KR102668445B1 - 소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법 - Google Patents

소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102668445B1
KR102668445B1 KR1020227001418A KR20227001418A KR102668445B1 KR 102668445 B1 KR102668445 B1 KR 102668445B1 KR 1020227001418 A KR1020227001418 A KR 1020227001418A KR 20227001418 A KR20227001418 A KR 20227001418A KR 102668445 B1 KR102668445 B1 KR 102668445B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
memory cells
group
erase
seconds
erasing
Prior art date
Application number
KR1020227001418A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20220019820A (ko
Inventor
빅토르 마르코프
알렉산데르 코토프
Original Assignee
실리콘 스토리지 테크놀로지 인크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 실리콘 스토리지 테크놀로지 인크 filed Critical 실리콘 스토리지 테크놀로지 인크
Publication of KR20220019820A publication Critical patent/KR20220019820A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102668445B1 publication Critical patent/KR102668445B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0408Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
    • G11C16/0425Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors comprising cells containing a merged floating gate and select transistor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • G11C16/16Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3404Convergence or correction of memory cell threshold voltages; Repair or recovery of overerased or overprogrammed cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3418Disturbance prevention or evaluation; Refreshing of disturbed memory data
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/3468Prevention of overerasure or overprogramming, e.g. by verifying whilst erasing or writing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/349Arrangements for evaluating degradation, retention or wearout, e.g. by counting erase cycles
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/06Acceleration testing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/44Indication or identification of errors, e.g. for repair
    • G11C29/4401Indication or identification of errors, e.g. for repair for self repair
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C29/50004Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing of threshold voltage
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C29/50016Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing of retention
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/30Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
    • H10B41/35Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region with a cell select transistor, e.g. NAND
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/40Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the peripheral circuit region
    • H10B41/41Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the peripheral circuit region of a memory region comprising a cell select transistor, e.g. NAND
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F12/00Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
    • G06F12/02Addressing or allocation; Relocation
    • G06F12/0223User address space allocation, e.g. contiguous or non contiguous base addressing
    • G06F12/023Free address space management
    • G06F12/0238Memory management in non-volatile memory, e.g. resistive RAM or ferroelectric memory
    • G06F12/0246Memory management in non-volatile memory, e.g. resistive RAM or ferroelectric memory in block erasable memory, e.g. flash memory
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2212/00Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
    • G06F2212/72Details relating to flash memory management
    • G06F2212/7206Reconfiguration of flash memory system
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2212/00Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
    • G06F2212/72Details relating to flash memory management
    • G06F2212/7208Multiple device management, e.g. distributing data over multiple flash devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5621Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
    • G11C11/5628Programming or writing circuits; Data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5621Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using charge storage in a floating gate
    • G11C11/5642Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0408Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors
    • G11C16/0433Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells containing floating gate transistors comprising cells containing a single floating gate transistor and one or more separate select transistors
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure
    • G11C16/3454Arrangements for verifying correct programming or for detecting overprogrammed cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C2029/0403Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals during or with feedback to manufacture
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C2029/0405Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals comprising complete test loop
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C2029/0409Online test
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C2029/4402Internal storage of test result, quality data, chip identification, repair information
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C2029/5002Characteristic
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C2029/5004Voltage
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C2029/5006Current
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/24Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/42312Gate electrodes for field effect devices
    • H01L29/42316Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
    • H01L29/4232Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
    • H01L29/42324Gate electrodes for transistors with a floating gate
    • H01L29/42328Gate electrodes for transistors with a floating gate with at least one additional gate other than the floating gate and the control gate, e.g. program gate, erase gate or select gate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Abstract

비휘발성 메모리 셀들 및 컨트롤러를 갖는 메모리 디바이스. 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제1 커맨드에 응답하여, 컨트롤러는 제1 그룹이 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하고, 제1 그룹을 소거하고, 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 제1 그룹을 프로그래밍한다. 메모리 셀들의 제2 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제2 커맨드에 응답하여, 컨트롤러는 제2 그룹이 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하고, 제2 그룹을 메모리 셀들의 서브그룹들로 분할하고 - 서브그룹들 각각은 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있음 -, 서브그룹들 각각에 대해, 서브그룹을 소거하고 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 서브그룹을 프로그래밍한다.

