KR960035595A - 박막자기헤드 슬라이더 및 그 헤드소자 구동용 정전액추에이터 - Google Patents

박막자기헤드 슬라이더 및 그 헤드소자 구동용 정전액추에이터 Download PDF

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KR960035595A
KR960035595A KR1019960005474A KR19960005474A KR960035595A KR 960035595 A KR960035595 A KR 960035595A KR 1019960005474 A KR1019960005474 A KR 1019960005474A KR 19960005474 A KR19960005474 A KR 19960005474A KR 960035595 A KR960035595 A KR 960035595A
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타까오 꼬시까와
히로시 마에다
타까히로 이마무라
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세끼자와 다다시
후지스 가부시끼가이샤
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Abstract

기록매체에 대향하는 매체 대향면을 갖는 박막 자기 헤드 슬라이더의 제조방법은 적어도 1개의 레일을 갖는 매체 대향면을 형성하는 면을 갖도록 희생층을 기판상에 성막하고 희생층면상에 슬라이더 재료를 공급하고 슬라이더로부터 상기 희생층과 기판을 제거하는 공정으로 구성된다. 슬라이더상에 슬라이더 트래킹기구 또는 로드 및 언로드 기구를 설치한다. 이러한 기구를 구동하는데 적합한 액추에이터는 서로 평행한 복수의 이를 가진 고정부와, 이 고정부의 이에 평행한 복수의 이를 가진 가동부와, 가동부가 고정부에 대해 이의 폭 방향으로 이동할 수 있도록 가동부를 지지하는 지지스프링으로 구성된다. 구동력 발생기는 고정부의 이와 가동부의 이간에 전압을 인가할때 이의 폭 방향으로 발생하는 정전 흡인력이 헤드지지부의 탄성복원력과 평형이 되는 위치까지 가동부를 이동시킨다.

Description

박막자기헤드 슬라이더 및 그 헤드소자 구동용 정전액추에이터
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제15도는 본 발명의 정전액추에이터의 힘과 g2/g1간의 관계를 나타낸 그래프, 제16도는 본 발명의 전전액추에이터의 실시예를 나타낸 평면도, 제17도 (a)∼(e) 및 제18도 (a)∼(e)는 제도공정순으로 배치된 본 발명의 정전액추에이터의 제조공정을 설명하는 개략도.

Claims (90)

  1. 기록매체에 대향하는 매체 대향면을 갖는 박막 자기 헤드 슬라이더의 제조방법에 있어서, 기판의 표면 또는 기판상의 희생층의 표면, 즉 상기 매체 대향면을 형성하도록 미리 형성된 특정형상의 상기 기판의 표면 또는 희생층의 표면에 슬라이더로 재료를 공급하고; 상기 기판의 표면 또는 상기 희생층의 표명에 상기 슬라이더를 형성하고, 상기 기판 또는 상기 희생층과 기판을 상기 슬라이더로부터 제거하는 공정으로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더 형성공정은 상기 기판면상 또는 상기 희생층면상에 공기베어링층을 형성하고; 상기 공기베어링층상에 도체재료로 된 슬라이더 본체와 복수의 단자를 형성하는 공정으로 된 박막 자기헤드슬라이더의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 복수의 단자는 슬라이더의 중앙부에 배치되고 상기 슬라이더 본체는 상기 단자부 주위의 외주부에 배치된 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 단자간 및 상기 단자와 슬라이더 본체간에 갭을 형성하고, 상기 갭에는 절연체를 충전하는 상기 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더 본체와 상기 복수의 단자는 도금으로 동시에 형성되는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더는 리프 스프링으로된 헤드지지부에 재치되고, 그 후에 상기기판 또는 상기 희생층과 기판을 상기 슬라이더로부터 제거하는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 슬라이더를 상기 헤드지지부에 재치하기 위하여 상기 슬라이더본체와 상기 복수의 단자를 상기 지지부에 본딩하는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 헤드지지부는 제1 및 제2의 서로 반대면을 가지며, 상기 슬라이더를 상기 헤드지지부에 재치하기 위하여 상기 슬라이더본체를 상기 제1의 면에 본딩하고, 한편 복수의 단자를 헤드지지부의 반대면인 제2의 면에 와이어본딩하는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  9. 제2항에 있어서, 상기 공기베어링층은 SiO2, Al2O3, 카본으로 된 군중에서 선택하며 상기 슬라이더 본체와 상기 복수의 단자를 형성하는 도체재료는 Ni, NiFe, Au, Cu으로 된 군중에서 선택하는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더는 상기 매체대향면에서 볼 때 거의 다각형이 되며, 상기 다각형의 슬라이더 유입단이 둔각부를 이루는 각 측에 형성되는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 슬라이더는 상기 기록매체의 이동방향을 따라 약 0.8㎜ 이하의 길이를 갖는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  12. 기록매체에 대향하는 매체 대향면을 갖는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법에 있어서, 적어도 1개의 레일을 갖는 상기 매체 대향면을 형성하는 면을 갖도록 희생층을 기판상에 성막하고; 상기 희생층 면상에 슬라이더 재료를 공급하고; 상기 슬라이더로부터 상기 희생층과 상기 기판을 제거하는 공정으로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 적어도 1개의 레일은 슬라이더의 유입측에 테이퍼부를 가지며, 상기 희생층 또는 하부층의 두께는 레일의 상기 테이퍼부에 대응하는 부분에서 점차 증가하는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 희생층 또는 그 하부층의 두께는 테이퍼형상 포토레지스트로 된 마스크를 사용하여 상기 희생층 또는 상기 하부층을 건식 에칭함으로써 점차 증가시키는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 희생층 또는 그 하부층의 두께는 포토레지스트 또는 폴리아미드를 경화함으로써 점차 증가하여 테이퍼 형상으로 되는 박막 자기헤드 슬라이더의 제조방법.
