KR20130128407A

KR20130128407A - 평판의 첩합 지그 및 평판 적층체의 제조방법

Info

Publication number: KR20130128407A
Application number: KR1020137014400A
Authority: KR
Inventors: 유키오 에다; 도시유키 이바야시; 히로유키 구리무라; 유타카 오기노; 에이타로 후쿠타카; 다카유키 마츠모토
Original assignee: 덴끼 가가꾸 고교 가부시키가이샤
Priority date: 2010-11-22
Filing date: 2011-11-18
Publication date: 2013-11-26
Also published as: TWI603849B; CN103221211B; US20130241128A1; JPWO2012070495A1; HK1184764A1; EP2644372A4; EP2644372A1; TW201233558A; CN103221211A; KR101896638B1; US9844858B2; JP5925127B2; WO2012070495A1

Abstract

기포의 발생을 억제하면서 평판을 첩합할 수 있는 종래와는 다른 구조를 가진 지그를 제공한다. 제1 면과, 제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 대략 원호형으로 바깥쪽으로 만곡된 제2 면과, 제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부와, 본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한 평판의 첩합 지그.

Description

평판의 첩합 지그 및 평판 적층체의 제조방법{FLAT-PLATE BONDING JIG AND METHOD OF MANUFACTURING FLAT-PLATE STACKED BODY}

본 발명은 판유리 등 평판의 첩합 지그에 관한 것이다. 또 본 발명은 평판 적층체의 제조방법에 관한 것이다.

텔레비전, 노트북 PC, 자동차 내비게이션(car navigation), 계산기, 휴대 전화, 전자수첩 및 PDA(Personal Digital Assistant) 등 각종 전자기기의 표시장치에는 액정 디스플레이(LCD), 유기EL 디스플레이(OELD), 전계 발광 디스플레이(ELD), 전계 방출 디스플레이(FED) 및 플라즈마 디스플레이(PDP) 등의 표시소자가 사용되고 있다. 그리고 표시소자를 보호하기 위해 표시소자와 대향시켜 보호용 판유리 제품을 설치하는 것이 일반적이다. 최근에는 보호용 판유리 제품의 표면에 소정의 패턴이 있는 도전막을 설치하여 터치 패널로서의 역할을 부여하는 경우도 많다.

이 판유리 제품은 판유리를 각 표시장치에 적절한 크기 및 형상으로 가공한 것인데, 시장에서 요구되는 가격 레벨에 대응하기 위해 대량의 판유리 제품을 높은 생산 효율로 가공할 것이 요구된다.

그래서 일본특개2009-256125호 공보(특허문헌 1)에서는, 판유리 제품의 생산 효율을 높이는 방법이 제안되었다. 구체적으로는 「다수의 소재 판유리(1)를 겹쳐쌓음과 동시에 각 소재 판유리(1)를 각 소재 판유리(1) 사이에 개재시킨 박리 가능한 고착재(2)로 일체적으로 고착시켜 이루어진 소재 유리 블록(A)을 형성하고, 해당 소재 유리 블록(A)을 면방향으로 분할하여 소면적의 분할 유리 블록(B)을 형성하고, 해당 분할 유리 블록(B)의 적어도 외주를 가공하여 평면시(平面視) 제품 형상이 되는 제품 유리 블록(C)을 형성하고, 해당 제품 유리 블록(C)을 단면 가공한 후 해당 제품 유리 블록(C)을 개별적으로 분리한 것을 특징으로 하는 판유리의 가공 방법」을 제안하였다(청구항 1). 이로써 「다수의 소재 판유리를 겹쳐쌓은 상태에서 분할, 외형 가공 및 단면 가공을 하도록 하였기 때문에 적은 공정으로 다수의 판유리 제품을 얻을 수 있어 생산성이 우수하다」(단락0007)라고 기재되어 있다.

또 특허문헌 1에는 「각 소재 판유리(1) 사이에 개재시키는 고착재(2)는 자외선을 조사시키면 경화되고, 또한 승온시키면 경화 상태가 연화되는 광경화성 액상 고착재로 하는」 것이 기재되어 있다(청구항 4). 이로써 「상하의 소재 판유리 사이에 광경화성 액상 고착제를 개재시켜 상하 방향으로 가압하면 해당 액상 고착제가 상하의 소재 판유리 사이에서 전면에 걸쳐 균등한 두께로 막형태로 퍼지고, 이 상태에서 자외선을 조사하면 상기 막형태로 퍼진 액상 고착제가 경화되어 상하의 각 판유리를 일체적으로 고착하게 된다. 따라서 다수의 소재 판유리를 신속하고 고정밀도로 겹쳐쌓아 일체적으로 고착시킬 수 있다. 또 최종 가공(단면 가공)한 후에 제품 유리 블록을 뜨거운 물에 넣어 승온시키면 각 판유리 사이에서 경화된 고착제가 연화되어 필름 형태로 분리된다. 따라서 환경오염을 발생시키지 않고 고착제의 회수 및 처리가 용이해진다.」(단락0007)라고 기재되어 있다.

특허문헌 1의 「발명을 실시하기 위한 최량의 실시형태」란에는, 각 소재 판유리 사이에 광경화성 액상 고착제를 개재시키면서 소재 판유리를 20장 겹쳐쌓은 후 겹쳐쌓은 소재 판유리의 상면에서 자외선(UV광)을 조사하여 고착제를 경화시키고, 상하의 각 소재 판유리가 일체적으로 고착된 소재 유리 블록을 형성한 것이 기재되어 있다(단락0010∼0011).

한편 판유리 등의 평판을 첩합할 때에는 기포가 첩합면에 끼어들어가기 쉬워 적층시의 첩합 두께 정밀도가 저하된다는 문제가 있어 각종 예방책이 제안되었다. 예를 들면, 롤러를 이용하여 접착 시단(始端)에서 접착 후단(後端)을 향해 서서히 가압하면서 기포를 배출하는 첩합 방법이 알려져 있다.

일본특개2000-53453호 공보(특허문헌 2)에는 대상 유리면에 대해 박판 유리를 부착하는 박판 유리 부착 방법으로서 대상 유리면 또는 박판 유리의 한면에 접착제를 도포하는 제1 단계와, 박판 유리의 한면이 대상 유리면에 대향하도록 박판 유리의 한 변을 대상 유리면의 끝테두리(端緣)에 접촉시키는 제2 단계와, 만곡 가능한 지그의 표면에 대해 박판 유리를 감압에 의해 흡착시켜 박판 유리의 형상을 대상 유리면에 대해 볼록한 모양이 되도록 탄성 변형시키는 제３ 단계와, 박판 유리의 한면을 상기 한 변에서 대향하는 다른 변을 향해 가압 롤러를 굴림으로써 서서히 대상 유리면에 대해 접촉시키는 제４ 단계를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 박판 유리 부착 방법이 기재되어 있다(청구항 1∼3).

동 공보에는 만곡 가능한 지그로서 길쭉한 판형 부재를 폭방향으로 나열하여각자의 경계에서 구부려 접을 수 있도록 연결하여 이루어진 롤러 누름 부재와, 이 롤러 누름 부재의 롤러가 눌린 면과 반대쪽 면에 배치되어 박판 유리의 표면을 흡착하도록 한 복수의 흡착 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 부착 지그를 개시하였다(청구항 8).

또 일본특개평2-9733호 공보(특허문헌 3)에는 제1 유리판을 반송하는 반송 장치와, 제2 유리판을 아래쪽 피드부에서 흡착 지지하여 반송하는 컨베이어를 구비하고, 해당 컨베이어는 다수의 공기 흡인 구멍을 가지고 무단(無端) 회동 가능하게 설치된 컨베이어 벨트와, 해당 컨베이어 벨트의 아래쪽 주행부의 위쪽에 해당 공기 흡인 구멍을 통해 공기를 흡인할 수 있도록 배치된 감압실(感壓室)을 구비하고, 해당 컨베이어 벨트는 아래쪽 주행부의 종단이 상기 반송 장치의 반송면에 접근하도록, 또한 해당 종단에서의 반송 장치의 반송면과 상기 아래쪽 주행부 간격이 유리판끼리의 합계 두께보다 약간 커지도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 강화 유리의 제조 장치가 기재되어 있다(청구항 1). 또한 상기 감압실은 반송 방향으로 여러개로 구획되어 있으며, 구획된 각 감압실을 독립적으로 압력 제어할 수 있도록 하는 것도 기재되어 있다(청구항 3).

