MXPA01009661A - Hoja de liberacion y proceso para produccion de la misma. - Google Patents

Abstract

Se describe una hoja de liberacion que comprende una hoja como sustrato y una capa curada colocada en la misma de una composicion de silicona de tipo de reaccion de adicion que contenia un fotosensibilizador, caracterizada porque la capa curada se forma al tratar con calor una capa de una composicion de silicona de tipo de reaccion de adicion que contenia al menos un fotosensibilizador seleccionado del grupo que consiste de alfa- hidroxicetonas (por ejemplo 2-hidroxi-2-metil-1-fenilpropan-1-ona, 1- [4-(2-hidroxietoxi)- fenil]-2-hidroxi-2-metilpropan-1-ona y 1-hidroxiciclohexi-fenil- cetona) y alfa-diceton- dialquilacetales (por ejemplo bencildimetilacetal), seguido por el tratamiento con irradiacion con rayos ultravioleta; y un proceso para producir eficientemente la hoja de liberacion en productividad extremadamente alta. La capa de una composicion de silicona de tipo de reaccion de adicion tiene adhesividad favorable para el sustrato y propiedad sin migracion, y de esta forma, el objetivo de la hoja de liberacion tiene excelente liberalidad y excepcionalmente alta planeidad.

Description

HOJA DE LIBERACIÓN Y PROCESO PARA PRODUCCIÓN DE LA MISMA CAMPO TÉCNICO La presente invención se relaciona con una hoja de liberación y a un proceso para la producción de la misma. Más particularmente, se relaciona con una hoja de liberación en la cual una capa curada de una silicona tiene adhesividad favorable para un sustrato y una propiedad sin migración; la cual tiene excelente capacidad de liberación y alta igualdad de superficie o planeidad que no puede ser realizada por ninguna de las hojas convencionales; y la cual se utiliza en etiquetas y cintas adhesivas sensibles a la presión y es útil como una película de moldeo para producir una hoja verde cerámica. Además, la presente invención corresponde a un proceso para producir eficientemente la hoja de liberación mencionada en lo anterior.

ANTECEDENTES DE LA TÉCNICA Una hoja de liberación comprende un sustrato tal como papel, una película para plásticos y una hoja de papel laminado de polietileno, y una capa tratada de liberación que se coloca en la misma y se forma al recubrir al menos un lado del sustrato con una silicona como un agente de liberación, seguido por curación de la resina. Tal hoja de Ref: 132800 liberación se utiliza como una etiqueta pegajosa, una hoja portadora al tiempo de producir una hoja de resina, una hoja protectora para la misma, una película de moldeo para formar una película de una hoja verde cerámica, etc. Los rendimientos requeridos de la hoja de liberación mencionada en lo anterior, la cual se somete para tal propósito de uso incluye por ejemplo, capacidad de liberación moderada, propiedad sin migración de silicona, estabilidad con el paso del tiempo, alta planeidad, aspereza de superficie moderada, capacidad para recubrir al tiempo de la formación de la película de una resina, adhesivo sensible a la presión, pasta cerámica, etc., y rendimientos similares. Ejemplos de agentes para el tratamiento de liberación incluyen un agente de liberación compuesto de una silicona de tipo de reacción de adición curable con calor, tipo de condensación curable con calor, tipo curable con temperatura ambiente, tipo curable con rayos ultravioleta, tipo curable con haz de electrones, y tipo curable con rayos de calor y ultravioleta y similares, de los cuales se utiliza principalmente un agente de liberación compuesto de una silicona de tipo de adición curable con calor. Sin embargo, para asegurar una película curada estable, el agente de liberación compuesto de una silicona de tipo de reacción de adición curable con calor está obligado a ser curado a una alta temperatura de usualmente 140°C o mayor.

