KR20120101163A - 가교성 아릴아민 화합물 및 이를 기재로 한 공액 올리고머 또는 중합체 - Google Patents
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Abstract
가교성 아릴아민 화합물; 상기 가교성 아릴아민 화합물로부터 제조된 올리고머 및 중합체; 필름 및 코팅; 및 상기 필름을 포함하는 다층 전자 디바이스가 개시된다.
Description
본 발명은 신규 가교성 아릴아민 화합물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 추가로 가교된 유도체를 비롯한 상기 화합물의 올리고머 및 중합체, 및 상기 화합물, 올리고머 또는 중합체로부터 제조된 필름 및 코팅, 상기 필름 및 코팅을 제조하는 방법, 및 상기 중합체 필름의 하나 이상의 층으로 구성되는 전자 디바이스, 특히 전기발광 디바이스에 관한 것이다.
미국 특허 제 6,605,373호, 제 6,362,310호, 제 6,255,449호, 제 6,255,447호, 제 6,169,163호, 제 5,962,631호 및 관련 특허는 특정 가교성 치환 플루오렌 화합물 및 이의 올리고머 및 중합체를 개시하였다. 미국 특허 제 5,929,194호는 2 개의 반응성 기를 함유한 특정 소분자 아민의 가교에 의해 폴리아릴폴리아민의 합성을 개시하였다. 관련 개시는 또한 미국 특허 제 5,728,801호에서 확인된다.
문헌[Macromolecular Rapid Communication 21, 583-589 (2000)]은 가교성 옥세탄 함유 가교성 정공 수송 물질을 함유하는 아릴아민의 합성을 기재하였다. 문헌[Macromolecular Rapid Communication 20, 224-228 (1999)]은 스핀-코팅되고 필름으로서 가교될 수 있는 가교성 옥세탄 기 함유 트리아릴아민 소분자의 합성을 기재하였다. 상기 문헌에는 가교된 중합체가 개시되지만, 공액 중합체 골격이 부족하며, 제한된 전하 수송성만을 갖는다.
포토디스플레이 기술의 최근의 진보는 개선된 화합물 및 발광 다이오드(LED)와 같은 전기발광 디바이스의 제조 기술을 초래하였다. 청색 발광 화합물을 비롯한 고 발광성 물질은 현재 가시 광선 스펙트럼의 대부분에서 이용가능하다. 최근 향상된 수명 및 다층 LED의 활성층 또는 발광층의 효율은 활성층 또는 발광층과 애노드(anode) 사이의 다층 LED 내에 전하 수송층을 혼입함으로써 획득될 수 있음이 발견되었다. 이와 같은 층은 또한 목적이 발광층 내로 정공 주입을 개선시키고 애노드와 발광층 간에 버퍼 층을 제공하는 것인 정공 주입 및(또는) 정공 수송층으로서 칭할 수 있다. 다른 응용분야에서, 정공 수송층과 발광층 간의 이와 같은 사이층은 향상된 디바이스 효율 및 수명을 제공하는 것으로 나타났다.
본 발명은 다층 LED의 다양한 층, 예를 들어 정공 수송층 및 다층 LED의 사이층, 및 다른 전자 디바이스, 예를 들어 전계 효과 트랜지스터(FET), 광 전지, 및 심지어 집적 회로 또는 인쇄 회로 기판에서 사용하기 위한 신규 화합물에 관한 것이다.
<발명의 요약>
한 측면에서, 본 발명은 하기 화학식 I의 아릴아민 화합물이다:
[화학식 I]
Z-(Ar-NX)n-Ar-(NX-Ar)n'-Z
여기서,
Ar은 각각 독립적으로 하나 이상의 2가 방향족 기를 포함하는 기이고, 임의로 단일 NX 기에 의해 분리된 2 개의 Ar 기는 제 2 공유 결합 또는 연결기에 의해 연결되어 융합 다중 고리계를 형성할 수 있고;
X는 불활성 치환체 또는 가교성 기이되, 단 상기 화합물의 하나 이상의 경우에서 X는 가교성 기이고;
Z는 각각 독립적으로 수소 또는 이탈기이고;
n은 1 또는 2이며;
n'은 0, 1 또는 2이다.
가교성 기 X의 펜단트(pendant) 성질 때문에, 본 발명의 화합물은 비교적 다량의 공액 불포화 기를 함유한 올리고머 및 중합체를 형성할 수 있으므로 전자 수송성이 향상된다. 상기 화합물을 포함하는 조성물을 가교시켜 생성된 공중합체를 비롯한 올리고머 및 중합체는 유리하게 감소된 이온화 에너지 및 향상된 전도도를 특징으로 한다. 게다가, 상기 화합물은 전기발광 디바이스에서 사이층으로 사용하기에 매우 적합한 가교된 내용매성 필름을 형성할 수 있다.
따라서, 두 번째 측면에서, 본 발명은 하나 이상의 하기 화학식 Ia의 반복 기를 갖는 올리고머, 중합체, 또는 이들의 가교된 유도체를 포함하는 조성물이다:
[화학식
Ia
]
Z'-(Ar-NX')n-Ar-(NX'-Ar)n'-Z'
여기서, X'는 X 또는 가교성 X 기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기, 바람직하게는 가교시 공액 불포화 기를 형성하는 기이고;
Z'는 Z, 공유 결합, 또는 이탈기의 치환 또는 반응으로 형성되는 말단 기이며;
Ar, X, Z, n 및 n'은 화학식 I의 화합물에 관하여 앞서 정의된 바와 같다.
세 번째 측면에서, 본 발명은 하나 이상의 화학식 Ia의 반복 기를 갖는 올리고머 또는 중합체를 형성하기에 충분한 반응 조건 하에, 임의로 임의의 다른 비간섭 화합물의 존재하에서, 1 종 이상의 화학식 I의 화합물 또는 이를 포함하는 조성물, 예를 들어 상기 화합물과 1 종 이상의 부가 중합성 단량체의 혼합물을 가열하는 것을 포함하는, 하나 이상의 화학식 Ia의 기를 포함한 올리고머, 중합체(공중합체 포함), 및 이의 가교 유도체의 제조방법이다.
네 번째 측면에서, 본 발명은 본 발명의 제 2 실시양태의 1 종 이상의 올리고머 또는 중합체를 포함하거나 본 발명의 제 3 실시양태에 따라서 제조가능한 필름이다.
다섯 번째 측면에서, 본 발명은 하나 이상의 층이 본 발명의 네 번째 측면에 따른 필름을 포함하는 하나 이상의 중합체 필름 층을 포함하는 전기발광 디바이스이다.
상기 화합물, 올리고머 및 중합체는 전자 디바이스에서 사이층을 형성하는데 사용된 경우 특히 효율적인 정공 주입/수송 또는 전자 차단 특성을 지니고, 유익하게 감소된 이온화 에너지 및 향상된 전도도를 특징으로 함이 발견되었다. 게다가, 상기 화합물은 LED와 같은 전자 디바이스에서 사이층으로 사용하기에 매우 적합한 가교된 내용매성 필름을 형성할 수 있다.
미국 특허 실시를 목적으로, 본원에 인용된 임의의 특허, 특허 출원 또는 공개의 내용이 특히 단량체, 올리고머 또는 중합체 구조, 합성 기술 및 당업계의 통상적인 지식의 개시에 관하여 본원에서 이의 전문이 참고로 도입된다. 본원에서 나타난, 용어 "포함하는(comprising)" 및 이의 파생어는 동일한 것이 본원에서 기재되든지 아니든지 간에 임의의 추가 성분, 단계 또는 절차의 존재를 의도적으로 제외하지 않는다. 임의의 불확실성을 방지하기 위해서, 반대로 기재되지 않는다면, 용어 "포함하는"의 사용을 통해서 청구되는 모든 조성물은 임의의 추가 첨가제, 보조제, 또는 화합물을 포함할 수 있다. 이에 반하여, 용어 "필수적으로 구성된(consisting essentially of)"이 본원에서 나타난다면, 작용성에 필수적이지 않는 것을 제외하고 임의의 후속 인용 범위로부터, 임의의 다른 성분, 단계 또는 절차를 제외한다. 사용된다면, 용어 "구성된(consisting of)"은 명확하게 서술되거나 열거되지 않는 임의의 성분, 단계 또는 절차를 제외한다. 문맥과 다르게 또는 명백하게 기재되지 않는다면, 용어 "또는"은 임의적 조합으로뿐만 아니라 열거된 개별적인 요소를 나타낸다.
본원에서 사용된 용어 "방향족(aromatic)"은 (4δ+2)π-전자를 함유한 다원자, 환식, 고리계이며, 여기서 δ는 1 이상의 정수이다. 2 개 이상의 다원자, 환식 고리를 함유한 고리계에 관하여 본원에서 사용된 용어 "융합(fused)"은 이들의 2 개 이상의 고리에 있어서, 한 쌍 이상의 인접한 원자가 양쪽의 고리에 포함되는 것을 의미한다.