특허문헌 1: 일본특개2009-256125호 공보 특허문헌 2: 일본특개2000-53453호 공보 특허문헌 3: 일본특개평2-9733호 공보

특허문헌 2나 3에 기재된 지그나 장치를 사용함으로써 판유리 등의 평판을 첩합할 때 기포를 억제할 수는 있다.

그러나 특허문헌 2에 기재된 지그는 연결 개소가 많아 구조가 복잡할 뿐 아니라 지그의 일단을 에어 실린더 등의 수단으로 잡아당길 필요가 있기 때문에 첩합 시스템 전체도 복잡해진다. 또 길쭉한 판형의 연결이 캐터필러 형태로서, 최종단을 잡아당기기 때문에 접속점이 매끄럽게 만곡되지 않아 가압력이 일정하게 연속적으로 전달되지 않는다. 따라서 접착층의 두께가 변동되어 횡방향으로 줄무늬 형태의 흔적이 남거나 기포를 혼입시키기 쉽다. 나아가 길쭉한 판형의 부재끼리의 각 경계에는 틈새가 존재하기 때문에 유리면 전체가 균일한 압력으로 압압된다고는 하기 어려워 적층 정밀도에는 개선의 여지가 남아 있다.

또 특허문헌 3에 기재된 장치에서는 유리끼리 겹쳐질 때의 압력은 오로지 컨베이어 벨트의 아래쪽 주행부와 반송면의 간격으로 정해지기 때문에 롤러에 비해 압압력의 조정이 어렵다고 생각된다. 또 컨베이어 접촉부와 비접촉부에서는 압력의 전달에 차이가 생겨 접착층의 두께가 불균일해짐으로써 기포가 혼입되기 쉽다.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 기포의 발생을 억제하면서 평판을 첩합할 수 있는 종래와는 다른 구조를 가진 지그를 제공하는 것을 과제로 한다. 또 본 발명은 평판 적층체의 제조방법을 제공하는 것을 다른 과제로 한다.

본 발명은 제1 측면에서, 제1 면과, 제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 바깥쪽으로 만곡된 제2 면과, 제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부와, 본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한 평판의 첩합 지그이다.

본 발명은 제2 측면에서, 압력을 받기 위한 제1 면과, 제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 진공 흡착하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 대략 원호형으로 바깥쪽으로 만곡된 제2 면과, 제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부와, 본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한 평판의 첩합 지그이다.

본 발명에 관한 평판의 첩합 지그의 일실시형태에서는, 제1 면은 평탄하거나 또는 제2 면의 만곡 상태와 동일한 정도로 대략 원호형으로 안쪽으로 만곡되어 있다.

본 발명에 관한 평판의 첩합 지그의 다른 일실시형태에서는, 제2 면은 탄성 재료로 구성되어 있다.

본 발명에 관한 평판의 첩합 지그의 또다른 일실시형태에서는, 상기 복수의 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획되어 있고 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통된다.

본 발명은 제3 측면에서, a) 제1 평판을 준비하는 공정과, b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 본 발명에 관한 평판의 첩합 지그의 제2 면을 접촉시킨 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 흡인하는 공정과, c) 제2 평판을 준비하는 공정과, d) 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포하는 공정과, e) 공정 b)에서 흡인시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합시키는 공정을 포함한 평판 적층체의 제조방법이다.

본 발명은 제4 측면에서, a) 제1 평판을 준비하는 공정과, b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 본 발명에 관한 평판의 첩합 지그의 제2 면을 접촉시킨 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 진공 흡착하는 공정과, c) 제2 평판을 준비하는 공정과, d) 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포하는 공정과, e) 공정 b)에서 진공 흡착시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합하는 공정을 포함한 평판 적층체의 제조방법이다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 일실시형태에서는, 공정 b) 및 공정 e)에서의 제1 면으로의 가압은 가압 롤러를 제1 면상에서 굴림으로써 행한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 다른 일실시형태에서는 공정 e)는 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인력을 유지한 채 실시한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 상기 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획되고 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통되어 있으며, 공정 e)에서 지그가 구름에 따라 제1 평판 및 제2 평판의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 구획마다 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인을 정지한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 제1 평판 및 제2 평판은 투광성이며, 상기 접착제는 광경화성 접착제로서, 공정 e) 후에 접착제를 경화시키기 위한 광을 평판 적층체의 첩합면에 존재하는 접착제를 향해 조사하는 공정 f)를 더 행한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 공정 e) 후 공정 f) 전에 첩합면 방향의 위치를 조정한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법에 의해 제조된 평판 적층체를 제2 평판으로 간주하여 공정(a) 내지 공정(e)를 반복하는 것을 포함한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 광경화성 접착제가 (A) 다관능(메타)아크릴레이트, (B) 단관능(메타)아크릴레이트, (C) 광중합 개시제를 함유한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 (A) 다관능(메타)아크릴레이트가 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머 및/또는 2관능(메타)아크릴레이트 모노머를 함유한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트, 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트로 이루어진 군 중 1종 이상을 함유한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트 및 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트를 함유한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트를 함유한다.

본 발명은 다른 일측면에서 g) 본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법을 이용하여 얻어진 평판 적층체를 두께 방향으로 분할하여 원하는 수의 분할된 평판 적층체를 형성하는 공정과, h) 분할된 평판 적층체 각각에 대해 원하는 형상 가공을 행하는 공정과, i) 형상 가공 후의 평판 적층체를 가열함으로써 첩합되어 있던 평판끼리를 박리시켜 복수의 판형 제품을 형성하는 공정을 포함한 판형 제품의 제조방법이다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 일실시형태에서는 공정 i)는 온수에 형상 가공 후의 평판 적층체를 침지시켜 접착제를 필름 형태로 박리하는 것을 포함한다.

본 발명은 또다른 일측면에서 본 발명에 관한 판형 제품의 제조방법에 따라 얻어진 판형 제품이다.

본 발명에 관한 지그를 사용함으로써 기포의 발생을 억제하면서 평판을 첩합할 수 있게 된다. 따라서 적층 정밀도가 우수한 평판 적층체를 제조할 수 있게 된다.

도 1은 본 발명의 일실시형태에 관한 지그의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 관한 지그의 구조의 일례를 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 본 발명에 관한 지그의 연통 수단의 일례를 도시하기 위한 모식도이다.
도 4는 제1 판유리를 받침대에 재치한 상태를 도시한 도면이다.
도 5는 제1 판유리의 지그에 대한 진공 흡착을 개시했을 때의 상태를 도시한 도면이다.
도 6은 제1 판유리의 지그에 대한 진공 흡착을 완료했을 때의 상태를 도시한 도면이다.
도 7은 제2 판유리를 받침대에 재치한 상태를 도시한 도면이다.
도 8은 제2 판유리에 접착제를 도포하는 모습을 도시한 도면이다.
도 9는 제1 판유리와 제2 판유리의 첩합을 개시했을 때의 상태를 도시한 도면이다.
도 10은 제1 판유리와 제2 판유리의 첩합을 완료했을 때의 상태를 도시한 도면이다.
도 11은 제1 판유리와 제2 판유리의 위치를 조정하는 모습을 도시한 도면이다.
도 12는 접착제 전체를 UV조사하여 경화시키는 모습을 도시한 도면이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해 설명하기로 한다.

＜1. 평판의 첩합 지그＞

본 발명에 관한 지그는 일실시형태에서 제1 면,

제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 원호형으로 바깥쪽으로 만곡된 제2 면,

제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부,

본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한다.