Como resultado, tal problema que se originó de esa contracción o arruga térmica es más propenso a ser provocado en un sustrato, especialmente un sustrato que es inferior en resistencia al calor, ya que el calor es aplicado al sustrato en la etapa de tratamiento de liberación, haciendo de ese modo imposible formar una hoja de liberación que tenga alta planeidad. Bajo tales circunstancias, en el caso de realizar un procesamiento de tratamiento de liberación utilizando una silicona de tipo de reacción de adición curable con calor para un sustrato de película o una hoja de papel laminada con polietileno sobre lados dobles, siendo cada uno inferior en resistencia al calor, se hace un intento para retardar la velocidad de procesamiento bajo una condición de calentamiento de una baja temperatura (110 a 130°C) para suprimir la contracción o arruga térmica y formación de polietileno a lo máximo. Sin embargo, tal tratamiento de procesamiento origina productibilidad inevitablemente pobre, probabilidad de curación insuficiente y además, los problemas inoportunos en la propiedad sin migración de silicona, estabilidad de liberación y similares. Además, es problemático un agente de liberación compuesto de una silicona de cualquier tipo de condensación curable con calor y tipo curable con temperatura ambiente en bajas velocidades de reacción de curación y además, la propiedad sin migración inferior de silicona y similares. Cuando se compara con lo anterior, un agente de liberación compuesto de una silicona de cualquier tipo curable con rayos ultravioleta y tipo curable con rayos con calor y ultravioleta es útil como un agente de liberación capaz de resolver los problemas mencionados en lo anterior, y capaz de curar a una baja temperatura así como también una alta velocidad de procesamiento. Sin embargo, en el caso de producir una hoja de liberación utilizando cualquiera de los agentes de liberación anteriores, se desea aumento de productibilidad adicional. Para aumentar además la productibilidad en una hoja de liberación utilizando un agente de liberación convencional compuesto de una silicona de tipo curable de rayos con calor y ultravioleta, el procesamiento de tratamiento de liberación se debe llevar a cabo a una alta velocidad adicional. Para tal alta velocidad, es necesario aumentar la capacidad de curación del agente de liberación compuesto de una silicona mencionada en lo anterior, por lo cual la importancia debe estar unida a la selección de un fotosensibilizador para ser utilizado en la presente.

DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN En tales circunstancias, un objeto de la presente invención es para proporcionar una hoja de liberación en donde una capa curada de una silicona tiene adhesividad favorable para un sustrato y propiedad sin migración; la cual tiene excelente capacidad de liberación y alta planeidad que no puede ser realizada por ninguna de las hojas convencionales; y la cual es extremadamente aumentada en productividad. Otros objetos de la presente invención serán obvios a partir del texto de esta especificación descrita de aquí en adelante. Como resultado de la búsqueda extensiva intensa y la investigación acumulada por los presentes inventores para desarrollar una hoja de liberación que tenga las funciones excelentes establecidas antes y es aumentada en productividad, se obtuvieron los siguientes descubrimientos e información. Se produce un agente de liberación convencional compuesto de una silicona de tipo curable con rayos de calor y ultravioleta agregando un fotosensibilizador para un agente de liberación compuesto de una resina de silicona tipo de reacción de adición curable con calor, y curando el agente por tratamiento de calentamiento e irradiación con rayos ultravioleta. A ese respecto, se hace uso de, como un fotosensibilizador, acetofenona, benzofenona, trimetilsilil-benzofenona, propiofenona, 3-metilacetofenona, 4-metilaceto-fenona, etiléter de benzoina, un compuesto en donde la benzoina se enlaza por la unión de éter para ambos extremos de dimetilpolisiloxano, 4-alilacetofenona, 3-pentilaceto-fenona, 4-metoxibenzofenona, a-aminocetona, trifenilamina, azobis (isobutironitrilo) y similares. Es conocido que al agregar cualquiera del fotosensibilizador ejemplificado en lo anterior, la capacidad de curación se aumenta comparada con un agente de liberación convencional compuesto de una silicona de tipo de reacción de adición curable con calor. Sin embargo, la búsqueda e investigación adicionales se acumulan en fotosensibilizadores por los presentes inventores, prestando atención a la necesidad de utilizar un fotosensibilizador que sea más útil para curar la silicona que el fotosensibilizador ejemplificado en lo anterior para llevar a cabo otra baja temperatura y curación de velocidad más alta. Como resultado, se ha encontrado que las a-hidroxicetonas y los oc-dicetondialquilacetales son efectivos en particular. La presente invención ha sido realizada por los descubrimientos e información mencionados en lo anterior. Es decir, la presente invención proporciona: (1) una hoja de liberación que comprende una hoja como sustrato y una capa curada colocada en la misma de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contiene un fotosensibilizador, caracterizada porque la capa curada se forma al tratar con calor una capa de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contiene al menos un fotosensibilizador seleccionado del grupo que consiste de a-hidroxicetonas y a-dicetondialquil-acetales, seguido por un tratamiento con irradiación con rayos ultravioleta. (2) la hoja de liberación establecida en el punto (1) precedente, en donde el fotosensibilizador es al menos una especie seleccionada del grupo que consiste de a-hidroxicetonas que consistían de 2-hidroxi-l- (4-isopropilfenil) -2-metilpropan-1-ona, 2-hidroxi-2-metil-l-fenilpropan-l-ona, 1-[4- (2-hidroxietoxi) fenil] -2-hidroxi-2-metilpropan-l-ona y 1-hidroxiciclohexilfenilcetona, y de a-dicetondialquilacetales que consistían de bencildimetilacetal y bencildietilacetal . (3) la hoja de liberación establecida en el punto (1) o (2) precedentes, en donde la composición de silicona de tipo de reacción de adición comprende de 0.01 a 10 partes en peso del fotosensibilizador con base en 100 partes en peso de la cantidad total de una silicona de tipo de reacción de adición y un agente de reticulación. (4) la hoja de liberación establecida en el punto (1) o (2) precedentes, en donde la composición de silicona de tipo de reacción de adición comprende polidimetilsiloxano que tiene un grupo vinilo como un grupo funcional. (5) un proceso para la producción de una hoja de liberación que comprende las etapas de equipar una hoja como sustrato en la misma con una capa de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía al menos un fotosensibilizador seleccionado del grupo que consiste de a-hidroxicetonas y a-dicetondialquilacetales, después de esto tratar con calor el sustrato equipado con la capa, e irradiar subsecuentemente la misma con rayos ultravioleta para curar la capa de la composición de silicona.

