JP2002342955A - 光ディスク装置 - Google Patents

光ディスク装置

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JP2002342955A
JP2002342955A JP2001147616A JP2001147616A JP2002342955A JP 2002342955 A JP2002342955 A JP 2002342955A JP 2001147616 A JP2001147616 A JP 2001147616A JP 2001147616 A JP2001147616 A JP 2001147616A JP 2002342955 A JP2002342955 A JP 2002342955A
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optical disk
slider
comb
disk device
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Koichi Tezuka
耕一 手塚
Hitoshi Komoriya
均 小森谷
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 駆動電力が小さくて済む簡易な構成により応
答性良く微小トラッキング制御を行い、製造コストおよ
びランニングコストを低減することができる光ディスク
装置を提供する。 【解決手段】 光源からの光を収束して光ディスクDの
表面にビームスポットBsを形成する対物レンズ系4
1,55と、光ディスクDの表面に倣って光ディスクD
に対して相対的に移動するスライダ3と、ビームスポッ
トBsを光ディスクDの半径方向(AB方向)に微小変
位させる微小トラッキング制御機構5と、を備えた光デ
ィスク装置1において、対物レンズ系41,55を、第
1レンズ41および第2レンズ55を有するものとし、
第2レンズ55をスライダ3に保持させて第1レンズ4
1よりも光ディスクDに近い側に配置し、第2レンズ5
5を光ディスクDの半径方向に微小動させるように微小
トラッキング機構5を構成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本願発明は、光源からの光を
対物レンズ系により収束して光ディスクの表面にビーム
スポット形成するとともに、このビームスポットを光デ
ィスクの半径方向に微小トラッキング制御するように構
成された光ディスク装置に関する。なお、本明細書にお
いては、光ディスク装置なる用語は、特段の限定がない
限り、光ディスクなどの記録媒体に対する情報の読み取
り専用装置のみならず、磁界変調方式や光強度変調方式
によって光磁気ディスクや相変化ディスクなどの記録媒
体に情報を記録し、あるいは記録された情報を再生する
装置をも含むものとして使用している。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】光デ
ィスク装置としては、光ディスクの高密度記録化に伴っ
て、本願の図11および図12に示したように浮上スラ
イダ80,90を導入したものがある。図11に示した
光ディスク装置8は直進式として構成されたものであ
り、図12に示した光ディスク装置9は揺動式として構
成されたものである。これらの光ディスク装置8,9
は、スライダ80,90を支持するキャリッジ81,9
1、対物レンズ系82,92、および微小トラッキング
機構83,93をさらに有している。
【0003】対物レンズ系82,92は、高NA化を達
成すべく第1および第2レンズ82a,82b,92
a,92bからなっている。微小トラッキング機構8
3,93は、ビームスポットの位置を光ディスクDの半
径方向(図中の矢印A方向およびB方向)に変位させて
所望のトラック上にビームスポットを形成するためのも
のである。
【0004】図11に示した光ディスク装置8では、第
1レンズ82aが微小トラッキング機構83を介してキ
ャリッジ81に保持されており、第2レンズ82bがス
ライダ80に保持されている。この光ディスク装置8で
は、微小トラッキング機構83により第1レンズ82a
を光ディスクDの半径方向に移動させれば、ビームスポ
ットも光ディスクDの半径方向に変位し、これにより微
小トラッキング制御が行われる。
【0005】光源からの光は、第1レンズ82aにより
