PL201065B1 - Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie - Google Patents
Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnieInfo
- Publication number
- PL201065B1 PL201065B1 PL366608A PL36660802A PL201065B1 PL 201065 B1 PL201065 B1 PL 201065B1 PL 366608 A PL366608 A PL 366608A PL 36660802 A PL36660802 A PL 36660802A PL 201065 B1 PL201065 B1 PL 201065B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- sheet
- electrically insulating
- insulating coating
- coating
- substrate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1288—Application of a tension-inducing coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/02—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
- C23C16/0281—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating of metallic sub-layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/16—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of sheets
- H01F1/18—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of sheets with insulating coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1277—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a particular surface treatment
- C21D8/1283—Application of a separating or insulating coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12625—Free carbon containing component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12951—Fe-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Wynalazek dotyczy blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie zawieraj acej elek- trycznie izoluj ac a pow lok e, która zawiera amorficzn a siatk e w eglowo-wodorowej. Sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, polega na tym, ze pod loze pokrywa si e elek- trycznie izoluj ac a pow lok a, któr a kszta ltuje si e z amorficznej siatki w eglowo-wodorowej, przy czym pod lo ze blachy uksztaltowanej jako ta sma pokrywa si e elektrycznie izoluj ac a pow lok a w ci ag lym pro- cesie wytwarzania ta smy. Elektrycznie izoluj aca pow loka jest nak ladana po ko ncowym wy zarzaniu dla zapewnienia izolacji elektrycznej poszczególnych warstw blachy, stosowanej na przyk lad w transfor- matorach. PL PL PL PL
Description
RZECZPOSPOLITA POLSKA | (12) OPIS PATENTOWY (19) PL (21) Numer zgłoszenia: 366608 | (11) 201065 (13) B1 |
(22) Data zgłoszenia: 21.06.2002 | (51) Int.Cl. B23P 17/00 (2006.01) | |
(86) Data i numer zgłoszenia międzynarodowego: | H01F 1/18 (2006.01) | |
21.06.2002, PCT/EP02/06869 | C21D 8/12 (2006.01) | |
Urząd Patentowy | (87) Data i numer publikacji zgłoszenia międzynarodowego: | |
Rzeczypospolitej Polskiej | 03.01.2003, WO03/000951 PCT Gazette nr 01/03 |
(54) Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposób wytwarzania blachy (54) ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie | |
(73) Uprawniony z patentu: THYSSENKRUPP ELECTRICAL STEEL GMBH, Gelsenkirchen,DE | |
(30) Pierwszeństwo: | |
22.06.2001,DE,10130308.4 | (72) Twórca(y) wynalazku: |
(43) Zgłoszenie ogłoszono: | Bernd Schuhmacher,Dortmund,DE Klaus Gϋnther,Voerde,DE Hermann Hingmann,Dinslaken,DE |
07.02.2005 BUP 03/05 | Klaus Bewilogua,Braunschweig,DE |
(45) O udzieleniu patentu ogłoszono: 31.03.2009 WUP 03/09 | Claus-Peter Klages,Braunschweig,DE Heinz Dimigen,Hamburg,DE Thomas Jung,Hotzum,PL (74) Pełnomocnik: Słomińska-Dziubek Anna, POLSERVICE, Kancelaria Rzeczników Patentowych Sp. z o.o. |
(57) Wynalazek dotyczy blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie zawierającej elektrycznie izolującą powłokę, która zawiera amorficzną siatkę węglowo-wodorowej. Sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, polega na tym, że podłoże pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką, którą kształtuje się z amorficznej siatki węglowo-wodorowej, przy czym podłoże blachy ukształtowanej jako taśma pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką w ciągłym procesie wytwarzania taśmy. Elektrycznie izolująca powłoka jest nakładana po końcowym wyżarzaniu dla zapewnienia izolacji elektrycznej poszczególnych warstw blachy, stosowanej na przykład w transformatorach.
PL 201 065 B1
Opis wynalazku
Niniejszy wynalazek dotyczy blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposobu wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie.
Znana jest blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie z elektrycznie izolującą powłoką, która jest nakładana po końcowym wyżarzaniu na podłoże w celu zapewnia izolacji elektrycznej poszczególnych warstw blachy na przykład do zastosowania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, zwłaszcza w transformatorach.
Dla dodatkowych zastosowań, na przykład w transformatorach, jest istotne, aby zmniejszyć straty histerezowe. Jednym środkiem do tego, który jest często stosowany, jest dodanie jako pierwiastka stopowego krzemu, który powoduje wzrost właściwej rezystancji elektrycznej i zmniejszenie strat wiroprądowych. Poprzez modyfikacje chemicznego składu i walcowanie na zimno oraz procesy wyżarzania, ustala się i wzmacnia orientację krystalograficzną {110} <001>. Poprzez zmniejszenie grubości blachy straty są dodatkowo zmniejszane. Ponadto, poprzez polepszenie czystości stali, jest możliwe uniknięcie wydzielonych cząstek w gotowym produkcie, które w niepożądany sposób blokują ruch ścian Blocha podczas nawrotu magnetycznych właściwości.
Typu blach ze stali magnetycznej ze szczególną zwiększoną orientacją i w związku z tym z dużą przenikalnością mogą być dodatkowo polepszone ze względu na histerezę poprzez to, że proces produkcji jest sterowany tak, że zapewnia się ograniczenie rozmiaru rekrystalizowanego wtórnego ziarna i odpowiednio duży stosunek długości granic ziarna do powierzchni ziarna, a wskutek tego zmniejsza się oddalenie ścian Blocha. Stan techniki także obejmuje dodatkowe polepszenie struktury domenowej poprzez nakładanie powłoki izolacyjnej, która wywiera stałe naprężenie rozciągające na składniki blachy i dodatkowo poprzez obróbkę, która wytwarza linie lokalnych naprężeń w poprzek lub nachylone do kierunku walcowania. Pomiędzy innymi mogą to być miejscowe odkształcenia mechaniczne (EP 0409389 A2), obróbka wiązką laserową lub elektronową (EP 0008385 B1; EP 0100638 B1; EP 0571705 A2) lub wytrawianie rowków (EP 0539236 B1).