"B-단계(B-staged)"는 단량체의 부분 중합반응의 결과로서 생긴 올리고머 혼합물 또는 저 분자량 중합체 혼합물을 나타낸다. 미반응 단량체가 상기 혼합물에 포함될 수 있다.
"공액(conjugation)"은 중합체 사슬에서 관심 원자와 관련된 인접한 π-, p- 또는 d-오비탈 전자의 완전 또는 부분 중첩을 나타낸다. 공액은 공유 결합 또는 -S-, -O-, -NR-, -PR-, -BR-, 또는 -SiR2- 기에 의해 서로 연결된 이중결합 또는 삼중결합과 같은 비편재 전하를 지닌 원자를 함유하는 두 개의 구성요소 간에 존재한다고 여겨진다.
"가교성(crosslinkable)"은 비가역적으로 경화되거나 중합될 수 있어 재형상화 또는 재형성될 수 없는 물질을 형성하는 관능기를 의미한다. 가교는 열 또는 UV, 마이크로파, X-선, 또는 e-빔 방사선에 의해 보조될 수 있다. 가교가 열적으로 행해지는 경우 상기 용어는 흔히 "열경화성(thermosettable)"과 상호교환적으로 사용된다.
"히드로카르빌"은 탄소 원자 및 수소 원자만 함유한 1가 잔기이다.
"히드로카르빌렌"은 탄소 원자 및 수소 원자만 함유한 2가 잔기이다.
"불활성 치환체"는 단량체 또는 올리고머의 임의의 후속 바람직한 커플링 또는 중합반응을 방해하지 않는 치환기이지만 본원에서 개시한 추가 중합성 잔기를 포함할 수 있다. 적합한 불활성 비-중합성 치환체는 수소, C1 -20 히드로카르빌 및 트리(C1-20히드로카르빌)실릴 기를 포함한다.
여기서, R1은 각 경우에 독립적으로 수소 또는 C1 -10 알킬기이고, R2는 각 경우에 독립적으로 C2 -10 알킬렌기이다. 바람직한 이탈기는 브로모이다.
가교성 X 기의 예는 이중결합, 삼중결합, 동일 반응계에서 이중결합을 형성할 수 있는 전구물질, 또는 헤테로시클릭, 부가 중합성 기를 함유한 잔기이다. 바람직한 가교성 X 기는 벤조시클로부타닐 기 및 벤조시클로부탄, 아지드, 옥시란, 디(히드로카르빌)아미노, 시아네이트 에스테르, 히드록시, 글리시딜 에테르, C1 -10 알킬아크릴레이트, C1 -10 알킬메타크릴레이트, 에테닐, 에테닐옥시, 퍼플루오로에테닐옥시, 에티닐, 말레이미드, 나드이미드, 트리(C1 -4)-알킬실록시, 트리(C1-4)알킬실릴, 및 이들의 할로겐화 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환체를 함유한 치환된 C6 -12 아릴렌 기를 포함한다. 가장 바람직한 가교성 X 기는 1-벤조-3,4-시클로부탄 및 4-페닐-l-(벤조-3,4-시클로부탄)이다.
적합한 가교성 X기의 구체적인 예는
를 포함하며,
여기서,
R3는 수소, 할로겐, Cl -20 히드로카르빌, Cl -20 할로히드로카르빌, 또는 C1 -20 할로카르빌이고;
R4는 Cl -20 히드로카르빌렌, C1 -20 할로히드로카르빌렌, 또는 C1 -20 할로카르빌렌이며;
p는 0 또는 1이다.
유사한 맥락으로, X'은 X 또는 X의 가교된 잔기이다. 당업계의 숙련자에 의해서 X 관능기의 가교에 2 종 이상의 상이한 화합물, 올리고머 또는 중합체에서 2 개 이상의 X 기 간의 반응 또는 별도로 첨가된 중합성 공단량체와 X 기의 반응이 관여하여 상기 분자를 단일한 화학적 요소로 연결시킴을 이해할 것이다.
본 발명의 바람직한 실시양태에서, X 기는 방향족 잔기, 바람직하게는 화학식 ArX"의 잔기를 포함하며, 여기서 Ar은 상기 정의한 바와 같고 X"는 하나 이상의 가교결합 형성 원자가 비편재 전자 전하를 갖는 Ar의 원자에 공유결합된 가교성 기이다. 다시 말해서, X" 기는 직접적으로 Ar을 포함한 방향족 기에 부착된다. 이 실시양태에서 특히 적합한 X" 기는 1-에테닐 또는 벤조-3,4-시클로부탄-1-일 기, 및 이들의 불활성으로 치환된 유도체를 포함한다. 게다가 또 다른 실시양태에서, X" 기는 상기 X" 기가 관여하는 가교를 개시하는데 산, 염기 또는 퍼옥사이드 화합물과 같은 개시제가 불필요함을 의미하는 자가-가교성이며, 공중합가능한 공단량체, 특히 에틸렌계 불포화 화합물과 같은 부가 중합성 공단량체가 추가로 존재할 수 있다. 이 실시양태에서, 산, 염기 또는 퍼옥사이드 개시제의 부재는 캐쏘드(cathode) 또는 생성된 전자 디바이스의 다른 성분의 부식을 감소시키고 사이층 내에서 양성자 이동으로 인한 문제를 제거한다.
적합한 불활성, 비-가교성, X 기는 Cl -20 히드로카르빌 및 할로겐화 C1 -20 히드로카르빌 기, 특히 아릴기 및 알카릴기를 포함한다. 바람직한 비-가교성 X 기는 페닐 및 Cl - l0 알킬페닐, 특히 p-n-부틸페닐을 포함한다.
적합한 Ar 기는 페닐렌, 비페닐렌, 나프탈렌디일, 안트라센디일, 스틸벤디일, 및 플루오렌디일 기, 이들의 불활성으로 치환된 유도체 및 앞선 기의 조합을 포함한다. 바람직한 플루오렌디일 기는 하기 화학식에 상응한다:
여기서, R'은 각 경우에 독립적으로 불활성 치환체, X 또는 X'이다.
이전에 언급한 바와 같이, 단일-NX-기에 의해 분리된 2 개의 Ar 기는 융합 방향족 고리계를 형성할 수 있다. 예는 하기 화학식에 상응하는 기를 포함한다:
여기서, X는 앞서 정의된 바와 같고;
Y는 공유결합, O, S 또는 NR이며; 여기서
R은 각 경우에 독립적으로 i) 수소; ii) 할로겐; iii) C1 -20 히드로카르빌 기; iv) 수소를 계수하지 않고 20개 이하의 원자를 함유한 하나 이상의 헤테로원자 함유 기(여기서 헤테로원자는 S, N, O, P, B 또는 Si로부터 선택됨)로 치환된 히드로카르빌 기; v) (iii) 또는 (iv)의 할로겐화 유도체; 또는 vi) 치환체가 가교성 X 기인 (iii) 또는 (iv)의 치환된 유도체이다.
바람직한 치환체, R은 C1 -40 히드로카르빌 기 또는 하나 이상의 S, N, O, P, 또는 Si 헤테로원자를 함유한 C1 -40 히드로카르빌 기, 및 가교성 X 기에 의해 치환된 상기 C1 -40 히드로카르빌 또는 C1 -40 헤레로원자 함유 기를 포함한다. 더 바람직한 실시양태에서, R은 C1 -10 알킬기이다.
본 발명의 단량체, 올리고머 및 중합체는 완전 공액은 아닐지라도 바람직하게는 -(Ar-NX')n-Ar-(NX'-Ar)n'-로 정의된 골격을 따라 고도로 공액 결합된다. 추가의 바람직한 실시양태에서, 이들은 골격에 플루오렌과 트리아릴아민 모두의 2 관능성 유도체를 포함한다. 더 바람직하게는 본 발명의 가교된 올리고머 및 중합체는 또한 완전 공액은 아니어도 하나 이상의 로 정의되는 가교된 구조를 따라 고도로 공액 결합된다.
상기 화합물의 매우 바람직한 실시양태는 Ar이 각각 1,4-페닐렌, 9,9-디(C1 -20알킬)플루오렌-2,7-디일, 또는 이의 조합이고; X가 3,4-벤조시클로부탄-1-일, 에테닐 또는 p-에테닐페닐이고; Z가 브롬 또는 수소이고; n이 1 또는 2이고; n'가 0 또는 1인 것이다. 이들 화합물 중 더 바람직한 것은 Ar이 각각 페닐렌이고; 각 X 기가 3,4-벤조시클로부탄-1-일이고; Z가 각각 브롬이고; n이 1 또는 2이고; n'가 0인 것이다. 매우 바람직하게는 앞선 화합물 내에서 n이 1이다.