LA MODALIDAD MAS PREFERIDA PARA LLEVAR A CABO LA INVENCIÓN La hoja de liberación de acuerdo con la presente invención comprende una hoja como sustrato y una capa curada colocada en la misma de una composición de silicona de tipo de reacción de adición. La hoja como sustrato mencionada en lo anterior no está específicamente limitada, pero se puede seleccionar adecuadamente para utilizarse a partir de cualquiera de los sustratos bien conocidos, los cuales han sido hasta ahora utilizados comúnmente como un sustrato en una hoja de liberación. Ejemplos de tales hojas como sustratos incluyen sustratos de papel tales como papel cristal, papel de recubrimiento y papel cuché de recubrimiento, papel laminado que comprende cualquiera de los sustratos de papel anteriores y una resina termoplástica tal como polietileno laminado con el mismo, una película de poliéster hecha de tereftalato de polietileno, naftalato de polietileno o similares, una película de poliolefina hecha de polipropileno, polimetilpenteno o similares, una película de policarbonato y una película de acetato de polivinilo. El espesor de la hoja como sustrato no está limitado específicamente, pero puede ser adecuadamente seleccionado de acuerdo con el propósito de utilizar, y está en el intervalo de normalmente 5 a 300 µm, de preferencia de 10 a 200 µm. La capa curada de la composición de silicona que es instalada en la hoja como sustrato mencionada en lo anterior de acuerdo con la presente invención se obtiene curando una capa de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía el fotosensibilizador por el uso mixto de un tratamiento con calor y un tratamiento de irradiación con rayos ultravioleta. La composición de silicona de tipo de reacción de adición anterior comprende ingredientes principales compuestos de una silicona de tipo de reacción de adición y un agente de reticulación, un catalizador y un fotosensibilizador, y opcionalmente como se desea, una silicona que tenía la función de modificar la característica de liberación de la capa curada, un inhibidor de reacción de adición y un mejorador de la adhesión. La silicona de tipo de reacción de adición mencionada en lo anterior no está limitada específicamente, pero se puede seleccionar para uso a partir de una variedad de la silicona, por ejemplo, aquéllas que han sido hasta ahora utilizadas comúnmente como un agente de liberación compuesta de una silicona de tipo de reacción de adición curable con calor. La silicona de tipo de reacción de adición se ejemplifica por al menos un miembro seleccionado a partir de poliorganosiloxanos que tienen un grupo alquenilo como un grupo funcional en una molécula. Ejemplos preferibles de los poliorganosiloxanos mencionados en lo anterior que tienen un grupo alquenilo como un grupo funcional en una molécula incluyen polidimetilsiloxano que tiene un grupo vinilo como un grupo funcional, polidimetilsiloxano que tiene un grupo hexenilo como un grupo funcional y la mezcla de los dos. El agente de reticulación mencionado en lo anterior se ejemplifica por una silicona tal como poliorganosiloxano que tiene en su única molécula, al menos dos átomos de hidrógeno cada uno unido a un átomo de silicio, específicamente por un copolímero de dimetilsiloxano/metil-hidrogensiloxano el extremo del cual es impedido con un grupo dimetilhidrogensiloxi, un copolímero de dimetil-siloxano/metilhidrogensiloxano el extremo del cual es impedido con un grupo trimetilsiloxi, un poli (metilhidrogen-siloxano) el extremo del cual es impedido con un grupo trimetilsiloxi y poli (hidrogensequioxano) . La cantidad del agente de reticulación ejemplificado que es utilizado se selecciona en el intervalo de 0.1 a 100 partes en peso, de preferencia