Ten sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej, o szczególnie małych stratach, jest związany z wadą polegającą na tym, że połączenie środków do kształtowania warstwy izolacyjnej i dodatkowego rozdrabniania domen jest kosztowne. Dalszą wadą jest to, że powłoka izolacyjna jest zwykle budowana w szeregu etapach skomplikowanego procesu, które są dopasowane do siebie. To zapewnia bardzo mały zakres nadawania dalszych zmian parametrom ze względu na optymalizację ekonomiczną i jakościową.
Dotychczas znana warstwa wywierająca naprężenie jest realizowana tak, że taśma, która jest walcowana na zimno do końcowej grubości, jest poddawana wyżarzaniu dla pierwotnej rekrystalizacji i odwę glenia, przy czym w celowy sposób powierzchnia jest utleniana, a nastę pnie pokrywana MgO i odpowiednimi dodatkami jako nieprzywierającą warstwą, suszona i następnie nawijana i ponownie wyżarzana w celu wtórnej rekrystalizacji, po czym czyści się stal z pierwiastków tworzących wydzielenia. Podczas etapu wyżarzania, nieprzywierająca warstwa reaguje z tlenkami na powierzchni taśmy i tworzy warstwę forsterytu (Mg2SiO4), która jest takż e nazywana, jako „powł oka szklista”. Ta powł oka jest związana z podłożem, a jej właściwości zwiększają jej przyczepność. W dalszym etapie procesu, jak jest to znane na przykład z DE 2247269C3, nakłada się roztwory oparte na fosforanie magnezu lub fosforanie aluminium lub ich mieszaninie z różnymi dodatkami takimi jak na przykład związki chromu i tlenku Si na tę powłokę i wygrzewa się w temperaturze powyżej 350°C. Naprężenie rozciągającemu, które końcowa warstwa izolacyjna przenosi do materiału podłoża może być do około 5MPa. Ulepszenia straty histerezowej osiągnięte w ten sposób są wielkości około 5%. Ponadto zmniejsza się magnetostrykcję.
Osiągnięte polepszenie w związku ze stratami jest ograniczone przez fakt, że przy kształtowaniu warstwy są nieuchronne procesy utleniania, podczas których tworzą się nieferromagnetyczne cząstki i niejednorodności na powierzchni lub w strefie powierzchniowej, przy czym te cząstki i niejednorodności wpływają na mobilność ścian Blocha podczas magnetycznego nawrotu, powodując zwiększone straty energii.
Nowsze rozwiązania i próby są, dlatego skierowane na wytworzenie stali magnetycznej bez powłoki szklistej i z powierzchnią, która jest możliwie gładka; i na nakładanie warstwy izolacyjnej wywierającej naprężenie, która z zasady nie wymaga utleniania powierzchni. Na przykład, wypróbowywano metody zol-żel dla warstw z substancjami utleniającymi, jak opisano w EP 0555867 A2. W tym układzie, naprężenia warstwy były wytworzone na bazie różnicy współczynnika rozszerzalności cieplnej stali
PL 201 065 B1 i warstwy i na bazie wystę powania wysokiej temperatury od około 800°C do 1000°C podczas tworzenia warstwy. Inne znane metody obejmują nakładanie cienkich warstw na podłoże stanowiące blachę ze stali magnetycznej o wyjątkowo gładkiej powierzchni poprzez metody CVD lub PVD takie, jak naparowywanie wiązką elektronową, magnetronowe rozpylanie lub próżniowe naparowywanie łukowe, przy czym warstwy lub wielokrotne warstwy azotków metali lub węglików metali (na przykład TiN, BN, ZrN, AIN, Ti(CN), Cr2N, TiC, ZrC, WC), są wytwarzane jak opisano w EP 0193324 B1 lub EP 0910101 A1.
Przy tych typach warstw jest możliwe wytworzenie naprężenia rozciągającego w arkuszu ze stali magnetycznej rzędu na przykład 8MPa, jednak jego efekt izolacji elektrycznej jest niekorzystny i konieczne jest pokrycie ich dodatkowa warstwa izolacyjną, jak opisano w EP 0215134 B1.
Znane jest, że amorficzne siatki węglowo-wodorowe, także znane, jako C-H lub węgiel podobny do diamentu (DLC) są bardzo twarde, chemicznie obojętne i zapewniają dobrą przyczepność do stopów stalowych, takich jak na przykład opisane w EP 0600533 B1. Dotąd, jak na przykład opisano w DE 19834968 A1 lub WO 99/47346 A1, te właściwości były wykorzystywane do pokrywania narzędzi, których powłoki musiały spełniać szczególne wymagania pod względem ich przywierania. Te same warunki są w centrum uwagi stanu techniki znanego z publikacji DE 19825860 A1 dotyczącej powlekaniu pierścieni tłoków.
Celem wynalazku jest wytworzenie blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i wysokiej przenikalności, która jest odpowiednia, jako materiał rdzeniowy dla szczególnie cichych transformatorów o małych stratach.
Według wynalazku, blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, zawierająca podłoże i elektrycznie izolującą powłokę, charakteryzuje się tym, że elektrycznie izolująca powłoka zawiera amorficzną siatkę węglowo-wodorową.
Korzystnie elektrycznie izolująca powłoka jest domieszkowana, co najmniej jednym z pierwiastków Si, O, N, B lub F.
Korzystnie też elektrycznie izolująca powłoka zawiera pierwiastki domieszkujące w ilości w zakresie od 1 do 20 procent atomowych.
Korzystne jest, że elektrycznie izolująca powłoka wywiera na podłoże blachy naprężenie rozciągające co najmniej 8 MPa.
Pomiędzy elektrycznie izolującą powłoką i podłożem blachy może być usytuowana, co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia.
Co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia korzystnie zawiera siatkę Si-C-O-H lub siatkę Si-C-H.
Co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia może zawierać tytan lub związki tytanowo-żelazowe. Związek tytanowo-żelazowy może być azotkiem tytanu.
Elektrycznie izolująca powłoka może mieć powierzchniową odporność izolacyjną, co najmniej 10 Ohm*cm2.
Korzystnie, strata histerezowa (przy częstotliwości 50 Hertz i polaryzacji 1,7 Tesla) blachy wynosi P1,7 < 0,90 W/kg przy grubości blachy 0,30mm; P1,7 < 0,80 W/kg przy grubości blachy 0,27mm; a P1,7 < 0,70 W/kg przy grubości blachy 0,23mm.
