JPH05101359A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPH05101359A JPH05101359A JP25634791A JP25634791A JPH05101359A JP H05101359 A JPH05101359 A JP H05101359A JP 25634791 A JP25634791 A JP 25634791A JP 25634791 A JP25634791 A JP 25634791A JP H05101359 A JPH05101359 A JP H05101359A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- substrate
- pattern
- slider
- film magnetic
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 平面型薄膜磁気ヘッドの浮動面加工を、摺動
面に影響を与えず、かつ容易に行えるようにするもので
ある。 【構成】 素子を形成する基板１上に予め磁気ヘッドス
ライダのパターン１２を作り込み、その基板分離時に同
時に一括して浮動面加工を行うようにする。 【効果】 摺動面の平坦度を損なわずに簡単に浮動面加
工を行うことができる。
面に影響を与えず、かつ容易に行えるようにするもので
ある。 【構成】 素子を形成する基板１上に予め磁気ヘッドス
ライダのパターン１２を作り込み、その基板分離時に同
時に一括して浮動面加工を行うようにする。 【効果】 摺動面の平坦度を損なわずに簡単に浮動面加
工を行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは、半導体集積回路と同
様な蒸着，スパッタ等の成膜技術、写真製版，エッチン
グ等のリソグラフィ技術を用いて製造されるものであ
り、高精度なヘッドが一括大量生産されることが特徴で
ある。
様な蒸着，スパッタ等の成膜技術、写真製版，エッチン
グ等のリソグラフィ技術を用いて製造されるものであ
り、高精度なヘッドが一括大量生産されることが特徴で
ある。
【０００３】薄膜磁気ヘッドとしては、従来、ギャップ
形成の容易さや、媒体摺動に対する耐性の点から磁気ギ
ャップを基板面に垂直方向（膜厚方向）に形成する垂直
型が実用化されている。
形成の容易さや、媒体摺動に対する耐性の点から磁気ギ
ャップを基板面に垂直方向（膜厚方向）に形成する垂直
型が実用化されている。
【０００４】その一方で、近年、ギャップが基板面内に
形成される平面型の薄膜磁気ヘッドの研究が進められて
いる。例えば，IEEE INTERMAG ’89 におけるＩＢＭ社
の文献“A NEW APPROACH TO MAKING THIN FILM HEAD-SL
IDER DEVICE ”IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS.(VOL.
25 NO.5 P3686.1989) に記載されている。
形成される平面型の薄膜磁気ヘッドの研究が進められて
いる。例えば，IEEE INTERMAG ’89 におけるＩＢＭ社
の文献“A NEW APPROACH TO MAKING THIN FILM HEAD-SL
IDER DEVICE ”IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS.(VOL.
25 NO.5 P3686.1989) に記載されている。
【０００５】この構成のヘッドの場合、ヘッドの媒体対
向面が基板面となるため、基板内で一括して浮上面加工
が行え、さらに、磁気ギャップ深さが膜厚で決定される
ためその制御が容易であるという利点がある。垂直型ヘ
ッドの場合は、これらの加工を通常基板からヘッドチッ
プを分離した後、個々に行わねばらなず、コスト上昇の
一因となっている。
向面が基板面となるため、基板内で一括して浮上面加工
が行え、さらに、磁気ギャップ深さが膜厚で決定される
ためその制御が容易であるという利点がある。垂直型ヘ
ッドの場合は、これらの加工を通常基板からヘッドチッ
プを分離した後、個々に行わねばらなず、コスト上昇の
一因となっている。
【０００６】図３（ａ）〜（ｃ）は従来の平面型薄膜磁
気ヘッドの製造方法を示す図である。この図において、
１は溶解可能な基板、２は下コア、３はギャップ、４は
絶縁膜、５はコイル、６は上コア、７は引出し導体、８
は保護膜、９は導電体を埋め込んだスルーホールを設け
た支持基板、１０はスライダ加工用レジストパターンで
ある。
気ヘッドの製造方法を示す図である。この図において、
１は溶解可能な基板、２は下コア、３はギャップ、４は
絶縁膜、５はコイル、６は上コア、７は引出し導体、８
は保護膜、９は導電体を埋め込んだスルーホールを設け
た支持基板、１０はスライダ加工用レジストパターンで