de 0.3 a 50 partes en peso con base en 100 partes en peso de la silicona de tipo de reacción de adición. Se emplea usualmente como un catalizador, un compuesto de base de platino, el cual se ejemplifica por platino en forma de polvo fino, platino en forma de polvo fino adsorbido en un portador de polvo de carbono, ácido cloroplatínico, un ácido cloroplatínico modificado con alcohol, un complejo de ácido cloroplatínico/olefina, un catalizador de paladio y un catalizador de rodio. La cantidad del catalizador ejemplificado en lo anterior que se utiliza está en el intervalo de 1 a 1000 ppm, basado aproximadamente en la cantidad total de la silicona de tipo de reacción de adición y del agente de reticulación. Por un lado, como el fotosensibilizador que se agrega a la composición de silicona de tipo de reacción de adición, se utiliza en la presente invención, a-hidroxicetonas y/o a-dicetondialquilacetales . Las a-hidroxicetonas se ejemplifican de preferencia por 2-hidroxi-l- (4-isopropilfenil) -2-metilpropan-l-ona, 2-hidroxi-2-metil-l-fenilpropan-l-ona, 1- [4- (2-hidroxietoxi) -fenil] -2-hidroxi-2-metilpropan-l-ona y 1-hidroxiciclohexil-fenilcetona. Además, los a-dicetondialquilacetales se ejemplifican de preferencia por bencildimetilacetal (2,2-dimetoxi-1, 2-difeniletan-l-ona) y bencildietilacetal (2,2-dietoxi-1, 2-difeniletan-1-ona) . Cualquiera de los fotosensibilizadores ejemplificados en lo anterior se pueden utilizar solos o en combinación con al menos uno distinto. Al utilizar tales a-hidroxicetonas y/o a-diceton-dialquilacetales como un fotosensibilizador, se hace posible aumentar además la capacidad de curación a baja temperatura y capacidad de curación a alta velocidad, incrementando mucho así la velocidad de procesamiento del tratamiento de liberación. Además, el producto se hizo de ese modo en una hoja de liberación que se estabiliza en capacidad de liberación, minimizada en propiedad de migración de silicona, libre de contracción y/o arruga térmica del sustrato debido al calentamiento al tiempo de un tratamiento de liberación, y tiene alta planeidad. Además en el caso de utilizar una hoja laminada de polietileno, la hoja de liberación resultante es libre de espumación de polietileno. Dependiendo del tipo del fotosensibilizador, la cantidad a ser utilizada del mismo, cuando es pequeño irracionalmente, origina sin probabilidad de demostrar suficientemente el efecto de funcionamiento de la presente invención, mientras que la cantidad del mismo, cuando es grande irracionalmente, provoca influencia adversa en capacidad de curación y rendimientos de la hoja de liberación que se obtiene. Por lo tanto, la cantidad del mismo se selecciona en el intervalo de normalmente 0.01 a 10 partes en peso, de preferencia de 0.1 a 2.0 partes en peso con base en 100 partes en peso de la cantidad total de la silicona de tipo de reacción de adición y del agente de reticulación . Ejemplos de la silicona la cual tiene la función de modificar la característica de liberación de la película curada incluyen poliorganosiloxano que no tiene un grupo alquenilo o un átomo de hidrógeno unido cada uno a un átomo de silicio en su única molécula, específicamente, polidimetilsiloxano el extremo del cual es impedido con un grupo trimetilsiloxi y polidimetilsiloxano el extremo del cual es impedido con un grupo dimetilfenilsiloxi. El inhibidor de reacción de adición antes mencionado es un componente utilizado para el propósito de impartir la composición con estabilidad de duración de almacenado a temperatura ambiente, y es específicamente ejemplificado por 3, 5-dimetil-l-hexin-3-ol, 3-metil-l-penten-3-ol, 3-metil-3-penten-l-in, 3, 5-dimetil-3-hexen-l-in, tetravinilsiloxano cíclico y benzotriazol.