본 발명에 따른 화학식 I의 구체적인 실시예는 하기 구조를 갖는 것이다:
여기서, n, n', R, X, Y 및 Z은 앞서 기재한 바와 같다.
본 발명에 따른 화학식 Ia의 올리고머 및 중합체의 구체적인 실시예는 하기 구조를 갖는 것이다:
여기서, n, n', R, X', Y 및 Z'는 앞서 기재한 바와 같다. 이와 같은 올리고머 및 중합체는 이탈기 Z의 손실 또는 중합, 및 잔기, Z'의 형성을 초래하는 통상적인 합성 기술을 사용하여 쉽게 제조된다. 적합한 기술은 잘 공지된 부치발트(Buchwald) 또는 하프-부치발트 반응, 스즈키(Suzuki) 커플링 반응 또는 유사한 기술을 포함한다.
올리고머 및 중합체는 전기발광 디바이스에서 정공 수송 필름과 사이층 필름 모두의 제조에서 사용하기에 매우 적합하다.
단량체의 가교
일부 이상의 X 관능기의 부가 중합반응 또는 다른 가교 반응을 초래하기에 충분한 시간 동안 승온에서 본 발명의 화학식 I 또는 Ia의 아릴아민 화합물을 포함하는 조성물을 가열함으로써 쉽게 중합되어 가교된 올리고머 또는 중합체를 형성한다. 한 실시양태에서 화합물은 2가의 가교 잔기를 형성할 수 있는 1종 이상의 공중합성 단량체와 공중합된다. 본원에서 사용하기에 바람직한 공중합성 화합물은 화합식 II 또는 화합식 III에 상응한다:
[화학식
II
]
[화학식
III
]
여기서, Q1은 각 경우에 독립적으로 C1 -20 히드로카르빌 또는 하나 이상의 S, N, O, P 또는 Si 원자를 함유한 C1 -20 히드로카르빌, C4 -16 히드로카르빌 카르보닐옥시, C4 -16 아릴(트리알킬실옥시)이거나 양쪽의 Q1은 플루오렌 고리 상의 9-탄소와 함께 하나 이상의 S, N 또는 O를 함유하는 C5 -20 고리 구조 또는 C4 -20 고리 구조를 형성할 수 있고;
Q2는 각 경우에 독립적으로 C1 -20 히드로카르빌, C1 -20 히드로카르빌옥시, C1 -20 티오에테르, C1 -20 히드로카르빌카르보닐옥시 또는 시아노이고;
Q3은 각 경우에 독립적으로 C1 -20 히드로카르빌 또는 디(C1-20알킬)아미노로 치환된 C1 -20 히드로카르빌, C1 -20 히드로카르빌옥시 또는 C1 -20 히드로카르빌 또는 트리(C1-10알킬)실록시이고;
a는 각 경우에 독립적으로 0 또는 1이고;
Z"는 이탈기, 특히 브로모이다.
바람직한 실시양태에서, 본 발명의 올리고머 및 중합체는 1 내지 99 %, 더 바람직하게는 2 내지 50 %, 가장 바람직하게는 2 내지 10 %의 화학식 Ia의 반복 단위 및 99 내지 1 %, 더 바람직하게는 98 내지 50 %, 가장 바람직하게는 98 내지 90 %의 하기 화학식의 반복 단위를 포함한다:
여기서, Ql'는 Q1의 공유결합 또는 2가의 잔기이다.
본 발명의 단량체 및 올리고머 또는 B-단계 유도체는 통상적인 유기 용매에서 쉽게 가용성이다. 이들은 용매를 사용하거나 하지 않고, 통상적인 기술, 특히 용액 스핀 코팅 또는 잉크-젯 프린팅에 의해 박막 또는 코팅으로 가공가능하다.
본 발명의 올리고머 또는 중합체는 바람직하게는 1000 달톤 이상, 더 바람직하게는 5000 달톤 이상, 더욱더 바람직하게는 10,000 달톤 이상, 매우 바람직하게는 15,000 달톤 이상, 가장 바람직하게는 20,000 달톤 이상; 바람직하게는 1,000,000 달톤 이하; 더 바람직하게는 500,000 달톤 이하, 가장 바람직하게는 200, 000 달톤 이하의 중량 평균 분자량을 갖는다. 분자량은 폴리스티렌 표준을 사용한 겔 투과 크로마토그래피에 의해 결정된다. 본원에서 반복 단위의 개수에 의해 측정된 본 발명의 중합체의 중합도는 바람직하게는 2 이상, 더 바람직하게는 3 이상이다. 올리고머 또는 중합체는 바람직하게는 5.0 이하, 더 바람직하게는 3.0 이하, 가장 바람직하게는 2.0 이하의 다분산도(polydispersity)(Mw/Mn)를 보인다.
올리고머
또는 중합체 제조 방법
본 발명의 화합물, 올리고머 및 중합체는 문헌[N. Miyaua and A. Suzuki, Chemical Reviews, Vol. 95, pp.457-2483 (1995)]에 기록된 바와 같이, 통상적으로 "스즈키 반응"으로서 칭하는 방향족 보로네이트와 브롬화물의 축합 반응을 비롯한 임의의 적합한 공정에 의해서 제조된다. 상기 팔라듐 촉매화 반응은 US-A-5,777,070에서 교시된 바와 같이 상 전이 촉매의 첨가에 의해 고 분자량 중합체 및 공중합체의 제조에 적용될 수 있다. 상기 반응은 통상적으로 적합한 용매 또는 희석제 중 70 ℃ 내지 120 ℃에서 수행된다. 바람직한 용매는 톨루엔 또는 디에틸벤젠과 같은 방향족 히드로카본, 또는 테트라히드로푸란 또는 디메틸포름아미드와 같은 지방족 또는 방향족 에테르, 에스테르 또는 카르바메이트를 포함한다. 상기 용매 또는 희석제의 혼합물이 또한 사용될 수 있다. 가장 바람직한 용매는 톨루엔이다. 수성 염기, 바람직하게는 나트륨 카르보네이트 또는 비카르보네이트가 이탈기의 반응 생성물, 통상적으로 HBr의 스캐빈저로서 사용되었다. 반응물의 반응성 및 목적하는 생성물의 분자량에 따라서, 중합 반응은 1 분 내지 100 시간이 걸릴 수 있다. 단일관능성 아릴 할라이드 또는 아릴 보로네이트 화합물은 이와 같은 반응에서 사슬-종결제로서 첨가되어 말단 아릴기를 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 화합물의 형성에 사용된 디할로-관능성 반응물만이 관여하는 중합 공정은 또한 니켈 촉매화 커플링 반응을 사용하여 수행될 수 있다. 이와 같은 한 커플링 반응은 본원에서 참고로 도입된 문헌[Colon et al., Journal of Polymer Science, Part A, Polymer Chemistry Edition, Vol. 28, p.367 (1990)] 및 문헌[Colon et al., Journal of Organic Chemistry, Vol.51, p. 2627 (1986)]에 기재되었다. 통상적으로 촉매 양의 니켈 염, 상당한 양의 트리페닐포스핀 및 과량의 아연 가루에 의해 극성 비양성자 용매(예를 들어, 디메틸아세트아미드)에서 상기 반응이 수행되었다. 상기 방법의 변형은 오르가노-가용성 요오다이드가 촉진제로서 사용되는 문헌[Ioyda et al., Bulletin of the Chemical Society of Japan, Vol. 63, p.80 (1990)]에 기재된다. 또 다른 니켈 촉매화 커플링 반응은 디할로방향족 화합물의 혼합물이 불활성 용매 중 과량의 니켈(1,5-시클로옥타디엔) 착화합물로 처리되는 문헌[Yamamoto, Progress in Polymer Science, Vol. 17, p. 1153 (1992)에 개시되었다. 2 종 이상의 방향족디할라이드의 반응물 혼합물에 적용될 경우 모든 니켈-촉매화 커플링 반응은 본질적으로 랜덤 공중합체를 생성한다. 이와 같은 중합 반응은 소량의 물을 중합 반응 혼합물에 첨가함으로써 종결되어 말단 할로겐 기가 수소기로 치환될 수 있다. 별법으로, 단일관능성 아릴 할라이드가 사슬-종결제로서 사용되어 말단 아릴기를 형성할 수 있다.
