JP2002116362A

JP2002116362A - あおり機構を有する光学素子とその製造方法及び光学装置

Info

Publication number: JP2002116362A
Application number: JP2000310080A
Authority: JP
Inventors: Koichi Otaka; 剛一大高
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-10-11
Filing date: 2000-10-11
Publication date: 2002-04-19

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量で構造が単純であるとともに高速で光軸を
変位させる。【解決手段】レンズ１１のあおり機構を、レンズ１１を
支持し共通電極となる梁基板１３と、梁基板１３を挾ん
で設けられた第１の電極基板１５と第２の電極基板１７
とで構成する。梁基板１３と第１の電極基板１５間の静
電力と、梁基板１３と第２の電極基板１７間の静電力で
梁基板１３のレンズ１１を支持する梁１２を局部的に変
形させてレンズ１１の光軸２２を変位させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば光ディス
クの信号を検出する光ピックアップのレンズやフォトダ
イオード，光ファイバのカップリングレンズ等の光軸を
変位するあおり機構を有する光学素子とその製造方法及
びあおり機構を有する光学素子を使用した光学装置、特
に光軸の調整の容易化に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば光ディスクの信号を検出する光ピ
ックアップでトラッキングを調整するために、例えば特
公平６−１９８４４号公報に示すように、光ピックアッ
プ全体を動かしたり、あおり機構によりレンズの光軸を
変位させたりしている。レンズの光軸を変位させるあお
り機構のアクチュエータとしてはムービング・コイルと
永久磁石及び磁性体を用いたムービング・コイル型モー
タが主として使われている。また、特許第２７５７５３
９号公報に示された浮上型光ヘッドは、複数枚のレンズ
を組み合わせたリレーレンズを用いてトラッキング調整
を行なったり、特開平５−９４６２８号公報に示すよう
に、リニアモータを用いてトラッキング調整を行なった
りしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のように光ピック
アップでトラッキングを調整するために光ピックアップ
全体を動かしていると、光ピックアップの移動機構が非
常に複雑になってしまう。また、レンズの光軸を変位さ
せるために、ムービングコイルのアクチュエータを使用
したり、リレーレンズやリニアモータを使用した場合
は、いずれも重量が重く、浮上型光ヘッドには不向きで
あった。さらに、高速のトラッキング調整を行うために
はレンズの光軸を高速で変位させる必要があるが、いず
れの場合も重量が重いために慣性が大きく、レンズの光
軸を高速で変位させることは困難であった。また、ムー
ビングコイル等のアクチュエータ自体も構造が複雑なた
め、実装組立が複雑にあるという短所もあった。

【０００４】この発明はかかる短所を改善し、軽量で構
造が単純であるとともに高速で光軸を変位させることが
できるあおり機構を有する光学素子とその製造方法及び
光学装置を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明に係るあおり機
構を有する光学素子は、光学素子を支持するとともに共
通電極となる支持基板と、支持基体を挾んで設けられた
第１の電極基板と第２の電極基板とを有し、支持基板を
静電力により局部的に変形させることを特徴とする。

【０００６】上記支持基板に光学素子を支持する複数本
の梁を有することが望ましい。

【０００７】また、第１の電極基板と第２の電極基板の
電極領域を支持基板と空隙をおいて設けると良い。

【０００８】さらに、第１の電極基板と第２の電極基板
の電極領域と支持基板との間の空隙を光学素子から離れ
るにしたがって狭くすることが望ましい。

【０００９】また、支持基板を光学素子の保持部側が小
さくなるくさび状の断面になるように形成すると良い。

【００１０】さらに、支持基板と光学素子を１体に形成
することが望ましい。

【００１１】この発明のあおり機構を有する光学素子の
製造方法は、第１の基板をエッチング処理して光学素子
を支持基板と一体に作成し、第２，第３の基板をエッチ
ング処理して電極を設ける凹部と光学素子の光路を形成
する開口を形成し、凹部に複数の電極領域を形成して第
１の電極基板と第２の電極基板を作成し、第１の電極基
板と第２の電極基板の電極の位置合わせをして支持基板
の両側に第１の電極基板と第２の電極基板を貼り合わせ
たことを特徴とする。