  16. 기판 또는 희생층과 기판을 슬라이더 본체와 분리시켜서, 기판의 표면 또는 기판상의 희생층의 표면에 형상한 슬라이더 본체와; 슬라이더본체의 일부인 가동부가 상기 기록매체의 이동방향과 거의 직각인 트래킹 방향으로 이동할 수 있도록 슬라이더본체의 고정부에 의해 지지된 트래킹 기구와; 트래킹기구의 가동부에 설치된 적어도 기록 매체에 대향하는 박막 자기헤드소자의 대향자극으로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더.
  17. 제16항에 있어서, 3개의 압력발생 패드가 기록매체에 대향하는 슬라이더본체에 설치되며, 이 3개의 압력발생패드가 이루는 3각형의 내측에 가동부가 배치된 박막 자기헤드 슬라이더.
  18. 제16항에 있어서, 가동부는 적어도 1개의 지지스프링을 통하여 고정부에 의해 지지되며, 헤드슬라이더는 가동부와 고정부의 서로 반대면간에 전압을 인가할 때 반대면간에 작용하는 정전흡인력에 의해 지지스프링의 탄성복원력에 대항하여 고정부에 대해 가동부를 구동하는 구동력 발생부를 더 갖는 박막 자기헤드 슬라이더.
  19. 제18항에 있어서, 서로 평행한 복수의 이를 갖는 고정부와; 고정부의 이에 평행한 복수의 이를 갖는 가동부와; 가동부가 이의 폭방향으로 고정부에 대해 이동할 수 있도록 가동부를 지지하는 상기 지지스프링과; 고정부의 이와 가동부의 이 간에 전압을 인가할 때 발생하는 이의 폭 방향으로 발생하는 정전흡인력이 상기 지지스프링의 상기 탄성복원력과 평형되는 위치까지 가동부를 이동시키는 상기 구동력발생부로된 박막 자기헤드 슬라이더.
  20. 제19항에 있어서, 복수의 고정부의 이와 복수의 가동부의 이가 각각 일정한 간격으로 배치되며, 전압이 인가되지 않은 상태에서 가동부의 이가 고정부의 이간의 중심으로부터 벗어나 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  21. 제20항에 있어서, 가동부의 이와 고정부의 인접하는 2개의 이 간의 공극비는 각각 약 1.2∼10배인 박막 자기헤드 슬라이더.
  22. 제19항에 있어서, 상기 고정부는 서로 평행한 제1의 이에 평행한 제2의 이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 가동부의 상기 복수의 이는 고정부의 제1의 이와 제2의 이 간에 평행하게 배치되며, 가동부와 고정부의 제1의 이 간, 그리고 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭 방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  23. 제22항에 있어서, 가동부를 전기적으로 접지하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  24. 제22항에 있어서, 가동부를 이동시키는 방향에 따라 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 선택적으로 전압을 인가하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  25. 제22항에 있어서, 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 최대전압의 1/2의 오프셋 전압을 각각 인가하고, 그 전압을 중심으로 서로 역상의 전압을 각각 그 사이에 인가하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  26. 제19항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링이 동일금속으로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  27. 제26항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링을 음형에 같은 금속으로 충전하여 형성하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  28. 제27항에 있어서, 음형은 감광성수지로 되며, 이 감광성수지의 음형에 금속도금을 하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 박막 자기헤드 슬라이더.
  29. 제26항에 있어서, 균일하게 성형된 금속막을 에칭하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 박막 자기헤드 슬라이더.
  30. 제19항에 있어서, 상기 가동부는 서로 평해한 복수의 제1의 이와 제1의 이에 평행한 복수의 제2의이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 상기 고정부는 복수의 이로 구성되며, 이 고정부의 이는 가동부의 이는 가동부의 제1 및 제2의 이 간에 평행하게 배치되어, 고정부와 가동부의 제1의 이 간에 전압을 인가하고 또 고정부와 가동부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  31. 제18항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링을 따라 설치한 박막 자기헤드 슬라이더.