제1 면은 그 형상이 특별히 제한되지는 않는다. 제1 면은 생산성의 점에서 사람의 손이나 롤러 등에 의한 압력을 받는 면인 것이 바람직하다. 제1 면이 사람의 손이나 롤러 등에 의한 압력을 받는 면인 경우 그 형상은 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들면 롤러에 의한 가압을 행하는 경우에는 평탄면으로 하거나, 또는 제2 면의 만곡 상태와 동일한 정도로 대략 원호형으로 안쪽으로 만곡시키는 것이 롤러의 조작상 바람직하고, 후자가 더욱 바람직하다. 사람의 손에 의한 가압을 할 경우에는 제1 면에는 손으로 잡기 쉽게 핸들이나 그립을 설치할 수도 있다. 가압을 하는 방법으로서는 코터나 닙 롤러(예를 들면, 웹 핸들링에서의 닙 롤러)와 같이 선압(線壓)을 부여하는 방법도 들 수 있다.

제2 면은 제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 바깥쪽으로 만곡되어 있다. 흡인 구멍에 의해 평판을 제2 면의 만곡 형상을 따라 흡인할 수 있다. 제2 면에서의 흡인 구멍의 형상이나 배열에는 특별히 제한은 없지만, 흡인력에 의한 박판 유리의 국부 변형이나 흡인 흔적이 남지 않도록 다수의 작은 지름 구멍으로 분산 흡인할 수 있도록 흡인 구멍당 면적을 10mm² 이하로 하는 것이 바람직하고, 전형적으로는 1∼7mm², 보다 전형적으로는 3∼6mm²로 할 수 있다. 전형적으로는 직경 3mm 이하, 예를 들면 직경 1∼2mm의 원형으로 할 수 있다. 작은 지름 구멍을 배열할 경우에는 흡인력이 균일해지도록 등간격 배열이나 엇갈림 배열(staggered array)이 바람직한데, 미소 관통공을 가진 다공성 세라믹체여도 좋다. 바깥쪽으로 만곡되어 있는 형상으로서는 대략 원주형, 대략 원호형, 대략 곡선형의 형상을 들 수 있다. 이들 중에서는 생산성의 점에서 대략 원호형이 바람직하다. 원주형의 제2 면으로서는 코터나 닙 롤러 등을 들 수 있다. 흡인 수단으로서는 진공 흡착을 들 수 있다. 진공 흡착에는 감압 흡착이 포함된다. 이들 중에서는 생산성면에서 진공 흡착이 바람직하다.

이하, 제1 면이 압력을 받는 면이고 바깥쪽으로 만곡되어 있는 형상이 원호형이며, 흡인 수단으로서는 진공 흡착인 경우를 주로 설명하는데, 이 방법에 한정되지는 않는다.

이로써 평판에 대한 흡착력에 치우침이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또 제2 면이 이러한 만곡 형상을 갖기 때문에 제1 면을 가압하면서 지그를 굴려 제2 면에 진공 흡착시킨 평판을 다른 한쪽의 평판과 첩합시킬 때 기포가 발생하기 어려워진다. 제2 면체의 만곡 상태는 곡률 반경이 지나치게 크면 기포의 발생을 억제하는 효과가 작아지는 반면, 곡률 반경이 지나치게 작으면 평판의 탄성 한계를 초과하기 때문에 갈라지거나 흡착 고정이 불가능해지므로 1∼50m로 하는 것이 바람직하고, 3∼30m로 하는 것이 더욱 바람직하다.

상기 복수의 흡인 구멍은 모두 동일한 흡인 수단에 연통되도록 할 수도 있는데, 상기 복수의 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획하고 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통시키는 것이 바람직하다. 이로써 흡인 구멍은 구획마다 독립적으로 흡인 압력을 제어할 수 있게 된다. 그 결과, 예를 들면 지그의 굴림에 따라 평판끼리 서서히 첩합할 때 평판의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 흡인력을 정지함으로써 첩합이 종료된 구획에 대응하는 평판의 면부분이 흡인 구멍으로부터의 흡인력에 의해 벗겨지는 것을 예방할 수 있다.

본체부 재질은 가압에 견딜 수 있을 정도의 강성만 있으면 되므로 저렴한 SS강재여도 좋지만, 녹발생을 방지하고자 할 경우에는 스테인레스강이나 세라믹재가 바람직하다.

지그의 제2 면은 평판에 긁힘이 잘 생기지 않고 밀착성이 높고 균일하게 가압 가능하다는 이유로 고무 등의 탄성 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 따라서 예를 들면 본체부의 하부에 탄성 시트를 첩합할 수 있다. 평판의 밀착성과 가압력의 균일 전달성으로부터 탄성 재료의 경도는 60∼80°정도, 바람직하게는 70∼75°이고 두께는 1∼3mm정도가 바람직하다. 탄성 시트에는 고무 시트 외에 다공질의 관통 흡인 구멍을 가진 스펀지형 고무체로 구성할 수도 있다. 본체부(13)를 탄성 재료로 할 수도 있으며, 그 경우에는 별도로 탄성 시트를 마련할 필요는 없다. 본 발명에서 경도는 JIS K 6253 준거의 듀로미터 타입A에 의해 측정한 값을 가리킨다.

지그의 제1 면에 대해서도 롤러의 미끄러짐 방지 등의 이유에 의해 탄성 재료로 구성할 수 있다. 이것은 롤러의 재질이 금속 재료인 경우에 특히 유효하다. 롤러의 표면 재질이 고무 등의 탄성 재료인 경우에는 금속 재료로 구성해도 좋다. 따라서 예를 들면 본체부의 표면에 탄성 시트를 첩합시킬 수 있다.

연통 수단은 흡인 펌프, 이젝터, 진공 펌프 등의 흡인 수단으로부터의 흡인력을 흡인 구멍(14)에 전달 가능한 구조라면 특별히 제한은 없지만, 일반적으로는 관, 실 및 이들의 조합으로 구성되며 흡인 수단으로 연결하기 위한 출구가 설치되어 있다. 출구의 수 및 위치는 특별히 제한은 없지만, 출구는 전술한 구획마다 설치되어 있는 것이 바람직하고, 또 모든 출구가 근방(예를 들면 동일측면상)에 존재하는 편이 배관을 처리하기에 편리하다.

도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 지그의 일례를 도시한 사시도이다. 도 2는 해당 실시형태에 관한 지그의 구조를 설명하기 위한 모식도이다.

본 실시형태에 관한 지그(10)는 제2 면의 만곡 상태에 대응하여 대략 원호형으로 안쪽으로 만곡된 상면(11)과, 상면(11)의 반대쪽에 있으며 평판을 진공 흡착하기 위한 복수의 흡인 구멍(14)을 가지고, 대략 원호형으로 바깥쪽으로 만곡된 하면(12)과, 상면(11)과 하면(12)를 연결하는 본체부(13)와, 본체부(13) 속에 배치되어 흡인 구멍(14)을 흡인 수단(미도시)에 연통하기 위한 연통 수단(16)을 구비한다. 또 본체부(13)의 첩합 개시 위치측의 측면에는 연통 수단의 출구(17)를 여러 개 가지고 있으며 여기에 흡인 수단이 연결된다.

본 실시형태에 관한 지그(10)를 지그(10)의 굴림 방향으로 평행한 방향의 단면(도 1 중, X-X선의 단면)에서 관찰하면, 상면 및 하면은 공히 대략 동일한 곡률 반경을 가진 원호형이다. 또 지그(10)를 지그(10)의 굴림 방향으로 직각인 방향의 단면(도 1 중, Y-Y선의 단면)에서 관찰하면 단면 형상은 직사각형이다.

본 실시형태에 관한 지그(10)의 본체부(13)은 금속 강재로 구성되어 있다. 본체부(13)의 하면에는 경도 70∼75°정도의 고무 시트(18)가 첩합되어 있으며, 그 결과, 지그(10)의 하면(12)은 고무제로 되어 있다.

본 실시형태에 관한 지그(10)의 흡인 구멍(14)은 도 2에 도시한 바와 같이 하면(12) 전체에 일정 간격으로 규칙적으로 다수 분포되어 있다. 또 흡인 구멍(14)은 지그(10)의 굴림 방향으로 A∼E의 5개 영역으로 구획되어 있으며 연통 수단(16)을 통해 구획마다 대응하는 흡인 수단(미도시)에 연통되도록 되어 있다. 이로써 흡인 구멍(14)은 구획마다 독립적으로 흡인 압력을 제어할 수 있도록 되어 있다.

