媒の少なくと
も一部は、直接法の操作及び残渣の単離中に現場で生成
する。
レン含有残渣の再分配法である。その再分配法は、濃ア
ルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分配触
媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハロシ
ランから成る群から選択したハロシランと接触させて、
ジアルキルジハロシランから成る再分配生成物を生成さ
せる工程から成る。該法の実施に必要な触媒の少なくと
も一部は、直接法の操作及び残渣の単離中に現場で生成
する。
【０００２】
【従来の技術】その直接法によって製造されるアルキル
ハロシランは、複雑な混合物を生成する、その混合物は
典型的に蒸留して混合物に存在する他の成分からメチル
クロロシランを分離する。そのメチルクロロシランを混
合物から分離した後、残りはモノシラン、ジシラン及び
シルアルキレン副生物の留分である。８０℃以上で沸騰
するジシラン及びシルアルキレン留分は、以後「濃アル
キル・シルアルキレン含有残渣」と言う。直接法を行う
最近の工業的操作において、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣は、得られる生成物の５重量％ほどを構成で
きる。従って、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を
処理して、商的に望ましい生成物を生成することによっ
て廃棄副産物を減少しかつ原料の利用を改善することが
望ましい。
ハロシランは、複雑な混合物を生成する、その混合物は
典型的に蒸留して混合物に存在する他の成分からメチル
クロロシランを分離する。そのメチルクロロシランを混
合物から分離した後、残りはモノシラン、ジシラン及び
シルアルキレン副生物の留分である。８０℃以上で沸騰
するジシラン及びシルアルキレン留分は、以後「濃アル
キル・シルアルキレン含有残渣」と言う。直接法を行う
最近の工業的操作において、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣は、得られる生成物の５重量％ほどを構成で
きる。従って、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を
処理して、商的に望ましい生成物を生成することによっ
て廃棄副産物を減少しかつ原料の利用を改善することが
望ましい。
【０００３】「直接法」は、特許文献によく記載されて
いる。例えば、米国特許第２、３８９、９９５号及び第
２、４８８、４８７号に見られる。モノシラン頭上蒸留
後に残る高沸点留分は、高沸点シリコン含有化合物、例
えば、ＳｉＳｉ、ＳｉＯＳｉ及びＳｉＣＳｉ結合を分子
中に有する化合物から成る複雑な混合物である。その高
沸点留分は、微粒シリコン及び金属又はそれらの化合物
も含有する。直接法の蒸留生成物から得られる典型的な
高沸点留分は、米国特許第２、５９８、４３５号及び第
２、６８１、３５５号に記載されている。
いる。例えば、米国特許第２、３８９、９９５号及び第
２、４８８、４８７号に見られる。モノシラン頭上蒸留
後に残る高沸点留分は、高沸点シリコン含有化合物、例
えば、ＳｉＳｉ、ＳｉＯＳｉ及びＳｉＣＳｉ結合を分子
中に有する化合物から成る複雑な混合物である。その高
沸点留分は、微粒シリコン及び金属又はそれらの化合物
も含有する。直接法の蒸留生成物から得られる典型的な
高沸点留分は、米国特許第２、５９８、４３５号及び第
２、６８１、３５５号に記載されている。
【０００４】米国特許第２、６０６、８１１号は、ハロ
ゲン及びＳｉ−Ｓｉ結合を含む化合物を水素の存在下で
少なくとも３００℃に加熱する水素添加物を教示してい
る。得られる生成物はモノシランである。
ゲン及びＳｉ−Ｓｉ結合を含む化合物を水素の存在下で
少なくとも３００℃に加熱する水素添加物を教示してい
る。得られる生成物はモノシランである。
【０００５】米国特許第３、６３９、１０５号は、ジシ
ランと水素ガスを加圧下で接触させ、その混合体を木炭
上のパラジウムのような遷移金属触媒の存在下で加熱す
ることによってハロシランを生成する方法を記載してい
る。該特許は、ジシランは直接法の混合体の部分であっ
て、さらにそのジシランがメチルクロロジシランであっ
たときには、得られた生成物は４〜２８重量％のメチル
トリクロロシランを含有したと述べている。一般に、メ
チルトリクロロシランのようなオルガノトリハロシラン
は、商的有用性が限定されており、従ってこの方法の有
用性を制限している。
ランと水素ガスを加圧下で接触させ、その混合体を木炭
上のパラジウムのような遷移金属触媒の存在下で加熱す
ることによってハロシランを生成する方法を記載してい
る。該特許は、ジシランは直接法の混合体の部分であっ
て、さらにそのジシランがメチルクロロジシランであっ
たときには、得られた生成物は４〜２８重量％のメチル
トリクロロシランを含有したと述べている。一般に、メ
チルトリクロロシランのようなオルガノトリハロシラン
は、商的有用性が限定されており、従ってこの方法の有
用性を制限している。
【０００６】米国特許第４、０７９、０７１号は、メチ
ルクロロポリシランと水素ガスを加圧下、２５〜３５０
℃の温度で銅触媒の存在下で反応させることによって高
収率のハロシランを製造する方法を記載している。この
方法に使用されるメチルクロロポリシランは、直接法の
副産物そして典型的に生成されるものにすることができ
る。有用な触媒は有機リガンドをもった銅金属、銅塩
類、及び銅塩類の錯体を含む。場合によっては、２９重
量％までのメチルトリクロロシランが生成した。
ルクロロポリシランと水素ガスを加圧下、２５〜３５０
℃の温度で銅触媒の存在下で反応させることによって高
収率のハロシランを製造する方法を記載している。この
方法に使用されるメチルクロロポリシランは、直接法の
副産物そして典型的に生成されるものにすることができ
る。有用な触媒は有機リガンドをもった銅金属、銅塩
類、及び銅塩類の錯体を含む。場合によっては、２９重
量％までのメチルトリクロロシランが生成した。
【０００７】米国特許第４、３９３、２２９号は、アル
キルハロシランの製造から得られた残渣中の濃アルキル
・ジシランを濃ハロゲン・ポリシランに転化する方法を
記載している。その方法は、濃アルキル・ジシラン含有
残渣をアルキルトリハロシラン又は四ハロゲン化シリコ
ンと触媒及び触媒量のハロシラン反応促進剤の存在下、
高温で処理することから成る。三塩化アルミニウムは、
ハロシラン促進剤を使用したときこの方法に有用であ
る。さらに、得られる濃ハロゲンポリシランは、別の工
程において開裂させてモノシランを生成させることがで
きる。
キルハロシランの製造から得られた残渣中の濃アルキル
・ジシランを濃ハロゲン・ポリシランに転化する方法を
記載している。その方法は、濃アルキル・ジシラン含有
残渣をアルキルトリハロシラン又は四ハロゲン化シリコ
ンと触媒及び触媒量のハロシラン反応促進剤の存在下、
高温で処理することから成る。三塩化アルミニウムは、
ハロシラン促進剤を使用したときこの方法に有用であ
る。さらに、得られる濃ハロゲンポリシランは、別の工
程において開裂させてモノシランを生成させることがで
きる。
【０００８】米国特許第５、１７５、３２９号は、オル
ガノトリクロロシランの正味の消費をもたらす直接法か
ら得られる高沸点残渣からオルガノシランを製造する方
法を教示している。その方法において、高沸点残渣は、
水素添加触媒と再分配触媒の存在下でオルガノトリクロ
ロシランおよび水素ガスと接触される。
ガノトリクロロシランの正味の消費をもたらす直接法か
ら得られる高沸点残渣からオルガノシランを製造する方
法を教示している。その方法において、高沸点残渣は、
水素添加触媒と再分配触媒の存在下でオルガノトリクロ
ロシランおよび水素ガスと接触される。
【０００９】米国特許第５、４３０、１６８号は、直接
法から得られる高沸点残渣からモノシランを製造する方
法を記載している。その方法は、水素ガス及び触媒量の
三塩化アルミニウムの存在下でオルガノトリハロシラン
及び高沸点残渣から成る混合物を生成する工程から成
る。その方法は、オルガノトリハロシランの消費及び高
沸点残渣の有用なモノシランへの添加をもたらす。
法から得られる高沸点残渣からモノシランを製造する方
法を記載している。その方法は、水素ガス及び触媒量の
三塩化アルミニウムの存在下でオルガノトリハロシラン
及び高沸点残渣から成る混合物を生成する工程から成
る。その方法は、オルガノトリハロシランの消費及び高
沸点残渣の有用なモノシランへの添加をもたらす。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、メチルクロ
ロシランを製造する直接法から得られる濃アルキル・シ
ルアルキレン含有残渣の再分配法を提供する。我々は、
濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分
配触媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハ
ロシランから成る群から選択したハロシランと接触させ
ることによって、濃ハロゲンシルアルキレン及びさらに
価値のあるジアルキルジハロシランを含有する再分配生
成物が製造されることを発見した。本発明は、メチルク
ロロシランの製造から得られた濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣から価値のあるアルキル基の利用を改善
し、同時にそのハロシランを商的にさらに価値のあるジ
アルキルジハロシランに転化する方法を提供する。その
方法の実施に必要な触媒の少なくとも一部は、直接法の
操作中及び残渣の単離中に現場で生成する。
ロシランを製造する直接法から得られる濃アルキル・シ
ルアルキレン含有残渣の再分配法を提供する。我々は、
濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分
配触媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハ
ロシランから成る群から選択したハロシランと接触させ
ることによって、濃ハロゲンシルアルキレン及びさらに
価値のあるジアルキルジハロシランを含有する再分配生
成物が製造されることを発見した。本発明は、メチルク
ロロシランの製造から得られた濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣から価値のあるアルキル基の利用を改善
し、同時にそのハロシランを商的にさらに価値のあるジ
アルキルジハロシランに転化する方法を提供する。その
方法の実施に必要な触媒の少なくとも一部は、直接法の
操作中及び残渣の単離中に現場で生成する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、濃アルキル・
シルアルキレン含有残渣の再分配法である。その方法
は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の
再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度におい
てアルキルトリハロシラン及びテトラハロシランから成
る群から選択したハロシランと接触させて、ジアルキル
ジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程か
ら成る。
シルアルキレン含有残渣の再分配法である。その方法
は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の
再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度におい
てアルキルトリハロシラン及びテトラハロシランから成
る群から選択したハロシランと接触させて、ジアルキル
ジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程か
ら成る。
【００１２】本法は、ハロシランとの接触に適する標準
の加圧可能反応器で行われ、バッチ法又は連続法として
行う。その方法は、例えば、連続攪拌−タンク反応器、
バブル−カラム反応器、トリクルベッド反応器又は栓流
反応器で行われる。
の加圧可能反応器で行われ、バッチ法又は連続法として
行う。その方法は、例えば、連続攪拌−タンク反応器、
バブル−カラム反応器、トリクルベッド反応器又は栓流
反応器で行われる。
【００１３】本法における濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣は、塩化メチルとシリコン・メタロイドとの反
応及び残渣からのメチルクロロシランの蒸留から得られ
る残渣である。用語「濃アルキル・シルアルキレン」
は、アルキル基を有するがハロゲン原子を持たない又は
分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基より少な
いハロゲン原子を有するシルアルキレンを意味する。一
般に、シルアルキレンは、それが０〜２個のハロゲン原
子及び望ましくは３〜６個のアルキル基を有するときに
濃アルキル・アルキレンである。ここで使用する濃ハロ
ゲン・シルアルキレンは、ハロゲン原子を有するがアル
キル基を持たない又は分子のシリコン原子上で置換され
るハロゲン原子と同数又はそれより少ないアルキル基を
有するシルアルキレンである。一般に、濃ハロゲン・シ
ルアルキレンは、シルアルキレン分子上で置換される同
数のアルキル基及びハロゲン原子を有する又はシルアル
キレン分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基よ
り多い数のハロゲン原子を有する。一般に、濃ハロゲン
・シルアルキレンは、シルアルキレン分子のシリコン原
子上で置換された３〜６個のハロゲン原子及び望ましく
は０〜２個のアルキル基を有する。
含有残渣は、塩化メチルとシリコン・メタロイドとの反
応及び残渣からのメチルクロロシランの蒸留から得られ
る残渣である。用語「濃アルキル・シルアルキレン」
は、アルキル基を有するがハロゲン原子を持たない又は
分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基より少な
いハロゲン原子を有するシルアルキレンを意味する。一
般に、シルアルキレンは、それが０〜２個のハロゲン原
子及び望ましくは３〜６個のアルキル基を有するときに
濃アルキル・アルキレンである。ここで使用する濃ハロ
ゲン・シルアルキレンは、ハロゲン原子を有するがアル
キル基を持たない又は分子のシリコン原子上で置換され
るハロゲン原子と同数又はそれより少ないアルキル基を
有するシルアルキレンである。一般に、濃ハロゲン・シ
ルアルキレンは、シルアルキレン分子上で置換される同
数のアルキル基及びハロゲン原子を有する又はシルアル
キレン分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基よ
り多い数のハロゲン原子を有する。一般に、濃ハロゲン
・シルアルキレンは、シルアルキレン分子のシリコン原
子上で置換された３〜６個のハロゲン原子及び望ましく
は０〜２個のアルキル基を有する。
【００１４】濃アルキル・シルアルキレン残渣は、８０
℃以上の沸点を有する重合質のシリコン含有化合物から
成る。その重合質のシリコン含有化合物は、Ｍｅ２Ｃｌ
ＳｉＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ２，
ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ ２のようなジシラン、及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉ
ＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３及
びＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ ２ＳｉＣｌ２Ｍｅのようなシルメ
チレン、及びＭｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ
２，ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２，及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２のようなシ
ルエチレンを含む。濃アルキル・シルアルキレン残渣の
ような典型的な組成物は、式Ｓｉ２Ｑ６〔式中の各Ｑは
メチル及び塩素から独立に選択し、ジシランは分子当り
２〜４個のメチル置換基を含有する〕のジシラン５０〜
６０重量％；式Ｑ３ＳｉＣＨ２ＳｉＱ３〔式中の各Ｑは
前記の通り、シルメチレンは分子当り２〜４個のメチル
置換基を含有する〕で表されるシルメチレン１５〜２５
重量％；式Ｑ３（ＳｉＱ２）ａ（ＣＨ２）ｂ（Ｓｉ
Ｑ２）ｃＳｉＱ３〔式中の各Ｑは前記の通り、シルアル
キレンは分子当り２〜４個のメチル置換基を含有し、ａ
＝０〜４，ｂ＝１〜３，ｃ＝０〜４そしてａ＋ｂ＋ｃ＞
１〕で表されるシルアルキレン；他の高沸点シリコン含
有化合物５〜１５重量％；銅及び銅の化合物のような直
接法からの触媒残余；シリコン含有微粒物質；及び低レ
ベルのアルミニウム、カルシウム、鉄、及びそれらの化
合物を含む。例えば、塩化メチルとシリコンメタロイド
との反応から得られる濃アルキル・シリアルキレン含有
残渣の典型的な重量組成は、４重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳ
ｉＣｌＭｅ２，３１重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ
２，４６重量％ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ２、１重量
％Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，３重量％Ｍｅ
２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，７重量％ＭｅＣｌ２
ＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ及び９重量％触媒残渣、シリ
コン及び金属含有微粒物質である。
℃以上の沸点を有する重合質のシリコン含有化合物から
成る。その重合質のシリコン含有化合物は、Ｍｅ２Ｃｌ
ＳｉＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ２，
ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ ２のようなジシラン、及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉ
ＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３及
びＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ ２ＳｉＣｌ２Ｍｅのようなシルメ
チレン、及びＭｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ
２，ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２，及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２のようなシ
ルエチレンを含む。濃アルキル・シルアルキレン残渣の
ような典型的な組成物は、式Ｓｉ２Ｑ６〔式中の各Ｑは
メチル及び塩素から独立に選択し、ジシランは分子当り
２〜４個のメチル置換基を含有する〕のジシラン５０〜
６０重量％；式Ｑ３ＳｉＣＨ２ＳｉＱ３〔式中の各Ｑは
前記の通り、シルメチレンは分子当り２〜４個のメチル
置換基を含有する〕で表されるシルメチレン１５〜２５
重量％；式Ｑ３（ＳｉＱ２）ａ（ＣＨ２）ｂ（Ｓｉ
Ｑ２）ｃＳｉＱ３〔式中の各Ｑは前記の通り、シルアル
キレンは分子当り２〜４個のメチル置換基を含有し、ａ
＝０〜４，ｂ＝１〜３，ｃ＝０〜４そしてａ＋ｂ＋ｃ＞
１〕で表されるシルアルキレン；他の高沸点シリコン含
有化合物５〜１５重量％；銅及び銅の化合物のような直
接法からの触媒残余；シリコン含有微粒物質；及び低レ
ベルのアルミニウム、カルシウム、鉄、及びそれらの化
合物を含む。例えば、塩化メチルとシリコンメタロイド
との反応から得られる濃アルキル・シリアルキレン含有
残渣の典型的な重量組成は、４重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳ
ｉＣｌＭｅ２，３１重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ
２，４６重量％ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ２、１重量
％Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，３重量％Ｍｅ
２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，７重量％ＭｅＣｌ２
ＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ及び９重量％触媒残渣、シリ
コン及び金属含有微粒物質である。
【００１５】濃アルキル・シルアルキレン含有残渣又は
シルアルキレン部分は、アルキルトリハロシラン及びテ
トラハロシランから成る群から選んだハロシラン又はそ
れらの混合物と接触される。一般に、アルキルトリハロ
シラン反応物質は残渣における再分配反応を受けるシル
アルキレンと相溶性である、そしてそのシルアルキレン
が塩素化シルアルキレンである場合には、アルキルトリ
ハロシラン反応物質はアルキルトリクロロシランが望ま
しい。そのアルキルトリクロロシランは、炭素原子数が
１〜８の直鎖又は枝分れ鎖を有し、そのハロゲン原子が
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素及びそれらの混合体である
ものである。アルキルトリハロシランの例は、メチルト
リブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルト
リクロロシラン、エチルトリブロモシラン、エチルトリ
フルオロシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリ
ヨードシラン、ｎ−プロピルトリフルオロシラン、イソ
−プロピルトリクロロシラン、イソープロピルトリフル
オロシラン、イソ−プロピルトリブロモシラン及びｎ−
ブチルトリクロロシランを含む。望ましいアルキルトリ
ハロシランはメチルトリクロロシランである。好適なテ
トラハロシランは四塩化ケイ素である。別の実施態様に
おけるアルキルトリハロシランは、直接法の副産物とし
て生成されるアルキルトリハロシランであり、残渣の成
分として存在し、そのアルキルトリハロシランは、本発
明の方法における反応物質として直接使用される。
シルアルキレン部分は、アルキルトリハロシラン及びテ
トラハロシランから成る群から選んだハロシラン又はそ
れらの混合物と接触される。一般に、アルキルトリハロ
シラン反応物質は残渣における再分配反応を受けるシル
アルキレンと相溶性である、そしてそのシルアルキレン
が塩素化シルアルキレンである場合には、アルキルトリ
ハロシラン反応物質はアルキルトリクロロシランが望ま
しい。そのアルキルトリクロロシランは、炭素原子数が
１〜８の直鎖又は枝分れ鎖を有し、そのハロゲン原子が