다른
공액
기를 포함한 공중합체
본 발명의 중합체는 바람직하게는 공액 불포화 기를 함유한다. "공액(conjugated) 기"는 단일 공유 결합으로 분리된, 2 개 이상의 이중결합, 삼중결합 및(또는) 방향족 고리를 함유한 잔기이다. 중합체 중 이와 같은 기의 혼입은 중합체의 흡광도, 이온화 에너지, 및(또는) 전자적 특성을 개질하는데 사용할 수 있다. 본원에서 사용하는 공액 불포화 기 함유 공단량체 중에 존재하는 바람직한 불포화 기는 불포화 헤테로시클릭 기, 예를 들어 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 옥사디아졸, 티아디아졸, 피라졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 트리아진, 테트라젠; 벤즈옥사졸, 벤조티아졸, 벤즈이미다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 시놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 프탈라진, 벤조티아디아졸, 벤조트리아진, 페나진, 페난트리딘, 아크리딘, 카르바졸, 및 디페닐렌 옥시드의 2가 유도체 및 히드로카본의 2가 유도체, 예를 들어 벤젠, 나프탈렌, 아세나프텐, 페난트렌, 안트라센, 플루오르안텐, 피렌, 루브렌, 및 크리센의 2가 유도체를 포함한다. 매우 바람직한 공중합성 공액 불포화 기는 9,9-이치환 플루오렌디일 기 및 트리아릴아민 기이다.
특히 스즈키 반응을 사용할 경우, 단량체의 공급 순서 및 조성을 통제함으로써 생성된 공중합체 중 단량체 단위의 서열을 조절할 수 있다. 예를 들어, 교대하는 디아릴아민-공단량체 올리고머에 연결된 주로 큰 폴리플루오렌디일 단일중합체의 블록을 포함한 고 분자량 공중합체는 시약, 즉 붕소 및 브롬 함유 시약의 전체 화학량론적 균형이 존재하는 한, 교대하는 플루오렌디일-공단량체 올리고머를 제조하는데 적합한 비율로 적합한 반응물을 반응에 먼저 도입하고 나머지 디아릴아민 단량체를 도입함으로써 제조될 수 있다.
본 발명의 공중합체 중에 추가로 혼입될 수 있는 디아릴아민 기의 예는 2 개의 반응성 치환체를 함유한 3차 방향족 아민이다. 이와 같은 화합물은 상응하는 트리아릴아민 잔기를 공중합체 중에 포함시킨다. 적합한 3차 방향족 아민의 예는 트리페닐 아민, 알킬디아릴 아민, N,N,N',N'-테트라페닐벤지딘 및 N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-페닐렌 디아민을 포함한다.
통상적으로, 60 개 이하의 탄소를 함유한 공중합성 공액 화합물이 본원의 목적에 유용하다. 이는 임의로 중합체 조성물의 발광성에 유해하지 않는 하나 이상의 치환체로 치환될 수 있다. 적합한 치환체의 예는 Cl-C20 히드로카르빌 라디칼, Cl-C20 (티오)알콕시 라디칼, Cl-C20 (티오)아릴옥시 라디칼, 시아노, 플루오로, 클로로, Cl-C20 알콕시카르보닐, Cl-C20 아릴옥실카르보닐, Cl-C20 카르복시 및 알킬(아릴)술포닐 라디칼을 포함한다. 아릴카르보닐 및 니트로 기와 같이 공지된 발광성 켄쳐(quencher)인 치환체는 바람직하지 않으며 피해야만 한다.
중합체
블렌드
본원의 올리고머 및 중합체는 2 종 이상의 중합체의 블렌드를 형성하는데 사용될 수 있다. 목적하는 경우, 블렌드의 1 종 이상의 올리고머 또는 중합체는 발광 중합체일 수 있다. 블렌드는 적합하게는 폴리스티렌, 폴리부타디엔, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리(에틸렌 옥시드), 페녹시 수지, 폴리카르보네이트, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리이미드, 가교된 에폭시 수지, 가교된 페놀 수지, 가교된 아크릴레이트 수지, 및 가교된 우레탄 수지에서 선택된 1 종 이상의 중합체 물질로 구성된다. 상기 중합체의 예는 문헌[Preparative Methods of Polymer Chemistry, W. R. Sorenson and T. W. Campbell, Second Edition, Interscience Publishers (1968)]에서 확인될 수 있다. 가교된 중합체를 포함한 블렌드는 바람직하게는 비가교된 성분을 블렌딩하고 후에 동일 반응계에서 상기 성분을 가교함으로써 형성된다.
블렌드는 바람직하게는 2 종 이상의 발광 중합체를 포함하고 블렌드 내 한 중합체의 최대 방출 파장이 블렌드 내 적어도 하나의 다른 중합체의 최대 흡수 파장의 25 nm 이내이다. 매우 바람직하게는 블렌드는 각각 0.1 내지 99.9 및 99.9 내지 0.1 %의 범위로 본 발명에 각각 상응하는 2 종의 중합체의 혼합물을 포함한다.
중합체 응용
본 발명의 올리고머 및 중합체의 주요한 용도는 필름의 형성이다. 이와 같은 필름은 발광 또는 형광 코팅 및 사이층, 보호 코팅, 및 유기 발광 다이오드, 특히 중합체성 발광 다이오드, 광 전지, 조명, 광다이오드, 센서, 박막 트랜지스터, 및 다른 디바이스와 같은 전자 디바이스에서 정공 수송층을 제조하는데 사용될 수 있다. 코팅 또는 필름의 두께는 최종 용도에 의존한다. 통상적으로, 이와 같은 두께는 0.01 내지 200 마이크로미터일 수 있다. 형광 코팅으로서 사용되는 경우, 필름 두께는 바람직하게는 50 내지 200 마이크로미터이다. 전자 보호층으로서 사용되는 경우, 필름 두께는 바람직하게는 5 내지 20 마이크로미터이다. 중합체성 발광 다이오드의 층으로서 사용되는 경우, 필름 두께는 0.001 내지 2 마이크로미터이다. 본 발명의 올리고머 또는 중합체는 실질상 핀홀 및 다른 결함이 없는 필름을 형성한다. 이와 같은 필름은 스핀-코팅, 스프레이-코팅(잉크-젯 스프레이를 포함함), 딥(dip)-코팅 및 롤러-코팅을 비롯한 당업계에 잘 알려진 수단으로 제조될 수 있다. 이와 같은 코팅은 본원의 화합물, 올리고머, 또는 중합체를 포함한 조성물을 기판에 적용하고 통상적으로 가교 반응에 의해 필름이 형성되는 조건에 노출하는 방법에 의해, 제조된다. 필름을 형성하는 조건은 적용 기술 및 필름 형성 잔기의 반응성 말단 기에 따라 좌우된다. 바람직하게는, 용액은 본 발명의 올리고머 또는 중합체 0.1 내지 10 중량 % 및 나머지 용매를 함유한다. 박막의 경우, 조성물이 화합물, 올리고머 또는 중합체 0.5 내지 5.0 중량 %를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 이어서 바람직한 방법에 의해 적합한 기판에 적용되고 용매는 증발이 허용된다. 잔여 용매는 진공 및(또는) 열에 의해 제거될 수 있다. 용매가 저온 비등한다면, 예를 들어 0.1 내지 2 %의 낮은 용액 농도가 바람직하다. 용매가 고온 비등한다면, 예를 들어 3 내지 10 %의 높은 용액 농도가 바람직하다. 용매 제거 후, 코팅은 이어서 필요할 경우 필름을 경화시키는데 필요한 조건에 노출되어, 고 내용매성 및 고 내열성을 갖는 필름을 제조한다. 필름은 바람직하게는 두께가 실질적으로 균일하고 실질적으로 핀홀이 없다. 바람직하게는 100 ℃ 이상, 더 바람직하게는 150 ℃ 이상, 가장 바람직하게는 200 ℃ 이상의 온도에 노출될 경우 필름은 경화된다. 상기 필름은 바람직하게는 300 ℃ 이하의 온도에서 경화된다.
필름의 제조에서, 조성물은 추가로 가교 공정을 촉진하거나 개시하는데 적합한 촉매를 포함할 수 있다. 이와 같은 촉매는 당업계에서 잘 알려져 있으며 예를 들어, 에틸렌계 불포화 기를 갖는 물질의 경우 자유 라디칼 촉매가 사용될 수 있다. 말단 기로서 글리시딜 에테르를 갖는 아릴 잔기의 경우, 우레아 또는 이미다졸이 사용될 수 있다. 말단 잔기로서 글리시딜 에테르 치환 아릴 기를 갖는 플루오렌으로부터 필름의 제조에서, 물질은 가교를 촉진하는 통상적으로 공지된 경화제와 반응될 수 있다. 바람직한 경화제 중에는 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복시산 무수물(나드산 무수물), 및 말레산 무수물이 있다.
또 다른 바람직한 실시양태에서, 필름을 형성하기 전에 단량체 및 올리고머는 부분적으로 경화되거나 B-단계일 수 있다. 이러한 실시양태에서, 조성물은 반응성 물질의 일부는 경화하고 반응성 물질의 일부는 경화하지 않는 조건에 노출된다. 이는 조성물의 취급성을 개선시키는데 통상적으로 사용되어 필름의 제조를 용이하게 할 수 있다. 이와 같은 B-단계 물질은 그 후에 상기 개시된 수단에 의해 코팅을 제조하는데 사용될 수 있다. 바람직하게는, 반응성 잔기의 10 내지 50 %가 B-단계 동안 반응된다.