En la presente invención, se prepara una solución de recubrimiento que tiene una viscosidad que permite el recubrimiento al agregar, en un solvente orgánico apropiado, la composición de silicona de tipo de reacción de adición, el fotosensibilizador junto con una variedad de componentes que son utilizados cuando se desea cada uno en una proporción prescrita. El solvente orgánico no se limita específicamente, pero se puede seleccionar para uso de varios solventes incluyendo, por ejemplo, hidrocarburos tales como tolueno, hexano y heptano, acetato de etilo, metiletilcetona y una mezcla de los mismos. La solución de recubrimiento preparada así de acuerdo con la presente invención se aplica a cualquiera o ambos lados de la hoja como sustrato antes mencionada por medio de, por ejemplo, un método de recubrimiento de fotograbado, un método de recubrimiento de barra, un método de recubrimiento de pulverizador, un método de recubrimiento de hilado, etc., para instalar una capa de la composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía el fotosensibilizador. El espesor de la capa de la composición de silicona de tipo de reacción de adición no está limitada específicamente, pero se selecciona una cantidad de recubrimiento expresada en términos de contenido sólido en el intervalo de normalmente 0.01 a 3.0 g/m2, de preferencia de 0.01 a 1.5 g/m2.

La hoja como película de sustrato equipada con la capa de la composición de silicona de tipo de reacción de adición de acuerdo con la presente invención está en primer lugar, tratada con calor a una temperatura en el intervalo de 40 a 120 °C para curar preliminarmente la capa resultante de la composición de silicona de tipo de reacción de adición. La temperatura de calentamiento, cuando es inferior de 40 °C, provoca un temor de insuficiencia en el secado o curación preparatoria, mientras que la temperatura de calentamiento, cuando es mayor de 120 °C, provoca contracción o arruga térmica, fallando de ese modo para alcanzar los objetos de la presente invención. Tomando en consideración el secado, curación preparatoria, contracción o arruga térmica y los factores similares, la temperatura de calentamiento está de preferencia en el intervalo de 50 a 100°C. La capa de la composición de silicona de tipo de reacción de adición la cual ha sido curada preliminarmente por tratamiento con calor se somete a radiación de rayos ultravioleta en línea para curar completamente la capa. Las lámparas de rayos ultravioleta utilizables están disponibles de lámparas previamente bien conocidas tales como lámpara de alta presión de vapor de mercurio, lámpara de haluro de metal, lámpara de alta potencia de haluro de metal, lámpara de rayos ultravioleta sin electrodos. De estas, la lámpara de rayos ultravioleta sin electrodos es preferible desde el punto de vista de pérdida de daño térmico a la hoja como sustrato y de la capacidad de curación favorable de la capa de la composición de silicona debido a la eficiencia de emisión de rayos ultravioleta adecuada, velocidad de irradiación de rayos infrarrojos, etc. La lámpara anterior está disponible de D bulb, H bulb, H+ bulb, V bulb y similares manufacturados por Fusión Corporation, de las cuales H bulb y H+ bulb son particularmente preferibles. El rendimiento de irradiación de rayos ultravioleta se puede seleccionar opcionalmente de manera adecuada, y está en el intervalo de normalmente 30 W/cm a 600 /cm, de preferencia de 50 W/cm a 360 W/cm. La temperatura al tiempo de tratamiento por irradiación de rayos ultravioleta, cuando se lleva a cabo en línea, no se limita específicamente, pero puede ser ya sea la temperatura bajo condición caliente inmediatamente después del tratamiento por calentamiento o temperatura ambiente. El proceso de producción mencionado en lo anterior permite obtener en productividad favorable, la hoja de liberación de acuerdo con la presente invención en la cual se forma la capa curada de la composición de silicona de tipo de reacción de adición en cualesquiera o ambos lados de la hoja como sustrato con adhesividad favorable a la misma, y la cual es libre de contracción o arruga térmica, impartida con planeidad extremadamente alta y además excelente en capacidad de liberación. En lo siguiente, la presente invención será descrita en más detalle con referencia a los ejemplos comparativos y ejemplos de funcionamiento, sin embargo los cuales no deberán limitar la presente invención a la misma. Se hicieron evaluaciones de las diversas características de cada una de las hojas de liberación que se obtuvieron a través de los ejemplos de