Podłoże blachy korzystnie zawiera 2,5% do 4,0% wagowych krzemu, do 0,20% wagowych magnezu, do 0,50% wagowych miedzi, do 0,065% wagowych aluminium, do 0,0150% wagowych azotu, i co najmniej 90% wagowych żelaza.
Blacha może zawierać co najmniej jeden z pierwiastków Cr, Ni, Mo, P, As, Sn, Sb, Se, Te, B lub Bi w ilości do 0,2% wagowych.
Według wynalazku, sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, w którym podłoże pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką, charakteryzuje się tym, że elektrycznie izolującą powłokę kształtuje się z amorficznej siatki węglowo-wodorowej, przy czym podłoże blachy ukształtowanej jako taśma pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką w ciągłym procesie wytwarzania taśmy.
Przed pokryciem blachy elektrycznie izolującą powłoką na podłoże korzystnie nakłada się, co najmniej jedną warstwę pośrednią poprawiającą przyczepność, przy czym warstwę pośrednią poprawiającą przyczepność nakłada się w procesie ciągłym wytwarzania taśmy.
Co najmniej jeden etap pokrywania można realizować za pomocą metody osadzania chemicznego z fazy gazowej (CVD) lub za pomocą metody osadzanie fizyczne z fazy gazowej (PVD).
Korzystnie co najmniej jeden etap pokrywania realizuje się za pomocą metody PVD przy aktywowaniu plazmy, zwłaszcza za pomocą metody wyładowania jarzeniowego z wnękową katodą.
Przed pokrywaniem nadaje się powierzchni podłoża chropowatość Ra wynoszącą max. 0,5 μm.
PL 201 065 B1
Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie według wynalazku zawiera powłokę, która wywiera takie naprężenie rozciągające na blachę i zmniejsza straty histerezowe do takiego poziomu, że dodatkowe środki rozdrabniające magnetyczną strukturę domenową stają się zbędne. Powłoka, która według wynalazku jest ukształtowana z amorficznej siatki węglowo-wodorowej przylega pewnie do powierzchni taśmy i zapewnia wysoką odporność izolacji powierzchniowej.
Nieoczekiwanie stwierdzono, że blacha ze stali magnetycznej, która w sposób według wynalazku została wyposażona w warstwę mająca cechy amorficznej siatki węglowo-wodorowej ma znacznie poprawione właściwości magnetyczne takie, jak zmniejszone straty histerezowe i zwiększona polaryzacja magnetyczna. Zakłada się, że jest to spowodowane obserwowanym rozdrobnieniem struktury domen magnetycznych, co czyni, że dodatkowa obróbka blachy ze stali magnetycznej w celu rozdrobnienia domen jest zbędna.
Ponadto, blacha ze stali magnetycznej według wynalazku osiąga odporność właściwości magnetycznych na pewnego rodzaju naprężenia ściskające, które mogą pojawić się w rdzeniach transformatorów. Dalszą korzyścią związaną z tym jest zmniejszenie magnetostrykcji, co umożliwia konstruowanie cichszych transformatorów. Ponadto, układ warstwowy według wynalazku jest cieńszy niż typowy układ warstwowy, co umożliwia większy wskaźnik zestawiania w stos w rdzeniach transformatorów.
Elektrycznie izolująca powłoka blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie może być domieszkowana jednym lub kilkoma z pierwiastków Si, O, N, B lub F, korzystnie każdy w zakresie od 1 do 20 procent atomowych.
Szczególnie dobre właściwości magnetyczne blachy ze stali magnetycznej są osiągane poprzez to, że powłoka izolująca elektrycznie wywiera naprężenie rozciągające, co najmniej 8 MPa na podłoże blachy.
W celu dodatkowego poprawienia przylegania pomiędzy podłożem blachy i amorficzną siatką węglowo-wodorową elektrycznie izolującej powłoki korzystne jest ukształtowanie, co najmniej jednej polepszającej przyczepność warstwy pośredniej. Ta polepszająca przyczepność warstwa pośrednia może być na przykład siatką Si-C-O-H lub siatką Si-C-H.
Ponadto, polepszające przyczepność warstwy pośrednie, które mogą być brane pod uwagę, zawierają tytan lub związki tytanowo-żelazowe, zwłaszcza azotek tytanu, a dzięki nim naprężenie rozciągające na podłoże blachy może być dodatkowo zwiększone.
Korzystnie, elektrycznie izolująca powłoka blachy ze stali magnetycznej według wynalazku ma powierzchniową odporność izolacyjną co najmniej 10 Ohm*cm2, wskutek czego zapewnia się konieczny efekt izolacyjny.
Przy odpowiedniej optymalizacji, przy grubości blachy 0,30mm, blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie według wynalazku ma stratę histerezowa (przy czę stotliwości 50 Hertz i polaryzacji 1,7Tesla) P1,7 = 0,90 W/kg; ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i wysokiej przenikalności, przy grubości blachy 0,27mm P1,7 = 0,80 W/kg; przy grubości blachy 0,23mm P1,7 = 0,70 W/kg.
Przy typowym składzie, podłoże blachy zawiera 2,5% do 4,0% wagowych krzemu, do 0,20% wagowych magnezu, do 0,50% wagowych miedzi, do 0,065% wagowych aluminium, do 0,0150% wagowych azotu, i co najmniej 90% wagowych żelaza. Ponadto, może występować jeden lub więcej z pierwiastków Cr, Ni, Mo, P, As, Sn, Sb, Se, Te, B lub Bi, każdy z udziałem masowym do 0,2%.