Description

소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
관련 출원
본 출원은 2019년 9월 3일자로 출원된 미국 가출원 제62/895,458호, 및 2020년 2월 27일자로 출원된 미국 특허 출원 제16/803,418호의 이익을 주장한다.
기술분야
본 발명은 비휘발성 메모리 디바이스들에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 판독 동작들 동안 메모리 셀 전류의 안정성을 개선하는 것에 관한 것이다.
비휘발성 메모리 디바이스들이 본 기술 분야에 잘 알려져 있다. 예를 들어 4-게이트 메모리 셀 구성을 개시하는 미국 특허 제7,868,375호를 참조한다. 구체적으로, 본 출원의 도 1은 이격된 소스 및 드레인 영역들(14/16)이 실리콘 반도체 기판(12) 내에 형성된 분리형 게이트 메모리 셀(10)을 예시한다. 소스 영역(14)은 소스 라인(SL)으로 지칭될 수 있고(그 이유는 그것이 일반적으로 동일한 로우(row) 또는 컬럼(column) 내의 다른 메모리 셀들에 대한 다른 소스 영역들에 접속되기 때문임), 드레인 영역(16)은 일반적으로 비트 라인 컨택트(28)에 의해 비트 라인에 접속된다. 기판의 채널 영역(18)이 소스/드레인 영역들(14/16) 사이에 한정된다. 플로팅 게이트(20)가 채널 영역(18)의 제1 부분 위에 배치되고 그로부터 절연된다(그리고 그의 전도율을 제어한다)(그리고 부분적으로 소스 영역(14) 위에 배치되고 그로부터 절연된다). 제어 게이트(22)가 플로팅 게이트(20) 위에 배치되고 그로부터 절연된다. 선택 게이트(24)가 채널 영역(18)의 제2 부분 위에 배치되고 그로부터 절연된다(그리고 그의 전도율을 제어한다). 소거 게이트(26)가 소스 영역(14) 위에 배치되고 그로부터 절연되며, 측방향으로 플로팅 게이트(20)에 인접한다. 복수의 그러한 메모리 셀들은 메모리 셀 어레이를 형성하도록 로우들 및 컬럼들로 배열될 수 있다.
메모리 셀을 프로그래밍하고(즉, 플로팅 게이트 상에 전자들을 주입함), 메모리 셀을 소거하고(즉, 플로팅 게이트로부터 전자들을 제거함), 메모리 셀을 판독하기 위해(즉, 플로팅 게이트(20)의 프로그래밍 상태를 결정하기 위해 채널 영역(18)의 전도율을 측정하거나 검출함), 전압들의 다양한 조합들이 제어 게이트(22), 선택 게이트(24), 소거 게이트(26) 및/또는 소스 및 드레인 영역들(14/16)에 인가된다.
메모리 셀(10)은 디지털 방식으로 동작될 수 있으며, 여기서 메모리 셀은 오직 2개의 가능한 상태, 즉 프로그래밍된 상태 및 소거된 상태 중 하나로 설정된다. 메모리 셀은 소거 게이트(26) 상에 높은 포지티브 전압을, 그리고 선택적으로 제어 게이트(22) 상에 네거티브 전압을 배치하여, 플로팅 게이트(20)로부터 소거 게이트(26)로의 전자들의 터널링을 유도함으로써 소거된다(플로팅 게이트를 더 포지티브로 대전된 상태 - 소거된 상태에 둠). 메모리 셀(10)은 제어 게이트(22), 소거 게이트(26), 선택 게이트(24) 및 소스 영역(14) 상에 포지티브 전압들을, 그리고 드레인 영역(16) 상에 전류를 배치함으로써 프로그래밍될 수 있다. 그때 전자들은 채널 영역(18)을 따라 드레인 영역(16)으로부터 소스 영역(14)을 향해 흐를 것이며, 이때 전자들은 가속화되고 가열되며 이에 의해 그들 중 일부가 열 전자 주입(hot-electron injection)에 의해 플로팅 게이트(20) 상에 주입된다(플로팅 게이트를 더 네거티브로 대전된 상태 - 프로그래밍된 상태에 둠). 메모리 셀(10)은 선택 게이트(24)(선택 게이트(24) 아래의 채널 영역 부분을 턴온함) 및 드레인 영역(16) 상에(그리고 선택적으로 소거 게이트(26) 및/또는 제어 게이트(22) 상에) 포지티브 전압들을 배치하고, 채널 영역(18)을 통한 전류 흐름을 감지함으로써 판독될 수 있다. 플로팅 게이트(20)가 포지티브로 대전되는(메모리 셀이 소거되는) 경우, 메모리 셀은 턴온될 것이고, 전류가 소스 영역(14)으로부터 드레인 영역(16)으로 흐를 것이다(즉, 메모리 셀(10)은 감지된 전류 흐름에 기초하여 그의 소거된 "1" 상태에 있는 것으로 감지된다). 플로팅 게이트(20)가 네거티브로 대전되는(메모리 셀이 프로그래밍되는) 경우, 플로팅 게이트 아래의 채널 영역은 턴오프되며, 그에 의해 임의의 전류 흐름을 방지한다(즉, 메모리 셀(10)은 전류 흐름 없음에 기초하여 그의 프로그래밍된 "0" 상태에 있는 것으로 감지된다).
표 1은 소거, 프로그램 및 판독 전압들의 비제한적인 예들을 제공하며, 여기서 Vcc는 전원 전압, 또는 2.5V와 같은 다른 포지티브 전압이다.
[표 1]
메모리 셀(10)은 대안적으로 아날로그 방식으로 동작될 수 있으며, 여기서 메모리 셀의 메모리 상태(즉, 플로팅 게이트 상의, 전자들의 수와 같은, 전하의 양)는 완전히 소거된 상태(플로팅 게이트 상의 가장 적은 전자들)로부터 완전히 프로그래밍된 상태(플로팅 게이트 상의 가장 많은 수의 전자들)까지 어디에서나, 또는 이러한 범위의 단지 일부에서 연속적으로 변경될 수 있다. 이것은 셀 저장이 아날로그임을 의미하며, 이는 메모리 셀 어레이 내의 각각의 메모리 셀의 매우 정밀한 그리고 개별적인 튜닝을 허용한다. 대안적으로, 메모리는 MLC(멀티레벨 셀)로서 동작될 수 있으며, 여기서 그것은 많은 이산 값들(예컨대, 16개 또는 64개의 상이한 값들) 중 하나로 프로그래밍되도록 구성된다. 아날로그 또는 MLC 프로그래밍의 경우에, 프로그래밍 전압들은, 원하는 프로그래밍 상태가 달성될 때까지, 제한된 시간 동안만 또는 일련의 펄스들로서 인가된다. 다수의 프로그래밍 펄스들의 경우에, 프로그래밍 펄스들 사이의 개재되는 판독 동작들은 원하는 프로그래밍 상태가 달성되었는지(이 경우에 프로그래밍이 중단됨) 또는 달성되지 않았는지(이 경우에 프로그래밍이 계속됨)를 결정하는 데 사용될 수 있다.
아날로그 방식으로 또는 MLC로서 동작되는 메모리 셀(10)은 메모리 디바이스의 정확도에 악영향을 미칠 수 있는 잡음 및 판독 전류 불안정성에 더 민감할 수 있다. 아날로그 비휘발성 메모리 디바이스들에서의 판독 전류 불안정성의 하나의 소스는 게이트 산화물 - 채널 계면 상의 전자 트랩들에 의한 전자들의 캡처 및 방출이다. 게이트 산화물은 플로팅 게이트(20)와 기판(12)의 채널 영역(18)을 분리하는 절연 층이다. 전자가 계면 트랩 상에서 캡처될 때, 그것은 판독 동작 동안 채널 전도율을 감소시키고, 이에 따라 메모리 셀의 임계 전압 Vt(즉, 메모리 셀의 채널 영역을 턴온하여 소정 레벨의 전류 - 1 ㎂가 예임 - 를 생성하는 데 필요한 제어 게이트 상의 최소 전압(들))를 증가시킨다. 제어 게이트 전압이 임계 전압에 있거나 그보다 높을 때, 소스 영역과 드레인 영역 사이에 전도 경로가 생성된다. 제어 게이트 전압이 임계 전압보다 낮을 때, 전도 경로가 생성되지 않고, 임의의 소스/드레인 전류가 하위-임계 또는 누설 전류로 간주된다. 계면 트랩 상에서 캡처된 전자는 트랩으로부터 방출될 수 있으며, 이는 메모리 셀의 Vt를 감소시키고, 이에 따라 판독 동작 동안 채널 전도율을 증가시킨다. 트랩에 의한 전자 캡처 및 방출의 이러한 단일-전자 이벤트들은 1) 랜덤 텔레그래프 잡음(RTN) 및 2) (판독 전류의 단방향 변화를 또한 유발하는) 단방향 Vt 시프트를 야기하며, 이는 완화 또는 CCI - 셀 전류 불안정성 - 로 지칭된다.