【００１２】この発明の光学装置は、上記あおり機構を
有する光学素子を有することを特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】この発明のあおり機構を有するレ
ンズは、レンズと、レンズの外周方向に等角度で設けら
れ、レンズを保持する複数本の梁を有し、共通電極を構
成する梁基板と、梁基板の上部に梁と一定間隔の空隙を
おいて設けられた第１の電極基板と、梁基板の下部に梁
と一定間隔の空隙をおいて設けられた第２の電極基板と
を有する。第１の電極基板の空隙を隔てて梁と対向する
下面にはそれぞれ電極が設けられ、第２の電極基板の空
隙を隔てて梁と対向する上面にもそれぞれ電極が設けら
れている。そして第１の電極基板と第２の電極基板の各
電極と梁基板との間に加えられる電圧を変えて梁基板の
各梁に加えられる静電力を局部的に変えて一部の梁を撓
ませて梁基板で保持しているレンズの光軸を変位させ
る。

【００１４】

【実施例】図１はこの発明の一実施例の構成図である。
図に示すように、光ディスク５０に情報を記録したり、
光ディスク５０に記録された情報を読み取る光ピックア
ップの光学系１はレーザ光源としての半導体レーザ素子
（以下、ＬＤという）２と、コリメータレンズ３と、ビ
ーム整形用プリズム４と、偏光ビームスプリッタ５と、
１／４波長板６と、あおり機構付の対物レンズ７と、検
出用集光レンズ８と、光路分割素子９及びフォトディテ
クタ（以下、ＰＤという）１０を主体に構成されてい
る。

【００１５】ＬＤ２から出射された直線偏光のレーザ光
はコリメータレンズ３によってほぼ平行光とされ、偏光
ビームスプリッタ５と１／４波長板６とで構成される光
アイソレータにおいて直線偏光から円偏光に変換され
る。円偏光に変換されたレーザ光は、あおり機構付の対
物レンズ７により集光され、光ディスク５０の記録面上
に光スポットの状態で照射される。このようにＬＤ２か
らレーザ光を出射するときに、通常、ＬＤ２は活性層に
対して水平な方向と垂直な方向で出射角が異なり、コリ
メータレンズ３からのコリメータ光は楕円型となるが、
必要に応じてビーム整形プリズム４によりコリメータ光
を円形にしてあおり機構付の対物レンズ７におけるカッ
プリング効率の向上を図っている。光ディスク５０の記
録面からの反射光はあおり機構付の対物レンズ７を通
り、１／４波長板６により偏光方向を90度回転した直線
偏光に変換された後、偏光ビームスプリッタ５により検
出用集光レンズ８の方向に反射される。この反射光は検
出用集光レンズ８により集光され、光路分割素子９で分
割されたＰＤ１０に入射する。ＰＤ１０は光ディスク５
０の記録面上にマークを有するか否かにより生じる反射
率の違いに応じて変化する反射光の出力量を検出する。
また、ＰＤ１０はフォーカスエラー信号やトラッキング
エラー信号の検出も行ない、常に、フォーカシングとト
ラッキングが行えるように、検出したエラー信号をフィ
ードバックしてあおり機構付の対物レンズ７の光軸を変
位させて常に焦点位置を保持し、トラック溝を追従して
記録信号の記録や再生又は消去が行われる。このフォー
カシングエラー検出方法は検出用集光レンズ８の後に設
けた光路分割素子９で検出用集光レンズ８を通過した光
の光路を２分割し、それぞれのビームサイズを検出する
ダブルビームサイズ法のほかに非点収差法やダブルナイ
フエッジ法などがある。