  32. 제18항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링으로부터 인출한 박막 자기헤드 슬라이더.
  33. 제18항에 있어서, 가동부의 이동을 규제하는 스토퍼가 설치되고, 이 스토퍼의 전위를 가동부의 전위와 같은 전위로하여 가동부와 고정부간의 전기적인 단락을 방지하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  34. 제18항에 있어서, 박막 자기헤드소자의 적어도 기록매체 대향전극은 슬라이더막의 기록매체 대향면에 노출하거나, 또는 전극이 보호층으로 피복된 상태에서 노출하고, 한편 구동력발생부는 이 기록매체 대향면에 노출하지 않은 박막 자기헤드 슬라이더.
  35. 제16항에 있어서, 가동부를 고정부에 대해 구동하는 구동기구와 압전소자로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더.
  36. 제35항에 있어서, 압전소자는 기록매체에 대한 부상방향의 양측에 설치된 상하전극충간에 압전막을 낀 구조를 구성되어 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  37. 제36항에 있어서, 압전막은 상하 전극간에 끼워 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  38. 제36항에 있어서, 상하전극층의 하나는 2부분으로 분할되어 있으며, 이들 2분할의 전극에는 서로 역상의 전압이 인가되는 박막 자기헤드 슬라이더.
  39. 제35항에 있어서, 압전소자는 ZnO는 PZT로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  40. 제36항에 있어서, 상하의 전극층간에 배치된 압전막은 상하방향에서 비대칭인 박막 자기헤드 슬라이더.
  41. 제36항에 있어서, 압전소자의 배면에는 기둥모양의 지지물이 배치되어 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  42. 제41항에 있어서, 기동모양의 지지물은 Cu 또는 Ni 등의 금속으로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  43. 제35항에 있어서, 압전소자는 전체가 절연체로 덮혀 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  44. 기판 또는 희생층과 기판을 슬라이더 본체와 분리시켜서, 기판의 표면 또는 기판상의 희생층의 표면에 형상한 슬라이더 본체와; 슬라이더본체의 일부인 가동부가 기록매체에 접근 또는 이격하는 로드 및 언로드 방향으로 이동할 수 있도록 슬라이더 본체의 고정부에 의해 지지된 로드 및 언로드 기구와 로드 및 언로드 기구의 가동부에 설치된 적어도 기록매체에 대향하는 박막자기헤드소자의 대향자극으로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더.
  45. 제44항에 있어서, 3개의 압력발생패드가 기록매체에 대향하는 슬라이더 본체에 설치되며, 이 3개의 압력발생 패드가 이루는 3각형의 내측에 가동부가 배치된 박막 자기헤드 슬라이더.
  46. 제44항에 있어서, 가동부는 적어도 1개의 지지스프링을 통하여 고정부에 의해 지지되며, 헤드슬라이더는 가동부와 고정부의 서로 반대면간에 전압을 인가할 때 반대면간에 작용하는 정전흡인력에 의해 지지스프링의 탄성복원력에 대항하여 고정부에 대해 가동부를 구동하는 구동력 발생부를 더 갖는 박막 자기헤드 슬라이더.
  47. 제46항에 있어서, 서로 평해한 복수의 이를 갖는 고정부와; 고정부의 이에 평행한 복수의 이를 갖는 가동부와; 가동부가 이의 폭방향으로 고정부에 대해 이동할 수 있도록 가동부를 지지하는 상기 지지스프링과; 고정부의 이와 가동부의 이 간에 전압을 인가할 때 발생하는 이의 폭 방향으로 발생하는 정전흡인력이 상기 지지스프링의 상기 탄성복원력과 평형되는 위치까지 가동부를 이동시키는 상기 구동력발생부로된 박막 자기헤드 슬라이더.
  48. 제47항에 있어서, 복수의 고정부의 이와 복수의 가동부의 이가 각각 일정한 간격으로 배치되며, 전압이 인가되지 않은 상태에서는 가동부의 이가 고정부의 이간의 중심으로부터 벗어나 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  49. 제48항에 있어서, 가동부의 이와 고정부의 인접하는 2개의 이 간의 공극비는 각각 약 1.2∼10배인 박막 자기헤드 슬라이더.
  50. 제47항에 있어서, 상기 고정부는 서로 평행한 제1의 이에 평행한 제2의 이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 가동부의 상기 복수의 이는 고정부의 제1의 이와 제2의 이 간에 평행하게 배치되며, 가동부와 고정부의 제1의 이 간, 그리고 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭 방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  51. 제50항에 있어서, 가동부를 전기적으로 접지하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  52. 제50항에 있어서, 가동부를 이동시키는 방향에 따라 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 선택적으로 전압을 인가하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  53. 제50항에 있어서, 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 최대전압의 1/2의 오프셋 전압을 각각 인가하고, 그 전압을 중심으로 서로 역상의 전압을 각각 그 사이에 인가하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  54. 제47항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링이 동일금속으로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  55. 제50항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링을 음형에 같은 금속으로 충전하여 형성하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  56. 제55항에 있어서, 음형은 감광성수지로 되며, 이 감광성수지의 음형에 금속도금을 하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 박막 자기헤드 슬라이더.