funcionamiento y ejemplos comparativos de acuerdo con los procedimientos de evaluación como se describe a continuación. (1) Capacidad de Curación Se evaluó la capacidad de curación de acuerdo con los siguientes criterios mediante el método que comprende frotar vigorosamente la superficie de un recubrimiento curado en una película de liberación diez veces con los dedos, y observar la mancha y desgaste en la película. @ : no se observó mancha ni desgaste en absoluto 0 : se observó mancha superficial o ligera (sin provocar problema práctico) ? : se observó algo de mancha y desgaste (algunas veces provocando problema práctico) X : se observó mancha marcada con desgaste considerable (provocando problema práctico) (2) Fuerza de Desprendimiento El recubrimiento curado en una película de liberación se cubrió con un adhesivo sensible a la presión, acrílico (manufacturado por Toyo Ink Mfg. Co . , Ltd. bajo el nombre comercial "BPS-5127") para lograr un espesor seco de 40 µm, la película recubierta resultante se secó por 2 minutos en un secador de tipo de circulación de aire caliente a 100 °C, y después de esto se laminó con un sustrato superficial (papel libre de madera) para preparar una muestra de una hoja adhesiva sensible a la presión. La muestra se dejó reposar bajo condiciones de 23°C y 65% de R.H. por 24 horas, y se cortó en piezas que tienen una anchura de 20 mm cada una. Mediante el uso de un instrumento de prueba a tensión, la película de liberación de la muestra se desprende del laminado en un ángulo de 180 grados a una velocidad de 300 milímetros por minuto para medir la fuerza requerida por desprendimiento para evaluar la fuerza de desprendimiento. (3) Propiedad sin migración de resina de silicona Se evaluó la propiedad sin migración de silicona de acuerdo con los siguientes criterios mediante el método que comprende laminar el recubrimiento curado sobre una película de liberación con una película de tereftalato de polietileno (PET), aplicar una carga de 1.97 N/mm2 para el laminado formado así, permitir al laminado reposar por 24 horas, después de esto desprender la película de PET del laminado, pintar la superficie laminada con un marcador de fieltro, y observar el alcance de repeler para confirmar si está presente o no la silicona. ® : no se observó migración en absoluto O : se observó migración superficial o ligera (sin provocar problema práctico) ? : se observó algo de migración (algunas veces provocando problema práctico) X : se observó migración considerable (provocando problema práctico) (4) Igualdad de Superficie o Planeidad (contracción o arruga térmica) Se evaluó la planeidad de acuerdo con los siguientes criterios mediante el método que comprende observar visualmente arruga sobre una película de liberación, y también recubrir el recubrimiento curado con un adhesivo sensible a la presión en un espesor de 6 µm, y examinar si fue posible o no el recubrimiento uniforme. @ : excelente O : bueno (sin provocar problema práctico) ? : algo inferior (algunas veces provocando problema práctico) X : inferior (provocando problema práctico) (5) Adhesividad de recubrimiento curado Se evaluó la adhesividad de recubrimiento curado de acuerdo con los siguientes criterios mediante el método que comprende frotar vigorosamente diez veces con los dedos, la superficie de un recubrimiento curado sobre una película de liberación, y observar el desgaste del recubrimiento curado de la película de poliéster. @ : no se observó desgaste en absoluto O : se observó desgaste superficial o ligero (sin provocar problema práctico) ? : se observó algo de desgaste (algunas veces provocando problema práctico) X : se observó desgaste considerable (provocando problema práctico) (6) Factor de Adhesión Residual La película de liberación se laminó sobre el lado de recubrimiento curado con una cinta adhesiva sensible a la presión (manufacturada por Nitto Denko Corporation bajo el nombre comercial "31B Tape"), sometida a una carga de 9.81 x 10"3 N/mm2, se dejó reposar a 70°C por 24 horas, y además se dejó reposar bajo las condiciones de 23°C y 65% de R.H. por 24 horas. Después de esto, la cinta adhesiva se desprendió de la película de liberación, se pegó a una placa de acero inoxidable, y se desprendió de la placa de acero inoxidable a un ángulo de 180 grados a una velocidad de 300 milímetros por minuto para medir la fuerza requerida para desprender. Se hizo una evaluación así del factor de adhesión residual al expresar en porcentaje la fuerza requerida para desprender la cinta adhesiva sensible a la presión sin tratar la placa de acero inoxidable.