収束された後さらに、第2レンズ82bにより収束され
るため、第2レンズ82bに入射する光束の径よりも、
第1レンズ82aに入射する光束の径のほうが大きい。
そのため、第1レンズ82aのほうが第2レンズ82b
よりも大きく形成され、その分だけ第1レンズ82bの
ほうが重量が大きなものとなっている。
【0006】そのため、図11に示した光ディスク装置
8では、相対的に大きな第1レンズ82aをトラッキン
グ方向に移動させる必要がある。また、必要に応じて2
次元アクチュエータを採用して相対的な大きな第1レン
ズ82bをフォーカッシング方向にも移動させなければ
ならない。したがって、大型で構造が複雑であり、しか
も製造コストの高い微小トラッキング機構83をキャリ
ッジ81に設ける必要があるばかりか、第1レンズ82
aの移動に対して比較的に大きな動力(電力)を必要と
してランニングコストが大きくなるといった不具合もあ
る。その上、相対的に大きな第1レンズ82aを微小動
させる構成では、トラッキング応答特性が悪く、高速記
録化の妨げともなりかねない。また、キャリッジ81に
第1レンズ82aおよび微小トラッキング機構83を設
ける場合には、キャリッジ82aの厚み寸法が大きくな
って装置厚みが大きくなってしまうといった問題も生じ
かねない。
【0007】一方、図12に示した光ディスク装置9で
は、対物レンズ系92を構成する第1および第2レンズ
92a,92bのそれぞれは、スライダ90に保持され
ている。トラッキング機構93は、スイングアーム91
に設けられたガルバノミラーにより構成されている。光
学ユニット94の光源94aからの光は、ガルバノミラ
ー93で反射してから反射ミラー95および対物レンズ
系92を介して光ディスクDの表面に照射される。した
がって、ガルバノミラー93の偏向面を微小動させて、
偏向面に対する光の入射角度および反射角度を変えるこ
とにより、ビームスポットの位置が光ディスクDの半径
方向に変位させられ、トラッキング制御が行われる。
【0008】この構成では、第1レンズ92aおよび第
2レンズ92bがスライダ90に保持され、相対的に大
きな第1レンズ92aを移動させる必要がないため、ス
イングアーム91の厚みを大きくする必要がなく、しか
もトラッキング制御に必要な駆動電力が小さく、トラッ
キング応答特性もよい。その反面、ガルバノミラー93
は、複雑な構成を有するために製造コストが高く、高価
であるといった問題がある。したがって、図12に示し
た光ディスク装置9においても、製造コストの面の問題
は十分に改善されているとはいえない。
【0009】本願発明は、このような事情のもとに考え
だされたものであって、駆動電力が小さくて済む簡易な
構成により応答性良く微小トラッキング制御を行い、製
造コストおよびランニングコストを低減することができ
る光ディスク装置を提供することを課題としている。
【0010】
【発明の開示】すなわち、本願発明により提供される光
学式情報記録再生装置は、光源からの光を収束して光デ
ィスクの表面にビームスポットを形成する対物レンズ系
と、上記光ディスクの表面に倣って上記光ディスクに対
して相対的に移動するスライダと、上記ビームスポット
を上記光ディスクの半径方向に微小変位させる微小トラ
ッキング制御機構と、を備えた光学式情報再生装置であ
って、上記対物レンズ系は、第1レンズおよび第2レン
ズを有しているとともに、上記第2レンズは上記スライ
ダに保持され、かつ上記第1レンズよりも上記光ディス
クに近い側に配置されており、上記微小トラッキング機
構は、上記第2レンズを上記光ディスクの半径方向に微
小動させるように構成されていることを特徴としてい
る。
【0011】この光ディスク装置では、第1レンズより
も相対的に小さい第2レンズを微小動させることにより
トラッキング制御を行うように構成されている。したが
って、第1レンズを微小動させる構成に比べて駆動電力
が小さくて済み、ランニングコストの低減を図ることが
できる。その上、トラッキング信号に即時に対応して応
答性良く微小トラッキング制御を行うことができるた
め、微小トラッキング制御を行うことに伴って高速記録
化が妨げられることもない。
【0012】第1レンズは、スライダに保持させるのが
好ましく、その場合には、装置の厚みを小さくすること
が可能となる。相対的に小さな第2レンズをトラッキン
グ駆動させる場合には、相対的に大きな第1レンズをト
ラッキング駆動させる場合のように、大きな駆動機構は