  57. 제55항에 있어서, 균일하게 성형된 금속막을 에칭하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 박막 자기헤드 슬라이더.
  58. 제47항에 있어서, 상기 가동부는 서로 평해한 복수의 제1의 이와 제1의 이에 평행한 복수의 제2의이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 상기 고정부는 복수의 이로 구성되며, 이 고정부의 이는 가동부의 이는 가동부의 제1 및 제2의 이 간에 평행하게 배치되어, 고정부와 가동부의 제1의 이 간에 전압을 인가하고 또 고정부와 가동부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  59. 제46항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링을 따라 설치한 박막 자기헤드 슬라이더.
  60. 제46항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링으로부터 인출한 박막 자기헤드 슬라이더.
  61. 제46항에 있어서, 가동부의 이동을 규제하는 스토퍼가 설치되고, 이 스토퍼의 전위를 가동부의 전위와 같은 전위로하여 가동부와 고정부간의 전기적인 단락을 방지하는 박막 자기헤드 슬라이더.
  62. 제46항에 있어서, 박막 자기헤드소자의 적어도 기록매체 대향전극은 슬라이더막의 기목매체 대향면에 노출하거나, 또는 전극이 보호층으로 피복된 상태에서 노출하고, 한편 구동력발생부는 이 기록매체 대향면에 노출하지 않은 박막 자기헤드 슬라이더.
  63. 제44항에 있어서, 가동부를 고정부에 대해 구동하는 구동기구와 압전소자로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더.
  64. 제63항에 있어서, 압전소자는 기록매체에 대한 부상방향의 양측에 설치된 상하전극충간에 압전막을 낀 구조를 구성되어 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  65. 제64항에 있어서, 압전막은 상하 전극간에 끼워 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  66. 제64항에 있어서, 상하전극층의 하나는 2부분으로 분할되어 있으며, 이들 2분할의 전극에는 서로 역상의 전압이 인가되는 박막 자기헤드 슬라이더.
  67. 제63항에 있어서, 압전소자는 ZnO는 PZT로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  68. 제64항에 있어서, 상하의 전극층간에 배치된 압전막은 상하방향에서 비대칭인 박막 자기헤드 슬라이더.
  69. 제64항에 있어서, 압전소자의 배면에는 기둥모양의 지지물이 배치되어 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  70. 제69항에 있어서, 기동모양의 지지물은 Cu 또는 Ni 등의 금속으로 된 박막 자기헤드 슬라이더.
  71. 제63항에 있어서, 압전소자는 전체가 절연체로 덮혀 있는 박막 자기헤드 슬라이더.
  72. 기판 또는 희생층과 기판을 슬라이더본체와 분리시켜서, 기판의 표면 또는 기판상의 희생층의 표면에 형상한 슬라이더 본체와; 상기 슬라이더 본체의 고정부와, 가동부가 기록매체의 이동방향과 거의 직각 인트래킹방향과 슬라이더막 본체의 가동부가 기록매체에 접근 또는 이격하는 로드 및 언로드 방향의 양방향으로 이동할 수 있는 방식으로 적어도 1개의 지지스프링을 통해 상기 고정부에 의해 지지된 가동부로 되고; 트랭킹 기구의 가동부에 설치된 적어도 기록매체에 대향하는 박막자기헤드소자의 대향자극으로 구성된 박막 자기헤드 슬라이더.
  73. 제72항에 있어서, 상기 고정부는 서로 평행한 복수의 이들을 가지며, 상기 가동부는 고정부의 이에 평행한 이를 가지며, 상기 지지스프링은 가동부가 고정부에 대해 이동할 수 있도록 가동부를 지지하고, 또한 상기 지지스프링은 가동부가 기록매체면과 거의 직교하는 제2의 방향으로 이동할 수 있도록 가동부를 지지하고, 고정부의 이와 가동부의 이간에 전압을 인가할 때 이의 폭 방향으로 발생하는 정전흡인력이 지지스프링의 탄성복원력과 평행되는 위치까지 가동부분을 이동시키기 위한 구동력 발생부를 설치하고 제2의 방향의 가동부의 적어도 1측의 고정부에 전극을 설치하여 이 전극과 가동부간에 전압을 인가할 때 정전흡인력을 이용하여 가동부를 제2의 방향으로 미소 거리만큼 이동시키는 박막 자기헤드 슬라이더.