Ejemplo 1 Se preparó una composición de silicona de tipo de reacción de adición al agregar 2 partes en peso de un catalizador de base de platino (manufacturado por Toray Dow Corningn Silicone Corporation bajo el nombre comercial "SRX-212") a 100 partes en peso de una silicona de tipo de reacción de adición como un agente de liberación (manufacturado por Toray Dow Corning Silicone Corporation bajo el nombre comercial "SRX-211") que comprende como un ingrediente principal, un grupo vinilo que tiene polidimetilsiloxano como un grupo funcional y un agente de reticulación (hidrogenosiloxano de polimetilo) . Se agregó a 100 partes en peso del ingrediente principal mencionado en lo anterior 0.1 partes en peso de bencildimetilacetal que pertenece a a-dicetondialquilacetal como un foto-sensibilizador. La mezcla preparada en esta forma se diluyó con un solvente orgánico que comprende tolueno como un ingrediente principal para preparar una solución de recubrimiento que tiene una concentración sólida de 1 % en peso. La solución de recubrimiento se aplicó uniformemente a través del método de recubrimiento de fotograbado, para una película de PET biaxialmente orientada que tiene un espesor de 38 µm para formar un espesor de recubrimiento de 0.1 µm después de secar (siendo la cantidad de recubrimiento expresada en términos de contenido sólido 0.1 g/m2). Subsecuentemente, la película de PET recubierta se trató con calor por 20 segundos en un secador tipo de circulación de aire caliente a 50 °C, e inmediatamente después de esto se irradió con rayos ultravioleta mediante el uso de una máquina de irradiación de rayos ultravioleta tipo transportadora equipada con una fusión de H bulb de 240 W/cm en el cual un filtro de corte de rayos por calor fue de tipo de difusión alta a una velocidad del transportador de 200 metros por minuto. De esta forma, el agente de liberación de silicona de tipo de reacción de adición se curó para preparar una película de liberación. Diversas características de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Ejemplo 2 Se repitió el procedimiento del Ejemplo 1 para preparar una película de liberación excepto que se hizo uso de 1.0 partes en peso de 1-hidroxiciclohexilfenilcetona que pertenece a a-hidroxicetonas como un fotosensibilizador en lugar de bencildimetilacetal, y la velocidad del transportador en metros por minuto fue alterada de 200 a 100. Diversas características de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Ejemplo 3 Se repitió el procedimiento del Ejemplo 1 para preparar una película de liberación excepto que se hizo uso de 0.2 partes en peso de 1- [4- (2-hidroxietoxi) fenil] -2-hidroxi-2-metilpropan-l-ona que pertenece a a-hidroxicetonas como un fotosensibilizador en lugar de bencildimetilacetal, y que la velocidad del transportador en metros por minuto fue alterada de 200 a 120. Diversas características de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Ejemplo 4 Se repitió el procedimiento . del Ejemplo 1 para preparar una película de liberación excepto que se hizo uso de 0.2 partes en peso de 2-hidroxi-2-metil-l-fenilpropan-l-ona que pertenece a a-hidroxicetonas como un foto-sensibilizador en lugar de bencildimetilacetal, y que la velocidad del transportador en metros por minuto fue alterada de 200 a 80. Diversas caracteristicas de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Ejemplo Comparativo 1 Se repitió el procedimiento del Ejemplo 1 para preparar una película de liberación excepto que se hizo uso de 0.2 partes en peso de 2-metil-l- [4- (metiltio) fenil] -2-morfolinopropan-1-ona que pertenece a a-aminocetonas como un fotosensibilizador en lugar de bencildimetilacetal, y que la velocidad del transportador en metros por minuto fue alterada de 200 a 40. Diversas características de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Ejemplo Comparativo 2 Se preparó una solución de recubrimiento que tiene una concentración sólida de 1% en peso en la misma forma como en el Ejemplo 1, excepto que no fue agregado ningún fotosensibilizador a la solución de recubrimiento. Después de esto, en la misma forma como en el Ejemplo 1, la solución de recubrimiento preparada así se aplicó a una película de PET biaxialmente orientada, y subsecuentemente la película de PET recubierta se trató con calor por 30 segundos en un secador tipo de circulación de aire caliente a 110°C. Diversas características de la película de liberación resultante se dan en la Tabla 1.