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素及びそれらの混合体である
ものである。アルキルトリハロシランの例は、メチルト
リブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルト
リクロロシラン、エチルトリブロモシラン、エチルトリ
フルオロシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリ
ヨードシラン、ｎ−プロピルトリフルオロシラン、イソ
−プロピルトリクロロシラン、イソープロピルトリフル
オロシラン、イソ−プロピルトリブロモシラン及びｎ−
ブチルトリクロロシランを含む。望ましいアルキルトリ
ハロシランはメチルトリクロロシランである。好適なテ
トラハロシランは四塩化ケイ素である。別の実施態様に
おけるアルキルトリハロシランは、直接法の副産物とし
て生成されるアルキルトリハロシランであり、残渣の成
分として存在し、そのアルキルトリハロシランは、本発
明の方法における反応物質として直接使用される。
【００１６】本法に添加されるアルキルトリハロシラン
又はテトラハロシランは、濃アルキル・シルアルキレン
含有残鎖を濃ハロゲン・シルアルキレンに再分配するの
に必要な理論量であるが、一般に残渣におけるシルアル
キレンとの反応を実施するために過剰モルのアルキルト
リハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混合物
を使用することが望ましい。アルキルトリハロシラン又
はテトラハロシラン又はそれらの混合物は、本法の残渣
に存在するシルアルキレンの１モル当り０．５〜２５．
０モルで添加することが望ましい。
又はテトラハロシランは、濃アルキル・シルアルキレン
含有残鎖を濃ハロゲン・シルアルキレンに再分配するの
に必要な理論量であるが、一般に残渣におけるシルアル
キレンとの反応を実施するために過剰モルのアルキルト
リハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混合物
を使用することが望ましい。アルキルトリハロシラン又
はテトラハロシラン又はそれらの混合物は、本法の残渣
に存在するシルアルキレンの１モル当り０．５〜２５．
０モルで添加することが望ましい。
【００１７】本法に有用な触媒は、モノシラン分子上の
ハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基の再
分配を促進する触媒である。一般に、ルイス酸又は同等
のものが本法における触媒として使用される。本法に使
用される触媒の例は、四塩化ジルコニウム、三塩化アル
ミニウム、四塩化カリウムアルミニウム、塩化第一銅、
ホウ酸及び三塩化ホウ素である。本法に使用する望まし
い触媒は三塩化アルミニウム又は三塩化アルミニウムの
化合物である。
ハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基の再
分配を促進する触媒である。一般に、ルイス酸又は同等
のものが本法における触媒として使用される。本法に使
用される触媒の例は、四塩化ジルコニウム、三塩化アル
ミニウム、四塩化カリウムアルミニウム、塩化第一銅、
ホウ酸及び三塩化ホウ素である。本法に使用する望まし
い触媒は三塩化アルミニウム又は三塩化アルミニウムの
化合物である。
【００１８】本法に有用な触媒の量は、モノシラン分子
上のハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基
の再分配を促進するのに有効な量である。本法に有用な
望ましい触媒濃度は、残渣中のシルアルキレンとアルキ
ルトリハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混
合体の合計重量の０．０５〜１５重量％の範囲内、最適
には０．５〜１５重量％である。
上のハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基
の再分配を促進するのに有効な量である。本法に有用な
望ましい触媒濃度は、残渣中のシルアルキレンとアルキ
ルトリハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混
合体の合計重量の０．０５〜１５重量％の範囲内、最適
には０．５〜１５重量％である。
【００１９】その触媒は化合物としてプロセスに添加す
るか、又はかかる触媒又はそれらの前駆物質を含有する
材料の添加によって現場で生成される。好適なプロセス
において、その触媒が三塩化アルミニウム又は三塩化ア
ルミニウムの化合物である場合に、触媒の全て又は一部
は直接法の実施中に現場で生成される。三塩化アルミニ
ウム触媒の量は、添加した三塩化アルミニウムと、直接
法から単離される際に混合体に残る現場生成三塩化アル
ミニウムの合計である。
るか、又はかかる触媒又はそれらの前駆物質を含有する
材料の添加によって現場で生成される。好適なプロセス
において、その触媒が三塩化アルミニウム又は三塩化ア
ルミニウムの化合物である場合に、触媒の全て又は一部
は直接法の実施中に現場で生成される。三塩化アルミニ
ウム触媒の量は、添加した三塩化アルミニウムと、直接
法から単離される際に混合体に残る現場生成三塩化アル
ミニウムの合計である。
【００２０】本法は、１５０〜５００℃，望ましくは２
５０〜４００℃，最適には３２０〜３８０℃で実施され
る。
５０〜４００℃，最適には３２０〜３８０℃で実施され
る。
【００２１】本発明の別の実施態様において、濃アルキ
ル・シルアルキレン含有残渣における濃アルキル・シル
アルキレンは、蒸留によってジシランから分離される。
再分配は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有
効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度
においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロシラン
から選択したハロシランと接触させて、ジアルキルジハ
ロシランから成る再分配生成物を生成させることによっ
て行われる。
ル・シルアルキレン含有残渣における濃アルキル・シル
アルキレンは、蒸留によってジシランから分離される。
再分配は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有
効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度
においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロシラン
から選択したハロシランと接触させて、ジアルキルジハ
ロシランから成る再分配生成物を生成させることによっ
て行われる。
【００２２】本法から製造される望ましいジアルキルジ
ハロシランはジメチルジクロロシランである。そのジメ
チルジクロロシランは、液体混合物を分離する標準の方
法、例えば、蒸留によって濃ハロゲンシルアルキレンか
ら分離できる。
ハロシランはジメチルジクロロシランである。そのジメ
チルジクロロシランは、液体混合物を分離する標準の方
法、例えば、蒸留によって濃ハロゲンシルアルキレンか
ら分離できる。
【００２３】
【実施例】実施例１ 触媒として現場生成の三塩化アルミニウムの存在下でメ
チルトリクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器に
おいて評価した。７７ｇの濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣（ＡＲＳＲ）と１５５ｇのメチルトリクロロシ
ランの混合物が生成した。その混合物に存在する三塩化
アルミニウム約３重量％がモノシランの調製及び単離中
に現場で生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣の組成を表１に示す。その混合物（２１９ｇ）を
６００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）
に添加して、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の
内容物はコールド受容容器にベントした。反応器からの
２１０ｇの試料をガスクロマトグラフィーによって熱伝
導率検出器（ＧＣ−ＴＣＤ）を使用して分析した。ＡＲ
ＳＲの組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した
分析結果を表１に示す。
チルトリクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器に
おいて評価した。７７ｇの濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣（ＡＲＳＲ）と１５５ｇのメチルトリクロロシ
ランの混合物が生成した。その混合物に存在する三塩化
アルミニウム約３重量％がモノシランの調製及び単離中
に現場で生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣の組成を表１に示す。その混合物（２１９ｇ）を
６００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）
に添加して、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の
内容物はコールド受容容器にベントした。反応器からの
２１０ｇの試料をガスクロマトグラフィーによって熱伝
導率検出器（ＧＣ−ＴＣＤ）を使用して分析した。ＡＲ
ＳＲの組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した
分析結果を表１に示す。
【表１】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 1.5 ＭｅＳｉＣｌ３ 70 52 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 1.6 12 ＳｉＣｌ４ 0 0.5 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 4.3 0 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 5.7 10.5
【００２４】実施例２ 触媒として現場生成三塩化アルミニウムの存在下でテト
ラクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器において
評価した。１０４ｇの濃アルキル・シルアルキレン含有
残渣（ＡＲＳＲ）と１２７ｇのテトラクロロシランの混
合物が生成した。その混合物に存在する三塩化アルミニ
ウム約４重量％がモノシランの調製及び単離中に現場で
生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の
組成を表２に示す。その混合物（２１８ｇ）を６００ｍ
ｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加し
て、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の内容物は
コールド受容容器にベントした。反応器からの２００ｇ
の試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。ＡＲＳＲの
組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結
果を表２に示す。
ラクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器において
評価した。１０４ｇの濃アルキル・シルアルキレン含有