必要とされない。そのため、微小トラッキング機構を問
題なくスライダに組み込むことができ、また1つの部材
(スライダ)に第1レンズおよび第2レンズの双方を保
持させれば、対物レンズ系および微小トラッキング機構
の全体のコンパクト化を図ることが可能となる。その結
果、スライダの厚み寸法をさほど大きくすることなくス
ライダを支持するキャリッジの厚み寸法を小さくできる
ようになり、装置の厚み寸法をも小さくすることができ
るようになる。
【0013】また、第2レンズは第1レンズに比べて相
対的に小さなものであるため、相対的に大きな第1レン
ズを微小動させる場合に比べて、微小トラッキング機構
を簡易な構成により達成することが可能となり、製造コ
ストの低減を図ることができるようになる。微小トラッ
キング機構は、たとえば静電アクチュエータにより構成
することができる。静電アクチュエータとしては、たと
えば第2レンズが保持され、かつ複数の第1櫛歯電極を
有する可動部と、隣接する第1櫛歯電極の間に位置する
第2櫛歯部電極を複数有する固定部と、を備え、複数の
第1櫛歯電極と複数の第2櫛歯電極との間に電圧を印加
することにより可動部を光ディスクの半径方向に微小動
させるように構成されたものを採用することができる。
【0014】このような微小トラッキング機構は、半導
体製造プロセスを採用することにより形成することがで
きる。たとえば、シリコンウエハに対する成膜およびエ
ッチング処理により固定部および可動部となるべき部分
を形成した後、シリコンウエハをダイシングすることに
より形成することができる。したがって、微小トラッキ
ング機構は、半導体製造プロセスを応用し、1つのウエ
ハから複数のものを簡易に形成することができるため、
量産性に優れ、製造コスト的にも有利である。
【0015】好ましい実施の形態においては、上記スラ
イダにおける上記光ディスクと対向する面には、コイル
が埋設された透明基板が設けられており、上記第2レン
ズは、上記透明基板との間に空気層を介在させた状態で
上記スライダに保持されている。
【0016】この光ディスク装置は、スライダにおける
光ディスクと対面する部分にコイルが設けられており、
光磁気記録が可能なように構成されている。光磁気記録
方式を採用して高速記録を行う場合、コイルへの通電に
伴う発熱より第2レンズが昇温し、第2レンズの屈性率
が変化して収差が生じることが懸念される。これに対し
て、コイルを埋設した基板と第2レンズとの間に空気層
を介在させておけば、コイルから熱が空気層で吸収され
るため、第2レンズに伝達される熱エネルギ量が低減さ
れる。その結果、コイルの発熱に起因した収差の発生を
抑制することができるようになる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0018】図1および図2に示した光ディスク装置1
は、スピンドルSpに装着された光ディスクDを回転さ
せた状態において、光ディスクDに対して磁界変調方式
により情報を記録し、光を利用して情報を再生する。こ
の光ディスクDの第1面d側には、ガイドロッド20に
よって光ディスクDの半径方向(図1および図2の矢印
A方向またはB方向:トラッキング方向)に移動可能に
キャリッジ2が支持されている。このようなキャリッジ
2の移動は、たとえば直進型ボイスコイルモータなどの
直進駆動機構21によって行われる。
【0019】キャリッジ2には、後述するスライダ3の
下方に位置するように反射ミラー22が配置されてお
り、レーザ光源(図示略)からの光が反射ミラー22で
反射してから、スライダ3の第1レンズ41に入射する
ように構成されている。
【0020】スライダ3は、サスペンション部材30を
介してキャリッジ2に支持されている。このスライダ3
は、サスペンション部材30の先端部に対し、たとえば
ジンバルバネ(図示略)を介して所定のピボットを中心
として揺動可能に支持されるのが通常である。
【0021】スライダ3は、図2および図3に示したよ
うに第1レンズホルダ4および静電アクチュエータ5を
有しており、光ディスクDと対向する対向面3aに透明
基板6が密着して設けられている。
【0022】第1レンズホルダ4には、中央部に貫通孔
40が形成されている。貫通孔40には、第1レンズ4
1が嵌合されている。第1レンズ41は、たとえばガラ
ス製であり、横断面の直径が2〜4mm、重量が5〜1
0mmgとされている。
【0023】静電アクチュエータ5は、図3ないし図6