Podłoże blachy jest wytwarzane poprzez odlewanie taśmy lub ciągłe odlewanie wlewków o grubości od 20 do 300 mm z wytopionej stali jak to jest typowo stosowane w produkcji blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, przy wytopie stali zawierającym 2,5% do 4,0% wagowych krzemu, do 0,100% wagowych C; do 0,20% wagowych Mn, do 0,50% wagowych Cu, do 0,0,035% wagowych S, do 0,065% wagowych Al, do 0,0150% wagowych azotu, a pozostałe głównie Fe i zwykłe zanieczyszczenia, jak również powyżej wymienione dodatkowe pierwiastki stopowe Cr, Ni, Mo, P, Sn, Sb, Se, Te, B lub Bi, każdy z udziałem masowym do 0,2%. Te wlewki są następnie walcowane do gorącej taśmy, a po tym następuje ewentualnie wyżarzanie gorącej taśmy. Następnie prowadzi się kolejne walcowanie na zimno w jednym lub kilku przejściach, z pośrednim wyżarzaniem, do końcowej grubości 0,15 do 0,50 mm. Po tym następuje pierwsze wyżarzanie rekrystalizujące w warunkach odwęglających dopóki udział masowy węgla w stali przewyższa 0,005 % wagowych, a następnie, o ile wymaga tego nałożenie nieprzywierającej warstwy, poddaje się powtórnemu wyżarzaniu rekrystalizującemu i tworzeniu tekstury Goss'a (grube ziarno wyżarzone), wyżarzaniu oczyszczającemu stal z pierwiastków, które nie są już potrzebne do sterowania rekrystalizacją i tworzenia tekstury (koń cowe wyżarzanie), jeżeli jest to potrzebne do usunięcia jakichkolwiek pozostałości z nieprzywierającej warstwy i usunięcia z powierzchni taśmy tlenków utworzonych podczas wcześniejszych procesów wyżarzania.
PL 201 065 B1
Warunki procesu, które zapewniają powierzchnię podłoża blachy, która jest pozbawiona jakiejkolwiek powłoki szklistej są szczególnie korzystne do zapobiegania tworzeniu i konieczności następnego usuwania powłoki szklistej po wyżarzaniu zwiększającym ziarno.
Wyżarzanie przy powtórnej rekrystalizacji z tworzeniem tekstury Goss'a, które jest prowadzone jako ciągły proces wyżarzania z maksymalnym czasem trwania 15 min w piecu dla ciągłej taśmy, jest korzystnym wariantem w wytwarzaniu podłoża blachy. W tym kontekście, korzystnie wyżarzanie oczyszczające stal jest także prowadzone, jako ciągły proces wyżarzania z maksymalnym czasem trwania 15 min w piecu do ciągłej wstęgi. Pod względem optymalizacji procesu, te etapy procesu zapewniają najlepsze rezultaty, jeżeli tworzenie warstw powierzchniowych według wynalazku jest prowadzone bezpośrednio jednocześnie z wyżarzaniem w piecu do ciągłej taśmy.
Na zastosowane podłoże blachy także może korzystnie wpływać poprzez to, że poddaje się je warunkom wyżarzania azotującego pomiędzy pierwszym walcowaniem na zimno i wtórna rekrystalizacją. Realizuje się to poprzez dodanie NH3 do gazu wyżarzającego. Jako alternatywa do tego, taśma może być azotowana za pomocą odpowiednich dodatków dostarczających azot w celu wytworzenia nieprzywierającej warstwy.
Odpowiedni sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie według wynalazku z powłoką izolująca elektrycznie z amorficznej siatki węglowo-wodorowej obejmuje tworzenie powłoki podłoża blachy ukształtowanej jako taśma z powłoką izolującą elektrycznie zachodzące w sposobie ciągłym. Dokładniej, nakładanie poprawiających przyczepność warstw pośrednich także ma miejsce w sposobie ciągłym wytwarzania taśmy, które jest korzystnie realizowane przed ciągłym nakładaniem amorficznej siatki węglowo-wodorowej.
Zarówno przy pokrywaniu amorficzną siatką węglowo-wodorową i przy nakładaniu polepszających przyczepność warstw pośrednich, jako metody pokrywania można stosować zarówno metody osadzanie chemiczne z fazy gazowej (CVD) jak i metody osadzanie fizyczne z fazy gazowej (PVD). W przypadku metod CVD, stosuje się metody wykorzystujące aktywację cieplną lub aktywację plazmową, a zwłaszcza szczególnie korzystnie metody wyładowania jarzeniowego z wnękową katodą. W przypadku metod PVD, naparowywania termicznego, napylania lub naparowywania laserem, wiązką elektronowa lub w łuku. Naparowywanie szybką wiązką elektronową aktywowaną plazmą jest uważane, jako szczególnie korzystny przykład metody PVD. Jest także możliwe przy poszczególnych etapach pokrywania stosowanie różnych metod.
Korzystnie, przed pokrywaniem, chropowatość Ra powierzchni podłoża stali powinna być max.
0,5 μm, ponieważ to sprzyja znacznemu poprawieniu właściwości magnetycznych.
Poniżej, wynalazek jest wytłumaczony bardziej szczegółowo poprzez przykłady wykonania z odniesieniem do rysunku, na którym fig. 1 przedstawia stratę histerezowa wykreśloną w funkcji zewnętrznego nacisku/naprężenia rozciągającego blachę, która została pokryta powłoką powierzchniową powodującą rozciąganie, dla blachy pokrytej typowym układem powłok i dla blachy pokrytej według wynalazku, i fig. 2 przedstawia schemat urządzenia do dwustronnego pokrywania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie zawierającej polepszającą przyczepność warstwę pośrednią i następnie powlokę izolująca elektrycznie z amorficznej siatki węglowo-wodorowej w ciągłym sposobie wytwarzania taśmy.
Tabela 1 ukazuje dla próbek 1 do 4: odpowiedni stan powłoki; odpowiednie naprężenie rozciągające obliczone z zakrzywienia próbki pokrytej po jednej stronie (w przypadku DLC -pokrytej po jednej stronie, w przypadku typowej izolacji - następnie pozbawionej izolacji po jednej stronie); odpowiednią grubość blachy, stratę histerezową P1,7 (określoną przy częstotliwości 50Hz i polaryzacji 1,7 Tesla); magnetyczną polaryzację przy natężeniu pola magnetycznego 800 A/m.
T a b e l a 1
Próbka | Stan | Naprężenie rozciągające [MPa] **/ | Grubość blachy [mm] | P-1,7 W/kg | J800 T |
1 | Odniesienie (typowa izolacja) | 5 | 0,213 | 0,89 | 1,90 |
2*1 | Pokrycie DLC 1 μιτι | 12 | 0,220 | 0,84 | 1,90 |
3*/ | Pokrycie DLC 2 μτ | 24 | 0,216 | 0,69 | 1,92 |
4*/ | Pokrycie DLC 2 μτ | 24 | 0,221 | 0,71 | 1,93 |
*/ przykłady według wynalazku **/ obliczone z krzywej próbki pokrytej po jednej stronie (w przypadku DLC -pokrytej po jednej stronie, w przypadku typowej izolacji - następnie pozbawionej izolacji po jednej stronie).