ある。
【０００７】次に、製造方法について説明する。溶解可
能な基板１上に下コア２，ギャップ３を形成する（図３
（ａ））。その上に、写真製版，スパッタ，めっき等の
方法を用いてコイル５，絶縁層４，上コア６，引出し導
体７，保護膜８を形成し、導電体を埋め込んだスルーホ
ールを設けた支持基板９を接着する。その後、溶解可能
な基板１を溶解し、ギャップ面を露出させる（図３
（ｂ））。なお、図３（ｂ）では基板１を斜めにしてあ
るが、これは溶解されるので、それが分かり易いように
するためである。次に、露出したギャップ面にスライダ
加工用レジストパターン１０を形成後写真製版を施し、
イオンビーム等で一括して表面加工を行い、磁気ヘッド
スライダの浮動面１１（スライダ加工用レジストパター
ン１０の裏面側）を作製する（図３（ｃ））。その後、
個々に切断し（図３はウエハ内に大量に作り込まれた素
子のうち製品となる１組分の図であり、切断された形を
している。）、引出し線（図示せず）をボンディング等
でサスペンションに接合しヘッドアッセンブリに組み立
てる。
能な基板１上に下コア２，ギャップ３を形成する（図３
（ａ））。その上に、写真製版，スパッタ，めっき等の
方法を用いてコイル５，絶縁層４，上コア６，引出し導
体７，保護膜８を形成し、導電体を埋め込んだスルーホ
ールを設けた支持基板９を接着する。その後、溶解可能
な基板１を溶解し、ギャップ面を露出させる（図３
（ｂ））。なお、図３（ｂ）では基板１を斜めにしてあ
るが、これは溶解されるので、それが分かり易いように
するためである。次に、露出したギャップ面にスライダ
加工用レジストパターン１０を形成後写真製版を施し、
イオンビーム等で一括して表面加工を行い、磁気ヘッド
スライダの浮動面１１（スライダ加工用レジストパター
ン１０の裏面側）を作製する（図３（ｃ））。その後、
個々に切断し（図３はウエハ内に大量に作り込まれた素
子のうち製品となる１組分の図であり、切断された形を
している。）、引出し線（図示せず）をボンディング等
でサスペンションに接合しヘッドアッセンブリに組み立
てる。
【０００８】なお、この磁気ヘツドの動作は、既知の磁
気記録と全く同じなのでその説明は省略する。
気記録と全く同じなのでその説明は省略する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の平面型薄膜磁気
ヘッドでは、以上のようなプロセスがとられている。し
かし、この方法では、スライダのエッチングの際の再付
着物やレジスト等の残渣の影響などによって摺動面の平
坦度が損なわれる恐れがある。
ヘッドでは、以上のようなプロセスがとられている。し
かし、この方法では、スライダのエッチングの際の再付
着物やレジスト等の残渣の影響などによって摺動面の平
坦度が損なわれる恐れがある。
【００１０】本発明は、上記のような問題点を解決し、
磁気ヘッドスライダの浮動面加工をより簡便にし、摺動
面の平坦度を損なうことのない薄膜磁気ヘッドの製造方
法を得ることを目的としている。
磁気ヘッドスライダの浮動面加工をより簡便にし、摺動
面の平坦度を損なうことのない薄膜磁気ヘッドの製造方
法を得ることを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法は、予め溶解可能な基板に基板材質と同
じ物質もしくは素子とは選択的にエッチングされる物質
で磁気ヘッドのスライダパターンを形成しておき、溶解
可能な基板を溶解分離する際、同時に一括して磁気ヘッ
ドスライダの浮動面加工を行うものである。
ッドの製造方法は、予め溶解可能な基板に基板材質と同
じ物質もしくは素子とは選択的にエッチングされる物質
で磁気ヘッドのスライダパターンを形成しておき、溶解
可能な基板を溶解分離する際、同時に一括して磁気ヘッ
ドスライダの浮動面加工を行うものである。
【００１２】
【作用】本発明における薄膜磁気ヘッドの製造方法は、
同時に一括して磁気ヘッドスライダの浮動面加工を行う
ことから時間を短縮でき、生産性が向上し、かつスライ
ダエッチング工程を省略することで本来のギャップ面の
平坦度を損なうことがなくなる。
同時に一括して磁気ヘッドスライダの浮動面加工を行う
ことから時間を短縮でき、生産性が向上し、かつスライ
ダエッチング工程を省略することで本来のギャップ面の
平坦度を損なうことがなくなる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図１は本発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの一
断面を示すものである。この図において、１〜９は図３
の従来例と同じなので、その説明は省略する。１２は前
記基板１上に予め作り込まれた基板１と同じ物質で作ら
れた磁気ヘッドスライダのパターンである。図のよう
に、基板１分離の際に、同時にこのパターンもエッチン
グされる。なお、基板１とパターン１２は素子側と離隔