그러나 본 발명의 또 다른 측면은 본 발명의 중합체 필름을 포함하는 유기 전기발광(EL) 디바이스에 관한 것이다. 포지티브 바이어스가 디바이스에 적용되는 경우, 정공이 애노드로부터 유기 필름 중에 주입되고, 전자가 캐쏘드로부터 유기 필름 중에 주입되도록, 유기 EL 디바이스는 전형적으로 전기 접촉한 상태로 애노드 와 캐쏘드 사이에 위치된 유기 필름으로 구성된다. 정공과 전자의 후속 조합은 광자를 방출함으로써 기저 상태로 방사선 붕괴를 겪을 수 있는 익사이톤(exciton)을 생성할 수 있다. 사실상 애노드는 통상적으로 이의 고 전도도 및 투명도를 위해 사용된 인듐 및 주석의 혼성 산화물(ITO)이다. 유기 필름에 의해 방출된 광선이 관찰될 수 있도록 상기 혼성 산화물은 통상적으로 유리 또는 플라스틱과 같은 투명한 기판 상에 침착된다. 상기 유기 필름은 각각 별개의 기능 또는 목적을 위해 설계된 여러 개의 개별 층의 복합체일 수 있다. 정공은 애노드로부터 주입되기 때문에, 애노드에 인접한 층은 바람직하게는 정공 수송에 적합한 기능성을 갖는다. 유사하게, 캐쏘드에 인접한 층은 바람직하게는 전자 수송에 적합한 기능성을 갖는다. 다수의 예에서, 정공 또는 전자 수송 층은 또한 방출 층으로서 작용한다. 일부 예에서, 한 층은 정공 수송, 전자 수송, 및 발광의 조합된 기능을 수행한다. 통상적으로, 본 발명의 중합체를 포함하는 필름은 전자 디바이스에서 버퍼층 또는 정공 수송층으로서 작용한다. 이전의 중합체 필름 층에 더하여, 필요할 경우, 열적 증발에 의해 침착된 소분자의 필름은 전자 디바이스에 혼입될 수 있다. 유기 필름의 총 두께는 1000 nm 미만, 더 바람직하게는 500 nm 미만, 가장 바람직하게는 300 nm 미만인 것이 바람직하다. 본 발명의 한 실시양태는 유기 필름이 본 발명의 중합체 조성물의 하나 이상을 포함하는 EL 디바이스이다.
애노드로서 작용하는 ITO 표면은 통상적으로 수성 세정제 용액, 유기 용매 및(또는) UV 또는 플라즈마 발생 오존 처리에 의해 노출된 표면을 먼저 세정한 후 본 발명에 따른 필름으로 코팅될 수 있다. 필요한 경우 이는 또한 정공 주입을 촉진하도록 전도성 물질의 얇은 층에 의해 코팅될 수 있다. 적합한 전도성 물질은 구리 프탈로시아닌, 폴리아닐린 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시-티오펜)(PEDT)를 포함하며; 이 중 마지막 둘은 이의 전도성 형태에서 강한 유기산, 예를 들어 폴리(스티렌술폰산)으로 도핑하여 제조된다. 사용된 경우 전도층의 두께는 200 nm 미만; 더 바람직하게는 100 nm 미만인 것이 바람직하다.
본원의 화합물은 다층 디바이스에서 사이층 제조에 또는 다층 전자 디바이스, 특히 전기발광 디바이스에서 정공 수송층을 형성하는 화합물의 혼합물의 한 성분 또는 분리된 정공 수송층으로서 사용될 수 있다. 본 발명 이외의 정공-수송 중합체가 사용되는 경우에서, 폴리비닐카르바졸과 같은 공지된 정공-전도성 중합체가 사용되거나 미국 특허 제 5,728,801호 또는 제 5,929,194 호에서 개시된 중합체 아릴 아민이 사용될 수 있다. 이어서 적용될 공중합체 필름의 용액에 의한 부식에 대해 상기 층의 저항성은 명백하게 다-층 디바이스의 성공적인 제조에 중요하다. 따라서 본 발명의 공중합체는 통상적으로 정공-수송층이 불용성이 되는 크실렌 또는 톨루엔과 같은 유기 용매 중 용액으로 적용된다. 본 발명에 따른 가교 중합체를 포함한 사이층으로 정공-수송 중합체를 피복 또는 보호함으로써, 정공-수송 중합체는 전자 디바이스의 제조에서 사용된 후속 시약 또는 용매로부터 보호될 수 있다. 본 발명에 따른 정공-수송층 또는 사이층의 두께는 바람직하게는 500 nm 이하, 더 바람직하게는 300 nm 이하, 가장 바람직하게는 150 nm 이하이다.
임의의 이전에 침착된 필름 층을 유의하게 손상시키지 않는 용매를 사용하여, 적합한 전자 수송층은, 사용된다면, 저 분자량 물질의 열적 증발 또는 본 발명에 따른 중합체와 같은 중합체 용액 코팅에 의해 적용될 수 있다. 전자 수송층 형성에 통상적으로 사용된 저 분자량의 물질의 예는 8-히드록시 퀴놀린의 금속 착화합물(문헌 [Burrows et al., Applied Physics Letters, Vol. 64, pp.2718-2720 (1994)]에 기재됨), 10-히드록시벤조(h)퀴놀린의 금속 착화합물(문헌[Hamada et al., Chemistry Letters, pp. 906-906 (1993)]에서 기재됨), 1,3,4-옥사디아졸(문헌[Hamada et al., Optoelectronics - Devices and Technologies, Vol. 7, pp.83-93 (1992)]에 기재됨) 및 페릴렌의 디카르복스이미드(문헌[Yoshida et al., Applied Physics Letters, Vol. 69, pp. 734-736 (1996)]에 기재됨)를 포함한다.
본 발명의 것에 추가로 중합체 전자-수송 물질은 1,3,4-옥사디아졸-함유 중합체(문헌[Li et al., Journal of Chemical Society, pp. 2211-2212 (1995)] 및 문헌[Yang and Pei, Journal of Applied Physics, Vol 77, pp. 4807-4809 (1995)]에 기재됨), 1,3,4-트리아졸-함유 중합체(문헌[Strukelj et al., Science, Vol. 267, pp. 1969-1972 (1995)]에 기재됨), 퀴녹살린-함유 중합체(문헌[Yamamoto et al., Japan Journal of Applied Physics, Vol. 33, pp. L250-L253 (1994), O'Brien et al., Synthetic Metals, Vol. 76, pp. 105-108 (1996)]에 기재됨) 및 시아노-PPV(문헌[Weaver et al., Thin Solid Films, Vol. 273, pp. 39-47 (1996)]에 기재됨)으로 예시된다. 상기 층의 두께는 500 nm 이하, 바람직하게는 300 nm 이하, 가장 바람직하게는 150 nm 이하일 수 있다.
전자 디바이스에서 최종 층은 통상적으로 임의의 전도성 물질, 바람직하게는 금속으로 형성될 수 있는 캐쏘드이다. 적합한 금속의 예는 리튬, 칼슘, 마그네슘, 인듐, 은, 알루미늄, 또는 상기의 블렌드 및 합금이다. 공지된 기술에 따라서, 금속성 캐쏘드는 열적 증발 또는 스퍼터링(sputtering)에 의해 침착될 수 있다. 캐쏘드의 두께는 100 nm 내지 10,000 nm일 수 있다. 바람직한 금속은 칼슘, 마그네슘, 인듐, 및 알루미늄이다. 이들 금속의 합금이 사용될 수도 있다. 1 내지 5 %의 리튬을 함유한 알루미늄 합금 및 80 % 이상의 마그네슘을 함유한 마그네슘 합금이 매우 바람직하다.
본 발명의 EL 디바이스는 50 볼트 이하의 전압 인가시 3.5 Cd/A만큼 높은 발광 효율로 광선을 방출한다. 바람직할 경우, 캡슐화 또는 보호 코팅이 완성된 디바이스의 하나 이상의 노출된 표면에 적용될 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 전기발광 디바이스는 애노드 물질과 캐쏘드 물질 사이에 배치되며 하나 이상은 본 발명의 중합체로 구성된 하나 이상의 정공-수송 중합체 필름 및 발광 중합체 필름을 포함하여, 디바이스가 정(forward) 바이어스될 경우 적용된 전압 하에서, 정공이 애노드 물질로부터 정공-수송 중합체 필름 중에 주입되고 전자가 캐쏘드 물질로부터 발광 중합체 필름 중에 주입되어 발광층에서 발광을 일으킨다. 또 다른 바람직한 실시양태에서, 애노드에 가장 가까운 층일수록 더 낮은 산화 전위를 가지며 인접한 층들은 점진적으로 더 높은 산화 전위를 가지도록 정공-수송 중합체의 층이 배치된다. 이 방법에 의해, 단위 전압 당 비교적 높은 광 출력을 갖는 전기발광 디바이스가 제조될 수 있다.