Tabla 1 APLICABILIDAD INDUSTRIAL En resumen del efecto de elaboración de la preserfte invención, instalando en al menos un lado de una hoja como sustrato, una capa curada de una composición de silicona utilizando como un agente de liberación, una silicona de tipo de reacción de adición que contenía el fotosensibilizador especifico a través del uso mixto de un tratamiento de calentamiento y un tratamiento de irradiación con rayos ultravioleta, se hizo posible para obtener en productividad extremadamente alta, una hoja de liberación en la cual la capa curada tiene adhesividad favorable para el sustrato; el cual es excelente en capacidad de liberación; y el cual tiene alta planeidad que no puede ser realizada por ninguna de las hojas de liberación convencionales. La hoja de liberación de acuerdo con la presente invención se emplea de preferencia como una etiqueta pegajosa, una cinta pegajosa, una hoja portadora al tiempo de producir una hoja de resina, una hoja protectora para la misma, una película de moldeo para formar una película de una hoja verde cerámica y similares. Se hace constar que con relación a esta fecha, el mejor método conocido por la solicitante para llevar a la práctica la citada invención, es el que resulta claro de la presente descripción de la invención.

Claims (5)

REIVINDICACIONES Habiéndose descrito la invención como antecede, se reclama como propiedad lo contenido en las siguientes reivindicaciones .

1. Una hoja de liberación que comprende una hoja como sustrato y una capa curada colocada en la misma de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía un fotosensibilizador, caracterizada porque la capa curada se forma al tratar con calor una capa de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía al menos un fotosensibilizador seleccionado del grupo que consiste de a-hidroxicetonas y a-dicetondialquil-acetales, seguido por un tratamiento con irradiación de rayos ultravioleta.

2. La hoja de liberación de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el fotosensibilizador es al menos una clase seleccionada del grupo de a-hidroxicetonas que consistía de 2-hidroxi-l- (4-isopropil-fenil) -2-metilpropan-1-ona, 2-hidroxi-2-metil-l-fenil-propan-1-ona, 1- [4- (2-hidroxietoxi) fenil] -2-hidroxi-2-metilpropan-l-ona y 1-hidroxiciclohexilfenilcetona, y a-dicetondialquilacetales que consistían de bencildimetilacetal y bencildietilacetal.

3. La hoja de liberación de conformidad con la reivindicación 1 ó 2, caracterizada porque la composición de silicona de tipo de reacción de adición comprende de 0.01 a 10 partes en peso del fotosensibilizador con base en 100 partes en peso de la cantidad total de una silicona de tipo de reacción de adición y un agente de reticulación.

4. La hoja de liberación de conformidad con la reivindicación 1 ó 2, caracterizada porque la composición de silicona de tipo de reacción de adición comprende poli-dimetilsiloxano que tiene un grupo vinilo como un grupo funcional .

5. Un proceso para la producción de una hoja de liberación, caracterizada porque comprende las etapas de equipar una hoja como sustrato en la misma con una capa de una composición de silicona de tipo de reacción de adición que contenía al menos un fotosensibilizador seleccionado del grupo que consiste de a-hidroxicetonas y a-dicetondialquil-acétales, después de esto tratar con calor el sustrato equipado con la capa, y subsecuentemente irradiar la misma con rayos ultravioleta para curar la capa de la composición de silicona.