  74. 제72항에 있어서, 상기 가동부에 설치된 상기 헤드소자는 노출되어 기록매체면과 상기 헤드소자 이외의 상기 가동부를 포함한 액추에이터에 대향하며, 상기 슬라이더 본체의 커버부재로 상기 가동부와 상기 지지스프링을 덮어서 상기 액추에이터가 기록매체면에 노출되는 것을 방지한 박막 자기헤드 슬라이더.
  75. 서로 평행인 복수의 이(teeth)를 갖는 고정부와; 고정부의 이에 평행인 복수의 이를 갖는 가동부와; 가동부가 고정부에 대해 이의 폭 방향으로 이동할 수 있도록 가동부를 지지하는 지지스프링과; 고정부의 이와 가동부의 이 사이에 전압이 인가되었을 때 이의 폭 방향으로 발생되는 정전흡인력과 지지스프링의 복원력이 평형되는 위치까지 가동부를 이동시키는 구동력 발생부로 구성된 정권 액추에이터.
  76. 제75항에 있어서, 고정부의 복수의 이와 가동부의 복수의 이가 각각 일정 간격으로 배치되고, 전압을 인가하지 않은 상태에서는 가동부의 이는 고정부의 이 간의 중심으로부터 벗어나 있는 정권 액추에이터.
  77. 제76항에 있어서, 가동부의 이와 고정부의 인접하는 2개의 이간의 공극비는 약 1,2∼10배인 정권액추에이터.
  78. 제77항에 있어서, 상기 고정부는 서로 평행한 제1의 이에 평행한 제2의 이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 가동부의 상기 복수의 이는 고정부의 제1의 이와 제2의 이 간에 평행하게 배치되며, 가동부와 고정부의 제1의 이 간, 그리고 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭 방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 정권 액추에이터.
  79. 제78항에 있어서, 가동부를 전기적으로 접지하는 정권액추에이터.
  80. 제78항에 있어서, 가동부를 이동시키는 방향에 따라 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 선택적으로 전압을 인가하는 정권액추에이터.
  81. 제78항에 있어서, 가동부와 고정부의 제1의 이 간 및 가동부와 고정부의 제2의 이 간에 최대전압의 1/2의 오프셋 전압을 각각 인가하고, 그 전압을 중심으로 서로 역상의 전압을 각각 그 사이에 인가하는 정권액추에이터.
  82. 제75항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링이 동일금속으로 된 정권액추에이터.
  83. 제82항에 있어서, 고정부, 가동부 및 지지스프링을 음형에 같은 금속으로 충전하여 형성하는 정권액추에이터.
  84. 제83항에 있어서, 음형은 감광성수지로 되며, 이 감광성수지의 음형에 금속도금을 하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 정권액추에이터.
  85. 제82항에 있어서, 균일하게 성형된 금속막을 에칭하여 고정부, 가동부 및 지지스프링을 형성한 정권액추에이터.
  86. 제75항에 있어서, 상기 가동부는 서로 평행한 복수의 제1의 이와 제1의 이에 평행한 복수의 제2의 이로 구성되며, 제1의 이와 제2의 이는 서로 절연되어 있으며; 상기 고정부는 복수의 이로 구성되며, 이 고정부의 이는 가동부의 이는 가동부의 제1 및 제2의 이 간에 평행하게 배치되어, 고정부와 가동부의 제1의 이 간에 전압을 인가하고 또 고정부와 가동부의 제2의 이 간에 전압을 인가하면 이의 폭방향으로 서로 반대방향의 힘을 교대교대로 발생하거나, 또는 반대방향과 협동하는 방향의 힘을 동시에 발생하는 정권액추에이터.
  87. 제75항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링을 따라 설치한 정권액추에이터.
  88. 제75항에 있어서, 박막 자기헤드의 리드선은 지지스프링으로부터 인출한 정권액추에이터.
  89. 제75항에 있어서, 가동부의 이동을 규제하는 스토퍼가 설치되고, 이 스토퍼의 전위를 가동부의 전위와 같은 전위로하여 가동부와 고정부간의 전기적인 단락을 방지하는 정권액추에이터.