본원에서 사용된 용어 "정공-수송 중합체 필름"은 장(field)이 적용되고 애노드로부터 정공이 주입되는 2 개의 전극 사이에 배치된 경우에 방출 중합체로 정공의 적합한 수송을 허용하는 중합체의 필름 층이다. 본원에서 사용된 용어 "발광 중합체 필름"은 바람직하게는 가시광선 범위의 파장에 상응하게 광자를 방출하여 여기 상태를 기저 상태로 완화시킬 수 있는 중합체 필름 층이다. 용어 "애노드 물질"은 4.5 전자 볼트(eV)와 5.5 eV 사이의 일 함수를 갖는 반-투명 또는 투명, 전도성 필름이다. 금과 인듐 및 주석의 산화물 및 혼성 산화물이 일례이다. 본원에서 사용된 용어 "캐쏘드 물질"은 바람직하게는 2.5 eV 와 4.5 eV 사이의 일 함수를 갖는 전도성 필름이다.
본 발명의 실시양태 중 임의의 하나에 있어서 바람직한, 더 바람직한, 매우 바람직한, 또는 가장 바람직한 치환체, 범위, 최종 용도, 방법 또는 조합은 또한 임의의 다른 구체적인 치환체, 범위, 용도 또는 조합의 종류와 무관하게, 본원의 상기 또는 후속 임의의 다른 실시양태에 적용된다고 명시적으로 의도된다.
본 발명의 후속 구체적인 실시양태는 특히 바람직하고 첨부한 청구 범위를 위한 상세한 개시를 제공하기 위해 열거된다.
1. 하기 화학식 I의 아릴아민 화합물:
<화학식 I>
Z-(Ar-NX)n-Ar-(NX-Ar)n'-Z
여기서,
Ar은 각각 독립적으로 하나 이상의 2가 방향족 기를 포함하는 기이고, 임의로 단일 NX 기에 의해 분리된 2 개의 Ar 기는 제 2 공유 결합 또는 연결기에 의해 연결되어 융합 다중 고리계를 형성할 수 있고;
X는 불활성 치환체 또는 가교성 기이되, 단 상기 화합물의 하나 이상의 경우에서 X는 가교성 기이고;
Z는 각각 독립적으로 수소 또는 이탈기이고;
n은 1 또는 2이며;
n'은 0, 1 또는 2이다.
2. 실시양태 1에 있어서, 하나 이상의 경우에서 X는 이중결합, 삼중결합, 동일 반응계에서 이중결합을 형성할 수 있는 전구물질, 또는 헤테로시클릭, 부가 중합성 기를 함유한 잔기인 화합물.
3. 실시양태 1에 있어서, 하나 이상의 경우에서 X가 벤조시클로부타닐 기 및 벤조시클로부탄, 아지드, 옥시란, 디(히드로카르빌)아미노, 시아네이트 에스테르, 히드록시, 글리시딜 에테르, C1 -4 알킬아크릴레이트, C1 -4 알킬메타크릴레이트, 에테닐, 에테닐옥시, 퍼플루오로에테닐옥시, 에티닐, 말레이미드, 나드이미드, 트리(C1 -4)-알킬실록시, 트리(C1-4)알킬실릴, 및 이들의 할로겐화 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환체를 함유한 치환된 C6 -12 아릴렌 기로 이루어진 군에서 선택되는 화합물.
4. 실시양태 1에 있어서, 하나 이상의 경우에서 X가 1-벤조-3,4-시클로부탄 또는 4-페닐-l- (벤조-3,4-시클로부탄)인 화합물.
여기서, R1이 각각 독립적으로 수소 또는 C1 - 10알킬 기이고, R2는 각각 독립적으로 C2 - 10알킬렌 기이다.
6. 실시양태 1에 있어서, Ar이 각각 페닐렌, 9,9-디(C1-20알킬)플루오레닐, 또는 이들의 조합이고; X는 3,4-벤조시클로부탄-1-일, 에테닐 또는 p-에테닐페닐이고; Z가 브롬 또는 수소이고; n이 1 또는 2이고; n'이 0 또는 1인 화합물.
7. 실시양태 6에 있어서, Ar이 각각 페닐렌이고; 각 X 기가 3,4-벤조시클로부탄-1-일이고; Z가 각각 브롬이고; n이 1 또는 2이고; n'이 0인 화합물.
8. 실시양태 7에 있어서, n이 1인 화합물.
9. 실시양태 1에 있어서, 하기 화학식을 갖는 화합물:
여기서, Y는 공유결합, O, S 또는 NR이며;
R은 각 경우에 독립적으로 i) 수소; ii) 할로겐; iii) C1 -20 히드로카르빌 기; iv) 수소를 계수하지 않고 20개 이하의 원자를 함유한 하나 이상의 헤테로원자 함유 기(여기서, 헤테로원자는 S, N, O, P, B 또는 Si로부터 선택됨)로 치환된 히드로카르빌 기; v) (iii) 또는 (iv)의 할로겐화 유도체; 또는 vi) 치환체가 가교성 X 기인 (iii) 또는 (iv)의 치환된 유도체이고;
n, n', X, 및 Z는 앞서 정의된 바와 같다.
10. 하기 화학식 Ia의 하나 이상의 반복 단위를 갖는 올리고머 또는 중합체:
<화학식 Ia>
Z'-(Ar-NX')n-Ar-(NX'-Ar)n'-Z'
여기서, X'는 X 또는 가교성 X 기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기이고;
Z'는 Z, 공유 결합, 또는 이탈기의 치환 또는 반응으로 형성되는 말단 기이며;
Ar은 각각 독립적으로 2가 방향족 기이고, 임의로 단일 NX 기에 의해 분리된 2 개의 Ar 기는 제 2 공유 결합 또는 연결기에 의해 연결되어 융합 다중 고리계를 형성할 수 있고;
X는 불활성 치환체이되, 단 상기 화합물의 하나 이상의 경우에서 X는 가교성 기이고;
Z는 각각 독립적으로 수소 또는 이탈기이고;
n은 1 또는 2이며;
n'은 0, 1 또는 2이다.
11. 실시양태 10에 있어서, 하기 화학식의 하나 이상의 반복 단위 Ia를 갖는 올리고머 또는 중합체:
여기서 X'는 X 또는 가교성 X 기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기이고;
X는 불활성 치환체 또는 가교 관능기를 형성할 수 있는 기이고;
Y는 O, S 또는 NR이고;
R은 각 경우에 독립적으로 i) 수소; ii) 할로겐; iii) C1 -20 히드로카르빌 기; iv) 수소를 계수하지 않고 20개 이하의 원자를 함유한 하나 이상의 헤테로원자 함유 기(여기서 헤테로원자는 S, N, O, P, B 또는 Si로부터 선택됨)로 치환된 히드로카르빌 기; v) (iii) 또는 (iv)의 할로겐화 유도체; 또는 vi) 치환체가 가교성 X 기인 (iii) 또는 (iv)의 치환된 유도체이고;
Z'는 Z, 공유결합 또는 이탈기의 치환 또는 반응에 의해 형성되는 말단 기이고;
n은 1 또는 2이고;
n'는 0, 1 또는 2이다.
12. 실시양태 10 또는 실시양태 11에 있어서, 하나 이상의 경우에서 X'가 가교성 X기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기인 가교 중합체.
13. 실시양태 12에 있어서, X'가 공액 불포화 기를 포함하는 가교 중합체.
14. 올리고머 또는 중합체를 형성하기에 충분한 반응 조건 하에, 실시양태 1에 따른 화합물을 포함하는 조성물을 가열하는 것을 포함하는, 실시양태 10에 따른 올리고머 또는 중합체 제조 방법.
15. 실시양태 10에 따른 또는 실시양태 14에 따라 제조가능한 1 종 이상의 올리고머 또는 중합체를 포함하는 필름.
16. 하나 이상의 중합체 필름 층이 실시양태 15에 따른 필름을 포함한 하나 이상의 중합체 필름 층을 포함하는 전자 디바이스.
본 발명의 화합물은 비교적 다량의 공액 불포화 기를 함유한 올리고머 및 중합체를 형성할 수 있으므로 전자 수송성이 향상된다. 본 발명의 화합물, 상기 화합물을 포함하는 조성물을 가교시켜 생성된 공중합체를 비롯한 올리고머 및 중합체는 전자 디바이스에서 사이층을 형성하는데 사용된 경우 특히 효율적인 정공 주입/수송 또는 전자 차단 특성을 지니고, 유익하게 감소된 이온화 에너지 및 향상된 전도도를 특징으로 함이 발견되었다. 게다가, 상기 화합물은 LED와 같은 전자 디바이스에서 사이층으로 사용하기에 매우 적합한 가교된 내용매성 필름을 형성할 수 있다.