본 실시형태에 관한 지그(10)의 연통 수단(16)은, 도 2에 도시한 바와 같이 구획마다 흡인 구멍(14)에 직결된 대략 직사각형의 중공실(19)과, 각 중공실(19)의 상면에서 출구(17)를 향해 연장 설치된 흡인관(20)으로 구성되어 있다. 또 도 3에는 연통 수단(16)의 다른 실시형태가 도시되어 있으며 여기에서는 각각의 흡인 구멍(14)에 연결된 분기관(21)과, 각 분기관(21)에 연결되어 각 분기관(21)에서 흡인되어 공기를 구획마다 모아 출구(17)까지 운반하는 집합관(22)으로 구성되어 있다.

＜2. 평판 적층체의 제조방법＞

다음으로 본 발명에 관한 평판의 첩합 지그를 사용하여 평판 적층체를 제조하는 방법의 실시형태에 대해 설명하기로 한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법은 일실시형태에서,

a) 제1 평판을 준비하는 공정,

b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 상기 지그의 제2 면을 접촉시킨 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 흡인하는 공정,

c) 제2 평판을 준비하는 공정,

d) 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포하는 공정,

e) 공정 b)에서 흡인시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합하는 공정을 포함한다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법은 바람직한 일실시형태에서,

a) 제1 평판을 준비하는 공정,

b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 상기 지그의 제2 면을 접촉시킨 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 진공 흡착하는 공정,

c) 제2 평판을 준비하는 공정,

e) 공정 b)에서 진공 흡착시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합하는 공정을 포함한다.

공정(a) 및 공정(c)에서는 첩합의 대상이 되는 제1 및 제2 평판을 준비한다. 평판으로서는 특별히 제한은 없지만, 판유리(소재 판유리, 투명 도전막 부착 유리 기판, 전극이나 회로가 형성된 유리 기판 등), 사파이어 기판, 석영 기판, 플라스틱 기판, 불화마그네슘 기판 등 투광성 경질 기판 외에 구리판, 알루미늄판, 동알루미늄 복합체, 니켈 도금한 구리판, 금도금한 구리판 등의 금속판 및 도금한 금속판을 들 수 있다. 평판의 크기에 특별히 제한은 없지만, 전형적으로는 10000∼1000000mm²정도의 면적을 가지고 0.1∼2mm정도의 두께를 가진다. 각 평판은 같은 사이즈인 것이 일반적이다. 한정적이지는 않지만, 각 평판의 표면에는 판형 제품의 기능 중 하나를 발휘하기 위한 소정의 인쇄 패턴이나 도금 패턴을 부여할 수 있다. 인쇄 패턴의 예로서는 휴대 전화 표시 화면의 디자인, 도금 패턴의 예로서는 Al나 AlNd등의 금속 배선 패턴, 크롬 도금 패턴이 있는 로터리 인코더를 들 수 있다.

평판은 1장으로 구성되는 것으로 한정되지는 않으며, 여러 장이 적층된 평판이어도 무관하다. 또 본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법을 사용하여 얻어진 평판 적층체를 사용할 수도 있다. 얻어진 평판 적층체에 대해 새로운 평판을 첩합하는 순서를 반복함으로써 3장 이상의 평판이 적층된 평판 적층체를 제조할 수 있다. 판형 제품의 생산 효율 향상 관점에서는 10장 이상의 평판, 전형적으로는 10∼30장의 평판이 적층된 평판 적층체를 제조하는 것이 바람직하다.

공정(b)에서는 우선 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 본 발명에 관한 지그의 제2 면을 접촉시킨다. 이렇게 함으로써 지그를 굴려 제1 평판을 지그의 제2 면에 대해 서서히 흡착시킬 수 있다. 바람직한 실시형태에서는 제1 평판은 직사각형이며 직선형의 한 끝테두리를 지그의 제2 면에 선접촉시킨다. 이것은 해당 한 끝테두리이 지그의 굴림 방향과 직각이 되도록 제1 평판을 배치함으로써 달성할 수 있다.

공정(b)에서는, 그 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 진공 흡착한다. 가압은 사람의 손으로도 할 수 있지만 조작의 정확성을 원할 경우에는 압력 제어 가능한 롤러를 사용하는 것이 바람직하다 . 전술한 바와 같이 본 발명에 관한 지그의 제2 면에는 복수의 흡인 구멍이 설치되어 있으며 지그의 굴림에 따라 제1 평판과 지그의 제2 면이 접촉할 때에 흡인 구멍으로부터의 흡인력에 의해서 제1 평판이 점차 흡착된다. 또 본 발명에 관한 지그의 제2 면은 대략 원호형으로 만곡되어 있기 때문에 제1 평판도 이에 맞춰 만곡된다. 이와 같이 제1 평판을 만곡시킨 상태로 해둠으로써 후단에서 제2 평판과 첩합시킬 때에 첩합면에 기포가 들어가는 것을 억제할 수 있다는 장점이 얻어진다.

흡착력은 평판의 재질이나 두께에 따라 적절히 설정하면 되는데, 예를 들면 두께 0.7mm, 폭 500mm, 길이 500mm의 판유리에서는 제2 면의 곡률 반경을 2000mm로 했을 때에 흡착력을 1000g 이상으로 할 수 있다.

공정(d)에서는 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포한다. 접착제로서는 특별히 제한은 없으며 방치에 의해 자연스럽게 경화되는 자연 경화성 접착제, 광경화성 접착제, 열강화성 접착제, 점착성 접착제등을 들 수 있는데, 최종적으로 적층체를 박리시킬 필요가 있는 경우에는 광경화성 접착제가 바람직하다. 광경화성 접착제는 자외선 등의 광을 조사함으로써 경화되고 고온으로 가열하면 연화되는 접착제로서, 각종 접착제가 알려져 있다. 조사하는 광의 파장은 사용하는 접착제의 특성에 따라 적절히 변경하면 되는데, 예를 들면 마이크로파, 적외선, 가시광선, 자외선, X선, γ선, 전자선 등을 조사할 수 있다. 간편하게 사용할 수 있고 비교적 고에너지를 갖는 것으로 보아 일반적으로는 조사광은 자외선이다. 광원으로서는 예를 들면 블랙 라이트, 고압 수은등, LED 라이트, 메탈 할라이드 램프를 사용할 수 있다. 이와 같이 본 발명에서 광이란 가시광선 뿐 아니라 폭넓은 파장 영역을 포함한 전자파(에너지선)를 가리킨다.

본 발명에 사용하는 광경화성 접착제로서는 공지의 임의의 것을 사용할 수 있으며 특별히 제한은 없다. 광경화성 접착제는 어느 한쪽 평판의 첩합면에 도포하면 되는데, 접착성을 향상시키는 관점에서는 양쪽 평판의 첩합면에 도포하는 것이 바람직하다.

적층 정밀도의 관점에서, 접착제는 첩합면에 일정한 두께로 전체에 퍼져 있는 것이 바람직하다. 도포된 접착제의 양이 지나치게 적으면 첩합면 전체에 접착제가 퍼지지 않아 첩합면에 기포가 발생하는 원인이 된다. 기포가 발생하면 위치 정밀도가 저하된다. 도포된 접착제의 양이 지나치게 많으면 접착제가 첩합면의 틈새에서 누출된다. 접착제가 다소 누출되어 닦아내면 되므로 큰 문제는 아니지만, 그 양이 많으면 접착제가 낭비된다.

본 발명에 매우 적합하게 사용되는 광경화성 접착제로서는, 예를 들면 WO2008/018252에 기재된 (A) 다관능(메타)아크릴레이트, (B) 단관능(메타)아크릴레이트, (C) 광중합 개시제를 함유하는 접착성 조성물을 들 수 있다.