  90. 제75항에 있어서, 상기 지지스프링은 가동부가 고정부에 대해 제1의 이의 폭 방향으로 이동할 수 있음과 동시에, 이 제1의 방향과 거의 직교하는 제2의 방향으로 이동할 수 있도록 가동부를 지지하고, 제2의 방향의 가동부의 적어도 1측의 고정부에 전극을 설치하며, 이 전극과 가동부간에 전압을 인가할 때 정전흡인력을 이용하여 가동부를 제2의 방향으로 미소거리만큼 이동시키는 정권액추에이터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980083237A (ko) * 1997-05-13 1998-12-05 이우복 빗살형 일렉트로스테틱 마이크로 액츄에이터

Families Citing this family (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5920978A (en) * 1995-03-01 1999-07-13 Fujitsu Limited Method of making a thin film magnetic slider
AU7727798A (en) * 1997-06-06 1998-12-21 Medical Scientific, Inc. Selectively coated electrosurgical instrument
US6118637A (en) * 1998-01-08 2000-09-12 Seagate Technology, Inc. Piezoelectric assembly for micropositioning a disc drive head
JP4017237B2 (ja) * 1998-03-12 2007-12-05 富士通株式会社 磁気ヘッドスライダ
JPH11259840A (ja) * 1998-03-12 1999-09-24 Fujitsu Ltd 磁気ヘッドスライダ及びその導線形成方法
JP2000011556A (ja) * 1998-06-16 2000-01-14 Alps Electric Co Ltd マイクロアクチュエータ及び磁気ヘッド装置並びに磁気記録装置
US7116523B2 (en) * 1998-12-21 2006-10-03 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Interconnect module for use in a suspension assembly
JP2000278964A (ja) * 1999-01-21 2000-10-06 Alps Electric Co Ltd マイクロアクチュエータとその製造方法並びにマイクロアクチュエータを用いた磁気ヘッド装置及び磁気記録装置
US6952330B1 (en) * 1999-06-11 2005-10-04 Seagate Technology Llc Dynamic flying attitude control using augmented gimbal
DE69918551D1 (de) 1999-09-17 2004-08-12 St Microelectronics Srl Verfahren für die elektrische und mechanische Verbindung von mikroelektronischen Komponenten
US6798312B1 (en) 1999-09-21 2004-09-28 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectromechanical system (MEMS) analog electrical isolator
US6803755B2 (en) 1999-09-21 2004-10-12 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectromechanical system (MEMS) with improved beam suspension
KR100580242B1 (ko) * 1999-10-21 2006-05-16 삼성전자주식회사 마이크로 액츄에이터
JP2003514325A (ja) * 1999-11-08 2003-04-15 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 駆動装置及びマイクロアクチュエータによって変換ヘッドの位置決めをするデバイス
US6470565B1 (en) * 2000-02-22 2002-10-29 Tdk Corporation Method of manufacturing slider of thin-film magnetic head
US6683757B1 (en) * 2000-04-05 2004-01-27 Seagate Technology Llc Slider-level microactuator for precise head positioning
US7248444B1 (en) 2000-07-21 2007-07-24 Lauer Mark A Electromagnetic heads, flexures, gimbals and actuators formed on and from a wafer substrate
JP4101492B2 (ja) * 2000-10-23 2008-06-18 松下電器産業株式会社 ヘッド支持機構
US6611399B1 (en) * 2000-12-07 2003-08-26 Seagate Technology Llc Micro-actuated micro-suspension(MAMS) slider for both fly height and tracking position
US6958889B2 (en) * 2000-12-15 2005-10-25 Seagate Technology Llc Slider with a compliant transducer interface
JP2002197621A (ja) * 2000-12-28 2002-07-12 Hitachi Ltd 磁気抵抗効果型ヘッド、その製造方法、及び磁気記録再生装置
JP3934055B2 (ja) * 2001-01-25 2007-06-20 シーゲイト テクノロジー エルエルシー 統合静電スライダ浮上高制御
DE60133586T2 (de) * 2001-02-20 2009-04-30 Fujitsu Ltd., Kawasaki Kopfschieber und verfahren zu seiner herstellung
US7366759B2 (en) * 2001-02-22 2008-04-29 Parity Communications, Inc. Method and system for characterizing relationships in social networks
JP3711979B2 (ja) * 2001-03-23 2005-11-02 Ｔｄｋ株式会社 ヘッド素子の微小位置決め用アクチュエータ及び該アクチュエータを備えたヘッド装置
US6794271B2 (en) * 2001-09-28 2004-09-21 Rockwell Automation Technologies, Inc. Method for fabricating a microelectromechanical system (MEMS) device using a pre-patterned bridge
US6761829B2 (en) 2001-04-26 2004-07-13 Rockwell Automation Technologies, Inc. Method for fabricating an isolated microelectromechanical system (MEMS) device using an internal void
US6815243B2 (en) 2001-04-26 2004-11-09 Rockwell Automation Technologies, Inc. Method of fabricating a microelectromechanical system (MEMS) device using a pre-patterned substrate
US6756310B2 (en) * 2001-09-26 2004-06-29 Rockwell Automation Technologies, Inc. Method for constructing an isolate microelectromechanical system (MEMS) device using surface fabrication techniques
US6768628B2 (en) 2001-04-26 2004-07-27 Rockwell Automation Technologies, Inc. Method for fabricating an isolated microelectromechanical system (MEMS) device incorporating a wafer level cap
JP2002342955A (ja) * 2001-05-17 2002-11-29 Fujitsu Ltd 光ディスク装置
ITTO20010519A1 (it) * 2001-05-31 2002-12-01 St Microelectronics Srl Dispositivo orientabile, in particolare dispositivo attuatore di dischi rigidi, con controllo dell'angolo di rollio e di beccheggio.