残渣（ＡＲＳＲ）と１２７ｇのテトラクロロシランの混
合物が生成した。その混合物に存在する三塩化アルミニ
ウム約４重量％がモノシランの調製及び単離中に現場で
生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の
組成を表２に示す。その混合物（２１８ｇ）を６００ｍ
ｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加し
て、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の内容物は
コールド受容容器にベントした。反応器からの２００ｇ
の試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。ＡＲＳＲの
組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結
果を表２に示す。
【表２】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＨＳｉＣｌ３ 0 3.4 ＭｅＳｉＣｌ３ 0 13 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 0 10 ＳｉＣｌ４ 55 45 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 0 0.2 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 4 0 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 5.5 8
【００２５】実施例３ 触媒として添加した三塩化アルミニウムの存在下でメチ
ルトリクロロシランでシルエチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。４
２ｇの１、１、４、４−テトラメチル−１、４−ジクロ
ロジシルエチレン（米国、ＰＡ，ブリストンに在るＵｎ
ｉｔｅｄ ＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ
から購入）と１０９ｇのメチルトリクロロシランの混合
物が生成した。その混合物（１４０ｇ）と７．５ｇの三
塩化アルミニウム約３重量％を６００ｍｌの攪拌反応器
（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加して、３５０℃に
１時間加熱した。次にその反応器の内容物はコールド受
容容器にベントした。反応器からの１４０ｇの試料をＧ
Ｃ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレンの組成、
初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結果を表
３に示す。
ルトリクロロシランでシルエチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。４
２ｇの１、１、４、４−テトラメチル−１、４−ジクロ
ロジシルエチレン（米国、ＰＡ，ブリストンに在るＵｎ
ｉｔｅｄ ＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ
から購入）と１０９ｇのメチルトリクロロシランの混合
物が生成した。その混合物（１４０ｇ）と７．５ｇの三
塩化アルミニウム約３重量％を６００ｍｌの攪拌反応器
（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加して、３５０℃に
１時間加熱した。次にその反応器の内容物はコールド受
容容器にベントした。反応器からの１４０ｇの試料をＧ
Ｃ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレンの組成、
初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結果を表
３に示す。
【表３】 シルエチレン化合物 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 2.4 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 0 0.8 ＭｅＳｉＣｌ３ 72 33 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 0 31.5 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２ 0 4 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 0 4 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅ２Ｃｌ 28 0
【００２６】実施例４ 触媒として添加した三塩化アルミニウムの存在下でメチ
ルトリクロロシランでシルメチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。５
１ｇのビス（トリメチルシシリル）メチレン（米国、Ｐ
Ａ，タリタウンに在るＧｅｌｅｓｔ社から購入）と１４
２ｇのメチルトリクロロシランの混合物が生成した。そ
の混合物（１８０ｇ）と８ｇの三塩化アルミニウムを６
００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に
添加して、３５０℃に１時間加熱水素ガス下２９００ｋ
Ｐａの圧力下で加熱した。次にその反応器の内容物はコ
ールド受容容器にベントした。反応器からの１８３ｇの
試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレン
の組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析
結果を表４に示す。
ルトリクロロシランでシルメチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。５
１ｇのビス（トリメチルシシリル）メチレン（米国、Ｐ
Ａ，タリタウンに在るＧｅｌｅｓｔ社から購入）と１４
２ｇのメチルトリクロロシランの混合物が生成した。そ
の混合物（１８０ｇ）と８ｇの三塩化アルミニウムを６
００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に
添加して、３５０℃に１時間加熱水素ガス下２９００ｋ
Ｐａの圧力下で加熱した。次にその反応器の内容物はコ
ールド受容容器にベントした。反応器からの１８３ｇの
試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレン
の組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析
結果を表４に示す。
【表４】 シルメチレン化合物 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） Ｍｅ２ＨＳｉＣｌ 0 0.4 ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 1.4 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 1 7 ＭｅＳｉＣｌ３ 74 7 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 1 46.6 Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３ 26 0 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ２Ｃｌ 0 1 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２ 0 7 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２ 0 6.5
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１２月１日（１９９９．１２．
１）
１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
におけるシルアルキレンの再分配法
におけるシルアルキレンの再分配法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業の利用分野】本発明は、濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣の再分配法である。その再分配法は、濃ア
ルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分配触
媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハロシ
ランから成る群から選択したハロシランと接触させて、
ジアルキルジハロシランから成る再分配生成物を生成さ
せる工程から成る。該法の実施に必要な触媒の少なくと
も一部は、直接法の操作及び残渣の単離中に現場で生成
する。
レン含有残渣の再分配法である。その再分配法は、濃ア
ルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分配触
媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハロシ
ランから成る群から選択したハロシランと接触させて、
ジアルキルジハロシランから成る再分配生成物を生成さ
せる工程から成る。該法の実施に必要な触媒の少なくと
も一部は、直接法の操作及び残渣の単離中に現場で生成
する。
【０００２】
【従来の技術】その直接法によって製造されるアルキル
ハロシランは、複雑な混合物を生成する、その混合物は
典型的に蒸留して混合物に存在する他の成分からメチル
クロロシランを分離する。そのメチルクロロシランを混
合物から分離した後、残りはモノシラン、ジシラン及び
シルアルキレン副生物の留分である。８０℃以上で沸騰
するジシラン及びシルアルキレン留分は、以後「濃アル
キル・シルアルキレン含有残渣」と言う。直接法を行う
最近の工業的操作において、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣は、得られる生成物の５重量％ほどを構成で
きる。従って、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を
処理して、商的に望ましい生成物を生成することによっ
て廃棄副産物を減少しかつ原料の利用を改善することが
望ましい。
ハロシランは、複雑な混合物を生成する、その混合物は
典型的に蒸留して混合物に存在する他の成分からメチル
クロロシランを分離する。そのメチルクロロシランを混
合物から分離した後、残りはモノシラン、ジシラン及び
シルアルキレン副生物の留分である。８０℃以上で沸騰
するジシラン及びシルアルキレン留分は、以後「濃アル
キル・シルアルキレン含有残渣」と言う。直接法を行う
最近の工業的操作において、濃アルキル・シルアルキレ
ン含有残渣は、得られる生成物の５重量％ほどを構成で
きる。従って、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を
処理して、商的に望ましい生成物を生成することによっ
て廃棄副産物を減少しかつ原料の利用を改善することが
望ましい。
【０００３】「直接法」は、特許文献によく記載されて
いる。例えば、米国特許第２、３８９、９９５号及び第
２、４８８、４８７号に見られる。モノシラン頭上蒸留
後に残る高沸点留分は、高沸点シリコン含有化合物、例
えば、ＳｉＳｉ、ＳｉＯＳｉ及びＳｉＣＳｉ結合を分子