(A) 다관능(메타)아크릴레이트로서는 올리고머/폴리머 말단 또는 측쇄에 2개 이상의 (메타)아크로일화된 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머나, 2개 이상의 (메타)아크로일기를 가진 다관능(메타)아크릴레이트 모노머를 사용할 수 있다. 예를 들면, 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머로서는 1,2-폴리부타디엔 말단 우레탄(메타)아크릴레이트(예를 들면, 일본소다사제「TE-2000」,「TEA-1000」), 그의 수소 첨가물(예를 들면, 일본소다사제「TEAI-1000」), 1,4-폴리부타디엔 말단 우레탄(메타)아크릴레이트(예를 들면, 오사카 유기화학사제「BAC-45」), 폴리이소프렌 말단(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르계 우레탄(메타)아크릴레이트(예를 들면, 일본합성화학사제「UV-2000B」,「UV-3000B」,「UV-7000B」, 네가미공업사제「KHP-11」,「KHP-17」), 폴리에테르계 우레탄(메타)아크릴레이트(예를 들면, 일본합성화학사제「UV-3700B」,「UV-6100B」), 또는 비스페놀 A형 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

이들 중에서는 효과가 크다는 점에서 폴리에스테르계 우레탄(메타)아크릴레이트 및/또는 폴리에테르계 우레탄(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 폴리에스테르계 우레탄(메타)아크릴레이트가 더 바람직하다.

다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머의 중량 평균 분자량은 10000∼60000이 바람직하고, 13000∼40000이 더욱 바람직하다. 중량 평균 분자량은 GPC시스템(도소사제 SC-8010) 등을 사용하여 시판되는 표준 폴리스티렌으로 검량선을 작성하여 구하기로 한다.

2관능(메타)아크릴레이트 모노머로서는 1,3-부티렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트, 2-에틸-2-부틸-프로판디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 스테아린산 변성 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴록시프로폭시페닐)프로판, 또는 2,2-비스(4-(메타)아크릴록시테트라에톡시페닐)프로판 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 효과가 크다는 점에서 1,6-헥사디올디(메타)아크릴레이트 및/또는 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트가 더욱 바람직하다.

3관능(메타)아크릴레이트 모노머로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스［(메타)아크릴록시에틸］이소시아누레이트 등을 들 수 있다.

4관능 이상의 (메타)아크릴레이트 모노머로서는 디메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨에톡시테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 또는 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

다관능(메타)아크릴레이트 중에는 효과가 크다는 점에서 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머 및/또는 2관능(메타)아크릴레이트 모노머를 함유하는 것이 바람직하고, 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머와 2관능(메타)아크릴레이트 모노머를 병용하는 것이 더욱 바람직하다.

다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머와 2관능(메타)아크릴레이트 모노머를 병용할 경우의 함유 비율은 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머와 2관능(메타)아크릴레이트 모노머의 합계 100질량부 중 질량비로 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머：2관능(메타)아크릴레이트 모노머=10∼90：90∼10이 바람직하고, 25∼75：75∼25가 더욱 바람직하고, 40∼65：60∼35가 가장 바람직하다.

(B) 단관능(메타)아크릴레이트 모노머로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 메톡시화 시클로데카트리엔(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, t-부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시카보닐메틸(메타)아크릴레이트, 페놀에틸렌옥사이드 변성(메타)아크릴레이트, 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트, 페놀(에틸렌옥사이드 4몰 변성)(메타)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀에틸렌옥사이드 변성(메타)아크릴레이트, 노닐페놀에틸렌옥사이드 변성(메타)아크릴레이트, 노닐페놀(에틸렌옥사이드 4몰 변성)(메타)아크릴레이트, 노닐페놀(에틸렌옥사이드 8몰 변성)(메타)아크릴레이트, 노닐페놀(프로필렌옥사이드 2.5몰 변성)(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성프탈산(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성숙신산(메타)아크릴레이트, 트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, ω-카복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 프탈산모노히드록시에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산다이머, β-(메타)아크로일옥시에틸하이드로젠숙시네이트, n-(메타)아크릴로일옥시알킬헥사히드로프탈이미드, 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한 말레인산, 푸마르산도 사용할 수 있다.

단관능(메타)아크릴레이트 중에서는 효과가 크다는 점에서 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트, 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트로 이루어진 군 중 1종 이상이 바람직하다. 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트와 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및/또는 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트를 병용하는 것이 더욱 바람직하다.

페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트와 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및/또는 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트를 병용할 경우의 함유 비율은 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트, 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트의 합계 100질량부 중 질량비로 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)(메타)아크릴레이트：2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및/또는 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트=5∼80：95∼20이 바람직하고, 15∼60：85∼40이 더욱 바람직하고, 20∼40：80∼60이 가장 바람직하다.

(A) 다관능(메타)아크릴레이트와 (B) 단관능(메타)아크릴레이트의 배합비로서는 (A)：(B)=5：95∼95：5(질량부)인 것이 바람직하다. (A) 다관능(메타)아크릴레이트가 5질량부 이상이면 초기의 접착성이 저하될 우려도 없고, 95질량부 이하이면 박리성을 확보할 수 있다. 경화된 접착제는 온수에 침지함으로써 필름 형태로 박리된다. (B) 단관능(메타)아크릴레이트의 함유량은 (A) 및 (B)의 합계량 100질량부 중 40∼80질량부가 더욱 바람직하다.

(C) 광중합 개시제는 가시광선이나 자외선의 활성 광선에 의해 증감시켜 수지 조성물의 광경화를 촉진하기 위해 배합하는 것으로서, 공지의 각종 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 구체적으로는 벤조페논 또는 그 유도체；벤질 또는 그 유도체；안트라퀴논 또는 그 유도체；벤조인；벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등의 벤조인 유도체；디에톡시아세토페논, 4-t-부틸트리클로로아세토페논 등의 아세토페논 유도체；2-디메틸아미노에틸벤조에이트；p-디메틸아미노에틸벤조에이트；디페닐디설파이드；티옥산톤 또는 그 유도체；캠퍼-퀴논；7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로［2.2.1］헵탄-1-카본산, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로［2.2.1］헵탄-1-카복시-2-브로모에틸에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로［2.2.1］헵탄-1-카복시-2-메틸에스테르, 7,7-디메틸-2,3-디옥소비시클로［2.2.1］헵탄-1-카본산클로라이드 등의 캠퍼-퀴논 유도체；2-메틸-1-［4-(메틸티오)페닐］-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1 등의 α-아미노알킬페논 유도체；벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 벤조일디에톡시포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디메톡시페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디에톡시페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 유도체, 옥시-페닐-아세트산2-［2-옥소-2-페닐-아세톡시-에톡시］-에틸에스테르 및/또는 옥시-페닐-아세트산2-［2-히드록시-에톡시］-에틸에스테르 등을 들 수 있다. 광중합 개시제는 1종 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 이들 중에서는 효과가 크다는 점에서 벤질디메틸케탈, 옥시-페닐-아세트산2-［2-옥소-2-페닐아세톡시-에톡시］-에틸에스테르 및 옥시-페닐아세트산2-［2-히드록시-에톡시］-에틸에스테르로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상이 바람직하다.

(C) 광중합 개시제의 함유량은 (A) 및 (B)의 합계 100질량부에 대해 0.1∼20질량부가 바람직하고, 0.5∼10질량부가 보다 바람직하다. 0.1질량부 이상이면 경화 촉진의 효과를 확실하게 얻을 수 있고, 20질량부 이하이면 충분한 경화 속도를 얻을 수 있다. (C)성분을 1질량부 이상 첨가하는 것은, 광조사량에 의존하지 않고 경화시킬 수 있게 되고 나아가 조성물의 경화체의 가교도가 높아져 절삭 가공시에 위치 어긋남 등을 일으키지 않는 점이나 박리성이 향상되는 점에서 한층 더 바람직하다.

광경화성 접착제는 접착제의 성분(A), (B) 및 (C)에 용해되지 않는 입자형 물질(D)을 함유하는 것이 바람직하다. 이로써 경화 후의 조성물이 일정한 두께를 유지할 수 있기 때문에 가공 정밀도가 향상된다. 또한 접착성 조성물의 경화체와 입자형 물질(D)의 선팽창 계수가 다르기 때문에 상기 접착제 조성물을 이용하여 평판 기판을 첩합한 후에 박리할 때의 박리성이 향상된다.