도 1은 실시예 6의 발광 디바이스의 전기적 특성을 포함한다.
도 2 및 도 3은 실시예 3A 화합물의 DSC 스캔이다.
도 2 및 도 3은 실시예 3A 화합물의 DSC 스캔이다.
하기 실시예는 설명적 목적만을 위해서 포함되고 의도적으로 청구 범위를 제한하지 않는다. 다르게 기재되지 않는다면, 내용에서 암시적이고 당업계에서 통상적인 본원의 모든 부분 및 퍼센트는 중량을 기준으로 한다. 본 발명이 특히 개시되지 않은 임의 성분의 부재 하에서 실시가능하다는 것이 이해되어야 한다. 용어 "밤새"는, 사용되는 경우, 약 16 내지 18 시간의 시간이고 "실온"은, 사용된 경우, 약 20 내지 25 ℃의 온도이다.
하기 반응식 1은 가교성 벤조시클로부탄 기를 갖는 트리아릴 아민 화합물의 제조 및 가교성 공액 디아릴 아민 관능기 5 몰 % 및 비 가교성 디아릴아민 관능성 단위 95 몰 %를 함유하는 본 발명에 따른 가교성 아민 공중합체를 제조하는 중합 반응에서 이의 용도를 개시한다.
[반응식 1]
여기서, F8BE는 2,7-비스(1,3,2-디옥시보롤)-9,9-디(1-옥틸)플루오렌이고 TFB는 N,N-디(p-브로모페닐)-N-(4-(부탄-2-일)페닐)아민이다.
실시예
1
A) 디페닐 벤조시클로부탄 아민 (1)의 합성
기계식 교반기, 질소 주입구, 및 환류 응축기 (질소 출구)가 장치된 500 ml, 3-목 둥근 바닥 플라스크에, 팔라듐(II) 아세테이트(196 mg, 1.20 mmol) 및 트리(o-톨릴)포스핀(731 mg, 2.40 mmol)을 100 ml 톨루엔 중에 첨가하였다. 팔라듐 촉매가 용해되어 용액이 황변할 때까지 질소 하에서 실온으로 혼합물을 교반하였다. 디페닐 아민(20.0 g, 118 mmol), 브로모 벤조시클로부탄(23.8 g, 130 mmol) 및 400 ml 톨루엔을 첨가하고 이어서 나트륨 t-부톡시드(22.8 g, 237 mmol)를 첨가하였다. 나트륨 t-부톡시드의 첨가시 반응물은 흑색으로 변하였다. 질소 하에서 22 시간 동안 반응물을 환류 가열하였다. 수성 1 M HCl 30 ml의 첨가에 의해 반응을 켄칭하였다. 2M Na2C03(100 ml)로 톨루엔 층을 세척하고 이어서 염기성 알루미나를 통해 톨루엔 용액을 통과시켰다. 톨루엔을 증발시켜 황색 오일을 수득하였다. 이소프로판올과 함께 오일을 교반하여 생성물을 침전시켰다. 고체를 수집하고 고온 이소프로판올에서 재결정화시켰다.
B) 디(4-브로모페닐) 벤조시클로부탄 아민 (2)의 합성
250 ml 둥근 바닥 플라스크에서, 디페닐 벤조시클로부탄 아민(8.00 g, 29.5 mmol)을 빙초산 5 방울을 함유한 디메틸포름아미드(DMF) 100 ml에 첨가하였다. 교반 용액에, N-브로모숙신이미드(NBS, 10.5 g, 60.7 mmol, 1.97 당량)를 첨가하였다. 5 시간 동안 교반한 후, 메탄올/물(1:1 부피비) 600 ml 중에 반응 혼합물을 부어서 반응을 켄칭시켰다. 여과에 의해 회색 고체를 회수하고 이소프로판올에서 재결정화시켰다.
실시예
2
A) BCB 함유 플루오렌/트리아릴 아민 중합체 (P1)의 합성
환류 응축기 및 오버헤드 교반기가 장치된 1-리터, 3-목 둥근 바닥 플라스크에, 하기 단량체를 첨가하였다: F8BE(3.863 g, 7.283 mmol), TFB(3.177 g, 6.919 mmol), 및 화합물 2(156.3 mg, 0.364 mmol). 4차 암모늄 클로라이드 촉매(시그마-알드리치 코어포레이션(Sigma-Aldrich Corporation)에 의해 시판되는 알리쿼트(상표명) 336, 3.1 ml)의 0.74 M 톨루엔 용액을 첨가하고 50 ml 톨루엔을 첨가하였다. PdCl2(PPh3)2 촉매(4.9 mg)의 첨가 후, 모든 단량체가 용해될 때까지(약 15 분) 오일 중탕(105 ℃)에서 혼합물을 교반하였다. 나트륨 카르보네이트의 수용액(2.0 M, 14 ml)을 첨가하고 오일 중탕(105 ℃)에서 16.5 시간 동안 반응물을 교반하였다. 이어서 페닐보론산(0.5 g)을 첨가하고 7 시간 동안 반응물을 교반하였다. 수성 층을 제거하고 유기 층을 50 ml의 물로 세척하였다. 유기 층을 반응 플라스크에 배치하고, 나트륨 디에틸디티오카르바메이트 0.75 g 및 물 50 ml을 첨가하였다. 오일 중탕 (85 ℃)에서 16 시간 동안 반응물을 교반하였다. 수성 층을 제거하고 유기 층을 물(3 x 100 ml)로 세척하며, 이어서 실리카 겔 및 염기성 알루미나 컬럼을 통해 통과시켰다. 이어서 톨루엔/중합체 용액을 메탄올(2 번) 중에서 침전시키고, 진공 하에서 60 ℃로 중합체를 건조하였다. 수율 = 4.2 g(82 %) Mw = 124,000; Mw/Mn = 2.8
실시예
3
반응식 2는 가교성 벤조시클로부탄 기에 의한 페닐렌디아민 단량체의 합성, 및 공액 가교를 달성할 수 있는 가교성 잔기 5 몰 %를 함유하는 플루오렌/아민 공중합체를 제조하는데 사용된 중합 반응을 제시한다.
[반응식 2]
A) N,N'-디페닐-N,N'-디벤조시클로부탄-1,4-페닐렌디아민 (3)의 합성
기계식 교반기, 질소 주입구, 및 환류 응축기(질소 출구)가 장치된 500 ml, 3-목 둥근 바닥 플라스크에, 팔라듐(II) 아세테이트(173 mg, 0.80 mmol) 및 트리(o-토릴)포스핀(486 mg, 1.60 mmol)을 톨루엔 50 ml에 첨가하였다. 팔라듐 촉매가 용해되어 용액이 황변할 때까지 질소 하에서 실온에서 혼합물을 교반하였다. N,N'-디페닐-1,4-페닐렌디아민(10.0 g, 38.4 mmol), 브로모벤조시클로부탄(15.5 g, 76.8 mmol) 및 톨루엔 200 ml을 첨가하고, 이어서 나트륨 t-부톡시드(7.37 g, 76.8 mmol)를 첨가하였다. 나트륨 t-부톡시드의 첨가시, 반응물은 흑색으로 변하였다. 질소 하에서 22 시간 동안 반응물을 환류 가열하였다. 수성 1 M HCl 30 ml의 첨가에 의해 반응물을 켄칭시켰다. 톨루엔 용액을 염기성 알루미나에 통과시키고 톨루엔/헥산/메탄올 혼합물에서 재결정화시켜 조 생성물을 정제하였다. 수율 = 9.43 g (53 %).
B) 디(4-브로모페닐)벤조시클로부탄 아민 (4)의 합성
500 ml 둥근 바닥 플라스크에서, DMF 200 ml 및 빙초산 5 방울을 함유하는 THF 150 mL에 화합물 3(7.42 g, 16.0 mmol)을 첨가하였다. 교반 용액에, N-브로모숙신이미드(NBS, 5.57 g, 31.5 mmol)을 첨가하였다. 18 시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물로부터 생성물을 침전시켰다. 여과로 생성물을 수집하고 톨루엔에서 3 차례 재결정화시켰다. 수율 = 4.44 g(45 %).