中に有する化合物から成る複雑な混合物である。その高
沸点留分は、微粒シリコン及び金属又はそれらの化合物
も含有する。直接法の蒸留生成物から得られる典型的な
高沸点留分は、米国特許第２、５９８、４３５号及び第
２、６８１、３５５号に記載されている。
いる。例えば、米国特許第２、３８９、９９５号及び第
２、４８８、４８７号に見られる。モノシラン頭上蒸留
後に残る高沸点留分は、高沸点シリコン含有化合物、例
えば、ＳｉＳｉ、ＳｉＯＳｉ及びＳｉＣＳｉ結合を分子
中に有する化合物から成る複雑な混合物である。その高
沸点留分は、微粒シリコン及び金属又はそれらの化合物
も含有する。直接法の蒸留生成物から得られる典型的な
高沸点留分は、米国特許第２、５９８、４３５号及び第
２、６８１、３５５号に記載されている。
【０００４】米国特許第２、６０６、８１１号は、ハロ
ゲン及びＳｉ−Ｓｉ結合を含む化合物を水素の存在下で
少なくとも３００℃に加熱する水素添加物を教示してい
る。得られる生成物はモノシランである。
ゲン及びＳｉ−Ｓｉ結合を含む化合物を水素の存在下で
少なくとも３００℃に加熱する水素添加物を教示してい
る。得られる生成物はモノシランである。
【０００５】米国特許第３、６３９、１０５号は、ジシ
ランと水素ガスを加圧下で接触させ、その混合体を木炭
上のパラジウムのような遷移金属触媒の存在下で加熱す
ることによってハロシランを生成する方法を記載してい
る。該特許は、ジシランは直接法の混合体の部分であっ
て、さらにそのジシランがメチルクロロジシランであっ
たときには、得られた生成物は４〜２８重量％のメチル
トリクロロシランを含有したと述べている。一般に、メ
チルトリクロロシランのようなオルガノトリハロシラン
は、商的有用性が限定されており、従ってこの方法の有
用性を制限している。
ランと水素ガスを加圧下で接触させ、その混合体を木炭
上のパラジウムのような遷移金属触媒の存在下で加熱す
ることによってハロシランを生成する方法を記載してい
る。該特許は、ジシランは直接法の混合体の部分であっ
て、さらにそのジシランがメチルクロロジシランであっ
たときには、得られた生成物は４〜２８重量％のメチル
トリクロロシランを含有したと述べている。一般に、メ
チルトリクロロシランのようなオルガノトリハロシラン
は、商的有用性が限定されており、従ってこの方法の有
用性を制限している。
【０００６】米国特許第４、０７９、０７１号は、メチ
ルクロロポリシランと水素ガスを加圧下、２５〜３５０
℃の温度で銅触媒の存在下で反応させることによって高
収率のハロシランを製造する方法を記載している。この
方法に使用されるメチルクロロポリシランは、直接法の
副産物そして典型的に生成されるものにすることができ
る。有用な触媒は有機リガンドをもった銅金属、銅塩
類、及び銅塩類の錯体を含む。場合によっては、２９重
量％までのメチルトリクロロシランが生成した。
ルクロロポリシランと水素ガスを加圧下、２５〜３５０
℃の温度で銅触媒の存在下で反応させることによって高
収率のハロシランを製造する方法を記載している。この
方法に使用されるメチルクロロポリシランは、直接法の
副産物そして典型的に生成されるものにすることができ
る。有用な触媒は有機リガンドをもった銅金属、銅塩
類、及び銅塩類の錯体を含む。場合によっては、２９重
量％までのメチルトリクロロシランが生成した。
【０００７】米国特許第４、３９３、２２９号は、アル
キルハロシランの製造から得られた残渣中の濃アルキル
・ジシランを濃ハロゲン・ポリシランに転化する方法を
記載している。その方法は、濃アルキル・ジシラン含有
残渣をアルキルトリハロシラン又は四ハロゲン化シリコ
ンと触媒及び触媒量のハロシラン反応促進剤の存在下、
高温で処理することから成る。三塩化アルミニウムは、
ハロシラン促進剤を使用したときこの方法に有用であ
る。さらに、得られる濃ハロゲンポリシランは、別の工
程において開裂させてモノシランを生成させることがで
きる。
キルハロシランの製造から得られた残渣中の濃アルキル
・ジシランを濃ハロゲン・ポリシランに転化する方法を
記載している。その方法は、濃アルキル・ジシラン含有
残渣をアルキルトリハロシラン又は四ハロゲン化シリコ
ンと触媒及び触媒量のハロシラン反応促進剤の存在下、
高温で処理することから成る。三塩化アルミニウムは、
ハロシラン促進剤を使用したときこの方法に有用であ
る。さらに、得られる濃ハロゲンポリシランは、別の工
程において開裂させてモノシランを生成させることがで
きる。
【０００８】米国特許第５、１７５、３２９号は、オル
ガノトリクロロシランの正味の消費をもたらす直接法か
ら得られる高沸点残渣からオルガノシランを製造する方
法を教示している。その方法において、高沸点残渣は、
水素添加触媒と再分配触媒の存在下でオルガノトリクロ
ロシランおよび水素ガスと接触される。
ガノトリクロロシランの正味の消費をもたらす直接法か
ら得られる高沸点残渣からオルガノシランを製造する方
法を教示している。その方法において、高沸点残渣は、
水素添加触媒と再分配触媒の存在下でオルガノトリクロ
ロシランおよび水素ガスと接触される。
【０００９】米国特許第５、４３０、１６８号は、直接
法から得られる高沸点残渣からモノシランを製造する方
法を記載している。その方法は、水素ガス及び触媒量の
三塩化アルミニウムの存在下でオルガノトリハロシラン
及び高沸点残渣から成る混合物を生成する工程から成
る。その方法は、オルガノトリハロシランの消費及び高
沸点残渣の有用なモノシランへの添加をもたらす。
法から得られる高沸点残渣からモノシランを製造する方
法を記載している。その方法は、水素ガス及び触媒量の
三塩化アルミニウムの存在下でオルガノトリハロシラン
及び高沸点残渣から成る混合物を生成する工程から成
る。その方法は、オルガノトリハロシランの消費及び高
沸点残渣の有用なモノシランへの添加をもたらす。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、メチルクロ
ロシランを製造する直接法から得られる濃アルキル・シ
ルアルキレン含有残渣の再分配法を提供する。我々は、
濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分
配触媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハ
ロシランから成る群から選択したハロシランと接触させ
ることによって、濃ハロゲンシルアルキレン及びさらに
価値のあるジアルキルジハロシランを含有する再分配生
成物が製造されることを発見した。本発明は、メチルク
ロロシランの製造から得られた濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣から価値のあるアルキル基の利用を改善
し、同時にそのハロシランを商的にさらに価値のあるジ
アルキルジハロシランに転化する方法を提供する。その
方法の実施に必要な触媒の少なくとも一部は、直接法の
操作中及び残渣の単離中に現場で生成する。
ロシランを製造する直接法から得られる濃アルキル・シ
ルアルキレン含有残渣の再分配法を提供する。我々は、
濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の再分
配触媒の存在下でアルキルトリハロシラン及びテトラハ
ロシランから成る群から選択したハロシランと接触させ
ることによって、濃ハロゲンシルアルキレン及びさらに
価値のあるジアルキルジハロシランを含有する再分配生
成物が製造されることを発見した。本発明は、メチルク
ロロシランの製造から得られた濃アルキル・シルアルキ
レン含有残渣から価値のあるアルキル基の利用を改善
し、同時にそのハロシランを商的にさらに価値のあるジ
アルキルジハロシランに転化する方法を提供する。その
方法の実施に必要な触媒の少なくとも一部は、直接法の
操作中及び残渣の単離中に現場で生成する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、濃アルキル・
シルアルキレン含有残渣の再分配法である。その方法
は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の
再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度におい
てアルキルトリハロシラン及びテトラハロシランから成
る群から選択したハロシランと接触させて、ジアルキル
ジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程か
ら成る。
シルアルキレン含有残渣の再分配法である。その方法
は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有効量の
再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度におい
てアルキルトリハロシラン及びテトラハロシランから成
る群から選択したハロシランと接触させて、ジアルキル
ジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程か
ら成る。
【００１２】本法は、ハロシランとの接触に適する標準
の加圧可能反応器で行われ、バッチ法又は連続法として
行う。その方法は、例えば、連続攪拌−タンク反応器、
バブル−カラム反応器、トリクルベッド反応器又は栓流
反応器で行われる。
の加圧可能反応器で行われ、バッチ法又は連続法として
行う。その方法は、例えば、連続攪拌−タンク反応器、
バブル−カラム反応器、トリクルベッド反応器又は栓流
反応器で行われる。
【００１３】本法における濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣は、塩化メチルとシリコン・メタロイドとの反
応及び残渣からのメチルクロロシランの蒸留から得られ
る残渣である。用語「濃アルキル・シルアルキレン」
は、アルキル基を有するがハロゲン原子を持たない又は
分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基より少な
いハロゲン原子を有するシルアルキレンを意味する。一
般に、シルアルキレンは、それが０〜２個のハロゲン原
子及び望ましくは３〜６個のアルキル基を有するときに
濃アルキル・アルキレンである。ここで使用する濃ハロ
ゲン・シルアルキレンは、ハロゲン原子を有するがアル
キル基を持たない又は分子のシリコン原子上で置換され
るハロゲン原子と同数又はそれより少ないアルキル基を
有するシルアルキレンである。一般に、濃ハロゲン・シ
ルアルキレンは、シルアルキレン分子上で置換される同
数のアルキル基及びハロゲン原子を有する又はシルアル
キレン分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基よ
り多い数のハロゲン原子を有する。一般に、濃ハロゲン
・シルアルキレンは、シルアルキレン分子のシリコン原
子上で置換された３〜６個のハロゲン原子及び望ましく
は０〜２個のアルキル基を有する。
含有残渣は、塩化メチルとシリコン・メタロイドとの反
応及び残渣からのメチルクロロシランの蒸留から得られ
る残渣である。用語「濃アルキル・シルアルキレン」
は、アルキル基を有するがハロゲン原子を持たない又は
分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基より少な
いハロゲン原子を有するシルアルキレンを意味する。一
般に、シルアルキレンは、それが０〜２個のハロゲン原
子及び望ましくは３〜６個のアルキル基を有するときに
濃アルキル・アルキレンである。ここで使用する濃ハロ
ゲン・シルアルキレンは、ハロゲン原子を有するがアル
キル基を持たない又は分子のシリコン原子上で置換され
るハロゲン原子と同数又はそれより少ないアルキル基を
有するシルアルキレンである。一般に、濃ハロゲン・シ
ルアルキレンは、シルアルキレン分子上で置換される同