に示したようにシリコン基板50上に可動部51、支持
部52、バネ部53および固定部54からなる導体層5
Aを形成したものである。
【0024】シリコン基板50は、図5および図6に良
く表れているように矩形枠状の凸部50aおよび一対の
支持凸部50bを有している。支持凸部50bは、可動
部51の両サイドに設けられた支持部52の下方に設け
られている。
【0025】可動部51は、図4においてクロスハッチ
ングを施した部分であり、可動部本体51Aおよび互い
に反対方向に延びる一対のフィン51Bを有している。
可動部本体51Aの中央部には、貫通孔51aが形成さ
れている。この貫通孔51aには第2レンズ55が嵌合
されており、第2レンズ55は可動部51と一体動可能
とされている。第2レンズ55は、たとえば球を赤道面
でカットした形状を有するソリッドイマージョンレンズ
(SIL)であり、半球面55aおよび平坦面55bを
有している。第2レンズ55は、たとえば平坦面55b
の直径が0.7〜1.5mm、重量が0.3〜1mgで
ある。
【0026】各フィン51Bの両長手縁からは、フィン
51Bの幅方向に延びる複数の第1櫛歯電極51bが形
成されている。フィン51Bの同一縁から延びる複数の
第1櫛歯電極51bは、一定間隔隔てて互いに平行に延
びている。
【0027】支持部52は、図4および図5に示したよ
うにシリコン基板50の支持凸部50b上に、合計2つ
設けられている。各支持部52は、その両端部において
2つのバネ部53を介して可動部51と一体化されてい
る。したがって、可動部51は、図5および図6に良く
表れているようにシリコン基板50の内底面50dから
離間した状態で支持部52およびバネ部53を介して支
持されている。このため、可動部51に保持された第2
レンズ55もまた、図5に良く表れているようにシリコ
ン基板50の内底面50dから離間している。その上、
シリコン基板50の中央部、つまり第2レンズ55の同
軸上に貫通孔50cが設けられており、シリコン基板5
0には透明基板6が密着して設けられている。このた
め、第2レンズ55は、図2および図5に示したように
基板6との間に空気層61を介して可動部51、つまり
スライダ3に保持されている。図3および図4に示した
ように、一方の支持部52は、リード部56を介してシ
リコン基板50の矩形状の凸部50aに繋がっている。
リード部56は、可動部51と固定部54の間に電位を
与える際に利用するものである。
【0028】固定部54は、図4において右下がりのシ
ングルハッチングを施した部分であり、シリコン基板5
0の矩形枠状の凸部50aに沿って形成された矩形枠部
54Aを有している。矩形枠部54Aにおける2つの長
辺からは、他方の長辺に向けて突出するように複数の第
2櫛歯電極54aが形成されている。同一の長辺から延
びる複数の第2櫛歯電極54aは、可動部本体51Aを
挟む2つのグループからなり、各グループを構成する第
2櫛歯電極54aは、一定間隔隔てて互いに平行に延び
ている。最端に位置する1つの第2櫛歯電極54aを除
く他の第2櫛歯電極54aは、その先端部ないし中央部
が隣接する2つの第1櫛歯電極51bの間において、こ
れらの第1櫛歯電極51bの中間から偏位した部位に位
置している。
【0029】このような静電アクチュエータ5は、図7
および図8を参照して説明するようにシリコンウエハを
用いて、半導体プロセスを応用して形成することができ
る。なお、図7および図8には、シリコンウエハにおけ
る図6に相当する部分の断面を示している。
【0030】図7(a)に示したように、まず、両面7
a,7bが(100)カット面とされたシリコンウエハ
7に熱酸化膜(SiO2)70,71を形成する。熱酸
化膜70,71は、シリコンウエハ7を1050〜11
50℃で6〜10時間ウエット酸化し、シリコンウエハ
7の表面7a,7bを酸化シリコンとすることにより形
成される。
【0031】次に、図7(b)に示したように、シリコ
ンウエハ7の一面7aに形成された熱酸化膜70の一部
を、イオントリミングなどの手法により除去する。熱酸
化膜70の除去領域は、可動部51、バネ部53および
固定部54の第2櫛歯電極54a(図3および図4など
参照)を形成すべき領域である。
【0032】続いて、図7(c)に示したように、シリ
コンウエハの一面7aの全体にアルミニウム膜72を形
成する。アルミニウム膜72は、蒸着やスパッタリング
などの公知の手法により形成することができる。