PL 201 065 B1
Podłoża blachy zostały pobrane z produkcji fabrycznej taśm ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie o dużej przenikalności z typowa powłoką szklistą i warstwami fosforanowymi (próbka 1).
Warstwa fosforanowa była usunięta za pomocą 25% wagowego NaOH w 60°C, zaś poniższa powłoka szklista była usunięta za pomocą mieszaniny HCI/HF. Następnie powierzchnię wygładzono za pomocą chemicznego polerowania w mieszaninie H2O2/HF.
Wytwarzanie powłok próbek 2 było realizowane następująco:
Za pomocą intensywnego wyładowania jarzeniowego, wytworzonego sposobem wyładowania wnękowej katody, w mieszaninie argon-acetylen, wytworzono plazmę, z której po obu stronach blachy ze stali magnetycznej osadzono amorficzną warstwę węglowo-wodorową o dużej twardości i wysokim (szczątkowym naprężeniu ściskającym. Przed nałożeniem tej warstwy, osadzono polepszającą przyczepność amorficzną warstwę o grubości około 0,5 μm, zawierającą krzem, węgiel i wodór (Si-C:H) za pomocą tej samej wnękowej katody w metodzie wyładowania jarzeniowego. Zamiast acetylenu, zastosowano TMS (tetrametylosilan) jako wyjściowa substancję do osadzania warstwy.
Na próbce 2 wytworzono w ten sposób amorficzną warstwę węglowo-wodorową, w tabeli 1 określoną jako warstwa DLC, o grubości 1 μm. Z odchylenia od próbki odniesienia, która jest pokryta tylko po jednej stronie, określono szczątkowe naprężenie ściskające jako 3 GPa. Następnie, w blasze ze stali magnetycznej o grubości 0,25 mm wytworzono naprężenie rozciągające (około 12 MPa. Za pomocą testera Franklina określono oporność powierzchniową > 200Ω cm.
Wytwarzanie powłok próbek 3 i 4 było realizowane następująco:
Za pomocą wyładowania jarzeniowego o wysokiej częstotliwości, w mieszaninie argonacetylen, wytworzono plazmę, z której po obu stronach blachy ze stali magnetycznej osadzono amorficzną warstwę węglowo-wodorową o dużej twardości i wysokim szczątkowym naprężeniu ściskającym. Przed nałożeniem tej warstwy, osadzono polepszającą przyczepność warstwę tytanową o grubości około 0,5 μm, zawierająca krzem, węgiel i wodór (Si-C:H) za pomocą napylania katodowego. Przejście od warstwy tytanowej do amorficznej warstwy węglowo-wodorowej zachodziło bez przerywania próżni.
Amorficzne warstwy węglowo-wodorowe próbek 3 i 4 miały grubości 2 μm. Z odchylenia od próbki odniesienia, która jest pokryta tylko po jednej stronie, określono dla warstwy szczątkowe naprężenie ściskające jako 3GPa. Następnie, w blasze ze stali magnetycznej o grubości 0,25 mm wytworzono naprężenie rozciągające około 25 MPa. Za pomocą testera Franklina określono dla warstwy oporność powierzchniową większą niż 20Ω cm.
Ilustracja struktury domenowej w tym samym położeniu próbki, przed i po pokryciu według wynalazku amorficzna siatką węglowo-wodorową ukazuje niewielki efekt rozdrobnienia domen amorficznej warstwy węglowo-wodorowej o grubości 1 μm i silny efekt rozdrobnienia domen amorficznej warstwy węglowo-wodorowej o grubości 2 μιτι.
W celu określenia intensywności naprężeń ściskających, straty histerezowe były zmierzone zależnie od zewnętrznego naprężenia rozciągającego (wartości dodatnie) i naprężenia ściskającego (wartości ujemne). Wyniki są pokazane na fig. 1. wartości określone dla blachy niepokrytej są zaznaczone rombami; wartości określone dla blachy z typowym układem warstwowym powłoki szklistej + fosforan są zaznaczone trójkątami; a wartości określone dla blachy według wynalazku są zaznaczone kwadratami.
Fig. 2 schematycznie ukazuje przykład urządzenia do dwustronnego pokrywania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie polepszającą przyczepność warstwą pośrednią i następnie do nakładania powłoki izolującej elektrycznie amorficznej siatki węglowo-wodorowej w ciągłym procesie wytwarzania taśmy.
Po odwinięciu i przeniesieniu do strefy wysoko próżniowej, która jest zamknięta prze blokadę 1, taśma B blachy ze stali magnetycznej najpierw przechodzi przez urządzenie 2 do dokładnego oczyszczania plazmą, w którym zachodzi dokładne oczyszczanie, na przykład poprzez wyładowanie jarzeniowe wzmocnione polem magnetycznym w atmosferze Ar.
Polepszająca przyczepność warstwa pośrednia jest nakładana za pomocą naparowywania wiązką elektronowa o dużej prędkości w zespole naparowywania 3, przez który następnie przemieszcza się taśmę. Ta polepszająca przyczepność warstwa pośrednia zawiera na przykład Ti lub TiN. W tym ostatnim przypadku korzystne jest, gdy stosuje się reakcyjny wariant naparowywania wiązka elektronowa, w którym wprowadza się docelowo azot, jako gaz reakcyjny do próżni. Zastosowanie aktywacji plazmy podczas naparowywania też jest korzystne.
Następnie, bez przerywania, ma miejsce osadzanie powłoki izolującej elektrycznie z amorficznej siatki węglowo-wodorowej w zespole 4 do wyładowania jarzeniowego poprzez wnękową elektrodę,
PL 201 065 B1 przy czym nadal utrzymuje się próżnię. Zastosowanie pasmowej wnękowej katody jest szczególnie korzystne w tym kontekście.
Następnie pokryta taśma B jest usuwana ze strefy próżniowej poprzez blokadę 5 i potem zwijana.
Claims (20)
- Zastrzeżenia patentowe1. Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, zawierająca podłoże i elektrycznie izolującą powłokę, znamienna tym, że elektrycznie izolująca powłoka zawiera amorficzną siatkę węglowo-wodorową.