【００１６】この光ピックアップでトラッキングを調整
するあおり機構付の対物レンズ７は、図２（ａ）の断面
図に示すように、レンズ１１と、図２（ｂ）に示すよう
に、レンズ１１の外周方向に等角度で設けられ、レンズ
１１を保持する複数、例えば４本の梁１２ａ〜１２ｄを
有し、共通電極を構成する梁基板１３と、梁基板１３の
上部に梁１２ａ〜１２ｄと一定間隔の空隙１４をおいて
設けられた第１の電極基板１５と、梁基板１３の下部に
梁１２ａ〜１２ｄと一定間隔の空隙１６をおいて設けら
れた第２の電極基板１７と、電源１８及び切換制御部１
９を有する。第１の電極基板１５の空隙１４を隔てて梁
１２ａ〜１２ｄと対向する下面にはそれぞれ電極２０ａ
〜２０ｄが設けられ、第２の電極基板１７の空隙１６を
隔てて梁１２ａ〜１２ｄと対向する上面にはそれぞれ電
極２１ａ〜２１ｄが設けられている。切換制御部１９は
第１の電極基板１５の各電極２０ａ〜２０ｄと第２の電
極基板１５の各電極２１ａ〜２１ｄとの接続を個々に切
り換え、共通電極を構成する梁基板１３と各電極２０ａ
〜２０ｄ，２１ａ〜２１ｄ間に電源１８から供給される
電圧を印加するとともに、印加する電圧を可変する。

【００１７】上記のように構成されたあおり機構付の対
物レンズ７において、切換制御部１９から梁基板１３と
第１の電極基板１５の各電極２０ａ〜２０ｄとの間と、
梁基板１３と第２の電極基板１７の各電極２１ａ〜２１
ｄに電圧を印加していないときは、図２（ａ）に示すよ
うに、レンズ１１の光軸２２は垂直方向であるＺ軸方向
に沿っている。この状態で例えば図３に示すように、梁
基板１３と第１の電極基板１５の電極２０ａに電圧を印
加すると、梁基板１３の梁１２ａと第１の電極基板１５
の電極２０ａの間に静電力が作用し、梁１２ａは電極２
０ａに引き付けられて上方向に撓む。同時に梁基板１３
と第２の電極基板１７の電極２１ｃに電圧を印加する
と、梁基板１３の梁１２ｃと第２の電極基板１７の電極
２１ｃの間に静電力が作用し、梁１２ｃは電極２１ｃに
引き付けられて下方向に撓む。このように梁１２ａと梁
１２ｃが逆方向に撓むと、図３に示すように、梁１２ａ
〜１２ｄで保持されているレンズ１１が傾き、レンズ１
１の光軸２２がＺ方向から一定角度αだけ傾き、光軸２
２があおられる。このレンズ１１の光軸２２の変位角α
は切換制御部１９から印加する電圧を可変することによ
り、任意の角度に可変することができる。

【００１８】このようにしてレンズ１１を固定している
梁１２ａ〜１２ｄを静電力により撓ませることによりレ
ンズ１１の光軸２２を任意の方向にあおることができ、
光ピックアップの光学系１のトラッキング調整を精度良
く行なうことができる。

【００１９】上記実施例では梁基板１３と第１の電極基
板１５の電極２０ａの間と梁基板１３と第２の電極基板
１７の電極２１ｃの間に電圧を印加して梁１２ａと梁１
２ｃを逆方向に撓めた場合について説明したが、第１の
電極基板１５と第２の電極基板１７の梁１２ａ〜１２ｄ
を挾んで対向している電極、例えば電極２０ａ，２１ａ
と梁基板１３の間に電圧を印加し、この印加する電圧を
変えることにより梁１２ａに加えられる静電力に差を持
たせて梁１２ａを撓ませるようにしても良い。

【００２０】また、あおり機構付の対物レンズ７に使用
するレンズ１１は凸レンズや凹レンズ，非球面レンズ等
のいずれでも良い。また、レンズ１１と梁基板１３を別
個に作成した後に組み立てて一体化できるが、レンズ１
１と梁基板１３を同じ材料で一体に形成することもでき
る。特にレンズ１１の寸法が小さい例えばマイクロレン
ズ等の微小レンズの場合には、マイクロマシニングの手
法を用い、レンズ１１と梁基板１３を一体に形成するほ
うが望ましい。また、梁基板１３の材料や各梁１２ａ〜
１２ｄの寸法は固定するレンズ１１の寸法や重量及びレ
ンズ１１のあおりの範囲や静電力を発生させるのに用い
る電圧などから決めると良い。また、共通電極としての
梁基板１３には金属材料で電極を形成しても良いし、梁
基板１３を半導体材料で形成する場合には、不純物を注
入／拡散して低抵抗化して梁基板１３自体を電極として
も良い。また、第１の電極基板１５と第２の電極基板１
７の材料としては金属材料や合成樹脂，ガラス，半導体
材料等を用いることができる。第１の電極基板１５と第
２の電極基板１７を金属材料や半導体で形成した場合は
梁基板１３との接合面を絶縁しておけば良い。また、第
１の電極基板１５と第２の電極基板１７をシリコンなど
の半導体材料で形成した場合は、伝導型の異なる不純物
を拡散し、ｐｎ接合により各電極２０ａ〜２０ｄ，２１
ａ〜２１ｄを形成することもできる。この梁基板１３及
び第１の電極基板１５と第２の電極基板１７の電極２０
ａ〜２０ｄ，２１ａ〜２１ｄはワイヤーボンディングあ
るいは異方性導電材料等により外部に電気的に接続でき
るように形成されている。