【0033】次いで、図7(d)に示したように熱酸化
膜70上にあるアルミニウム膜72をイオントリミング
などの手法により除去した後、図7(e)に示したよう
に熱酸化膜70およびアルミニウム膜71上にニッケル
下地層73を形成する。ニッケル下地層73は、蒸着や
スパッタリングなどの公知の手法により形成することが
できる。
【0034】続いて、図8(a)に示したように、ニッ
ケル下地層73上にマスク74を形成する。マスク74
は、可動部51、支持部52、バネ部53および固定部
54(図3および図4など参照)を形成すべき領域が露
出する開口部75を有している。このようなマスク74
は、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィにより、フ
ォトレジストとして形成することができる。
【0035】次いで、図8(b)に示したように、メッ
キなどの手法によりマスク74の開口部75にニッケル
を充填してニッケル導体層76を形成する。その後、図
8(c)に示したようにマスク74を除去した後に、マ
スク74の除去後にニッケル導体層76の隙間から露出
するニッケル下地層73を除去する。マスク74の除去
は有機溶剤によるウエットエッチングにより行うことが
でき、ニッケル下地層73の除去はイオントリミングな
どの手法により行うことができる。
【0036】続いて、図8(d)に示したように、ニッ
ケル導体層76の隙間から露出するアルミニウム膜72
をウエットエッチングにより除去する。エッチング液と
してKOH溶液などを用いた場合には、シリコンウエハ
7の表面も同時にエッチング処理され、可動部51など
がシリコンウエハ7から分離して浮いた状態とされる。
最後に、可動部51などが形成されたシリコンウエハ7
をダイシングすることにより、図3および図4などに示
したような個々の静電アクチュエータ5が製造される。
【0037】このように、静電アクチュエータ5は、半
導体プロセスを応用し、1つのシリコンウエハ7から複
数のものを簡易に形成することができるため、量産性に
優れ、製造コスト的にも有利である。
【0038】一方、透明基板6には、図3に良く表れて
いるようにコイル60が埋設されている。コイル60
は、通電時の発生磁界により光ディスクにおける磁気記
録層の磁気向きを規定し、磁界変調方式による情報の記
録を可能にするものである。このようなコイル60は、
たとえば銅などの金属膜をパターニングすることにより
渦巻き状に形成されており、電気絶縁性を有する透明な
材料、たとえば酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、
ダイヤモンドライクカーボン、酸化珪素、または窒化珪
素などにより覆うことにより透明基板6内に埋設されて
いる。
【0039】光磁気記録方式を採用して高速記録を行う
場合、コイル60への通電に伴う発熱より第2レンズ5
5が昇温し、第2レンズ55の屈性率が変化して収差が
生じることが懸念される。これに対して、図2および図
5を参照して説明したように、コイル60(透明基板
6)と第2レンズ55との間には空気層61が介在して
いる。このようにして空気層61を介在させれば、コイ
ル60から熱が空気層61で吸収されるため、第2レン
ズ55に伝達される熱エネルギ量が低減される。その結
果、コイル60の発熱に起因した収差の発生を抑制する
ことができるようになる。
【0040】以上に説明した構成を有するスライダ3で
は、図4に示したように可動部51と固定部54の間に
電圧を印加することにより、固定部54に対して可動部
51を矢印A方向またはB方向に微小動させることがで
きる。大部分の第1櫛歯電極51bは、第2櫛歯電極5
4aに間に位置しているが、その位置がこれらの第2櫛
歯電極54aの中間位置から偏位している。一方、可動
部51と固定部54との間に電圧を印加すれば、第1櫛
歯電極51bと第2櫛歯電極54aとの間に静電気力が
作用する。
【0041】ここで、静電気力は、電圧の2乗に比例
し、極性とは無関係であり、また第1櫛歯電極51bと
第2櫛歯電極54aとの間の距離の2乗に反比例する。
したがって、電圧印加時には、第1櫛歯電極51bは、
これを挟み込む2つの第2櫛歯電極54aのうち、近い
側の第2櫛歯電極54a側に引き寄せられる。その結
果、図4においては第1櫛歯電極51bひいては可動部
51の全体が図中の矢印A方向に移動する。このとき、
可動部51に第2レンズ55を保持しておけば、第2レ
