JPS6113412A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS6113412A JPS6113412A JP13316384A JP13316384A JPS6113412A JP S6113412 A JPS6113412 A JP S6113412A JP 13316384 A JP13316384 A JP 13316384A JP 13316384 A JP13316384 A JP 13316384A JP S6113412 A JPS6113412 A JP S6113412A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- gap
- magnetic head
- signal coil
- Prior art date
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- Pending
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/17—Construction or disposition of windings
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/312—Details for reducing flux leakage between the electrical coil layers and the magnetic cores or poles or between the magnetic cores or poles
- G11B5/3123—Details for reducing flux leakage between the electrical coil layers and the magnetic cores or poles or between the magnetic cores or poles by using special coil configurations or conductors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3176—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
- G11B5/3179—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
- G11B5/3183—Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの製造方法に係り、特に、薄膜磁気
ヘッドに好適な構成を可能とするヘッド用基板に関する
ものである。
ヘッドに好適な構成を可能とするヘッド用基板に関する
ものである。
゛で′発明の背景〕
従来のハードディスク用磁気ヘッドの構造な第1図に示
した。このヘッドはMn−Zn、’系フェライトを機械
的に加T1.て作製されt−ものであり単品加工による
所が多(量産効果が得に(いものであった。またヘッド
ギャップ4もスペーサを介しての張り合せKよるもので
あり夛留り、量産性に問題があった。これに対して最近
フォトリゾ技術による薄膜研気ヘッドが開発され、実用
化されはじめている。このヘッドは薄いパーマロイ膜を
磁気コアとして使用しているため、ギャップデプスの制
御が11fn前後と極端に難しい仕様が要y?、され、
加工を難しくしている。
した。このヘッドはMn−Zn、’系フェライトを機械
的に加T1.て作製されt−ものであり単品加工による
所が多(量産効果が得に(いものであった。またヘッド
ギャップ4もスペーサを介しての張り合せKよるもので
あり夛留り、量産性に問題があった。これに対して最近
フォトリゾ技術による薄膜研気ヘッドが開発され、実用
化されはじめている。このヘッドは薄いパーマロイ膜を
磁気コアとして使用しているため、ギャップデプスの制
御が11fn前後と極端に難しい仕様が要y?、され、
加工を難しくしている。
本発明の目的は7オトリゾ孜術ン用いて形成でき、基板
にうめ込まれたスルーホール導体ニより裏面に信号線を
引き出すことにより構造の簡略化を計った新構造の磁気
ヘッドを提供することにある。
にうめ込まれたスルーホール導体ニより裏面に信号線を
引き出すことにより構造の簡略化を計った新構造の磁気
ヘッドを提供することにある。
上記した従来技術の問題点を解決するために第2図にボ
した構造の磁気ヘッドを考案している。このヘッドでは
スライダー1となる基板上忙下部コア、信号コイル2.
磁気ギャップ4を有する上部コア3.3”をフォトリゾ
工程で形成でき、ギャップ突合せ部での磁路断面積をし
ぼり込むことが容易に実現できるため、コア膜厚により
ギャップデプスが決定され、特に機械的な加工を必要と
しない。しかしながら、この構造では、膜を形成してい
る面が記録媒体のしゆう動面となるため信号コイルの引
き出しが問題となる。矛3図に示したように信号コイル
パターン2とリード線の接続部をスライダー1の他面に
まわり込ませることは接続′の信頼性不足より現実的で
ない。本発明では矛4図に示したごと(あらかじめ基板
に設けられたスルーホール導体により上記しゆ5動面の
裏面に信号コイルリードな引き出すことにより新構造の
ヘッドの構成を可能とした。
した構造の磁気ヘッドを考案している。このヘッドでは
スライダー1となる基板上忙下部コア、信号コイル2.