数のアルキル基及びハロゲン原子を有する又はシルアル
キレン分子のシリコン原子上で置換されるアルキル基よ
り多い数のハロゲン原子を有する。一般に、濃ハロゲン
・シルアルキレンは、シルアルキレン分子のシリコン原
子上で置換された３〜６個のハロゲン原子及び望ましく
は０〜２個のアルキル基を有する。
【００１４】濃アルキル・シルアルキレン残渣は、８０
℃以上の沸点を有する重合質のシリコン含有化合物から
成る。その重合質のシリコン含有化合物は、Ｍｅ２Ｃｌ
ＳｉＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ２，
ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ ２のようなジシラン、及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉ
ＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３及
びＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ ２ＳｉＣｌ２Ｍｅのようなシルメ
チレン、及びＭｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ
２，ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２，及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２のようなシ
ルエチレンを含む。濃アルキル・シルアルキレン残渣の
ような典型的な組成物は、式Ｓｉ２Ｑ６〔式中の各Ｑは
メチル及び塩素から独立に選択し、ジシランは分子当り
２〜４個のメチル置換基を含有する〕のジシラン５０〜
６０重量％；式Ｑ３ＳｉＣＨ２ＳｉＱ３〔式中の各Ｑは
前記の通り、シルメチレンは分子当り２〜４個のメチル
置換基を含有する〕で表されるシルメチレン１５〜２５
重量％；式Ｑ３（ＳｉＱ２）ａ（ＣＨ２）ｂ（Ｓｉ
Ｑ２）ｃＳｉＱ３〔式中の各Ｑは前記の通り、シルアル
キレンは分子当り２〜４個のメチル置換基を含有し、ａ
＝０〜４，ｂ＝１〜３，ｃ＝０〜４そしてａ＋ｂ＋ｃ＞
１〕で表されるシルアルキレン；他の高沸点シリコン含
有化合物５〜１５重量％；銅及び銅の化合物のような直
接法からの触媒残余；シリコン含有微粒物質；及び低レ
ベルのアルミニウム、カルシウム、鉄、及びそれらの化
合物を含む。例えば、塩化メチルとシリコンメタロイド
との反応から得られる濃アルキル・シリアルキレン含有
残渣の典型的な重量組成は、４重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳ
ｉＣｌＭｅ２，３１重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ
２，４６重量％ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ２、１重量
％Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，３重量％Ｍｅ
２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，７重量％ＭｅＣｌ２
ＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ及び９重量％触媒残渣、シリ
コン及び金属含有微粒物質である。
℃以上の沸点を有する重合質のシリコン含有化合物から
成る。その重合質のシリコン含有化合物は、Ｍｅ２Ｃｌ
ＳｉＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ２，
ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ ２のようなジシラン、及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，Ｍｅ２ＣｌＳｉ
ＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３及
びＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ ２ＳｉＣｌ２Ｍｅのようなシルメ
チレン、及びＭｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ
２，ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２，及び
Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２のようなシ
ルエチレンを含む。濃アルキル・シルアルキレン残渣の
ような典型的な組成物は、式Ｓｉ２Ｑ６〔式中の各Ｑは
メチル及び塩素から独立に選択し、ジシランは分子当り
２〜４個のメチル置換基を含有する〕のジシラン５０〜
６０重量％；式Ｑ３ＳｉＣＨ２ＳｉＱ３〔式中の各Ｑは
前記の通り、シルメチレンは分子当り２〜４個のメチル
置換基を含有する〕で表されるシルメチレン１５〜２５
重量％；式Ｑ３（ＳｉＱ２）ａ（ＣＨ２）ｂ（Ｓｉ
Ｑ２）ｃＳｉＱ３〔式中の各Ｑは前記の通り、シルアル
キレンは分子当り２〜４個のメチル置換基を含有し、ａ
＝０〜４，ｂ＝１〜３，ｃ＝０〜４そしてａ＋ｂ＋ｃ＞
１〕で表されるシルアルキレン；他の高沸点シリコン含
有化合物５〜１５重量％；銅及び銅の化合物のような直
接法からの触媒残余；シリコン含有微粒物質；及び低レ
ベルのアルミニウム、カルシウム、鉄、及びそれらの化
合物を含む。例えば、塩化メチルとシリコンメタロイド
との反応から得られる濃アルキル・シリアルキレン含有
残渣の典型的な重量組成は、４重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳ
ｉＣｌＭｅ２，３１重量％Ｍｅ２ＣｌＳｉＳｉＭｅＣｌ
２，４６重量％ＭｅＣｌ２ＳｉＳｉＭｅＣｌ２、１重量
％Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌＭｅ２，３重量％Ｍｅ
２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ，７重量％ＭｅＣｌ２
ＳｉＣＨ２ＳｉＣｌ２Ｍｅ及び９重量％触媒残渣、シリ
コン及び金属含有微粒物質である。
【００１５】濃アルキル・シルアルキレン含有残渣又は
シルアルキレン部分は、アルキルトリハロシラン及びテ
トラハロシランから成る群から選んだハロシラン又はそ
れらの混合物と接触される。一般に、アルキルトリハロ
シラン反応物質は残渣における再分配反応を受けるシル
アルキレンと相溶性である、そしてそのシルアルキレン
が塩素化シルアルキレンである場合には、アルキルトリ
ハロシラン反応物質はアルキルトリクロロシランが望ま
しい。そのアルキルトリクロロシランは、炭素原子数が
１〜８の直鎖又は枝分れ鎖を有し、そのハロゲン原子が
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素及びそれらの混合体である
ものである。アルキルトリハロシランの例は、メチルト
リブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルト
リクロロシラン、エチルトリブロモシラン、エチルトリ
フルオロシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリ
ヨードシラン、ｎ−プロピルトリフルオロシラン、イソ
−プロピルトリクロロシラン、イソープロピルトリフル
オロシラン、イソ−プロピルトリブロモシラン及びｎ−
ブチルトリクロロシランを含む。望ましいアルキルトリ
ハロシランはメチルトリクロロシランである。好適なテ
トラハロシランは四塩化ケイ素である。別の実施態様に
おけるアルキルトリハロシランは、直接法の副産物とし
て生成されるアルキルトリハロシランであり、残渣の成
分として存在し、そのアルキルトリハロシランは、本発
明の方法における反応物質として直接使用される。
シルアルキレン部分は、アルキルトリハロシラン及びテ
トラハロシランから成る群から選んだハロシラン又はそ
れらの混合物と接触される。一般に、アルキルトリハロ
シラン反応物質は残渣における再分配反応を受けるシル
アルキレンと相溶性である、そしてそのシルアルキレン
が塩素化シルアルキレンである場合には、アルキルトリ
ハロシラン反応物質はアルキルトリクロロシランが望ま
しい。そのアルキルトリクロロシランは、炭素原子数が
１〜８の直鎖又は枝分れ鎖を有し、そのハロゲン原子が
塩素、臭素、フッ素、ヨウ素及びそれらの混合体である
ものである。アルキルトリハロシランの例は、メチルト
リブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルト
リクロロシラン、エチルトリブロモシラン、エチルトリ
フルオロシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリ
ヨードシラン、ｎ−プロピルトリフルオロシラン、イソ
−プロピルトリクロロシラン、イソープロピルトリフル
オロシラン、イソ−プロピルトリブロモシラン及びｎ−
ブチルトリクロロシランを含む。望ましいアルキルトリ
ハロシランはメチルトリクロロシランである。好適なテ
トラハロシランは四塩化ケイ素である。別の実施態様に
おけるアルキルトリハロシランは、直接法の副産物とし
て生成されるアルキルトリハロシランであり、残渣の成
分として存在し、そのアルキルトリハロシランは、本発
明の方法における反応物質として直接使用される。
【００１６】本法に添加されるアルキルトリハロシラン
又はテトラハロシランは、濃アルキル・シルアルキレン
含有残鎖を濃ハロゲン・シルアルキレンに再分配するの
に必要な理論量であるが、一般に残渣におけるシルアル
キレンとの反応を実施するために過剰モルのアルキルト
リハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混合物
を使用することが望ましい。アルキルトリハロシラン又
はテトラハロシラン又はそれらの混合物は、本法の残渣
に存在するシルアルキレンの１モル当り０．５〜２５．
０モルで添加することが望ましい。
又はテトラハロシランは、濃アルキル・シルアルキレン
含有残鎖を濃ハロゲン・シルアルキレンに再分配するの
に必要な理論量であるが、一般に残渣におけるシルアル
キレンとの反応を実施するために過剰モルのアルキルト
リハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混合物
を使用することが望ましい。アルキルトリハロシラン又
はテトラハロシラン又はそれらの混合物は、本法の残渣
に存在するシルアルキレンの１モル当り０．５〜２５．
０モルで添加することが望ましい。
【００１７】本法に有用な触媒は、モノシラン分子上の
ハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基の再
分配を促進する触媒である。一般に、ルイス酸又は同等
のものが本法における触媒として使用される。本法に使
用される触媒の例は、四塩化ジルコニウム、三塩化アル
ミニウム、四塩化カリウムアルミニウム、塩化第一銅、
ホウ酸及び三塩化ホウ素である。本法に使用する望まし
い触媒は三塩化アルミニウム又は三塩化アルミニウムの
化合物である。
ハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基の再
分配を促進する触媒である。一般に、ルイス酸又は同等
のものが本法における触媒として使用される。本法に使
用される触媒の例は、四塩化ジルコニウム、三塩化アル
ミニウム、四塩化カリウムアルミニウム、塩化第一銅、
ホウ酸及び三塩化ホウ素である。本法に使用する望まし
い触媒は三塩化アルミニウム又は三塩化アルミニウムの