US6664786B2 (en) 2001-07-30 2003-12-16 Rockwell Automation Technologies, Inc. Magnetic field sensor using microelectromechanical system
WO2003019538A1 (en) * 2001-08-22 2003-03-06 Seagate Technology Llc System and method for electrostatic fly height control
JP2003091953A (ja) * 2001-09-18 2003-03-28 Data Strage Inst スライダ装置
US6771468B1 (en) 2001-10-22 2004-08-03 Western Digital Corporation Slider with high pitch-stiffness air bearing design
US6690178B2 (en) 2001-10-26 2004-02-10 Rockwell Automation Technologies, Inc. On-board microelectromechanical system (MEMS) sensing device for power semiconductors
SG103367A1 (en) * 2001-11-02 2004-04-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Piezoelectric driving device
US6886234B2 (en) * 2002-01-22 2005-05-03 Seagate Technology Llc Top cover removal machine for disc drives
US7126792B2 (en) * 2002-02-27 2006-10-24 Seagate Technology Llc Slider for a data storage device including transducer level micro-positioning and method of fabrication therefor
US7336443B2 (en) * 2002-02-27 2008-02-26 Seagate Technology Llc Slider for a data storage device with a floating transducer body and method of fabrication therefor
US6798113B2 (en) * 2002-04-18 2004-09-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Flexure with integral electrostatic actuator
US6812617B2 (en) * 2002-04-18 2004-11-02 Hewlett-Packard Development Company, L.P. MEMS device having a flexure with integral electrostatic actuator
US7057858B2 (en) 2002-04-24 2006-06-06 International Business Machines Corporation Slide microactuator using C-shaped piezoelectric element
US6888693B2 (en) * 2002-09-13 2005-05-03 Seagate Technology Llc Disc drive slider with protruding electrostatic actuator electrode
US7149060B2 (en) * 2002-10-01 2006-12-12 Magnecomp Corporation Actuation device and method for high density hard disk drive head
SG131752A1 (en) * 2002-10-03 2007-05-28 Inst Data Storage Head positioning apparatus and manufacturing method
US6859346B1 (en) * 2002-11-07 2005-02-22 Dallas W. Meyer Integrated bidirectional Recording head micropositioner for magnetic storage devices
US6914746B1 (en) 2002-12-05 2005-07-05 Dallas W. Meyer High sustained data rate storage devices having microactuator
US7218471B2 (en) * 2002-12-05 2007-05-15 Meyer Dallas W Self-servo writing using recording head micropositioner
DE10260009B4 (de) * 2002-12-18 2007-12-27 Gatzen, Hans-Heinrich, Prof. Dr.-Ing. Schreib-/Lesekopf mit integriertem Mikroaktor
US7092194B2 (en) * 2003-02-07 2006-08-15 Meyer Dallas W Method of calibrating magnetic storage medium bi-directional recording head
US7248442B1 (en) 2003-03-05 2007-07-24 Meyer Dallas W Integrated recording head micropositioner using off-axis flexure bending
US6975193B2 (en) * 2003-03-25 2005-12-13 Rockwell Automation Technologies, Inc. Microelectromechanical isolating circuit
US7369369B1 (en) 2003-04-03 2008-05-06 Meyer Dallas W Bidirectional micropositioning recording head for a magnetic storage device
US7082013B2 (en) * 2003-05-06 2006-07-25 International Business Machines Corporation Method and apparatus for embedding a chip in a substrate to form a composite air bearing surface
US6967806B2 (en) * 2003-05-19 2005-11-22 Seagate Technology Llc Electrostatic actuator with multilayer electrode stack
US7209324B2 (en) * 2003-06-30 2007-04-24 Hitachi Global Storage Netherlands, B.V. Sliders bonded by a debondable encapsulant containing styrene and butadiene polymers
US7538983B1 (en) * 2003-07-29 2009-05-26 Meyer Dallas W Micropositioner recording head for a magnetic storage device
US7466513B2 (en) * 2003-08-19 2008-12-16 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Airflow shroud for HDD tracking microactuator
US20060132978A1 (en) * 2004-04-14 2006-06-22 Hong Tian Slider for high density magnetic recording
US20050231852A1 (en) * 2004-04-14 2005-10-20 Hong Tian Slider for high density magnetic recording
CN100419873C (zh) * 2004-12-15 2008-09-17 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 物镜致动装置及光学拾取单元
US8756776B1 (en) 2005-12-09 2014-06-24 Western Digital Technologies, Inc. Method for manufacturing a disk drive microactuator that includes a piezoelectric element and a peripheral encapsulation layer