- 2. Blacha według zastrz. 1, znamienna tym, że elektrycznie izolująca powłoka jest domieszkowana co najmniej jednym z pierwiastków Si, O, N, B lub F.
- 3. Blacha według zastrz. 2, znamienna tym, że elektrycznie izolująca powłoka zawiera pierwiastki domieszkujące w ilości w zakresie od 1 do 20 procent atomowych.
- 4. Blacha według zastrz. 1 albo 2 albo 3, znamienna tym, że elektrycznie izolująca powłoka wywiera na podłoże blachy naprężenie rozciągające co najmniej 8 MPa.
- 5. Blacha według zastrz. 4, znamienna tym, że pomiędzy elektrycznie izolującą powłoką i podłożem blachy jest usytuowana co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia.
- 6. Blacha według zastrz. 5, znamienna tym, że co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia zawiera siatkę Si-C-O-H.
- 7. Blacha według zastrz. 5, znamienna tym, że co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia zawiera siatkę Si-C-H.
- 8. Blacha według zastrz. 5, znamienna tym, że co najmniej jedna polepszająca przyczepność warstwa pośrednia zawiera tytan lub związki tytanowo-żelazowe.
- 9. Blacha według zastrz. 8, znamienna tym, że związek tytanowo-żelazowy jest azotkiem tytanu.
- 10. Blacha według zastrz. 1 albo 2 albo 3, znamienna tym, że elektrycznie izolująca powłoka ma powierzchniową odporność izolacyjną co najmniej 10Ohm*cm2.
- 11. Blacha według zastrz. 1 albo 2 albo 3, znamienna tym, że strata histerezowa (przy częstotliwości 50 Hertz i polaryzacji 1,7 Tesla) blachy wynosi Pv < 0,90 W/kg przy grubości blachy 0,30 mm; Pv < 0,80 W/kg przy grubości blachy 0,27 mm; a Pv < 0,70 W/kg przy grubości blachy 0,23 mm.
- 12. Blacha według zastrz. 1 albo 2 albo 3, znamienna tym, że podłoże blachy zawiera 2,5% do 4,0% wagowych krzemu, do 0,20% wagowych magnezu, do 0,50% wagowych miedzi, do 0,065% wagowych aluminium, do 0,0150% wagowych azotu, i co najmniej 90% wagowych żelaza.
- 13. Blacha według zastrz. 12, znamienna tym, że zawiera co najmniej jeden z pierwiastków Cr, Ni, Mo, P, As, Sn, Sb, Se, Te, B lub Bi w ilości do 0,2% wagowych.
- 14. Sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie, w którym podłoże pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką, znamienna tym, że elektrycznie izolującą powłokę kształtuje się z amorficznej siatki węglowo-wodorowej, przy czym podłoże blachy ukształtowanej, jako taśma pokrywa się elektrycznie izolującą powłoką w ciągłym procesie wytwarzania taśmy.
- 15. Sposób według zastrz. 14, znamienny tym, że przed pokryciem blachy elektrycznie izolującą powłoką na podłoże nakłada się, co najmniej jedną warstwę pośrednią poprawiającą przyczepność, przy czym warstwę pośrednią poprawiającą przyczepność nakłada się w procesie ciągłym wytwarzania taśmy.
- 16. Sposób według zastrz. 14 albo 15, znamienny tym, że co najmniej jeden etap pokrywania realizuje się za pomocą metody osadzania chemicznego z fazy gazowej (CVD).
- 17. Sposób według zastrz. 14 albo 16, znamienny tym, że co najmniej jeden etap pokrywania realizuje się za pomocą metody osadzanie fizyczne z fazy gazowej (PVD).
- 18. Sposób według zastrz. 17, znamienny tym, że co najmniej jeden etap pokrywania realizuje się za pomocą metody PVD przy aktywowaniu plazmy.
- 19. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że co najmniej jeden etap pokrywania realizuje się za pomocą metody wyładowania jarzeniowego z wnękową katodą.
- 20. Sposób według któregokolwiek z zastrz. 14 do 19, znamienny tym, że przed pokrywaniem nadaje się powierzchni podłoża chropowatość Ra wynoszącą max. 0,5 μ^ι.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10130308A DE10130308B4 (de) | 2001-06-22 | 2001-06-22 | Kornorientiertes Elektroblech mit einer elektrisch isolierenden Beschichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL366608A1 PL366608A1 (pl) | 2005-02-07 |
PL201065B1 true PL201065B1 (pl) | 2009-03-31 |
Family
ID=7689180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL366608A PL201065B1 (pl) | 2001-06-22 | 2002-06-21 | Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7169479B2 (pl) |
EP (1) | EP1397527B1 (pl) |
JP (2) | JP2005500435A (pl) |
KR (1) | KR100884352B1 (pl) |
BR (1) | BR0210576A (pl) |
DE (2) | DE10130308B4 (pl) |
PL (1) | PL201065B1 (pl) |
RU (1) | RU2288297C2 (pl) |
WO (1) | WO2003000951A1 (pl) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004204299A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Ebara Corp | ダイヤモンド成膜シリコンおよび電極 |
US7909873B2 (en) | 2006-12-15 | 2011-03-22 | Soteira, Inc. | Delivery apparatus and methods for vertebrostenting |
US9480485B2 (en) | 2006-12-15 | 2016-11-01 | Globus Medical, Inc. | Devices and methods for vertebrostenting |
KR100864976B1 (ko) * | 2007-03-28 | 2008-10-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
WO2009155319A1 (en) | 2008-06-17 | 2009-12-23 | Soteira, Inc. | Devices and methods for fracture reduction |
DE102008039326A1 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | IWT Stiftung Institut für Werkstofftechnik | Verfahren zum elektrischen Isolieren von Elektroblech, elektrisch isoliertes Elektroblech, lamellierter magnetischer Kern mit dem Elektroblech und Verfahren zum Herstellen eines lamellierten magnetischen Kerns |
CN102498232B (zh) * | 2009-08-07 | 2014-04-16 | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) | 包括含类金刚石层的基底及其制备方法 |
DE102010002688C5 (de) * | 2010-03-09 | 2014-03-06 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Schraubendruckfeder für einen Ölabstreifring eines Kolbens in einem Verbrennungsmotor und Verfahren zur Beschichtung einer Schraubendruckfeder |
DE102010002686A1 (de) | 2010-03-09 | 2011-09-15 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Gleitelement, insbesondere Kolbenring, und Verfahren zur Beschichtung eines Gleitelements |