化合物である。
【００１８】本法に有用な触媒の量は、モノシラン分子
上のハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基
の再分配を促進するのに有効な量である。本法に有用な
望ましい触媒濃度は、残渣中のシルアルキレンとアルキ
ルトリハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混
合体の合計重量の０．０５〜１５重量％の範囲内、最適
には０．５〜１５重量％である。
上のハロゲン原子でシルアルキレン分子上のアルキル基
の再分配を促進するのに有効な量である。本法に有用な
望ましい触媒濃度は、残渣中のシルアルキレンとアルキ
ルトリハロシラン又はテトラハロシラン又はそれらの混
合体の合計重量の０．０５〜１５重量％の範囲内、最適
には０．５〜１５重量％である。
【００１９】その触媒は化合物としてプロセスに添加す
るか、又はかかる触媒又はそれらの前駆物質を含有する
材料の添加によって現場で生成される。好適なプロセス
において、その触媒が三塩化アルミニウム又は三塩化ア
ルミニウムの化合物である場合に、触媒の全て又は一部
は直接法の実施中に現場で生成される。三塩化アルミニ
ウム触媒の量は、添加した三塩化アルミニウムと、直接
法から単離される際に混合体に残る現場生成三塩化アル
ミニウムの合計である。
るか、又はかかる触媒又はそれらの前駆物質を含有する
材料の添加によって現場で生成される。好適なプロセス
において、その触媒が三塩化アルミニウム又は三塩化ア
ルミニウムの化合物である場合に、触媒の全て又は一部
は直接法の実施中に現場で生成される。三塩化アルミニ
ウム触媒の量は、添加した三塩化アルミニウムと、直接
法から単離される際に混合体に残る現場生成三塩化アル
ミニウムの合計である。
【００２０】本法は、１５０〜５００℃，望ましくは２
５０〜４００℃，最適には３２０〜３８０℃で実施され
る。
５０〜４００℃，最適には３２０〜３８０℃で実施され
る。
【００２１】本発明の別の実施態様において、濃アルキ
ル・シルアルキレン含有残渣における濃アルキル・シル
アルキレンは、蒸留によってジシランから分離される。
再分配は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有
効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度
においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロシラン
から選択したハロシランと接触させて、ジアルキルジハ
ロシランから成る再分配生成物を生成させることによっ
て行われる。
ル・シルアルキレン含有残渣における濃アルキル・シル
アルキレンは、蒸留によってジシランから分離される。
再分配は、濃アルキル・シルアルキレン含有残渣を、有
効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃の温度
においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロシラン
から選択したハロシランと接触させて、ジアルキルジハ
ロシランから成る再分配生成物を生成させることによっ
て行われる。
【００２２】本法から製造される望ましいジアルキルジ
ハロシランはジメチルジクロロシランである。そのジメ
チルジクロロシランは、液体混合物を分離する標準の方
法、例えば、蒸留によって濃ハロゲンシルアルキレンか
ら分離できる。
ハロシランはジメチルジクロロシランである。そのジメ
チルジクロロシランは、液体混合物を分離する標準の方
法、例えば、蒸留によって濃ハロゲンシルアルキレンか
ら分離できる。
【００２３】
【実施例】実施例１ 触媒として現場生成の三塩化アルミニウムの存在下でメ
チルトリクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器に
おいて評価した。７７ｇの濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣（ＡＲＳＲ）と１５５ｇのメチルトリクロロシ
ランの混合物が生成した。その混合物に存在する三塩化
アルミニウム約３重量％がモノシランの調製及び単離中
に現場で生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣の組成を表１に示す。その混合物（２１９ｇ）を
６００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）
に添加して、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の
内容物はコールド受容容器にベントした。反応器からの
２１０ｇの試料をガスクロマトグラフィーによって熱伝
導率検出器（ＧＣ−ＴＣＤ）を使用して分析した。ＡＲ
ＳＲの組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した
分析結果を表１に示す。
チルトリクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器に
おいて評価した。７７ｇの濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣（ＡＲＳＲ）と１５５ｇのメチルトリクロロシ
ランの混合物が生成した。その混合物に存在する三塩化
アルミニウム約３重量％がモノシランの調製及び単離中
に現場で生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含
有残渣の組成を表１に示す。その混合物（２１９ｇ）を
６００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）
に添加して、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の
内容物はコールド受容容器にベントした。反応器からの
２１０ｇの試料をガスクロマトグラフィーによって熱伝
導率検出器（ＧＣ−ＴＣＤ）を使用して分析した。ＡＲ
ＳＲの組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した
分析結果を表１に示す。
【表１】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 1.5 ＭｅＳｉＣｌ３ 70 52 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 1.6 12 ＳｉＣｌ４ 0 0.5 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 4.3 0 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 5.7 10.5
【００２４】実施例２ 触媒として現場生成三塩化アルミニウムの存在下でテト
ラクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器において
評価した。１０４ｇの濃アルキル・シルアルキレン含有
残渣（ＡＲＳＲ）と１２７ｇのテトラクロロシランの混
合物が生成した。その混合物に存在する三塩化アルミニ
ウム約４重量％がモノシランの調製及び単離中に現場で
生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の
組成を表２に示す。その混合物（２１８ｇ）を６００ｍ
ｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加し
て、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の内容物は
コールド受容容器にベントした。反応器からの２００ｇ
の試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。ＡＲＳＲの
組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結
果を表２に示す。
ラクロロシランで濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
を再分配する能力を攪拌−タンクバッチ反応器において
評価した。１０４ｇの濃アルキル・シルアルキレン含有
残渣（ＡＲＳＲ）と１２７ｇのテトラクロロシランの混
合物が生成した。その混合物に存在する三塩化アルミニ
ウム約４重量％がモノシランの調製及び単離中に現場で
生成した。その濃アルキル・シルアルキレン含有残渣の
組成を表２に示す。その混合物（２１８ｇ）を６００ｍ
ｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加し
て、３５０℃に１時間加熱した。その反応器の内容物は
コールド受容容器にベントした。反応器からの２００ｇ
の試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。ＡＲＳＲの
組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結
果を表２に示す。
【表２】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＨＳｉＣｌ３ 0 3.4 ＭｅＳｉＣｌ３ 0 13 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 0 10 ＳｉＣｌ４ 55 45 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 0 0.2 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 4 0 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 5.5 8
【００２５】実施例３ 触媒として添加した三塩化アルミニウムの存在下でメチ
ルトリクロロシランでシルエチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。４
２ｇの１、１、４、４−テトラメチル−１、４−ジクロ
ロジシルエチレン（米国、ＰＡ，ブリストンに在るＵｎ
ｉｔｅｄ ＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ
から購入）と１０９ｇのメチルトリクロロシランの混合
物が生成した。その混合物（１４０ｇ）と７．５ｇの三
塩化アルミニウム約３重量％を６００ｍｌの攪拌反応器
（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加して、３５０℃に
１時間加熱した。次にその反応器の内容物はコールド受
容容器にベントした。反応器からの１４０ｇの試料をＧ
Ｃ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレンの組成、
初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結果を表
３に示す。
ルトリクロロシランでシルエチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。４
２ｇの１、１、４、４−テトラメチル−１、４−ジクロ
ロジシルエチレン（米国、ＰＡ，ブリストンに在るＵｎ
ｉｔｅｄ ＣｈｅｍｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ
から購入）と１０９ｇのメチルトリクロロシランの混合
物が生成した。その混合物（１４０ｇ）と７．５ｇの三
塩化アルミニウム約３重量％を６００ｍｌの攪拌反応器