ンズ55もまた矢印A方向に移動する。
【0042】このように、可動部51と固定部54との
間に電圧を印加すれば可動部51が矢印A方向に移動す
るが、その移動距離は静電気力の大きさ、つまり印加電
圧値に比例する。ここで留意すべき点は、可動部51と
固定部54との間に全く電圧を印加していない状態を基
準とし、印加電圧値の大小によりトラッキング制御を行
うとすれば、可動部51は矢印のA方向にしかトラッキ
ング制御できないことである。そのため、図4に示した
静電アクチュエータ5を用いて第2レンズ55を矢印A
方向およびB方向のいずれにも移動させる場合には、0
よりも大きい基準電圧を印加した状態を原点とし、この
基準電圧よりも大きな電圧を印加することにより可動部
51ないし第2レンズ55を原点よりも矢印A方向に偏
位した部位に微小動させる一方、基準電圧よりも小さな
電圧を印加することにより可動部51ないし第2レンズ
55を原点よりも矢印B方向に偏位した部位に微小動さ
せるように構成される。
【0043】たとえば、図9(a)に示したように、ビ
ームスポットBsが所望位置から矢印のB方向にずれて
いた場合には、基準電圧よりも大きな電圧を可動部51
と固定部54との間に印加すればよい。これに対して、
図9(b)に示したように、ビームスポットBsが所望
位置から矢印のA方向にずれていた場合には、基準電圧
よりも小さな電圧を可動部51と固定部54との間に印
加すればよい。
【0044】第2レンズ55をどの程度微小動させる
か、つまりどの程度の電圧を印加するかは、トラッキン
グ信号に基づいて決定される。トラッキング信号は、ビ
ームスポットBsが所望のトラックからどの程度ずれた
部位に形成されているを示すものであり、たとえば光デ
ィスクDからの反射光を光電変換素子などの光検出器に
検出し、そのときの電気的な出力に対してプッシュプル
法を適用することにより検出することができる。
【0045】光ディスク装置1では、第2レンズ55を
微小動させることにより微小トラッキング制御が行われ
る。第2レンズ55は、第1レンズ41よりも小さくて
軽い。先に例示した寸法や重量を参酌すれば分かるよう
に、第2レンズ55の直径は、たとえば第1レンズの1
/5〜1/2に、第2レンズ55の重量は、たとえば第
1レンズ41の1/20〜1/10に設定される。この
ため、第1レンズ41よりも小型かつ軽量の第2レンズ
55を微小動させてトラッキング制御を行うようにすれ
ば、トラッキング制御に必要な駆動電力が小さくて済
み、ランニングコストの低減を図ることができる。その
上、トラッキング信号に即時に対応して応答性良く微小
トラッキング制御を行うことができるため、微小トラッ
キング制御を行うことに伴って高速記録化が妨げられる
こともない。また、重量の小さな第2レンズ55を微小
動させる構成を採用することにより、静電アクチュエー
タ5を採用しても問題なく微小トラッキング制御を行う
ことができる。
【0046】静電アクチュエータとしては、図10に示
したものを採用することもできる。
【0047】同図に示した静電アクチュエータ5′は、
図4などを参照して説明した静電アクチュエータ5と同
様に第1櫛歯電極51b′を有する可動部51′および
第2櫛歯電極54a′を有する固定部54′を具備して
いる。
【0048】第1櫛歯電極51b′は、図4に示した静
電アクチュエータ5の第1櫛歯電極51bとは異なり、
可動部本体51Aから直接延出している。
【0049】固定部54′は、第1および第2部位54
A′,54B′に分断されており、スイッチSを切り替
えることにより可動部51′との間で電圧が印加される
部位54A′,54B′が選択される。第1および第2
部位54A′,54B′には、複数の第2櫛歯電極54
a′が設けられており、第2櫛歯電極54a′の先端部
は隣り合う第1櫛歯電極51a′の中間位置に配置され
ている。
【0050】この構成では、第1部位54A′と可動部
51′との間に電圧を印加することにより、第1部位5
4A′側に向けて延びる第1櫛歯電極51b′、ひいて
は可動部51′が静電気力により固定部54′側に引き
込まれ、可動部51′ひいては第2レンズ55が図中の
矢印A方向に微小動する。一方、スイッチSを切り替え
て第2部位54B′と可動部51′との間に電圧を印加
すれば、第2レンズ55が矢印B方向に微小動する。し
たがって、図10に示した静電アクチュエータ5′を用
いても矢印A方向およびB方向のいずれにも可動部5