그러한 완화는 메모리 셀이 실온에서 오랜 시간 동안 유지되거나, 하나의 상태에서 고온에서 베이킹된 다음에 상이한 상태로 변경된 후에 검출되었다. 완화는 메모리 셀 새로운 상태의, 이전 상태 쪽으로의 작은 제한된 드리프트로서 나타난다. 예를 들어, 메모리 셀이 그의 소거된 상태(판독 동작 동안 낮은 Vt 및 높은 채널 전류에 의해 특성화됨)에서 얼마간의 시간 동안 유지되고, 이어서 후속하여 그의 프로그래밍된 상태(판독 동작 동안 높은 Vt 및 낮은 채널 전류에 의해 특성화됨)로 프로그래밍되는 경우, Vt는 약간 떨어지는 것으로 밝혀졌고, 판독 동작 동안의 판독 전류는 동일한 판독 조건들 하에서 시간 경과에 따라 약간 증가하는 것으로 밝혀졌다. Vt 및 판독 전류 시프트들은 디지털 방식으로 동작되는 메모리 셀들에 대한 "1" 상태와 "0" 상태 사이의 전형적인 셀 전류 동작 원도우와 비교할 때 상대적으로 작다. 그러나, 이러한 시프트들은 MLC(멀티레벨 셀)로서 또는 아날로그 방식으로 동작되는 메모리 셀들에 대해 무시해도 될 정도가 아닐 수 있다.
비휘발성 메모리 디바이스들에서 판독 전류 불안정성을 감소시킬 필요가 있다.
전술된 문제들 및 필요들은 복수의 비휘발성 메모리 셀들 및 컨트롤러를 갖는 메모리 디바이스에 의해 해결된다. 컨트롤러는 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제1 커맨드를 수신하고, 메모리 셀들의 제1 그룹이 메모리 셀들의 제1 그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하고, 그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고, 그룹 소거 동작으로부터 실질적으로 10초 이내에 메모리 셀들의 제1 그룹을 프로그래밍하고, 메모리 셀들의 제2 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제2 커맨드를 수신하고, 메모리 셀들의 제2 그룹이 메모리 셀들의 제2 그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하고, 메모리 셀들의 제2 그룹을 메모리 셀들의 복수의 서브그룹들로 분할하고 - 서브그룹들의 각각의 서브그룹은 메모리 셀들의 각자의 하나의 서브그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있음 -, 메모리 셀들의 서브그룹들 각각에 대해, 서브그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 서브그룹을 소거하고, 서브그룹 소거 동작으로부터 실질적으로 10초 이내에 메모리 셀들의 서브그룹을 프로그래밍하도록 구성된다.
복수의 비휘발성 메모리 셀들을 갖는 메모리 디바이스를 동작시키는 방법은 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제1 커맨드를 수신하는 단계, 메모리 셀들의 제1 그룹이 메모리 셀들의 제1 그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하는 단계, 그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하는 단계, 그룹 소거 동작으로부터 실질적으로 10초 이내에 메모리 셀들의 제1 그룹을 프로그래밍하는 단계, 메모리 셀들의 제2 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제2 커맨드를 수신하는 단계, 메모리 셀들의 제2 그룹이 메모리 셀들의 제2 그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하는 단계, 메모리 셀들의 제2 그룹을 메모리 셀들의 복수의 서브그룹들로 분할하는 단계 - 서브그룹들의 각각의 서브그룹은 메모리 셀들의 각자의 하나의 서브그룹의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있음 -, 및 메모리 셀들의 서브그룹들 각각에 대해, 서브그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 서브그룹을 소거하고 서브그룹 소거 동작으로부터 실질적으로 10초 이내에 메모리 셀들의 서브그룹을 프로그래밍하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 목적들 및 특징들이 명세서, 청구범위 및 첨부 도면의 검토에 의해 명백해질 것이다.
도 1은 종래 기술의 메모리 셀의 측단면도이다.
도 2는 메모리 디바이스의 컴포넌트들을 예시하는 도면이다.
도 3은 메모리 셀들을 소거 및 프로그래밍하는 단계들을 도시하는 흐름도이다.
본 발명은 판독 동작 정확도 및 메모리 기억 수명을 개선하기 위해, 도 1의 타입의 비휘발성 메모리 셀들, 바람직하게는 아날로그 방식으로 동작되는 비휘발성 메모리 셀들의 판독 전류를 안정화하기 위한 기술이다. 아날로그 방식으로 동작되는 메모리 셀들은 프로그램 상태들의 아날로그 동작 범위만을 사용할 수 있으며, 이는, 전술된 바와 같이, 본 명세서에서 프로그램 상태들의 아날로그 동작 범위 밖으로 정의된, 완전히 소거되는 것(플로팅 게이트 상의 최소 수의 전자들)과 완전히 프로그래밍되는 것(플로팅 게이트 상의 최대 수의 전자들) 사이의 프로그램 상태들의 전체 동작 범위의 단지 일부이다. 즉, 메모리 디바이스의 수명에 걸쳐, 메모리 디바이스는 메모리 셀들이 대부분 이러한 아날로그 동작 범위 내에 머무르도록 구성될 수 있다. 아날로그 프로그래밍 전에, 메모리 셀들의 어레이는 소거된 메모리 셀들의 Vt가 실질적으로 아날로그 동작 범위보다 낮도록 소거된다. 이어서 메모리 셀들은 프로그래밍된 메모리 셀들의 Vt가 아날로그 동작 범위 내에 있도록 각각의 메모리 셀의 개별 튜닝에 의해 프로그래밍된다. 판독 안정화 기술은 정상 동작 동안, 메모리 셀이 소거된 다음에 아날로그 동작 범위 내의 Vt 값으로 프로그래밍될 때는 언제나, 메모리 셀 소거와 메모리 셀 프로그래밍 사이의 시간이 실질적으로 10초 이하로 제한되도록 메모리 디바이스의 컨트롤러를 구성하는 것을 수반한다. 메모리 셀의 소거와 메모리 셀의 프로그래밍 사이의 지연이 실질적으로 10초 이하인 경우, 후속 판독 동작들 동안의 채널 전류에 있어서의 원치 않는 시프트들(완화)이 감소되거나 제거될 것임이 본 발명자들에 의해 결정되었다.
메모리 어레이의 소거 및 프로그래밍이 도 2에 예시된 바와 같은 예시적인 메모리 디바이스의 아키텍처로부터 더 잘 이해될 수 있다. 메모리 디바이스는 2개의 별개의 평면(평면 A(52a) 및 평면 B(52b))으로 분리될 수 있는, 비휘발성 메모리 셀들(10)의 어레이(50)를 포함한다. 메모리 셀들(10)은 도 1에 도시된 타입의 것이고, 단일 칩 상에 형성되고, 반도체 기판(12)에 복수의 로우들 및 컬럼들로 배열될 수 있다. 비휘발성 메모리 셀들의 어레이에, 어드레스 디코더들(예컨대, XDEC(54)), 소스 라인 드라이버(예컨대, SLDRV(56)), 컬럼 디코더(예컨대, YMUX(58)), 고전압 로우 디코더(예컨대, HVDEC(60)) 및 비트 라인 컨트롤러(예컨대, BLINHCTL(62))가 인접해 있으며, 이들은 선택된 메모리 셀들에 대한 판독, 프로그램, 및 소거 동작들 동안 어드레스들을 디코딩하고 다양한 전압들을 다양한 메모리 셀 게이트들 및 영역들에 공급하는 데 사용된다. 컬럼 디코더(58)는 판독 동작 동안 비트 라인들 상의 전류들을 측정하기 위한 회로를 포함하는 감지 증폭기를 포함한다. 컨트롤러(66)(제어 회로를 포함함)는 목표 메모리 셀들에 대한 각각의 동작(프로그램, 소거, 판독)을 구현하도록 다양한 디바이스 요소들을 제어한다. 전하 펌프 CHRGPMP(64)는 컨트롤러(66)의 제어 하에서 메모리 셀들을 판독, 프로그래밍 및 소거하는 데 사용되는 다양한 전압들을 제공한다. 컨트롤러(66)는 메모리 셀들(10)을 프로그래밍, 소거 및 판독하도록 메모리 디바이스를 동작시키도록 구성된다. 이러한 동작들의 일부로서, 컨트롤러(66)는 메모리 셀들에 프로그래밍될 데이터인(그리고 그 데이터가 제공되기 전에, 제공되는 동안, 또는 제공된 후에 동일한 또는 상이한 라인들 상에 제공되는 소거/프로그램 커맨드들을 포함할 수 있는) 착신 데이터에 대한 액세스를 제공받는다. 별개의 판독 및 소거 커맨드들이 또한 제공될 수 있다. 메모리 어레이로부터 판독된 데이터는 발신 데이터로서 제공된다.