MX335959B (es) * | 2010-08-06 | 2016-01-05 | Jfe Steel Corp | Lamina de acero electrico de grano orientado y metodo para la fabricacion de la misma. |
JP5754097B2 (ja) * | 2010-08-06 | 2015-07-22 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP5593942B2 (ja) * | 2010-08-06 | 2014-09-24 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
DE102010038038A1 (de) * | 2010-10-07 | 2012-04-12 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zum Erzeugen einer Isolationsbeschichtung auf einem kornorientierten Elektro-Stahlflachprodukt und mit einer solchen Isolationsbeschichtung beschichtetes Elektro-Stahlflachprodukt |
US20140272399A1 (en) | 2011-11-04 | 2014-09-18 | Tata Steel Uk Limited | Coated grain oriented steel |
JP5974671B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2016-08-23 | Jfeスチール株式会社 | 極薄電磁鋼板 |
JP5942886B2 (ja) * | 2013-02-18 | 2016-06-29 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の窒化処理設備および窒化処理方法 |
JP5942884B2 (ja) | 2013-02-18 | 2016-06-29 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の窒化処理設備および窒化処理方法 |
DE102013208617A1 (de) * | 2013-05-10 | 2014-11-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektroblech mit einer die elektrische Isolation verbessernden Schicht und Verfahren zu dessen Herstellung |
WO2016125504A1 (ja) | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板およびその製造方法並びに変圧器騒音特性の予測方法 |
DE102015114358B4 (de) | 2015-08-28 | 2017-04-13 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines kornorientierten Elektrobands und kornorientiertes Elektroband |
DE102015218439A1 (de) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | Robert Bosch Gmbh | In seinen Ummagnetisierungsverlusten reduziertes Teil und Verfahren zu seiner Herstellung |
RU2706940C1 (ru) * | 2016-10-18 | 2019-11-21 | ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН | Текстурированная электромагнитная листовая сталь и способ производства текстурированной электромагнитной листовой стали |
JP6410002B1 (ja) | 2016-12-21 | 2018-10-24 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板および方向性電磁鋼板の製造方法 |
EP3653752A4 (en) * | 2017-07-13 | 2021-05-12 | Nippon Steel Corporation | ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET AND MANUFACTURING METHOD FOR ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET |
DE102017220718A1 (de) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | Thyssenkrupp Ag | Optimierung des Stickstofflevels während der Haubenglühung II |
CN111479942A (zh) * | 2017-12-12 | 2020-07-31 | 杰富意钢铁株式会社 | 多层型电磁钢板 |
CN111448330A (zh) * | 2017-12-12 | 2020-07-24 | 杰富意钢铁株式会社 | 多层型电磁钢板 |
CN111465709B (zh) * | 2017-12-12 | 2021-11-23 | 杰富意钢铁株式会社 | 多层型电磁钢板 |
KR102218446B1 (ko) * | 2017-12-26 | 2021-02-22 | 주식회사 포스코 | 초저철손 방향성 전기강판 제조방법 |
KR20190078059A (ko) * | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 주식회사 포스코 | 초저철손 방향성 전기강판 제조방법 |
WO2019188683A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | Jfeスチール株式会社 | 表面処理設備 |
EP3856938B1 (de) * | 2018-09-26 | 2024-05-22 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zur herstellung eines mit einer isolationsschicht versehenen kornorientierten elektrobandes und kornorientiertes elektroband |
DE102018216453A1 (de) * | 2018-09-26 | 2020-03-26 | Thyssenkrupp Ag | Beschichtung von kornorientiertem Elektroband durch CVD II |
DE102018216457A1 (de) * | 2018-09-26 | 2020-03-26 | Thyssenkrupp Ag | Beschichtung von kornorientiertem Elektroband durch CVD |
DE102021213823B4 (de) | 2021-12-06 | 2024-05-08 | Lenze Se | Verfahren zur Herstellung eines Rotors |
EP4202066A1 (de) | 2021-12-21 | 2023-06-28 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zum erzeugen eines kornorientierten elektrobands, kaltgewalztes stahlband und kornorientiertes elektroband |
EP4202067A1 (de) | 2021-12-21 | 2023-06-28 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zum erzeugen eines kornorientierten elektrobands und kornorientiertes elektroband |
EP4202068A1 (de) | 2021-12-21 | 2023-06-28 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Verfahren zum erzeugen eines kornorientierten elektrobands und kornorientiertes elektroband |
EP4273280A1 (en) | 2022-05-04 | 2023-11-08 | Thyssenkrupp Electrical Steel Gmbh | Method for producing a grain-oriented electrical steel strip and grain-oriented electrical steel strip |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB619375A (en) * | 1945-12-15 | 1949-03-08 | Westinghouse Electric Int Co | Improvements in or relating to magnetic cores |
US3793073A (en) * | 1970-09-17 | 1974-02-19 | Nippon Steel Corp | Electrical steel sheets and strips having excellent punching and welding characteristics for the use of a laminated iron core |
BE789262A (fr) * | 1971-09-27 | 1973-01-15 | Nippon Steel Corp | Procede de formation d'un film isolant sur un feuillard d'acierau silicium oriente |
US3839256A (en) * | 1973-05-11 | 1974-10-01 | Steel Corp | Silicate-resin coating composition |
JPS5518566A (en) * | 1978-07-26 | 1980-02-08 | Nippon Steel Corp | Improving method for iron loss characteristic of directional electrical steel sheet |
US4456812A (en) * | 1982-07-30 | 1984-06-26 | Armco Inc. | Laser treatment of electrical steel |
WO1986004929A1 (en) * | 1985-02-22 | 1986-08-28 | Kawasaki Steel Corporation | Process for producing unidirectional silicon steel plate with extraordinarily low iron loss |
DE3666229D1 (en) * | 1985-02-22 | 1989-11-16 | Kawasaki Steel Co | Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets |
JPH06952B2 (ja) * | 1985-04-18 | 1994-01-05 | 鐘淵化学工業株式会社 | 硬質カ−ボン膜 |