실시예
4
BCB 함유 플루오렌/페닐렌디아민 중합체 (P2)의 합성
환류 응축기 및 오버헤드 교반기가 장치된 250 mL, 3-목 둥근 바닥 플라스크에, 하기 단량체를 첨가하였다: F8BE(2.922 g, 5.504 mmol), PFB(3.583 g, 5.229 mmol), 화합물 4(175 mg, 0.275 mmol), 알리쿼트TM 336 (시그마-알드리치 코어포레이션(Sigma-Aldrich Corporation)에 의해 시판됨, 0.8 g), 및 톨루엔(50 mL). PdCl2(PPh3)2 촉매(3.8 mg)의 첨가 후, 모든 단량체가 용해될 때까지(약 15 분) 오일 중탕(105 ℃)에서 혼합물을 교반하였다. 나트륨 카르보네이트의 수용액(2.0 M, 12 ml)을 첨가하고 22 시간 동안 오일 중탕(105 ℃)에서 가열하는 동안 반응물을 교반하였다. 이어서 페닐보론산(0.5 g)을 첨가하고 24 시간 동안 반응물을 교반하였다. 수성 층을 제거하고 유기 층을 물(50 ml)로 세척하였다. 유기 층을 반응 플라스크에 배치하고 나트륨 디에틸디티오카르바메이트 0.75 g 및 물 50 ml을 첨가하였다. 오일 중탕(85 ℃)에서 16 시간 동안 반응물을 교반하였다. 수성 층을 제거하고 유기 층을 물(3 x 100 ml)로 세척하며, 이어서 실리카 겔 및 염기성 알루미나를 통해 통과시켰다. 이어서 메탄올(2 번)에서 톨루엔/중합체 용액을 침전시키고 진공 하에서 60 ℃로 중합체를 건조하였다. 수율 = 3.9 g(78 %) Mw = 61,348; Mw/Mn = 2.8
실시예
5
가교 필름
A) 혼합된 크실렌 4 ml 중에서 실시예 2 및 4의 가교성 단량체를 용해시켰다. 밤새 실온에서 용액을 혼합하고 이어서 0.45 ㎛ 나일론 시린지(syringe) 필터를 통해 여과하였다. 세정된 유리 기판 상에, 각 용액을 4000 rpm에서 스핀-코팅하여 약 80 nm 두께의 경화 필름을 침착시켰다. 이어서 질소-충전 오븐에서 30 분 동안 250 ℃로 필름을 가열하여 필름을 가교시켰다. 필름의 UV-Vis 흡광 스펙트럼을 측정하였다. 이어서 톨루엔으로 필름을 세척하고, 세척하고 건조하고 흡광 스펙트럼을 재측정하였다. 최종적으로, 30분 동안 톨루엔에 필름을 담그고, 세척하고 건조하고 흡광 스펙트럼을 재측정하였다. 경화 필름이 톨루엔에 노출시 본질적으로는 영향받지 않음을 나타내는, 흡광 스펙트럼에서 약간의 변화량만이 관찰되었다.
B) 가교성 단량체 N,N'-디페닐-N,N'-디벤조시클로부탄-1,4-페닐렌디아민 (실시예 3A)의 샘플 16.0 mg을 시차 주사열량측정법(DSC)에 의해 분석하였다. 25 ℃에 시작하여 325 ℃까지 초기 가열 속도는 5 ℃/분이었다. 제 1 가열에서, (도 2) 화합물의 융점은 126 ℃에서 나타나고 펜단트 벤조시클로부탄 기 사이의 가교 반응 때문에 246 ℃에서 피크 최대값과 함께 큰 발열반응(exotherm)이 관찰되었다. 후속 가열(도 3)은 안정한 가교 물질의 형성이 이루어졌음을 나타내는, 융점 및 가교 발열반응의 소멸을 나타내었다.
실시예
6
사이층으로서 가교 및 비가교 필름을 사용한 발광 디바이스
80 nm의 두께로 세정된 ITO 기판 상에서 통상적인 정공 수송층 중합체(시그마-알드리치 코어포레이션에 의해 시판된 베이트론(Baytron) PTM)를 스핀 코팅하고 15 분 동안 200 ℃로 공기 중 경화시켰다. 실시예 2의 가교성 중합체의 충전제 층을 크실렌(0.5 % w/v)으로부터 유사하게 침착하고 질소 대기에서 30 분 동안 250 ℃로 경화(가교)시켰다. 다음, 미국 특허 제 6,353,083호의 교시에 따라 실질적으로 제조된 발광 중합체를 크실렌(1.5 % w/v) 중 용액으로부터 스핀 코팅하고 130 ℃로 경화시켰다. 생성된 중합체 필름 위로 캐쏘드 금속(Ca, 10 nm 및 Al, 150 nm)을 증착시켰다.
상기 방법이 사이층을 갖지 않은 발광 다이오드(비교예)를 제조하기 위해 실질적으로 반복되고 건조되지만 사이층은 비경화(비가교)되었다. 이어서 발광 다이오드의 전기발광 특성이 시험되었다. 결과는 도 1에 기록되었다.
Claims (5)
- 하기 화학식 Ia의 하나 이상의 반복 단위를 갖는 올리고머 또는 중합체를 포함하는 정공 수송층용 조성물:
<화학식 Ia>
Z'-(Ar-NX')n-Ar-(NX'-Ar)n'-Z'
상기 식에서, X'는 X 또는 가교성 X 기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기이고;
Z'는 공유 결합이며;
Ar은 각각 독립적으로 2가 방향족 기이고, 임의로 단일 NX 기에 의해 분리된 2 개의 Ar 기는 제 2 공유 결합, 또는 O, S, 또는 NR로부터 선택된 연결기에 의해 연결되어 융합 다중 고리계를 형성할 수 있고;
R은 각 경우에 독립적으로 i) 수소; ii) 할로겐; iii) C1-20 히드로카르빌 기; iv) 수소를 계수하지 않고 20개 이하의 원자를 함유한 하나 이상의 헤테로원자 함유 기(여기서 헤테로원자는 S, N, O, P, B 또는 Si로부터 선택됨)로 치환된 히드로카르빌 기; v) (iii) 또는 (iv)의 할로겐화 유도체; 또는 vi) 치환체가 가교성 X 기인 (iii) 또는 (iv)의 치환된 유도체이고;
X는 Cl -20 히드로카르빌 및 할로겐화 C1 -20 히드로카르빌 기로부터 선택되는 불활성 치환체, 또는 벤조시클로부타닐 기, 및 벤조시클로부탄, 아지드, 옥시란, 디(히드로카르빌)아미노, 시아네이트 에스테르, 히드록시, 글리시딜 에테르, C1 -10 알킬아크릴레이트, C1 -10 알킬메타크릴레이트, 에테닐, 에테닐옥시, 퍼플루오로에테닐옥시, 에티닐, 말레이미드, 나드이미드, 트리(C1 -4)-알킬실록시, 트리(C1-4)알킬실릴, 및 이들의 할로겐화 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환체를 함유한 치환된 C6 -12 아릴렌 기로 이루어진 군으로부터 선택된 가교성 기이되, 단 상기 화합물의 하나 이상의 경우에서 X는 가교성 기이고;
n은 1 또는 2이며;
n'은 0, 1 또는 2이다. - 제1항에 있어서, 상기 올리고머 또는 중합체가 하기 화학식의 하나 이상의 반복 단위 Ia를 갖는 것인 정공 수송층용 조성물:
상기 식에서, X'는 X 또는 가교성 X 기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기이고;
X는 Cl -20 히드로카르빌 및 할로겐화 C1 -20 히드로카르빌 기로부터 선택되는 불활성 치환체, 또는 벤조시클로부타닐 기, 및 벤조시클로부탄, 아지드, 옥시란, 디(히드로카르빌)아미노, 시아네이트 에스테르, 히드록시, 글리시딜 에테르, C1 -10 알킬아크릴레이트, C1 -10 알킬메타크릴레이트, 에테닐, 에테닐옥시, 퍼플루오로에테닐옥시, 에티닐, 말레이미드, 나드이미드, 트리(C1 -4)-알킬실록시, 트리(C1-4)알킬실릴, 및 이들의 할로겐화 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환체를 함유한 치환된 C6 -12 아릴렌 기로 이루어진 군으로부터 선택된 가교성 기이고;
Y는 O, S 또는 NR이고;
R은 각 경우에 독립적으로 i) 수소; ii) 할로겐; iii) C1 -20 히드로카르빌 기; iv) 수소를 계수하지 않고 20개 이하의 원자를 함유한 하나 이상의 헤테로원자 함유 기(여기서 헤테로원자는 S, N, O, P, B 또는 Si로부터 선택됨)로 치환된 히드로카르빌 기; v) (iii) 또는 (iv)의 할로겐화 유도체; 또는 vi) 치환체가 가교성 X 기인 (iii) 또는 (iv)의 치환된 유도체이고;
Z'는 공유결합이고;
n은 1 또는 2이고;
n'는 0, 1 또는 2이다. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 올리고머 또는 중합체가 가교 중합체이고, 하나 이상의 경우에서 X'가 가교성 X기의 부가 중합반응에 의해 형성된 2가 가교 잔기인 정공 수송층용 조성물.
- 제3항에 있어서, X'가 공액 불포화 기를 포함하는 것인 정공 수송층용 조성물.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 올리고머 또는 중합체 0.1 내지 10 중량 %를 포함하는 정공 수송층용 조성물.
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