효율성을 위해, 메모리 디바이스는 바람직하게는 복수의 메모리 셀들을 단일 소거 동작에서 동시에 소거하도록 구성된다. 예를 들어, 메모리 셀들의 전체 로우 또는 컬럼이 동시에 소거될 수 있다. 또는, 로우들 및 컬럼들의 전체 블록이 동시에 소거될 수 있다. 따라서, 컨트롤러(66)는 임의의 주어진 소거/프로그램 동작을 위해 동시에 소거될 메모리 셀들의 수를 선택하여, 그러한 소거되는 메모리 셀들의 후속 프로그래밍이 소거 후 실질적으로 10초 이내에 완료될 수 있게 하도록 구성된다. 예를 들어, 동시에 소거되는 메모리 셀들의 임의의 그룹에 대해, 10초는 메모리 셀들의 그룹의 소거가 완료된 때로부터 그룹 내의 마지막 메모리 셀의 프로그래밍이 완료된 때까지 측정된다. 특정 소거/프로그램 동작이 실질적으로 10초 이내에 소거 및 프로그래밍될 수 없는 주어진 수의 메모리 셀들을 수반하는 경우, 컨트롤러(66)는 모든 메모리 셀들이 그들이 소거된 때로부터 실질적으로 10초 이하 안에 프로그래밍되는 것을 보장하기 위해 한 번에 하나의 그룹씩 그러한 메모리 셀들의 그룹들에 대해 동작(소거 및 프로그램)하도록 구성된다.
예를 들어, 컨트롤러(66)가 소거 동작 후에 X개의 메모리 셀들을 프로그래밍하는 데 실질적으로 10초가 걸리는 경우, Y개의 메모리 셀들 - 여기서 Y는 X보다 큼 - 을 수반하는 임의의 소거/프로그램 동작은 컨트롤러로 하여금 Y개의 메모리 셀들을, 각각이 X개의 메모리 셀들을 초과하지 않는 2개 이상의 그룹으로 분할하게 할 것이며, 그에 의해 소거/프로그램 동작은 각각의 그룹 내의 모든 메모리 셀의 프로그래밍이 메모리 셀들의 그 그룹이 소거된 때로부터 실질적으로 10초 이하 안에 완료될 수 있도록 한 번에 하나씩 각각의 그룹에 적용된다. 따라서, 각각의 소거/프로그래밍 동작에 대해, 컨트롤러는 임의의 주어진 수의 메모리 셀들의 모든 프로그래밍이 그러한 동일한 메모리 셀들의 소거가 완료된 때로부터 실질적으로 10초 이내에 완료되도록 그러한 동작을 수행한다.
도 3은 본 발명의 단계들을 예시한다. 단계 1에서, 컨트롤러(66)는 그룹 내에 Y개의 메모리 셀들을 갖는 메모리 셀들의 그룹을 소거 및 프로그래밍하기 위한 (제1) 커맨드를 수신한다. 단계 2에서, 컨트롤러(66)는 Y가 X보다 큰지를 결정하는데, 여기서 X는 소거가 완료된 후 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있는 메모리 셀들의 최고 수(즉, 최대 한계)이다. 이 단계는 Y개의 메모리 셀들이 Y개의 메모리 셀들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있는지를 결정한다. Y가 X보다 크지 않은 경우, Y개의 메모리 셀들은 Y개의 메모리 셀들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 있고, 그에 따라 단계 3에서 컨트롤러(66)는 그룹 내의 Y개의 메모리 셀들 전체를 (반드시는 아니지만, 바람직하게는, 동시에) 소거하고, 단계 4에서 컨트롤러(66)는 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 그룹 내의 Y개의 메모리 셀들을 프로그래밍한다. 그러나, 단계 2에서 Y가 X보다 크다고 결정되는 경우, Y개의 메모리 셀들은 Y개의 메모리 셀들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍될 수 없고, 그에 따라 단계 5에서 컨트롤러는 Y개의 메모리 셀들의 그룹을, 각각이 X개를 초과하지 않는 메모리 셀들의 복수의 서브그룹으로 분할한다. 이어서 컨트롤러(66)는 단계 6에서 메모리 셀들의 제1 서브그룹을 (반드시는 아니지만, 바람직하게는, 동시에) 소거하고, 단계 7에서 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 메모리 셀들의 제1 서브그룹을 프로그래밍한다. 이어서, 단계 8에서, 컨트롤러(66)는 메모리 셀들의 다른 서브그룹들 각각에 대해 단계 6 및 단계 7을 반복한다. 프로세스는 소거/프로그램 커맨드(즉, 제2 커맨드, 제3 커맨드 등)가 수신될 때마다 반복된다. 이러한 기술에 의해, 얼마나 많은 메모리 셀들이 소거 및 프로그래밍을 위한 커맨드에 의해 목표가 되든지 모든 메모리 셀들이 그들의 소거로부터 실질적으로 10초 이내에 프로그래밍된다.
전술된 기술을 예시하기 위해, 비제한적인 예는 각각의 바이트(8 비트)가 10μs 지속 시간을 갖는 단일 펄스에 의해 디지털 방식으로 프로그래밍된 8 메가비트 디지털 NOR 플래시 메모리 디바이스일 수 있다. 이러한 예에서, 이러한 디바이스에 대한 총 프로그래밍 시간은 최소 10초가 걸릴 수 있다. 그러나, 데이터의 정밀한 아날로그 프로그래밍은 프로그래밍 알고리즘에 다수의 프로그램 및 판독 검증 단계들을 포함시키기 위해 상당히 더 긴 시간이 걸릴 수 있다. 예를 들어, 아날로그 프로그래밍에 대한 요구되는 정밀도를 충족시키는 것은 100개의 프로그래밍 펄스들 - 0.9μs의 각각의 펄스 -, 및 0.1μs의 지속 시간을 갖는 프로그래밍 펄스들 사이의 판독 검증을 요구할 수 있다. 이러한 예에서, 백만 바이트에 대한 총 아날로그 프로그래밍 시간은 최소 100초가 걸릴 것이다. 따라서, 이 경우에, 아날로그 프로그래밍 전에 수행되는 소거 동작은 전체 플래시 메모리 디바이스에 대해 수행되는 것이 아니라, 오히려 어레이보다 적어도 10배 더 작은 플래시 메모리 디바이스 내의 메모리 셀들의 블록에 대해서만 수행될 것이며, 따라서 방금 소거된 블록에 대한 프로그래밍 시간은 실질적으로 10초를 초과하지 않을 것이다.
본 발명의 이점들은 임의의 메모리 셀이 실질적으로 10초 초과만큼 그의 소거된 상태에 머무르는 것을 방지함으로써 달성된다는 점에 유의해야 한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 소거되는 메모리 셀들의 임의의 그룹에 대해, 그룹 내의 메모리 셀들 각각은, 메모리 셀들 중 일부가 데이터로 프로그래밍될 것으로 예정되지 않을지라도, 실질적으로 10초 이내에 적어도 얼마간의 프로그래밍을 겪는다. 예를 들어, 소거되는 셀들의 그룹 내의 메모리 셀이 임의의 데이터로 프로그래밍될 것으로 예정되지 않은 경우, 메모리 셀은 아날로그 동작 범위 밖에 있도록 완전히 프로그래밍되거나 심하게 오버-프로그래밍되어, 이러한 메모리 셀이 동일한 비트 라인 상의 다른 메모리 셀들이 판독되고 있을 때 비트 라인 전류에 추가할 수 있는 임의의 기여를 효과적으로 최소화할 수 있다. 따라서, 어떤 데이터가 소거를 겪은 메모리 셀들의 그룹에 프로그래밍되고 있든지, 그룹 내의 모든 메모리 셀들은 어떠한 메모리 셀도 실질적으로 10초 초과 동안 소거된 상태에 두어지지 않도록 프로그래밍된다(도 3의 단계 4 또는 단계 7 및 단계 8 참조). 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 메모리 셀들의 그룹 또는 복수의 메모리 셀들을 프로그래밍하는 것은, 메모리 셀들의 그룹 또는 복수의 메모리 셀들 내의 각각의 메모리 셀이 적어도 얼마간의 프로그래밍(즉, 플로팅 게이트 상에의 전자들의 적어도 얼마간의 주입)을 겪는다는 것을 의미한다.
본 발명은 본 명세서에서 전술되고 예시된 실시예(들)로 제한되는 것이 아니라, 임의의 청구항들의 범위에 속하는 임의의 그리고 모든 변형들을 포괄한다는 것이 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 명세서에서의 본 발명에 대한 언급은 임의의 청구항 또는 청구항 용어의 범위를 제한하도록 의도되는 것이 아니라, 대신에 단지 청구항들 중 하나 이상에 의해 커버될 수 있는 하나 이상의 특징들과 관련된다. 전술된 재료들, 프로세스들, 및 수치 예들은 단지 예시적인 것일 뿐이며, 청구항들을 제한하는 것으로 간주되어서는 안 된다. 게다가, 청구항들 및 명세서로부터 명백한 바와 같이, 명시되지 않는 한 모든 방법 단계들은 예시된 또는 청구된 정확한 순서로 수행될 필요가 없다.