입자형 물질(D)의 재질로서는 일반적으로 사용되는 유기입자 또는 무기입자 어느 것이어도 무관하다. 구체적으로는 유기입자로서는 폴리에틸렌 입자, 폴리프로필렌 입자, 가교 폴리메타크릴산메틸 입자, 가교 폴리스티렌 입자 등을 들 수 있다. 무기입자로서는 유리, 실리카, 알루미나, 티타늄 등 세라믹 입자를 들 수 있다.

입자형 물질(D)은 가공 정밀도 향상, 즉 접착제의 막두께 제어 관점에서 구형인 것이 바람직하다. 입자형 물질(D)의 레이저법에 의한 평균 입경은 20∼200㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 입자형 물질의 평균 입경이 20㎛이상이면 박리성이 우수하고, 200㎛이하이면 가고정된 부재의 가공시에 어긋남이 없어 치수 정밀도면에서 우수하다. 박리성과 치수 정밀도의 관점에서 보다 바람직한 평균 입경(D50)은 35∼150㎛이고, 더욱 바람직하게는 50∼120㎛이다. 입경 분포는 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치에 의해 측정된다.

입자형 물질(D)의 사용량은 접착성, 가공 정밀도, 박리성 관점에서 (A) 및 (B)의 합계 100질량부에 대해 0.01∼20질량부가 바람직하고, 0.05∼10질량부가 보다 바람직하고, 0.1∼6질량부가 가장 바람직하고, 0.2∼2질량부가 훨씬 바람직하다.

광경화성 접착제에는 저장 안정성 향상을 위해 중합 금지제(E)를 첨가할 수 있다. 중합 금지제로서는 메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 2,2-메틸렌-비스(4-메틸-6-터셔리-부틸페놀), 카테콜, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 모노터셔리-부틸하이드로퀴논, 2,5-디터셔리부틸하이드로퀴논, p-벤조퀴논, 2,5-디페닐-p-벤조퀴논, 2,5-디터셔리-부틸-p-벤조퀴논, 피크린산, 구연산, 페노티아진, 터셔리-부틸카테콜, 2-부틸-4-히드록시아니솔 및 2,6-디터셔리-부틸-p-크레졸 등을 들 수 있다.

중합 금지제(E)의 사용량은 (A) 및 (B)의 합계량 100질량부에 대해 0.001∼3질량부가 바람직하고, 0.01∼2질량부가 보다 바람직하다. 0.001질량부 이상이면 저장 안정성이 확보되고, 3질량부 이하이면 양호한 접착성을 얻을 수 있어 미(未)경화가 될 일도 없다.

공정(e)에서는 우선 공정(b)에서 진공 흡착시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉시킨다. 이렇게 함으로써 지그를 굴려 제1 평판을 제2 평판의 첩합면에 대해 서서히 첩합한다. 바람직한 실시형태에서는 제1 평판 및 제2 평판은 직사각형으로 동일 치수를 가지고 있으며 제1 평판 및 제2 평판의 대응하는 끝테두리끼리 우선 선접촉시킨다. 이것은 양 끝테두리를 지그의 굴림 방향과 직각이 되는 방향으로 배치함으로써 달성할 수 있다.

공정(e)에서는 그 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴리고 제1 평판과 제2 평판을 점차적으로 첩합시킨다. 제1 평판은 제2 평판에 대해 바깥쪽으로 만곡되어 있기 때문에 기포가 밀려나오면서 양 평판이 첩합되게 된다. 가압은 사람의 손으로도 할 수 있지만, 접착재층의 두께를 균일하게 하거나 평판의 측면에서 접착제가 비어져 나오는 양을 줄이려면 압력 제어 가능한 롤러를 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 일실시형태에서는 제1 평판과 제2 평판의 첩합 도중에 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인력을 유지한 채로 실시해도 좋다. 접착제는 경화되지 않아도 어느 정도의 접착력(점착력)을 갖기 때문에 제1 평판에 대해 흡인 구멍으로부터의 흡인력보다 접착력이 강한 접착제를 사용함으로써 흡인력을 정지하거나 또는 약화시키지 않아도 한 번 접촉한 제1 평판과 제2 평판의 부분이 박리되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 다른 일실시형태에서는 앞서 설명한 바와 같이 상기 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획되어 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통되어 있으며, 공정 e)에서 지그가 구름에 따라 제1 평판 및 제2 평판의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 구획마다 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인을 정지할 수 있다. 그 결과, 예를 들면 지그의 굴림에 따라 평판끼리를 서서히 첩합할 때 평판의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 흡인력을 정지함으로써 첩합이 종료된 구획에 대응하는 평판의 면부분이 흡인 구멍으로부터의 흡인력에 의해 벗겨지는 것을 예방할 수 있다.

접착제로서 자연적으로는 경화되지 않는 열강화성 접착제나 광경화성 접착제를 사용할 경우에는 공정 e) 후에 접착제를 경화하기 위한 가열 공정이나 광조사 공정을 실시할 수 있다. 따라서 본 발명에 관한 평판 적층체의 제조방법의 또다른 일실시형태에서는 제1 평판 및 제2 평판은 투광성이며, 상기 접착제는 광경화성 접착제이며, 공정 e) 후에 접착제를 경화시키기 위한 광을 평판 적층체의 첩합면에 존재하는 접착제를 향해 조사하는 공정 f)를 더 실시한다. 또 양 평판을 첩합한 후에는 접착제가 경화되기 전에 첩합면 방향의 위치를 조정할 수도 있다.

위치 조정은 눈짐작에 의해 수작업으로 실시할 수도 있지만, 예를 들면 평판의 이동 방향을 구속하여 일정한 위치로 이동시키기 위한 가이드 레일, 지지봉 또는 틀을 이용하는 것을 생각할 수 있다. 보다 정밀도가 높은 위치 결정이 요구되는 경우에는 X축, Y축 및 θ축 방향으로 위치 조정 가능한 위치 맞춤 장치에 의해 실시하는 것이 바람직하다. 고정밀도의 위치 결정을 위해서는 각 평판의 표면에 위치 맞춤을 위한 표시를 하고, 이것을 촬상 장치로 촬상하면서 위치 조정을 실시하는 것이 바람직하다. 촬상 장치로서는 예를 들면 CCD나 CMOS를 촬상 소자에 사용한 디지털 카메라 외에 아날로그 카메라도 사용할 수 있지만, 고해상도의 관점에서 디지털 카메라가 바람직하다.

본 발명의 일실시형태에 관한 평판 적층체의 제조방법에 대해 각 단계를 도 4∼도 12를 참조하여 설명하기로 한다.

우선, 직사각형의 제1 판유리(30)를 그 한 끝테두리(31)이 지그(10)의 굴림 방향과 직각이 되도록 적당한 받침대(33)에 재치한다(도 4). 그 후 본체부(13)의 하면에 고무 시트(18)가 붙여져 있는 지그(10)의 하면(12)을 제1 판유리(30)의 한 끝테두리(31)에 선접촉시킨 후 해당 한 끝테두리(31)에 대향하는 다른 끝테두리(32)을 향해 상기 지그(10)의 상면(11)을 롤러(34)로 가압하면서 상기 지그(10)를 서서히 굴리고(도 5), 제1 판유리(30)의 한면 전체를 상기 지그(10)의 하면(12)의 만곡 형상을 따라 진공 흡착한다(도 6).