（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に添加して、３５０℃に
１時間加熱した。次にその反応器の内容物はコールド受
容容器にベントした。反応器からの１４０ｇの試料をＧ
Ｃ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレンの組成、
初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析結果を表
３に示す。
【表３】 シルエチレン化合物 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 2.4 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 0 0.8 ＭｅＳｉＣｌ３ 72 33 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 0 31.5 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２ 0 4 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅＣＬ２ 0 4 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＣＨ２ＳｉＭｅ２Ｃｌ 28 0
【００２６】実施例４ 触媒として添加した三塩化アルミニウムの存在下でメチ
ルトリクロロシランでシルメチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。５
１ｇのビス（トリメチルシシリル）メチレン（米国、Ｐ
Ａ，タリタウンに在るＧｅｌｅｓｔ社から購入）と１４
２ｇのメチルトリクロロシランの混合物が生成した。そ
の混合物（１８０ｇ）と８ｇの三塩化アルミニウムを６
００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に
添加して、３５０℃に１時間加熱水素ガス下２９００ｋ
Ｐａの圧力下で加熱した。次にその反応器の内容物はコ
ールド受容容器にベントした。反応器からの１８３ｇの
試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレン
の組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析
結果を表４に示す。
ルトリクロロシランでシルメチレン化合物を再分配する
能力を攪拌−タンクバッチ反応器において評価した。５
１ｇのビス（トリメチルシシリル）メチレン（米国、Ｐ
Ａ，タリタウンに在るＧｅｌｅｓｔ社から購入）と１４
２ｇのメチルトリクロロシランの混合物が生成した。そ
の混合物（１８０ｇ）と８ｇの三塩化アルミニウムを６
００ｍｌの攪拌反応器（Ｐａｒｒ Ｂｏｍｂ反応器）に
添加して、３５０℃に１時間加熱水素ガス下２９００ｋ
Ｐａの圧力下で加熱した。次にその反応器の内容物はコ
ールド受容容器にベントした。反応器からの１８３ｇの
試料をＧＣ−ＴＣＤを使用して分析した。シルエチレン
の組成、初組成重量％及び最終組成重量％で示した分析
結果を表４に示す。
【表４】 シルメチレン化合物 組成 初組成 最終組成 （ｗｔ％） （ｗｔ％） Ｍｅ２ＨＳｉＣｌ 0 0.4 ＭｅＨＳｉＣｌ２ 0 1.4 Ｍｅ３ＳｉＣｌ 1 7 ＭｅＳｉＣｌ３ 74 7 Ｍｅ２ＳｉＣｌ２ 1 46.6 Ｍｅ３ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ３ 26 0 Ｍｅ２ＣｌＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ２Ｃｌ 0 1 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅ２Ｃｌ 0 7 ＭｅＣｌ２ＳｉＣＨ２ＳｉＭｅＣｌ２ 0 6.5
Claims (7)
- 【請求項１】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
を、有効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃
の温度においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロ
シランから選択したハロシランと接触させて、ジアルキ
ルジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程
から成ることを特徴とする濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣の再分配法。 - 【請求項２】 さらに、前記再分配生成物からジアルキ
ルジハロシランを分離する工程から成ることを特徴とす
る請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣
が、塩化メチルとシリコンメタロイドとの反応生成物の
蒸留から得られた蒸留留分であることを特徴とする請求
項１記載の方法。 - 【請求項４】 前記触媒は、四塩化ジルコニウム、三塩
化アルミニウム、四塩化カリウムアルミニウム、塩化第
一銅、ホウ酸及び三フッ化ホウ素から選択したルイス酸
であることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 前記触媒の少なくとも一部が現場で生成
されることを特徴とする請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 式 Ｑ３ＳｉＣＨ２ＳｉＱ３及びＱ３（ＳｉＱ２）ａ（ＣＨ
２）ｂ（ＳｉＱ２）ｃＳｉＱ３ で表される濃アルキル・シルアルキレン〔式中の各Ｑは
メチル及び塩素から独立に選択し、前記シルアルキレン
は分子当り２〜４個のメチル置換基を含有し、ａ＝０〜
４，ｂ＝１〜３，ｃ＝０〜４そしてａ＋ｂ＋ｃ＞１〕
を、有効量の再分配触媒の存在下で１５０℃〜５００℃
の温度においてアルキルトリハロシラン及びテトラハロ
シランから選択したハロシランと接触させて、ジアルキ
ルジハロシランから成る再分配生成物を生成させる工程
から成ることを特徴とする濃アルキル・シルアルキレン
含有残渣の再分配法。 - 【請求項７】 前記濃アルキル・シルアルキレンは、シ
リルエチレン及びシリルメチレンから選択することを特
徴とする請求項６記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/205,317 US6013824A (en) | 1998-12-01 | 1998-12-01 | Redistributing silalkylenes in an alkyl-rich silalkylene-containing residue |
| US09/205317 | 1998-12-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000159779A true JP2000159779A (ja) | 2000-06-13 |
| JP4485631B2 JP4485631B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=22761716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34153699A Expired - Lifetime JP4485631B2 (ja) | 1998-12-01 | 1999-12-01 | 濃アルキル・シルアルキレン含有残渣におけるシルアルキレンの再分配法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6013824A (ja) |
| EP (1) | EP1016667B1 (ja) |
| JP (1) | JP4485631B2 (ja) |
| DE (1) | DE69916223T2 (ja) |
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| US6800751B2 (en) * | 2002-04-11 | 2004-10-05 | Isis Pharmaceuticals, Inc. | Reagent and process for protecting nucleoside hydroxyl groups |
| WO2006055232A2 (en) * | 2004-11-19 | 2006-05-26 | Dow Corning Corporation | Organohydrogenpoly siloxane resin and silicon composition |
| DE102008025260B4 (de) | 2008-05-27 | 2010-03-18 | Rev Renewable Energy Ventures, Inc. | Halogeniertes Polysilan und thermisches Verfahren zu dessen Herstellung |
| CN101786629A (zh) | 2009-01-22 | 2010-07-28 | 陶氏康宁公司 | 回收高沸点废料的方法 |
| EP2511656A1 (de) | 2011-04-14 | 2012-10-17 | Hexagon Technology Center GmbH | Vermessungssystem zur Bestimmung von 3D-Koordinaten einer Objektoberfläche |
| EP2527784A1 (de) | 2011-05-19 | 2012-11-28 | Hexagon Technology Center GmbH | Optisches Messverfahren und Messsystem zum Bestimmen von 3D-Koordinaten auf einer Messobjekt-Oberfläche |
| CN114258396A (zh) | 2019-08-22 | 2022-03-29 | 美国陶氏有机硅公司 | 用于纯化硅化合物的方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US2488487A (en) * | 1946-02-07 | 1949-11-15 | Dow Chemical Co | Production of alkyl silicon halides |
| US2598435A (en) * | 1949-08-18 | 1952-05-27 | Gen Electric | Process for treating organoplysilanes |
| FR1093399A (ja) * | 1953-02-20 | 1955-05-03 | ||
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| US4079071A (en) * | 1977-03-28 | 1978-03-14 | Union Carbide Corporation | Synthesis of hydrosilanes from methylchloropolysilanes |
| US4393229A (en) * | 1982-04-28 | 1983-07-12 | General Electric Company | Redistribution of polysilanes in high boiling residues |
| JPH0635466B2 (ja) * | 1988-09-28 | 1994-05-11 | 信越化学工業株式会社 | ジオルガノハロゲノシランの製造方法 |
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