Claims (12)

  1. 메모리 디바이스로서,
    복수의 비휘발성 메모리 셀들,
    상기 메모리 셀들 각각은,
    반도체 기판 내에 형성된 이격된 소스 및 드레인 영역들 - 상기 기판의 채널 영역이 상기 소스 및 드레인 영역들 사이에서 연장됨 -,
    상기 채널 영역의 제1 부분 위에 수직으로 배치되고 상기 채널 영역의 상기 제1 부분으로부터 절연된 플로팅 게이트,
    상기 채널 영역의 제2 부분 위에 수직으로 배치되고 상기 채널 영역의 상기 제2 부분으로부터 절연된 선택 게이트,
    상기 플로팅 게이트 위에 수직으로 배치되고 상기 플로팅 게이트로부터 절연된 제어 게이트 및,
    상기 소스 영역 위에 배치되고 상기 소스 영역으로부터 절연된 소거게이트 를 포함하며;
    컨트롤러를 포함하며, 상기 컨트롤러는,
    상기 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제1 커맨드를 수신하고,
    상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하고,
    그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 상기 제1 그룹을 소거하고,
    상기 그룹 소거 동작으로부터 10초 이내에 메모리 셀들의 상기 제1 그룹을 프로그래밍하고,
    상기 메모리 셀들의 제2 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제2 커맨드를 수신하고,
    상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하고,
    상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹을 상기 메모리 셀들의 복수의 서브그룹들로 분할하고 - 상기 서브그룹들의 각각의 서브그룹은 상기 메모리 셀들의 각자의 하나의 서브그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있음 -,
    상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹들 각각에 대해,
    서브그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 상기 서브그룹을 소거하고,
    상기 서브그룹 소거 동작으로부터 10초 이내에 메모리 셀들의 상기 서브그룹을 프로그래밍하도록 구성되는, 메모리 디바이스.
  2. 제1항에 있어서, 상기 컨트롤러는 상기 그룹 소거 동작에서 적어도 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹 내의 상기 메모리 셀들 전부를 동시에 소거하도록 추가로 구성되는, 메모리 디바이스.
  3. 제1항에 있어서, 상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹들 각각에 대해, 상기 컨트롤러는 상기 서브그룹 소거 동작에서 적어도 상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹 내의 상기 메모리 셀들 전부를 동시에 소거하도록 추가로 구성되는, 메모리 디바이스.
  4. 제1항에 있어서, 상기 컨트롤러는 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹 내의 상기 메모리 셀들의 수가 미리 결정된 수를 초과하지 않는 것에 기초하여 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하고, 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹 내의 상기 메모리 셀들의 수가 상기 미리 결정된 수를 초과하는 것에 기초하여 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하도록 구성되는, 메모리 디바이스.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 복수의 비휘발성 메모리 셀들을 갖는 메모리 디바이스를 동작시키는 방법으로서,
    상기 메모리 셀들 각각은,
    반도체 기판 내에 형성된 이격된 소스 및 드레인 영역들 - 상기 기판의 채널 영역이 상기 소스 및 드레인 영역들 사이에서 연장됨 -,
    상기 채널 영역의 제1 부분 위에 수직으로 배치되고 상기 채널 영역의 상기 제1 부분으로부터 절연된 플로팅 게이트,
    상기 채널 영역의 제2 부분 위에 수직으로 배치되고 상기 채널 영역의 상기 제2 부분으로부터 절연된 선택 게이트,
    상기 플로팅 게이트 위에 수직으로 배치되고 상기 플로팅 게이트로부터 절연된 제어 게이트 및,
    상기 소스 영역 위에 배치되고 상기 소스 영역으로부터 절연된 소거게이트 를 포함하며;
    상기 메모리 셀들의 제1 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제1 커맨드를 수신하는 단계,
    상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하는 단계,
    그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 상기 제1 그룹을 소거하는 단계,
    상기 그룹 소거 동작으로부터 10초 이내에 메모리 셀들의 상기 제1 그룹을 프로그래밍하는 단계,
    상기 메모리 셀들의 제2 그룹을 소거하고 프로그래밍하기 위한 제2 커맨드를 수신하는 단계,
    상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하는 단계,
    상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹을 상기 메모리 셀들의 복수의 서브그룹들로 분할하는 단계 - 상기 서브그룹들의 각각의 서브그룹은 상기 메모리 셀들의 각자의 하나의 서브그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있음 -, 및
    상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹들 각각에 대해,
    서브그룹 소거 동작에서 메모리 셀들의 상기 서브그룹을 소거하고,
    상기 서브그룹 소거 동작으로부터 10초 이내에 메모리 셀들의 상기 서브그룹을 프로그래밍하는 단계를 포함하는, 방법.
  8. 제7항에 있어서, 메모리 셀들의 상기 제1 그룹을 소거하는 단계는 적어도 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹 내의 상기 메모리 셀들 전부를 동시에 소거하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹들 각각에 대해, 상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹을 소거하는 단계는 적어도 상기 메모리 셀들의 상기 서브그룹 내의 상기 메모리 셀들 전부를 동시에 소거하는 단계를 추가로 포함하는, 방법.
  10. 제7항에 있어서, 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 있다고 결정하는 단계는 상기 메모리 셀들의 상기 제1 그룹 내의 상기 메모리 셀들의 수가 미리 결정된 수를 초과하지 않는 것에 기초하고, 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹이 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹의 소거로부터 10초 이내에 프로그래밍될 수 없다고 결정하는 단계는 상기 메모리 셀들의 상기 제2 그룹 내의 상기 메모리 셀들의 수가 상기 미리 결정된 수를 초과하는 것에 기초하는, 방법.
  11. 삭제
  12. 삭제
KR1020227001418A 2019-09-03 2020-08-25 소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법 KR102668445B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962895458P 2019-09-03 2019-09-03
US62/895,458 2019-09-03
US16/803,418 US10991433B2 (en) 2019-09-03 2020-02-27 Method of improving read current stability in analog non-volatile memory by limiting time gap between erase and program
US16/803,418 2020-02-27
PCT/US2020/047833 WO2021045933A1 (en) 2019-09-03 2020-08-25 Method of improving read current stability in analog non-volatile memory by limiting time gap between erase and program