한편 적당한 받침대(35)에 제1 판유리와 동일 형상의 제2 판유리(36)를 재치한다(도 7). 제2 판유리(36)는 받침대(35)에 설치된 흡인 구멍(40)에 의해 진공 흡착되어도 좋다. 접착제 공급 탱크(37)에 접속된 디스펜서(38)에 의해 제2 판유리(36)의 표면에 광경화성 접착제(39)를 도포한다(도 8). 접착제 도포가 완료된 제2 판유리(36)의 첩합면에 대해 먼저 진공 흡착시킨 제1 판유리(30)의 첩합면을 대향시켜 제1 판유리 및 제2 판유리의 대응하는 끝테두리끼리 선접촉시킨다. 그 후 해당 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그(10)의 상면(11)을 롤러(34)로 가압하면서 상기 지그(10)를 서서히 굴려(도 9), 제1 판유리(30) 및 제2 판유리(36)의 첩합면끼리의 첩합을 완료한다(도 10).

지그(10)의 흡인 구멍(41)은 지그(10)의 굴림 방향으로 여러 개로 구획되고 구획마다 흡인관(42)을 통해 대응하는 흡인 수단(미도시)에 연통되어 있다. 제1 판유리(30) 및 제2 판유리(36)의 첩합 도중 지그(10)가 구름에 따라 제1 판유리(30) 및 제2 판유리(36)의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 구획마다 흡인 수단에 의한 제1 판유리(30)에 대한 흡인을 정지한다.

제1 판유리(30) 및 제2 판유리(36)의 첩합이 완료된 후 CCD카메라(43)로 양 판유리에 붙은 얼라이먼트 마크(44)를 촬상하면서 X축, Y축 및 θ축 방향으로 위치 조정한다(도 11). 이 때 위치 조정한 후에 양 판유리의 위치가 어긋나지 않도록 외주 부근에 존재하는 접착제만을 UV램프(45)에 의해 자외선을 조사하여 경화시켜도 좋다. 그 후 전면적으로 접착제를 경화시키기 위한 자외선을 평판 적층체의 첩합면에 존재하는 접착제를 향해 UV램프(46)에 의해 조사하여 제1 판유리(30) 및 제2 판유리(36)의 접착이 완료된다(도 12).

＜3. 판형 제품의 제조＞

상기 평판 적층체의 제조방법에 의해 얻어진 평판 적층체로 판형 제품을 제조할 수 있다.

본 발명에 관한 판형 제품의 제조방법은 일실시형태에서,

g) 상기 평판 적층체의 제조방법을 이용하여 얻어진 평판 적층체를 두께 방향으로 분할하여 원하는 수의 분할된 평판 적층체를 형성하는 공정,

h) 분할된 평판 적층체 각각에 대해 원하는 형상 가공을 하는 공정,

i) 형상 가공후의 평판 적층체를 가열함으로써 첩합되어 있던 평판끼리 박리하여 복수의 판형 제품을 형성하는 공정을 포함한다.

공정(g)에서는 평판 적층체를 두께 방향으로 분할하여 원하는 수의 분할된 평판 적층체를 형성한다. 분할 방법은 특별히 제한되지 않지만, 원판 커터(다이아몬드 디스크, 초경합금 디스크), 고정 지립식 또는 유리 지립식 와이어 소, 레이저 빔, 식각(예：불화수소산이나 황산 등을 이용한 화학 식각이나 전해 식각), 워터 젯, 엔드 밀 및 원통 숫돌 라우터 컷을 각각 단독으로 또는 조합하여 사용하여 동일 사이즈의 직사각형으로 분할하는 방법을 들 수 있다. 식각은 분할 후 절단면의 표면 처리에 이용할 수도 있다.

다음으로 공정(h)에서 분할된 평판 적층체 각각에 대해 원하는 형상 가공을 실시한다. 이 공정에서는 분할된 평판 적층체마다 목적으로 하는 판형 제품의 형상에 일체적으로 가공할 수 있기 때문에 판형 제품의 생산 속도를 현격히 높일 수 있다는 이점이 있다. 형상 가공은 공지의 임의의 수단에 의해 행하면 되는데, 예를 들면 회전 숫돌에 의한 연삭, 초음파 진동 드릴에 의한 구멍뚫기, 회전 브러쉬에 의한 단면 가공, 식각에 의한 구멍뚫기, 식각에 의한 단면(端面) 가공, 식각에 의한 외형 가공, 워터 제트, 레이저 빔 등을 들 수 있다. 가공 방법은 각각 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 식각은 형상 가공 후의 표면 처리에 이용할 수도 있다.

공정(i)에서는 형상 가공후의 평판 적층체를 가열함으로써 첩합되어 있던 평판끼리를 박리하여 복수의 판형 제품을 형성한다. 가열 방법으로서는 특별히 제한은 없지만, 접착제가 필름 형태로 연화되어 각 판형 제품에서 깨끗하게 분리되기 때문에 온수에 형상 가공후의 평판 적층체를 침지하는 방법이 바람직하다. 적합한 온수의 온도는 채용하는 접착제에 따라 다르지만, 통상은 70∼90℃정도, 바람직하게는 75∼85℃, 전형적으로는 80℃이다.

이하, 2종류의 광경화성 접착제(I) 및 (II)에 대해 시험하였기 때문에 그 조건 및 결과를 기재한다.

광경화성 접착제(I)는 하기의 (A)∼(E)의 성분을 혼합하여 제작했다.

(A) 다관능(메타)아크릴레이트로서 일본합성사제「UV-3000B」(우레탄아크릴레이트, 이하 「UV-3000B」로 약칭, 중량 평균 분자량 18000) 15질량부, 디시클로펜타닐디아크릴레이트(일본화약사제「KAYARAD R-684」, 이하 「R-684」로 약칭) 15질량부,

(B) 단관능(메타)아크릴레이트로서 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸아크릴레이트(도아합성사제「아로닉스M-140」, 이하 「M-140」으로 약칭) 45질량부, 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)아크릴레이트(도아합성사제「아로닉스M-101A」) 25질량부,

(C) 광중합 개시제로서 벤질디메틸케탈(BASF사제「IRGACURE651」, 이하「BDK」로 약칭) 10질량부,

(D) 입자형 물질로서 평균 입경100㎛의 구형 가교 폴리스티렌 입자(간츠화성사제「GS-100S」) 1질량부,

(E) 중합 금지제로서 2,2-메틸렌-비스(4-메틸-6-터셔리-부틸페놀)(스미토모화학사제「스밀라이저MDP-S」, 이하「MDP」로 약칭) 0.1질량부

광경화성 접착제(II)는 하기 (A)∼(E)의 성분을 혼합하여 제작했다.

(A) 다관능(메타)아크릴레이트로서 일본합성사제「UV-3000B」(우레탄아크릴레이트, 이하「UV-3000B」로 약칭, 중량 평균 분자량 18000) 20질량부, 디시클로펜타닐디아크릴레이트(일본화약사제「KAYARAD R-684」, 이하「R-684」로 약칭) 25질량부,

(B) 단관능(메타)아크릴레이트로서 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(도아합성사제「알로닉스M-5700」, 이하「M-5700」로 약칭) 35질량부, 페놀(에틸렌옥사이드 2몰 변성)아크릴레이트(도아합성사제「알로닉스M-101A」) 20질량부,

(D) 입자형 물질로서 평균 입경100㎛의 구형 가교 폴리스티렌 입자(간츠화성사제「GS-100 S」) 1질량부,

(E) 중합 금지제로서 2,2-메틸렌비스(4-메틸-6-터셔리부틸페놀)(스미토모화학사제「스밀라이저MDP-S」, 이하「MDP」로 약칭) 0.1질량부

광경화성 접착제(I)와 광경화성 접착제(II)의 물성을 표 1에 나타냈다. 평가방법은 하기와 같다.

인장 전단 접착 강도(접착 강도)：JIS K 6850에 따라 측정했다. 구체적으로는 피착재로서 내열 파이렉스(등록상표) 유리(25mm×25mm×2.0mm)를 이용했다. 접착 부위를 직경 8mm로 제작한 광경화성 접착제로 2장의 내열 파이렉스(등록상표) 유리를 첩합하여 무전극 방전 램프를 사용한 퓨전사제 경화 장치에 의해 365nm파장의 적산광량 2000mJ/cm²의 조건에서 경화시켜 인장 전단 접착 강도 시험편을 제작했다. 제작한 시험편은 만능 시험기를 사용하여 온도23℃, 습도50%의 환경하에서 인장 속도 10mm/min로 인장 전단 접착 강도를 측정했다.