【００２１】上記実施例はレンズ１１を梁基板１３を複
数の梁１２ａ〜１２ｄで保持した場合について説明した
が、図４の平面図に示すように、内周面が円形に形成さ
れた円輪基板２３でレンズ１１の外周全体を保持し、第
１の電極基板１５と第２の電極基板１７の電極２０ａ〜
２０ｄ，２１ａ〜２１ｄの間に印加する電圧により生じ
る静電力で円輪基板２３を局部的に変位させるようにし
ても良い。また、第１の電極基板１５と第２の電極基板
１７にそれぞれ４個の電極２０ａ〜２０ｄ，２１ａ〜２
１ｄを形成した場合について説明したが、図５の平面図
に示すように、第１の電極基板１５と第２の電極基板１
７にそれぞれ４個以上の電極２０，２１を形成すること
により、レンズ１１の光軸２２の角度変位をより精度良
く調整することができる。

【００２２】さらに、図６の断面図に示すように、梁基
板１３の梁１２ａ〜１２ｄ又は円輪基板２３の内周側を
レンズ１１に近づくにしたがって厚さが薄くなるように
形成し、梁基板１３の梁１２ａ〜１２ｄ又は円輪基板２
３の内周側と第１の電極基板１５の電極２０ａ〜２０ｄ
との間の空隙１４と、梁基板１３の梁１２ａ〜１２ｄ又
は円輪基板２３の内周側と第２の電極基板１７の電極２
１ａ〜２１ｄとの間の空隙１７がレンズ１１から離れる
にしたがって狭くなるように形成しても良い。このよう
に梁基板１３の梁１２ａ〜１２ｄ又は円輪基板２３の内
周側をレンズ１１に近づくにしたがって薄くなるように
形成し、空隙１４，１７の間隔を変えることにより、電
圧を印加したときに、梁基板１３の梁１２ａ〜１２ｄ又
は円輪基板２３の内周側は空隙１４，１７の狭い部分か
ら撓み始め、より低い電圧でレンズ１１をあおることが
できる。

【００２３】また、上記実施例は第１の電極基板１５と
第２の電極基板１７の電極２０ａ〜２０ｄ，２１ａ〜２
１ｄを空隙１４，１７側に設けた場合について説明した
が、図７の断面図に示すように、各電極２０ａ〜２０
ｄ，２１ａ〜２１ｄを第１の電極基板１５と第２の電極
基板１７の空隙１４，１７と反対側に設けても良い。

【００２４】次ぎにあおり機構付の対物レンズ７のレン
ズ１１とあおり機構の作成方法を図８の工程図を参照し
て説明する。図８において（Ａ）は断面図、（Ｂ）は平
面図である。

