KR900001887A - 양극 처리된 알루미늄 표면의 전해질 금속염 염색방법 - Google Patents

양극 처리된 알루미늄 표면의 전해질 금속염 염색방법 Download PDF

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푈 쥐르겐
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헨켈 코만디트 게젤샤프트 아우프 아크티엔
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Abstract

내용 없음

Description

양극 처리된 알루미늄 표면의 전해질 금속염 염색방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 균일 전착성 평가용 염색욕을 구성하는 기본적인 한 가능 구조를 나타내고, 알루미늄 쉬트는 작동 전극으로 작용한다.

Claims (9)

  1. 전해질이 주석(II)염을 안정시키는 하기 일반식(I) 내지 (IV)의 수용성 화합물 1종 이상을 0.01g/l 내지 용해도 한계치 함유하는, 첫째 한정된 산화물 층이 산성 용액중의 직류를 사용하여 제조되고, 제조된 층이 후속적으로 교류, 또는 직류로 중첩된 교류를 사용하고 주석(II)염을 함유하는 산성 전해질을 사용하여 염색되는, 알루미늄 및 알루미늄 합금의 양극 처리된 표면에 전해질 금속염의 염색방법.
    상기식중, R1은 수소, 각각 탄소수 1 내지 22인 알킬, 아릴, 알킬아릴, 알킬아릴술폰산, 알킬술폰산 및 그의 알칼리 금속염이고, R2는 수소, 각각 탄소수 1 내지 22인 알킬, 아릴, 알킬아릴, 알킬아릴술폰산, 알킬술폰산 및 그의 알칼리 금속염이고, R3는 하나 이상의 수소 및/또는 각각 탄소수 1 내지 22인 알킬, 아릴, 알킬아릴 잔기이고, R4및 R5각각은 하나 이상의 수소, 각각 탄소수 1 내지 22인 알킬, 아릴 및/또는 알킬아릴 잔기, 술폰산, 알킬술폰산, 알킬아릴술폰산 및 그의 알칼리 금속염이고, 잔기 R1,R2및 R3중 최소한 하나는 수소가 아닌 잔기이다.
  2. 제1항에 있어서, 전해질이 주석(II)염을 안정시키는 화합물을 0.1g/l 내지 2g/l 함유하는 방법.
  3. 제1 또는 2항에 있어서, 안정시키는 화합물이 2-tert-부틸-1,4-디히드록시벤젠, 메틸히드로퀴논, 트리메틸히드로퀴논, 4-히드록시나프탈렌-2,7-디술폰산 및/또는 p-히드록시아니솔로부터 선택되는 방법.
  4. 제1 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 전해질이 p-톨루엔술폰산 및/또는 나프탈렌술폰산을 1 내지 50g/l, 바람직하게는 5 내지 25g/l 함유하는 방법.
  5. 제1 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 전해질이 황산주석(II) 형태로 주석을 3 내지 20g/l, 바람직하게는 16g/l 함유하고, 염색이 pH 값이 0.1 내지 2, 바람직하게는 pH 값 0.35 내지 0.5에서, 온도 14℃ 내지 30℃에서, 최종전압 10 내지 25V, 바람직하게는 15 내지 18V에서 50Hz의 진동수를 갖는 교류에서, 및 그로부터 생성되는 전류밀도에서 수행되는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 전해질이 철, 바람직하게는 황산철(II)로서 0.1 내지 10g/l를 함유하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 전해질이 또한 니켈, 코발트, 구리, 및/또는 아연의 염색 중금속염을 함유하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 전해질중의 주석과 또 중금속 염의 총량이 3 내지 20g/l, 바람직하게는 7 내지 16g/l 에 해당하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 전해질이 수용성 주석(II)염의 형태로 주석 4g/l 및 수용성 니켈 염의 형태로 니켈 6g/l 함유하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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