박리 시험：상기 내열 파이렉스(등록상표) 유리에 광경화성 접착제를 도포하고, 지지체로서 청색 판유리(150mm×150mm×두께1.7mm)에 첩합한 것 외에는 상기와 동일한 조건으로 제작한 광경화성 접착제를 경화시켜 박리 시험체를 제작했다. 얻어진 시험체를 온수(80℃)에 침지하여 내열 파이렉스(등록상표) 유리가 박리되는 시간을 측정하고, 또 박리 상태도 관찰했다.

절단 시험편 10개의 이면편의 이빠짐 최대폭, 절단 시험편 10개의 이면편의 이빠짐 최대폭의 표준 편차：접착제(I)와 접착제(II)를 이용하여 세로150mm×가로150mm×두께2mm의 판형 내열 파이렉스(등록상표) 유리와, 박리 시험에서 이용한 청색 판유리(더미 유리로서 사용)를 상기와 동일하게 접착 경화시켰다. 이 접착 시험체의 내열 파이렉스(등록상표) 유리 부분만을 다이싱 장치를 사용하여 10mm사각으로 절단했다. 절단중에 내열 파이렉스(등록상표) 유리의 탈락은 발생하지 않아 양호한 가공성을 나타냈다. 내열 파이렉스(등록상표) 유리 부분만을 절단한 접착 시험체를 80℃의 온수에 침지하였는데 60분만에 모두 박리되었다. 또 그 박리된 절단 시험편을 무작위로 10개 꺼내 그 절단 시험편의 이면(접착제로 가고정시킨 면)의 각 편을 광학 현미경을 이용하여 관찰하고, 유리가 이빠짐이 있는 개소의 최대폭을 측정하여 그 평균값으로 표준 편차를 구했다.

광경화성 접착제	광경화성 접착제(I)	광경화성 접착제(II)
접착 강도(MPa)	10.9	10.6
80℃온수 박리시간(분,초)	30초	30초
절단시험편 10개 이면편의 이빠짐 최대폭(μm)	51.3	51.2
절단시험편 10개 이면편의 이빠짐 최대폭의 표준편차(μm)	5.8	5.6

이상, 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 이들 실시형태에 한정되지 않으며 다양한 변형이 가능하다.

10 지그
11 지그의 상면
12 지그의 하면
13 본체부
14 흡인 구멍
16 연통 수단
17 연통 수단의 출구
18 고무 시트
19 중공실
20 흡인관
21 분기관
22 집합관
30 제1 판유리
31 제1 판유리의 한 끝테두리
32 제1 판유리의 다른 끝테두리
33 받침대
34 롤러
35 받침대
36 제2 판유리
37 접착제 공급 탱크
38 디스펜서
39 광경화성 접착제
40 받침대의 흡인 구멍
41 지그의 흡인 구멍
42 흡인관
43 CCD카메라
44 얼라이먼트 마크
45,46 UV램프

Claims

제1 면,
제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 흡인하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 바깥쪽으로 만곡된 제2 면,
제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부,
본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한 평판의 첩합 지그.
압력을 받기 위한 제1 면,
제1 면의 반대쪽에 있으며 평판을 진공 흡착하기 위한 복수의 흡인 구멍을 가지고 대략 원호형으로 바깥쪽으로 만곡된 제2 면,
제1 면과 제2 면을 연결하는 본체부,
본체부 속에 배치되어 흡인 구멍을 흡인 수단에 연통시키기 위한 연통 수단을 구비한 평판의 첩합 지그.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 제1 면은 평탄하거나 또는 제2 면의 만곡 상태와 동일한 정도로 대략 원호형으로 안쪽으로 만곡되어 있는 지그.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 제2 면은 탄성 재료로 구성되어 있는 지그.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 복수의 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획되어 있고 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통되는 지그.
a) 제1 평판을 준비하는 공정,
b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 지그의 제2 면을 접촉시킨 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 흡인하는 공정,
c) 제2 평판을 준비하는 공정,
d) 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포하는 공정,
e) 공정 b)에서 흡인시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합하는 공정을 포함한 평판 적층체의 제조방법.
a) 제1 평판을 준비하는 공정,
b) 제1 평판의 한 끝테두리에 대해 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 지그의 제2 면을 접촉시킨 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴려 제1 평판의 한면 전체를 상기 지그의 제2 면의 만곡 형상을 따라 진공 흡착하는 공정,
c) 제2 평판을 준비하는 공정,
d) 제1 평판 및 제2 평판 중 어느 한쪽 또는 양쪽의 첩합면에 접착제를 도포하는 공정,
e) 공정 b)에서 진공 흡착시킨 제1 평판의 첩합면의 한 끝테두리에 대해 제2 평판의 첩합면을 접촉 후, 해당 한 끝테두리에 대향하는 다른 끝테두리를 향해 상기 지그의 제1 면을 가압하면서 상기 지그를 굴림으로써 제1 평판 및 제2 평판의 첩합면끼리 첩합하는 공정을 포함한 평판 적층체의 제조방법.
청구항 6 또는 청구항 7에 있어서, 공정 b) 및 공정 e)에서의 제1 면으로의 가압은 가압 롤러를 제1 면상에서 굴림으로써 행하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 6 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서, 공정 e)는 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인력을 유지한 채 실시하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 6 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡인 구멍은 지그의 굴림 방향으로 복수로 구획되고 구획마다 대응하는 흡인 수단에 연통되어 있으며, 공정 e)에서 지그가 구름에 따라 제1 평판 및 제2 평판의 첩합 개시 위치로부터 첩합 종료 위치를 향해 순서대로 구획마다 흡인 수단에 의한 제1 평판에 대한 흡인을 정지하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 6 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 제1 평판 및 제2 평판은 투광성이며, 상기 접착제는 광경화성 접착제이고, 공정 e) 후에 접착제를 경화시키기 위한 광을 평판 적층체의 첩합면에 존재하는 접착제를 향해 조사하는 공정 f)를 더 행하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 11에 있어서, 공정 e) 후 또한 공정 f) 전에 첩합면 방향의 위치를 조정하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 6 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 기재된 평판 적층체의 제조방법에 의해 제조된 평판 적층체를 제2 평판으로 간주하여 공정(a) 내지 공정(e)를 반복하는 것을 포함한 평판 적층체의 제조방법.
청구항 11에 있어서, 광경화성 접착제가 (A) 다관능(메타)아크릴레이트, (B) 단관능(메타)아크릴레이트, (C) 광중합 개시제를 함유하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 14에 있어서, (A) 다관능(메타)아크릴레이트가 다관능(메타)아크릴레이트 올리고머/폴리머 및/또는 2관능(메타)아크릴레이트 모노머를 함유하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 14에 있어서, (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트, 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트로 이루어진 군 중 1종 이상을 함유하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 14에 있어서, (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트 및 2-(1,2-시클로헥사카복시이미드)에틸(메타)아크릴레이트를 함유하는 평판 적층체의 제조방법.
청구항 14에 있어서, (B) 단관능(메타)아크릴레이트가 페놀에틸렌옥사이드 2몰 변성(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트를 함유하는 평판 적층체의 제조방법.
g) 청구항 6 내지 청구항 18 중 어느 한 항에 기재된 평판 적층체의 제조방법을 이용하여 얻어진 평판 적층체를 두께 방향으로 분할하여 원하는 수의 분할된 평판 적층체를 형성하는 공정,
h) 분할된 평판 적층체 각각에 대해 원하는 형상 가공을 하는 공정,
i) 형상 가공 후의 평판 적층체를 가열함으로써 첩합되어 있던 평판끼리를 박리시켜 복수의 판형 제품을 형성하는 공정을 포함한 판형 제품의 제조방법.
청구항 19에 있어서, 공정 i)는 온수에 형상 가공 후의 평판 적층체를 침지시켜 접착제를 필름 형태로 박리하는 것을 포함한 판형 제품의 제조방법.
청구항 19 또는 청구항 20에 기재된 판형 제품의 제조방법에 따라 얻어진 판형 제품.