【００２５】まず、図８（ａ）に示すように、レンズ１
１と梁基体１３とを一体に形成する平板状の基板３１を
形成する。この基体３１は、レンズ１１を紫外領域から
可視領域の光に使用する場合は、光学ガラスや石英ガラ
ス等を用い、赤外領域の光に使用する場合は、光学ガラ
スや石英ガラスのほかに半導体材料や導電性材料を用い
ても良い。この基体３１にフォトリソグラフィとドライ
エッチング処理を行ない、図８（ｂ）に示すように、レ
ンズ１１と梁１２ａ〜１２ｄを有する梁基板１３を形成
する。このレンズ１１と梁基板１３を形成するときに面
積階調のパターンを形成したフォトマスクあるいはレジ
スト材料の熱変形手法などを用いることにより、レンズ
１１形状や梁１２ａ〜１２ｄの形状を形成することがで
きるとともに厚さの変化した梁１２ａ〜１２ｄを形成す
ることができる。そして梁基板１３に電極を設ける場合
は電極３２を形成する。また、基板３１を半導体材料や
導電性材料で形成する場合には梁基板１３自体を電極と
して用いることもできる。次ぎに、図８（ｃ）に示すよ
うに、第１の電極基板１５と第２の電極基板１７を形成
する平板状の基板３３を、透光性のガラスやシリコンな
どの半導体材料又はセラミック材料などでそれぞれ形成
する。そして、この基板３３にフォトリソグラフィとド
ライエッチング処理を行ない、図８（ｄ）に示すよう
に、空隙１４と電極２０の取付部を形成する凹部３４を
形成し、レンズ１１の光路となる開口３５を形成して第
１の電極基板１５を作成する。この第１の電極基板１５
の凹部３４を形成するときに、面積階調のパターンを形
成したフォトマスクあるいはレジスト材料の熱変形手法
などを用いれば凹部３の底面に傾斜を設けて非平行な空
隙１４を形成することができる。また、レンズ１１の光
路となる開口３５はドライエッチングで形成できるが、
基板３３をシリコンで形成した場合には水酸化カリウム
溶液などによる異方性エッチングによっても開口３５を
形成することができる。そして第１の電極基板１５の凹
部３４の底面の所定の位置に電極２０ａ〜２０ｄを形成
する。この電極２０ａ〜２０ｄの材料としては金属材料
が広く使用できるが、基板３３が導電性材料で形成され
た場合は、基板３３に絶縁膜を介して電極２０ａ〜２０
ｄを形成する。また、基板３３がシリコンなどの半導体
材料の場合には伝導型の異なる不純物を注入／拡散して
ｐｎ接合を形成して電極２０ａ〜２０ｄの領域を形成し
ても良い。同様にして、図８（ｅ）に示すように、第２
の電極基板１７を作成して電極２１ａ〜２１ｄを形成す
る。その後、レンズ１１を１体に形成した梁基板１３の
梁１２ａ〜１２ｄと第１の電極基板１５の電極２０ａ〜
２０ｄ及び第２の電極基板１７の電極２１ａ〜２１ｄの
位置合わせをして、図８（ｆ）に示すように、梁基板１
３に第１の電極基板１３と第２の電極基板１７を接着剤
あるいは直接接合や陽極接合により貼り合わせて１体化
してレンズ１１とあおり機構を形成する。このようにし
てレンズ１１と１体化したあおり機構を容易に形成する
ことができる。

【００２６】また、内周面が円形に形成されたレンズ１
１の外周全体を保持する円輪基板２３も上記梁基板１３
と同様にして形成して第１の電極基板１３と第２の電極
基板１７と一体化すれば良い。

【００２７】上記実施例は光学素子としてレンズ１１を
使用した場合について説明したが、ミラーやプリズム等
の光学素子にも同様に適用してミラーやプリズム等をあ
おることができる。

【００２８】

【発明の効果】この発明は以上説明したように、光学素
子を支持する支持基板を静電力により局部的に変形させ
て光学素子をあおるようにしたから、光学素子を精度良
くあおることができる。

【００２９】また、光学素子のあおり機構を、光学素子
を支持し共通電極となる支持基板と、支持基体を挾んで
設けられた第１の電極基板と第２の電極基板とで構成す
ることにより、部品の少なく軽量で簡単なあおり機構に
することができる。

【００３０】また、支持基板に光学素子を支持する複数
本の梁を設けることにより、光学素子を簡単にあおるこ
とができるとともにあおり範囲をより大きく制御するこ
とができる。

【００３１】また、第１の電極基板と第２の電極基板の
電極領域を支持基板と空隙をおいて設け、第１の電極基
板と第２の電極基板の電極領域に加える電圧を可変する
ことにより、支持基板に加える静電力を可変して支持基
板を任意に撓めることができ、光学素子のあおり量を精
度良く制御することができる。