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220019820A KR20220019820A (ko) 2022-02-17
KR102668445B1 true KR102668445B1 (ko) 2024-05-22

Family

ID=74679154

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227002504A KR102641648B1 (ko) 2019-09-03 2020-03-11 미리 결정된 프로그램 상태에서 최종 베이크를 사용하여 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
KR1020227002499A KR102641647B1 (ko) 2019-09-03 2020-08-25 메모리 셀들을 차단함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
KR1020227001418A KR102668445B1 (ko) 2019-09-03 2020-08-25 소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227002504A KR102641648B1 (ko) 2019-09-03 2020-03-11 미리 결정된 프로그램 상태에서 최종 베이크를 사용하여 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
KR1020227002499A KR102641647B1 (ko) 2019-09-03 2020-08-25 메모리 셀들을 차단함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법

Country Status (7)

Country Link
US (3) US11017866B2 (ko)
EP (3) EP4026127B1 (ko)
JP (3) JP7238207B2 (ko)
KR (3) KR102641648B1 (ko)
CN (3) CN114287037A (ko)
TW (3) TWI721873B (ko)
WO (3) WO2021045799A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4348651A1 (en) * 2021-06-02 2024-04-10 Silicon Storage Technology Inc. Method of improving read current stability in analog non-volatile memory by post-program tuning for memory cells exhibiting random telegraph noise
WO2022260692A1 (en) * 2021-06-08 2022-12-15 Silicon Storage Technology, Inc. Method of reducing random telegraph noise in non-volatile memory by grouping and screening memory cells
US11769558B2 (en) 2021-06-08 2023-09-26 Silicon Storage Technology, Inc. Method of reducing random telegraph noise in non-volatile memory by grouping and screening memory cells

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050276120A1 (en) 2004-06-10 2005-12-15 Ed Hsia Erase algorithm for multi-level bit flash memory
US20060285397A1 (en) 2005-06-06 2006-12-21 Sony Corporation Storage device
US20180308555A1 (en) 2017-04-21 2018-10-25 Sandisk Technologies Llc Non-volatile memory with reduced program speed variation
US20190121725A1 (en) 2017-10-25 2019-04-25 Western Digital Technologies, Inc. Performance based memory block usage