磁気ギャップ4を有する上部コア3.3”をフォトリゾ
工程で形成でき、ギャップ突合せ部での磁路断面積をし
ぼり込むことが容易に実現できるため、コア膜厚により
ギャップデプスが決定され、特に機械的な加工を必要と
しない。しかしながら、この構造では、膜を形成してい
る面が記録媒体のしゆう動面となるため信号コイルの引
き出しが問題となる。矛3図に示したように信号コイル
パターン2とリード線の接続部をスライダー1の他面に
まわり込ませることは接続′の信頼性不足より現実的で
ない。本発明では矛4図に示したごと(あらかじめ基板
に設けられたスルーホール導体により上記しゆ5動面の
裏面に信号コイルリードな引き出すことにより新構造の
ヘッドの構成を可能とした。
C発明の実施例〕
以下、本発明による実施例乞図を用いて説明す矛5図に
示したごとく所望の間隔でスルーホールが設けられた基
板熱は5張係数が10 I)−130×10−ンIIL
Pl’l (2インチ程程度が良い)を用意する。基板
厚は1〜2襲程が必要であり超音波加工等により100
μm直径の穴を形成する。他の方法としては元感元性ガ
ラス(たとえばフォトセラム(コーニング社製)を用い
ればケミカルエツチングにより容易に形成できる。一方
この穴直径より若干細いアルミニウム、銅あるいは金ロ
ンド9を用意する。これを定盤10上に基板1を置き上
記金属ロンドをハンマーにより圧入する。しかるのちに
基板10両面乞研摩して、所望の表面平坦度に仕上げる
。しかるのちに矛7図に示したごと(所望のパターンの
下部磁気 、回路な膜厚10μm程度のパーマロイ乞
用いて形成する。絶縁用Sin、薄膜を0.5μm程度
スパッタリング法により形成したのち、スルーホール導
体部に耐着している8i0.をエツチングによりとりの
ぞ(。、1′79図に示したように所望のパターンで信
号コイルとなるアルミ配線ケ形成する。再び絶縁層とな
る8i0.を同様な方法で形成したのち、上部磁気回路
と下部磁気回路の接続部の8i0.’Y線除去、所望の
パターンで基板面の法線に対し0〜45°のギャップ形
成面をもつ磁気ギャップを有する上部コア13を形成ず
ムこのあと記録媒体しゅう動面を保護するアルミナ層を
5〜20μm形成したのち、機械的な研摩により、磁気
ギャップ4を露出させる。
示したごとく所望の間隔でスルーホールが設けられた基
板熱は5張係数が10 I)−130×10−ンIIL
Pl’l (2インチ程程度が良い)を用意する。基板
厚は1〜2襲程が必要であり超音波加工等により100
μm直径の穴を形成する。他の方法としては元感元性ガ
ラス(たとえばフォトセラム(コーニング社製)を用い
ればケミカルエツチングにより容易に形成できる。一方
この穴直径より若干細いアルミニウム、銅あるいは金ロ
ンド9を用意する。これを定盤10上に基板1を置き上
記金属ロンドをハンマーにより圧入する。しかるのちに
基板10両面乞研摩して、所望の表面平坦度に仕上げる
。しかるのちに矛7図に示したごと(所望のパターンの
下部磁気 、回路な膜厚10μm程度のパーマロイ乞
用いて形成する。絶縁用Sin、薄膜を0.5μm程度
スパッタリング法により形成したのち、スルーホール導
体部に耐着している8i0.をエツチングによりとりの
ぞ(。、1′79図に示したように所望のパターンで信
号コイルとなるアルミ配線ケ形成する。再び絶縁層とな
る8i0.を同様な方法で形成したのち、上部磁気回路
と下部磁気回路の接続部の8i0.’Y線除去、所望の
パターンで基板面の法線に対し0〜45°のギャップ形
成面をもつ磁気ギャップを有する上部コア13を形成ず
ムこのあと記録媒体しゅう動面を保護するアルミナ層を
5〜20μm形成したのち、機械的な研摩により、磁気
ギャップ4を露出させる。
このあと第2図に示したようなスライダー形状に基板を
ダイシング加工することによりヘッド、スライダーは完
成する。
ダイシング加工することによりヘッド、スライダーは完
成する。
以下にスルホール尋体付基板の他の実施例を説明する。
実施例2
第11図に示したように基板1に外周スライサーにより
半円状のみそを所望のピッチ、所望の直径で加工する。
半円状のみそを所望のピッチ、所望の直径で加工する。
このようにして加工した基板を数枚用意してしかるのち
にみぞ加工面に低融点ガラスJfiを1〜2μmスパッ
タリング法で形成する。みそ直径にほぼ近似した金属ロ
ンド(アルミニウム、m、金等)を用意しこれらを多層
積層して、加熱圧着する。し力)るのち忙第12図に示
したごとく所望の厚さに切断、両面を研摩して、スルー
ホール導体付基板を作製してもよい。 、 実施例3 前の実施例ではスルーホール直径が10oIXn前後以
上のもの例を示したが、ヘッドの実装密度が高いマルチ
チャネル型ヘッド等ではスルーホールピッチが100μ
m以下、スルーホール直径が10μm前後が必要となる
。この場会には第13図に示したごとく基板に7オトリ
ゾ技術により5〜10μm深さの所望のみそを形成した
のち金属薄膜を形成、しかるのちに@岸により、第13
図+Qのような構造の基板を作製する。接肩剤となる低
融点ガラスを1〜2細スパツタリー/グで形成し複数枚
積層して、加熱圧着して実施例2で示したブロックを形
成したのち、切断して所望の基板を得ることが出来る。
にみぞ加工面に低融点ガラスJfiを1〜2μmスパッ