US5123977A (en) * | 1989-07-19 | 1992-06-23 | Allegheny Ludlum Corporation | Method and apparatus for refining the domain structure of electrical steels by local hot deformation and product thereof |
JPH03166370A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-07-18 | Nippon Steel Corp | 硬質炭素膜のコーティング方法 |
JPH03291377A (ja) * | 1990-04-10 | 1991-12-20 | Kawasaki Steel Corp | 耐摩耗性の極めて優れる被膜を有する鋼板の製造方法 |
JP2819431B2 (ja) * | 1990-09-25 | 1998-10-30 | 新日本製鐵株式会社 | 硬質炭素膜の被覆方法 |
JP2895670B2 (ja) * | 1991-10-24 | 1999-05-24 | 川崎製鉄株式会社 | 鉄損の低い方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
JP3023242B2 (ja) * | 1992-05-29 | 2000-03-21 | 川崎製鉄株式会社 | 騒音特性の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
EP0555867B1 (en) * | 1992-02-13 | 2000-12-06 | Nippon Steel Corporation | Oriented electrical steel sheet having low core loss and method of manufacturing same |
JP2698003B2 (ja) * | 1992-08-25 | 1998-01-19 | 新日本製鐵株式会社 | 一方向性珪素鋼板の絶縁皮膜形成方法 |
BE1006711A3 (nl) * | 1992-12-02 | 1994-11-22 | Vito | Werkwijze voor het aanbrengen van een diamantachtige koolstoflaag op staal, ijzer of legeringen daarvan. |
FR2737338B1 (fr) * | 1995-07-26 | 1997-08-22 | Ugine Sa | Tole d'acier electrique revetue utilisee dans la fabrication de circuits magnetiques |
JPH10203896A (ja) * | 1997-01-17 | 1998-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | ダイヤモンドライクカーボン薄膜が形成された部材およびその形成方法 |
US6280862B1 (en) | 1997-04-03 | 2001-08-28 | Kawasaki Steel Corporation | Ultra-low iron loss grain-oriented silicon steel sheet |
JP3280898B2 (ja) * | 1997-04-03 | 2002-05-13 | 川崎製鉄株式会社 | 超低鉄損一方向性けい素鋼板 |
JP2962715B2 (ja) | 1997-10-14 | 1999-10-12 | 新日本製鐵株式会社 | 電磁鋼板の絶縁皮膜形成方法 |
WO1999047346A1 (de) * | 1998-03-13 | 1999-09-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum verpressen von fliessförmigen feststoffen |
DE19825860A1 (de) * | 1998-06-10 | 1999-12-16 | Elgan Diamantwerkzeuge Gmbh & | Kolbenring und seine Verwendung |
DE19834968A1 (de) * | 1998-08-03 | 2000-02-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Beschichtung für Werkzeuge zur Bearbeitung von wärmebehandeltem Glas |
WO2000047402A1 (en) | 1998-12-02 | 2000-08-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Fluorine-doped diamond-like coatings |
-
2001
- 2001-06-22 DE DE10130308A patent/DE10130308B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-06-21 PL PL366608A patent/PL201065B1/pl not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 EP EP20020753070 patent/EP1397527B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-21 WO PCT/EP2002/006869 patent/WO2003000951A1/de active IP Right Grant
- 2002-06-21 US US10/481,526 patent/US7169479B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-21 JP JP2003507331A patent/JP2005500435A/ja active Pending
- 2002-06-21 RU RU2004101609/02A patent/RU2288297C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 BR BR0210576-4A patent/BR0210576A/pt active Search and Examination
- 2002-06-21 KR KR1020037016778A patent/KR100884352B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-21 DE DE50201414T patent/DE50201414D1/de not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-05-27 JP JP2008137395A patent/JP2009018573A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040043130A (ko) | 2004-05-22 |
JP2005500435A (ja) | 2005-01-06 |
DE10130308B4 (de) | 2005-05-12 |
DE10130308A1 (de) | 2003-01-09 |
WO2003000951A1 (de) | 2003-01-03 |
RU2288297C2 (ru) | 2006-11-27 |
EP1397527B1 (de) | 2004-10-27 |
JP2009018573A (ja) | 2009-01-29 |
RU2004101609A (ru) | 2005-06-10 |
DE50201414D1 (de) | 2004-12-02 |
US7169479B2 (en) | 2007-01-30 |
EP1397527A1 (de) | 2004-03-17 |
US20050112377A1 (en) | 2005-05-26 |
KR100884352B1 (ko) | 2009-02-18 |
PL366608A1 (pl) | 2005-02-07 |
BR0210576A (pt) | 2004-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL201065B1 (pl) | Blacha ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie i sposób wytwarzania blachy ze stali magnetycznej o zorientowanym ziarnie | |
EP0193324B1 (en) | Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets | |
US4713123A (en) | Method of producing extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets | |
US4985635A (en) | Method of producing extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets | |
EP0971374A1 (en) | Ultralow-iron-loss grain oriented silicon steel plate and process for producing the same | |
KR102044326B1 (ko) | 방향성 전기강판 및 방향성 전기강판의 제조 방법 | |
CN113631734B (zh) | 方向性电磁钢板及其制造方法 | |
EP0910101A1 (en) | Ultra-low iron loss unidirectional silicon steel sheet | |
JP2018154881A (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP2007154269A (ja) | セラミック被膜付き方向性電磁鋼板 | |
JP2019021920A (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP4787613B2 (ja) | フェライト被膜付き方向性電磁鋼板 | |
KR20190083352A (ko) | 방향성 전자 강판 및 방향성 전자 강판의 제조 방법 | |
US6758915B2 (en) | Grain oriented electromagnetic steel sheet exhibiting extremely small watt loss and method for producing the same | |
KR102180816B1 (ko) | 저철손 방향성 전기강판 제조방법 | |
JP2019123936A (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP4206942B2 (ja) | 鉄損が極めて低くかつ被膜密着性に優れた方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
CA1297070C (en) | Extra-low iron loss grain oriented silicon steel sheets | |
JP2004060029A (ja) | 被膜密着性に優れた超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP4016756B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP4725711B2 (ja) | 低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 | |
KR102043782B1 (ko) | 방향성 전기강판 및 방향성 전기강판의 제조방법 | |
JP3274409B2 (ja) | 被膜密着性に優れ鉄損が極めて低い方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP2004060040A (ja) | 熱安定性に優れた超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 | |
JP2006261602A (ja) | 被膜密着性に優れた超低鉄損方向性電磁鋼板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20100621 |