【００３２】さらに、第１の電極基板と第２の電極基板
の電極領域と支持基板との間の空隙を光学素子から離れ
るにしたがって狭くしり、支持基板を光学素子の保持部
側が小さくなるくさび状の断面になるように形成するこ
とにより、光学素子のあおり量をより精度良く制御する
ことができる。

【００３３】また、支持基板と光学素子を１体に形成す
ることにより、光学素子を確実に支持することができる
とともに、あおり機構を簡略化することができる。

【００３４】また、第１の基板をエッチング処理して光
学素子を支持基板と一体に作成し、第２，第３の基板を
エッチング処理して電極を設ける凹部と光学素子の光路
を形成する開口を形成し、凹部に複数の電極領域を形成
して第１の電極基板と第２の電極基板を作成し、第１の
電極基板と第２の電極基板の電極の位置合わせをして支
持基板の両側に第１の電極基板と第２の電極基板を貼り
合わせしてあおり機構を有する光学素子を製造すること
により、あおり機構を有する光学素子を簡単に作成する
ことができる。

【００３５】さらに、このあおり機構を有する光学素子
を光学装置に設けることにより、光学装置を小型化でき
るとともに、光学素子を精度良くあおることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例の光ピックアップの光学系の
構成図である。

【図２】上記実施例のあおり機構付の対物レンズの構成
図である。

【図３】あおり機構付の対物レンズの動作を示す断面図
である。

【図４】第２のあおり機構付の対物レンズの平面図であ
る。

【図５】第３のあおり機構付の対物レンズの平面図であ
る。

【図６】第４のあおり機構付の対物レンズの構成を示す
断面図である。

【図７】第５のあおり機構付の対物レンズの構成を示す
断面図である。

【図８】あおり機構付の対物レンズの製造方法を示す工
程図である。

【符号の説明】

１；光ピックアップの光学系、２；ＬＤ、３；コリメー
タレンズ、４；ビーム整形用プリズム、５；偏光ビーム
スプリッタ、６；１／４波長板、７；あおり機構付の対
物レンズ、８；検出用集光レンズ、９；光路分割素子、
１０；ＰＤ、１１；レンズ、１２；梁、１３；梁基板、
１４；空隙、１５；第１の電極基板、１６；空隙、１
７；第２の電極基板、１８；電源、１９；切換制御部、
２０；電極、２１；電極。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/22 Ｇ１１Ｂ 7/22

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光学素子を支持するとともに共通電極と
なる支持基板と、支持基体を挾んで設けられた第１の電
極基板と第２の電極基板とを有し、支持基板を静電力に
より局部的に変形させることを特徴とするあおり機構を
有する光学素子。
【請求項２】上記支持基板に光学素子を支持する複数
本の梁を有する請求項１記載のあおり機構を有する光学
素子。
【請求項３】上記第１の電極基板と第２の電極基板の
電極領域を支持基板と空隙をおいて設けた請求項１又は
２記載のあおり機構を有する光学素子。
【請求項４】上記第１の電極基板と第２の電極基板の
電極領域と支持基板との間の空隙を光学素子から離れる
にしたがって狭くした請求項３記載のあおり機構を有す
る光学素子。
【請求項５】上記支持基板は光学素子の保持部側が小
さくなるくさび状の断面になるように形成した請求項３
又は４記載のあおり機構を有する光学素子。
【請求項６】上記支持基板と光学素子を１体に形成し
た請求項１乃至５のいずれかに記載のあおり機構を有す
る光学素子。
【請求項７】第１の基板をエッチング処理して光学素
子を支持基板と一体に作成し、第２，第３の基板をエッ
チング処理して電極を設ける凹部と光学素子の光路を形
成する開口を形成し、凹部に複数の電極領域を形成して
第１の電極基板と第２の電極基板を作成し、第１の電極
基板と第２の電極基板の電極の位置合わせをして支持基
板の両側に第１の電極基板と第２の電極基板を貼り合わ
せたことを特徴とするあおり機構を有する光学素子の製
造方法。
【請求項８】請求項１乃至６に記載のあおり機構を有
する光学素子を有することを特徴とする光学装置。