タリング法で形成する。みそ直径にほぼ近似した金属ロ
ンド(アルミニウム、m、金等)を用意しこれらを多層
積層して、加熱圧着する。し力)るのち忙第12図に示
したごとく所望の厚さに切断、両面を研摩して、スルー
ホール導体付基板を作製してもよい。 、 実施例3 前の実施例ではスルーホール直径が10oIXn前後以
上のもの例を示したが、ヘッドの実装密度が高いマルチ
チャネル型ヘッド等ではスルーホールピッチが100μ
m以下、スルーホール直径が10μm前後が必要となる
。この場会には第13図に示したごとく基板に7オトリ
ゾ技術により5〜10μm深さの所望のみそを形成した
のち金属薄膜を形成、しかるのちに@岸により、第13
図+Qのような構造の基板を作製する。接肩剤となる低
融点ガラスを1〜2細スパツタリー/グで形成し複数枚
積層して、加熱圧着して実施例2で示したブロックを形
成したのち、切断して所望の基板を得ることが出来る。
本発明によれば基板面に垂直な方向に磁気ギヤツブ?有
する新しい構造の磁気ヘッドが実現できる。この磁気ヘ
ッドはギャップデプスがスバッタリング法等で形成され
る磁性薄膜コア厚で決定されるため、たとえば10μm
±0.5μm程度の高精度が達成できる。fたスルーホ
ール内が金属で充填されているため接続面積が、スルー
ホール側面tメッキ等でメタライズした場合に比較して
大幅に太き(なるためスルーホール導体による接続不良
は全く発生しない。
する新しい構造の磁気ヘッドが実現できる。この磁気ヘ
ッドはギャップデプスがスバッタリング法等で形成され
る磁性薄膜コア厚で決定されるため、たとえば10μm
±0.5μm程度の高精度が達成できる。fたスルーホ
ール内が金属で充填されているため接続面積が、スルー
ホール側面tメッキ等でメタライズした場合に比較して
大幅に太き(なるためスルーホール導体による接続不良
は全く発生しない。
第1図は従来のバー ドブイス用磁気ヘッドスライダ−
の斜視図、第2図は、本発明の一実施例のヘッドの斜視
図、矛5図は第2図の側面図、矛4図はスルーホール接
続の一例ン示す側面図、矛5〜第10図は他の実施例の
外形図、第11,12図はスルーホール導体付基板の斜
視図、第15図は他の実施例の部分斜視図である。
の斜視図、第2図は、本発明の一実施例のヘッドの斜視
図、矛5図は第2図の側面図、矛4図はスルーホール接
続の一例ン示す側面図、矛5〜第10図は他の実施例の
外形図、第11,12図はスルーホール導体付基板の斜
視図、第15図は他の実施例の部分斜視図である。
Claims (1)
- 1、基板上に形成した第1の磁性層とその上の一部に形
成した導電層とその導電層の上に基板面に平行な面に動
作磁気ギャップを有する第2の磁性層を備え、磁気記録
媒体の走行面が前記基板面と平行の位置にあり、導電層
のリード引き出しを基板に設けたスルーホール導体によ
り該基板の裏面から行なうことを特徴とした薄膜磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13316384A JPS6113412A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13316384A JPS6113412A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6113412A true JPS6113412A (ja) | 1986-01-21 |
Family
ID=15098160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13316384A Pending JPS6113412A (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6113412A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5920978A (en) * | 1995-03-01 | 1999-07-13 | Fujitsu Limited | Method of making a thin film magnetic slider |
US6088908A (en) * | 1997-09-19 | 2000-07-18 | Fujitsu Limited | Method of making a head slider |
-
1984
- 1984-06-29 JP JP13316384A patent/JPS6113412A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5920978A (en) * | 1995-03-01 | 1999-07-13 | Fujitsu Limited | Method of making a thin film magnetic slider |
US6088908A (en) * | 1997-09-19 | 2000-07-18 | Fujitsu Limited | Method of making a head slider |
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