JP2008065878A (ja) * 2006-09-05 2008-03-21 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気スライダとヘッド・ジンバル・アセンブリ及びその製造方法
JP2008097760A (ja) * 2006-10-13 2008-04-24 Fujitsu Ltd ヘッドスライダ用接触判定装置および接触判定方法並びに記憶媒体駆動装置
US20080145580A1 (en) * 2006-11-07 2008-06-19 Insulastics Inc. Recycled material insulation
JP2009014768A (ja) * 2007-06-29 2009-01-22 Fujitsu Ltd メムスデバイスおよびその製造方法
US8553368B2 (en) * 2007-11-19 2013-10-08 HGST Netherlands B.V. High aspect ratio motion limiter of a microactuator and method for fabrication
US8643980B1 (en) 2008-12-15 2014-02-04 Western Digital (Fremont), Llc Micro-actuator enabling single direction motion of a magnetic disk drive head
US8279559B1 (en) 2009-01-02 2012-10-02 Meyer Dallas W Process for creating discrete track magnetic recording media including an apparatus having a stylus selectively applying stress to a surface of the recording media
JP5573040B2 (ja) * 2009-07-30 2014-08-20 日本電産株式会社 モータ、およびモータの製造方法
US8264797B2 (en) * 2009-12-21 2012-09-11 Western Digital (Fremont), Llc Head gimbal assembly having a radial rotary piezoelectric microactuator between a read head and a flexure tongue
US8289659B1 (en) * 2010-03-05 2012-10-16 Carnegie Mellon University Systems and methods for magnetic head element translation
US8446694B1 (en) 2011-06-14 2013-05-21 Western Digital Technologies, Inc. Disk drive head suspension assembly with embedded in-plane actuator at flexure tongue
US8295012B1 (en) 2011-06-14 2012-10-23 Western Digital Technologies, Inc. Disk drive suspension assembly with rotary fine actuator at flexure tongue
US8593764B1 (en) 2011-06-14 2013-11-26 Western Digital Technologies, Inc. Method for fine actuation of a head during operation of a disk drive
US8982513B1 (en) 2013-05-21 2015-03-17 Western Digital Technologies, Inc. Disk drive head suspension with dual piezoelectric elements adhered to rotary-actuated and non-actuated portions of a structural layer of a tongue of a laminated flexure
KR101346182B1 (ko) * 2013-07-10 2014-01-03 단국대학교 산학협력단 도자기에 금속선을 입사시키는 방법
US9362239B2 (en) * 2014-10-21 2016-06-07 Globalfoundries Inc. Vertical breakdown protection layer
US10058890B1 (en) * 2015-11-20 2018-08-28 Seagate Technology Llc Methods of forming an air bearing surface on a slider and related sliders
US11495731B2 (en) 2018-09-13 2022-11-08 Magnecomp Corporation Multilayer PZT electrode configuration for suspension stroke increase

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3460244A (en) * 1965-09-10 1969-08-12 Teletype Corp Method of manufacturing a multi-track magnetic head
JPS6113412A (ja) * 1984-06-29 1986-01-21 Hitachi Ltd 薄膜磁気ヘツド
JPS61107514A (ja) * 1984-10-30 1986-05-26 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPS62250570A (ja) * 1986-04-22 1987-10-31 インタ−ナショナル　ビジネス　マシ−ンズ　コ−ポレ−ション 記憶装置用変換器
JPS63187411A (ja) * 1987-01-28 1988-08-03 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPH03292610A (ja) * 1990-04-10 1991-12-24 Seiko Epson Corp 磁気ヘッド
JPH0423215A (ja) * 1990-05-17 1992-01-27 Sony Corp 薄膜磁気ヘッド
JPH0476809A (ja) * 1990-07-18 1992-03-11 Mitsubishi Electric Corp 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US5228184A (en) * 1990-07-18 1993-07-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing thin film magnetic head
JPH04298806A (ja) 1991-03-13 1992-10-22 Mitsubishi Electric Corp 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH05101359A (ja) 1991-10-03 1993-04-23 Mitsubishi Electric Corp 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPH06103597A (ja) * 1992-09-16 1994-04-15 Olympus Optical Co Ltd 集積化光ピックアップ
JPH06275036A (ja) * 1993-03-24 1994-09-30 Sony Corp 浮上型磁気ヘッド装置
JPH06295417A (ja) * 1993-04-08 1994-10-21 Citizen Watch Co Ltd 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JPH0773619A (ja) 1993-09-01 1995-03-17 Fujitsu Ltd 磁気ヘッド及びこれを使用する磁気記録再生装置
JP3292610B2 (ja) 1994-10-26 2002-06-17 矢野技研株式会社 管継手
US5920978A (en) * 1995-03-01 1999-07-13 Fujitsu Limited Method of making a thin film magnetic slider

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980083237A (ko) * 1997-05-13 1998-12-05 이우복 빗살형 일렉트로스테틱 마이크로 액츄에이터

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