して分かり易くしてあるが、実際には密着している。
る。図１は本発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの一
断面を示すものである。この図において、１〜９は図３
の従来例と同じなので、その説明は省略する。１２は前
記基板１上に予め作り込まれた基板１と同じ物質で作ら
れた磁気ヘッドスライダのパターンである。図のよう
に、基板１分離の際に、同時にこのパターンもエッチン
グされる。なお、基板１とパターン１２は素子側と離隔
して分かり易くしてあるが、実際には密着している。
【００１４】このパターン１２は、図２のように、素子
部完成後で、保護膜８の形成前に作り込んでもよい。
部完成後で、保護膜８の形成前に作り込んでもよい。
【００１５】また、このパターン１２は、素子とは選択
的にエッチングされる物質で作ってもよい。
的にエッチングされる物質で作ってもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
薄膜磁気ヘッドスライダの浮動面加工を予め基板に作り
込んでおいた磁気ヘッドスライダパターンによって行う
ことによって、浮動面の平坦度を損なわずに簡単に製造
することが可能となる。
薄膜磁気ヘッドスライダの浮動面加工を予め基板に作り
込んでおいた磁気ヘッドスライダパターンによって行う
ことによって、浮動面の平坦度を損なわずに簡単に製造
することが可能となる。
【図１】本発明の一実施例による薄膜磁気ヘッドの断面
図である。
図である。
【図２】本発明の磁気ヘッドスライダのパターンの他の
形成方法を示す薄膜磁気ヘッドの断面図である。
形成方法を示す薄膜磁気ヘッドの断面図である。
【図３】従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す断面図
である。
である。
１ 溶解可能な基板 ２ 下コア ３ ギャップ ４ 絶縁層 ５ コイル ６ 上コア ７ 引出し導体 ８ 保護膜 ９ 支持基板 １１ 浮動面 １２ 磁気ヘッドスライダのパターン
Claims (1)
- 【請求項１】 溶解可能な基板上にギャップ及び下コア
を形成し、その上に絶縁層を介してコイルを巻回し、前
記下コアと磁気的に接続する部分を有する上コアを形成
し、そこに保護膜を成膜し支持基板を接着した後、溶解
可能な基板を溶剤で溶解し、ギャップ面を露出する薄膜
磁気ヘッドの製造方法において、予めスライダーパター
ンを前記基板上に作り込んでおき、前記基板の除去時に
前記スライダーパターンも除去することで一括して磁気
ヘッドスライダーの浮動面加工を行うことを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25634791A JPH05101359A (ja) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25634791A JPH05101359A (ja) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05101359A true JPH05101359A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17291418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25634791A Pending JPH05101359A (ja) | 1991-10-03 | 1991-10-03 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05101359A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6594119B1 (en) | 1995-03-01 | 2003-07-15 | Fujitsu Limited | Thin film magnetic head slider and electrostatic actuator for driving a head element thereof |
-
1991
- 1991-10-03 JP JP25634791A patent/JPH05101359A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6594119B1 (en) | 1995-03-01 | 2003-07-15 | Fujitsu Limited | Thin film magnetic head slider and electrostatic actuator for driving a head element thereof |
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