1′(第2レンズ55)を微小動させることができるた
め、トラッキング制御を行うことができる。
【0051】以上においては、キャリッジが光ディスク
の半径方向に直進するように構成された光ディスク装置
について説明したが、スイングアームが光ディスクの半
径方向に揺動するように構成された光ディスク装置(図
12参照)にも本願発明を適用可能である。
【0052】
【発明の効果】以上に説明したように、本願発明では、
駆動電力が小さくて済む簡易な構成により微小トラッキ
ング制御を行い、製造コストおよびランニングコストを
低減することができる光ディスク装置を提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明に係る光ディスク装置の一例を示す光
学ヘッド周りの全体斜視図である。
【図2】図1のII−II線に沿う断面図である。
【図3】スライダの分解斜視図である。
【図4】静電アクチュエータの平面図である。
【図5】図4のV−V線に沿う断面図である。
【図6】図4のVI−VI線に沿う断面図である。
【図7】静電アクチュエータの製造工程図である。
【図8】静電アクチュエータの製造工程図である。
【図9】微小トラッキング制御を説明するためのスライ
ダ周りの断面図である。
【図10】静電アクチュエータの他の例を示す平面図で
ある。
【図11】従来の光ディスク装置の一例を示す光学ヘッ
ド周りの斜視図および要部拡大断面図である。
【図12】従来の光ディスク装置の他の例を示す光学ヘ
ッド周りの斜視図および要部拡大断面図である。
【符号の説明】
1 光ディスク装置 3 スライダ 41 第1レンズ 5 静電アクチュエータ(微小トラッキング機構) 55 第2レンズ 51 可動部 51b 第1櫛歯電極 54 固定部 54a 第2櫛歯電極 6 透明基板 60 コイル D 光ディスク
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 11/105 G11B 11/105 566F Fターム(参考) 5D075 AA03 CC04 CF03 CF08 5D118 AA03 AA13 BA01 DC02 EA00 EA08 5D119 AA01 AA37 AA40 CA06 JA49 JA51 MA06

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの光を収束して光ディスクの表
    面にビームスポットを形成する対物レンズ系と、上記光
    ディスクの表面に倣って上記光ディスクに対して相対的
    に移動するスライダと、上記ビームスポットを上記光デ
    ィスクの半径方向に微小変位させる微小トラッキング機
    構と、を備えた光ディスク装置であって、 上記対物レンズ系は、第1レンズおよび第2レンズを有
    しているとともに、上記第2レンズは上記スライダに保
    持され、かつ上記第1レンズよりも上記光ディスクに近
    い側に配置されており、 上記微小トラッキング機構は、上記第2レンズを上記光
    ディスクの半径方向に微小動させるように構成されてい
    ることを特徴とする、光ディスク装置。
  2. 【請求項2】 上記第1レンズは、上記スライダに保持
    されている、請求項1に記載の光ディスク装置。
  3. 【請求項3】 上記微小トラッキング機構は、静電アク
    チュエータにより構成されている、請求項1または2に
    記載の光ディスク装置。
  4. 【請求項4】 上記静電アクチュエータは、上記第2レ
    ンズが保持され、かつ複数の第1櫛歯電極を有する可動
    部と、隣接する第1櫛歯電極の間に位置する第2櫛歯電
    極を複数有する固定部と、を備えており、上記複数の第
    1櫛歯電極と上記複数の第2櫛歯電極との間に電圧を印
    加することにより上記可動部を上記光ディスクの半径方
    向に微小動させるように構成されている、請求項3に記
    載の光学ディスク装置。
  5. 【請求項5】 上記スライダにおける上記光ディスクと
    対向する面には、コイルが埋設された透明基板が設けら
    れており、 上記第2レンズは、上記透明基板との間に空気層を介在
    させた状態で上記スライダに保持されている、請求項1
    ないし4のいずれかに記載の光ディスク装置。
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