Family Cites Families (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5856366A (ja) * 1981-09-30 1983-04-04 Hitachi Ltd 半導体記憶装置のスクリ−ニング方法
JPS6417300A (en) * 1987-07-09 1989-01-20 Nippon Electric Ic Microcomput Semiconductor storage device
US5029130A (en) 1990-01-22 1991-07-02 Silicon Storage Technology, Inc. Single transistor non-valatile electrically alterable semiconductor memory device
US5583810A (en) 1991-01-31 1996-12-10 Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum Vzw Method for programming a semiconductor memory device
JPH07201191A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ装置
US6768165B1 (en) 1997-08-01 2004-07-27 Saifun Semiconductors Ltd. Two bit non-volatile electrically erasable and programmable semiconductor memory cell utilizing asymmetrical charge trapping
JP3613072B2 (ja) * 1999-06-02 2005-01-26 株式会社デンソー 不揮発性半導体メモリの電荷保持寿命評価方法
US6349062B1 (en) 2000-02-29 2002-02-19 Advanced Micro Devices, Inc. Selective erasure of a non-volatile memory cell of a flash memory device
US6618290B1 (en) 2000-06-23 2003-09-09 Advanced Micro Devices, Inc. Method of programming a non-volatile memory cell using a baking process
US6727545B2 (en) 2000-09-20 2004-04-27 Silicon Storage Technology, Inc. Semiconductor memory array of floating gate memory cells with low resistance source regions and high source coupling
JP2002100192A (ja) * 2000-09-22 2002-04-05 Toshiba Corp 不揮発性半導体メモリ
JP2002150783A (ja) 2000-11-10 2002-05-24 Toshiba Corp 半導体記憶装置およびそのメモリセルトランジスタのしきい値の変化を判別する方法
US6815231B2 (en) * 2001-06-11 2004-11-09 Hitachi, Ltd. Method of testing and manufacturing nonvolatile semiconductor memory
KR20030001607A (ko) * 2001-06-25 2003-01-08 주식회사 하이닉스반도체 플래쉬 메모리 소자의 테스트 방법
CN1220986C (zh) * 2001-08-17 2005-09-28 旺宏电子股份有限公司 非易失性内存的可靠性测试方法与电路
JP4034971B2 (ja) 2002-01-21 2008-01-16 富士通株式会社 メモリコントローラおよびメモリシステム装置
US6747310B2 (en) 2002-10-07 2004-06-08 Actrans System Inc. Flash memory cells with separated self-aligned select and erase gates, and process of fabrication
JP3721159B2 (ja) 2002-11-28 2005-11-30 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US7324374B2 (en) 2003-06-20 2008-01-29 Spansion Llc Memory with a core-based virtual ground and dynamic reference sensing scheme
TWI273600B (en) 2003-07-21 2007-02-11 Macronix Int Co Ltd Integrated circuit and manufacturing method thereof, memory cell and manufacturing method thereof, method for programming memory cell and method for programming memory array multiple times
EP1503384A3 (en) 2003-07-21 2007-07-18 Macronix International Co., Ltd. Method of programming memory
US7177199B2 (en) 2003-10-20 2007-02-13 Sandisk Corporation Behavior based programming of non-volatile memory
JP4349886B2 (ja) 2003-11-07 2009-10-21 三洋電機株式会社 不揮発性メモリ装置
JP4322686B2 (ja) 2004-01-07 2009-09-02 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US7209389B2 (en) 2004-02-03 2007-04-24 Macronix International Co., Ltd. Trap read only non-volatile memory (TROM)
US20050262970A1 (en) 2004-05-27 2005-12-01 Chih-Ching Hsien Reinforcement teeth for ratchet tools
US7315056B2 (en) 2004-06-07 2008-01-01 Silicon Storage Technology, Inc. Semiconductor memory array of floating gate memory cells with program/erase and select gates
US7325177B2 (en) 2004-11-17 2008-01-29 Silicon Storage Technology, Inc. Test circuit and method for multilevel cell flash memory
TWI297154B (en) * 2005-01-03 2008-05-21 Macronix Int Co Ltd Non-volatile memory cells, memory arrays including the same and methods of operating cells and arrays
JP4551284B2 (ja) * 2005-06-22 2010-09-22 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置
JP4764723B2 (ja) 2006-01-10 2011-09-07 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
US7508693B2 (en) 2006-03-24 2009-03-24 Macronix International Co., Ltd. One-time-programmable (OTP) memory device and method for testing the same
KR100816162B1 (ko) 2007-01-23 2008-03-21 주식회사 하이닉스반도체 낸드 플래시 메모리 장치 및 셀 특성 개선 방법
US7839695B2 (en) * 2007-04-27 2010-11-23 Macronix International Co., Ltd. High temperature methods for enhancing retention characteristics of memory devices
CN101779249B (zh) 2007-06-14 2013-03-27 桑迪士克科技股份有限公司 半导体存储器中的可编程芯片使能和芯片地址
US20090039410A1 (en) 2007-08-06 2009-02-12 Xian Liu Split Gate Non-Volatile Flash Memory Cell Having A Floating Gate, Control Gate, Select Gate And An Erase Gate With An Overhang Over The Floating Gate, Array And Method Of Manufacturing
US7869258B2 (en) * 2008-06-27 2011-01-11 Sandisk 3D, Llc Reverse set with current limit for non-volatile storage
JP2010176750A (ja) * 2009-01-29 2010-08-12 Oki Semiconductor Co Ltd 不揮発性半導体メモリ及びそのリーク不良検出方法
US20100259979A1 (en) * 2009-04-10 2010-10-14 James Yingbo Jia Self Limiting Method For Programming A Non-volatile Memory Cell To One Of A Plurality Of MLC Levels
US10229746B2 (en) * 2010-08-20 2019-03-12 Attopsemi Technology Co., Ltd OTP memory with high data security
JP5856366B2 (ja) 2010-09-30 2016-02-09 フジモリ産業株式会社 貼付体用セパレータ及びこれを用いた貼付体
JP5702573B2 (ja) * 2010-10-20 2015-04-15 スパンション エルエルシー 不揮発性半導体記憶装置およびそのデータ書き込み方法
US8842469B2 (en) 2010-11-09 2014-09-23 Freescale Semiconductor, Inc. Method for programming a multi-state non-volatile memory (NVM)
KR101190742B1 (ko) * 2010-12-06 2012-10-12 에스케이하이닉스 주식회사 메모리의 콘트롤러 및 이를 포함하는 스토리지 시스템, 메모리의 수명 측정 방법
US8427877B2 (en) * 2011-02-11 2013-04-23 Freescale Semiconductor, Inc. Digital method to obtain the I-V curves of NVM bitcells
US8711636B2 (en) 2011-05-13 2014-04-29 Silicon Storage Technology, Inc. Method of operating a split gate flash memory cell with coupling gate
US20130031431A1 (en) * 2011-07-28 2013-01-31 Eran Sharon Post-Write Read in Non-Volatile Memories Using Comparison of Data as Written in Binary and Multi-State Formats
US8726104B2 (en) 2011-07-28 2014-05-13 Sandisk Technologies Inc. Non-volatile memory and method with accelerated post-write read using combined verification of multiple pages
US8576648B2 (en) 2011-11-09 2013-11-05 Silicon Storage Technology, Inc. Method of testing data retention of a non-volatile memory cell having a floating gate
KR101635695B1 (ko) * 2012-01-24 2016-07-01 애플 인크. 아날로그 메모리 셀들을 위한 적응적 프로그래밍 및 소거 기법들
WO2013112332A1 (en) * 2012-01-24 2013-08-01 Apple Inc. Enhanced programming and erasure schemes for analog memory cells
US9195586B2 (en) 2012-02-23 2015-11-24 Hgst Technologies Santa Ana, Inc. Determining bias information for offsetting operating variations in memory cells based on wordline address
US8953398B2 (en) 2012-06-19 2015-02-10 Sandisk Technologies Inc. Block level grading for reliability and yield improvement
US9299459B2 (en) 2012-09-07 2016-03-29 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus of measuring error correction data for memory
US9123401B2 (en) 2012-10-15 2015-09-01 Silicon Storage Technology, Inc. Non-volatile memory array and method of using same for fractional word programming
US9013920B2 (en) * 2013-04-03 2015-04-21 Western Digital Technologies, Inc. Systems and methods of write precompensation to extend life of a solid-state memory
KR102210961B1 (ko) 2013-06-12 2021-02-03 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치를 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 동적 접근 방법
US20150262970A1 (en) 2014-03-13 2015-09-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device manufacturing method and semiconductor memory device
US9202815B1 (en) * 2014-06-20 2015-12-01 Infineon Technologies Ag Method for processing a carrier, a carrier, and a split gate field effect transistor structure
US9569120B2 (en) 2014-08-04 2017-02-14 Nvmdurance Limited Adaptive flash tuning
US9455038B2 (en) * 2014-08-20 2016-09-27 Sandisk Technologies Llc Storage module and method for using healing effects of a quarantine process
CN105448346B (zh) * 2014-08-22 2018-09-25 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 存储单元可靠性的测试方法
US9830219B2 (en) 2014-09-15 2017-11-28 Western Digital Technologies, Inc. Encoding scheme for 3D vertical flash memory
US9990990B2 (en) * 2014-11-06 2018-06-05 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for accessing variable resistance memory device
US9378832B1 (en) * 2014-12-10 2016-06-28 Sandisk Technologies Inc. Method to recover cycling damage and improve long term data retention
US10503431B2 (en) 2014-12-22 2019-12-10 Sandisk Technologies Llc Trade-off adjustments of memory parameters based on memory wear or data retention
US9842662B2 (en) 2015-02-16 2017-12-12 Texas Instruments Incorporated Screening for data retention loss in ferroelectric memories
US9899102B2 (en) 2015-03-31 2018-02-20 SK Hynix Inc. Semiconductor device and operating method thereof
US20160307636A1 (en) * 2015-04-17 2016-10-20 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for improving data retention and read-performance of a non-volatile memory device
TWI594239B (zh) 2015-05-27 2017-08-01 旺宏電子股份有限公司 改良非揮發性記憶體裝置之資料保留與讀取性能之方法與裝置
JP6417300B2 (ja) 2015-09-02 2018-11-07 株式会社中電工 指定範囲監視システム
US9558846B1 (en) 2015-11-04 2017-01-31 Texas Instruments Incorporated Feedback validation of arbitrary non-volatile memory data
TWI571882B (zh) * 2016-02-19 2017-02-21 群聯電子股份有限公司 平均磨損方法、記憶體控制電路單元及記憶體儲存裝置
EP3459114B1 (en) * 2016-05-17 2022-01-26 Silicon Storage Technology, Inc. Array of three-gate flash memory cells with individual memory cell read, program and erase
JP6716022B2 (ja) * 2016-05-17 2020-07-01 シリコン ストーリッジ テクノロージー インコーポレイテッドSilicon Storage Technology, Inc. 個々のメモリセルが読み出し、プログラミング、及び消去される3ゲートフラッシュメモリセルアレイ
KR102097568B1 (ko) 2016-06-06 2020-04-06 도레이 카부시키가이샤 메모리 어레이, 메모리 어레이의 제조 방법, 메모리 어레이 시트, 메모리 어레이 시트의 제조 방법 및 무선 통신 장치
US10008277B2 (en) * 2016-09-12 2018-06-26 Sandisk Technologies Llc Block health monitoring using threshold voltage of dummy memory cells
JP6414297B1 (ja) * 2017-08-18 2018-10-31 富士通株式会社 メモリコントローラ、情報処理システム、及び不揮発性メモリの不良判断方法
US10515694B2 (en) * 2017-11-03 2019-12-24 Silicon Storage Technology, Inc. System and method for storing multibit data in non-volatile memory
US10354729B1 (en) * 2017-12-28 2019-07-16 Micron Technology, Inc. Polarity-conditioned memory cell write operations
US10838652B2 (en) 2018-08-24 2020-11-17 Silicon Storage Technology, Inc. Programming of memory cell having gate capacitively coupled to floating gate
KR20210110376A (ko) * 2019-03-26 2021-09-07 양쯔 메모리 테크놀로지스 씨오., 엘티디. 다중 비트라인 바이어스 전압을 인가하여 비 휘발성 메모리 디바이스에서 프로그래밍하는 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050276120A1 (en) 2004-06-10 2005-12-15 Ed Hsia Erase algorithm for multi-level bit flash memory
US20060285397A1 (en) 2005-06-06 2006-12-21 Sony Corporation Storage device
US20180308555A1 (en) 2017-04-21 2018-10-25 Sandisk Technologies Llc Non-volatile memory with reduced program speed variation
US20190121725A1 (en) 2017-10-25 2019-04-25 Western Digital Technologies, Inc. Performance based memory block usage

Also Published As

Publication number Publication date
US11017866B2 (en) 2021-05-25
US20210065837A1 (en) 2021-03-04
EP4026129A1 (en) 2022-07-13
KR20220024934A (ko) 2022-03-03
EP4026127B1 (en) 2024-01-24
KR102641648B1 (ko) 2024-02-28
TW202119422A (zh) 2021-05-16
JP7238207B2 (ja) 2023-03-13
JP2022546088A (ja) 2022-11-02
US10991433B2 (en) 2021-04-27
JP7121220B1 (ja) 2022-08-17
EP4026126A1 (en) 2022-07-13
JP2022536213A (ja) 2022-08-12
EP4026127A1 (en) 2022-07-13
CN114303198A (zh) 2022-04-08
KR20220019820A (ko) 2022-02-17
EP4026126B1 (en) 2023-07-26
TW202127458A (zh) 2021-07-16
US11205490B2 (en) 2021-12-21
TWI766357B (zh) 2022-06-01
CN114287037A (zh) 2022-04-05
TWI721873B (zh) 2021-03-11
TW202111694A (zh) 2021-03-16
US20210065817A1 (en) 2021-03-04
KR102641647B1 (ko) 2024-02-28
US20210065811A1 (en) 2021-03-04
CN114303199B (zh) 2022-12-27
WO2021045799A1 (en) 2021-03-11
WO2021045934A1 (en) 2021-03-11
TWI750793B (zh) 2021-12-21
KR20220024937A (ko) 2022-03-03
WO2021045933A1 (en) 2021-03-11
JP2022545740A (ja) 2022-10-28
CN114303199A (zh) 2022-04-08
JP7236592B2 (ja) 2023-03-09
EP4026129B1 (en) 2024-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102668445B1 (ko) 소거와 프로그램 사이의 시간 갭을 제한함으로써 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
JP7474876B2 (ja) ランダムテレグラフノイズを呈するメモリセルのプログラム調整による、アナログ不揮発性メモリにおける読み出し電流の安定性を改善する方法
US20220392543A1 (en) Method of improving read current stability in analog non-volatile memory by post-program tuning for memory cells exhibiting random telegraph noise
US11769558B2 (en) Method of reducing random telegraph noise in non-volatile memory by grouping and screening memory cells
KR20230172027A (ko) 랜덤 텔레그래프 잡음을 나타내는 메모리 셀들에 대한 프로그래밍-후 튜닝에 의한 아날로그 비휘발성 메모리에서 판독 전류 안정성을 개선하는 방법
WO2022260692A1 (en) Method of reducing random telegraph noise in non-volatile memory by grouping and screening memory cells

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant