KR101535317B1 - 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법 Download PDF

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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 작업 처리량을 향상시켜, 처리 타이밍을 관리할 수 있는 기판 처리 시스템을 제공하는 것을 과제로 한다.
처리 장치군에 대하여 관리하는 그룹 컨트롤러를 설치한다. 그룹 컨트롤러는, 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치의 처리 종료 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 처리 상황에 기초하여 결정하는 단계와, 상기 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점으로부터, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 처리 상황에 기초하여 결정하고, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 결정하는 단계를 수행한다.

Description

기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명은 기판에 대하여, 포토리소그래피 공정을 포함하는 처리를 수행하는 기판 처리 시스템 및 기판 반송 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조 프로세스에서는, 반도체 웨이퍼(이하, 「웨이퍼」라고 기재함)에 패턴을 형성하기 위해, 포토리소그래피 공정이 수행된다. 포토리소그래피 공정에서는, 웨이퍼에 대한 레지스트 도포 처리와, 레지스트 도포 후의 웨이퍼에 대하여 노광 마스크를 사용하여 노광시키는 노광 처리와, 노광 후의 웨이퍼를 현상하는 현상 처리가 실시된다.
반도체 제조 프로세스에서의 포토리소그래피 공정은 공장 내의 캐리어의 자동 반송 시스템에 접속된 레지스트 패턴 형성 시스템에서 이루어진다. 캐리어에는 복수장의 동종의 웨이퍼를 포함하는 로트가 격납되어 있다. 그리고, 상기 레지스트 패턴 형성 시스템은 레지스트 도포 및 현상을 수행하는 도포, 현상 장치와, 노광 장치를 직렬로 접속하여 구성되어 있고, 캐리어로부터 반출된 웨이퍼(W)는 도포, 현상 장치→노광 장치→도포, 현상 장치의 순으로 전달되어 처리가 이루어지며, 일련의 포토리소그래피 처리가 수행된다.
그러나, 이러한 레지스트 패턴 형성 시스템에서는, 캐리어의 반송처의 시스템을 결정하면, 사용하는 도포 장치, 현상 장치, 노광 장치가 일률적으로 결정되게 된다. 따라서, 이들 도포, 현상, 노광 장치 중 어느 하나에서 문제가 생기거나, 웨이퍼(W)의 처리가 지연되거나 하면 다른 장치의 처리에도 영향을 미쳐, 레지스트 패턴 형성 시스템 전체의 처리 효율이 저하되어 버린다. 특히 노광 장치의 운용에는 비교적 고비용이 필요하기 때문에, 그와 같이 처리 효율이 저하되면 쓸데없는 비용이 증대하여, 득책이 아니다.
따라서, 특허문헌 1에 나타낸 바와 같이 도포 장치, 현상 장치 및 노광 장치를 각각 개별 처리 장치로서 구성하여, 각 처리 장치 사이를 자동 반송 시스템에 의해 캐리어가 순서대로 반송되도록 기판 처리 시스템을 구성하는 것이 고려되고 있다. 그런데, 포토리소그래피 공정에서는, 하나의 처리를 수행한 후, 정해진 시간 내에 그 후의 처리를 진행하지 않으면, 제품의 품질이 저하되거나, 그 후의 처리를 정상적으로 진행할 수 없는 경우가 있다. 그렇게 되면 리워크(rework)라고 불리는 웨이퍼의 재생 처리가 필요해져, 비용이 들게 된다.
그러나, 상기 기판 처리 시스템에 있어서, 도포 장치에서 레지스트 도포 후의 웨이퍼(W1)를, 캐리어(1)를 통하여 노광 장치에 반입했을 때, 그 노광 장치에서는 먼저 노광 장치에 반송된 캐리어(2)의 웨이퍼(W2)의 처리가 행해지고 있거나, 메인터넌스가 이루어지고 있거나, 돌발적으로 장치에 문제점이 생기거나 함으로써, 웨이퍼(W1)에 레지스트 도포 후, 정해진 시간 내에 노광 처리를 수행할 수 없는 경우가 있다. 특허문헌 1에서는 이러한 문제에 관해서는 기재하고 있지 않고, 이 문제를 해결할 수 있는 것도 아니다.
일본 특허 공개 제2007-335626호
본 발명은 이러한 사정하에 이루어진 것으로, 그 목적은 포토리소그래피 공정에서 작업 처리량을 높이고 기판에 쓸데없는 처리가 행해지는 것을 방지할 수 있는 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 기판 처리 시스템은 기판을 로트마다 수납한 캐리어로부터 기판을 취출하여 처리를 수행하는 기판 처리 시스템으로서,
(1) 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비한 것,
(2) 상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것,
(3) 처리 장치군에 대하여 공통화되고 자동 반송 장치로부터 캐리어를 수취하기 위한 반입 포트, 및 처리 장치군에 대하여 공통화되고 자동 반송 장치에 캐리어를 전달하기 위한 반출 포트를 설치한 것,
(4) 서로 인접한 처리 장치들 사이에 캐리어를 반송하는 전용 반송 기구를 설치한 것,
(5) 상기 처리 장치군에 대하여 관리하고 상기 캐리어 이동 적재기 및 상기 전용 반송 기구를 제어하는 그룹 컨트롤러를 설치한 것,
(6) 상기 자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 호스트 컴퓨터를 설치한 것
을 포함하고,
(7) 상기 그룹 컨트롤러는,
(7-1) 상기 반입 포트에 반입된 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 결정하는 단계
(7-2) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하고, 예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 결정하는 단계
(7-3) 상기 복수의 처리 장치에 의한 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를 반출 포트에 반출하는 단계
를 실행하기 위한 프로그램을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 기판 처리 시스템은 기판을 로트마다 수납한 캐리어로부터 기판을 취출하여 처리를 수행하는 기판 처리 시스템으로서,
(1) 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비한 것,
(2) 상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것,
(3) 상기 처리 장치군에 대하여 관리하고 상기 캐리어 이동 적재기를 제어하는 그룹 컨트롤러를 설치한 것,
(4) 상기 각 반입반출 스테이지에 상기 캐리어를 반송하기 위한 자동 반송 장치에 의해 운반되는 그 캐리어 내의 기판에 관해 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 호스트 컴퓨터를 설치한 것
을 포함하고,
(5) 상기 그룹 컨트롤러는,
(5-1) 상기 자동 반송 장치에 의해 반송되는 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 결정하는 단계
(5-2) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 자동 반송 장치에 의해 최초 처리 장치의 캐리어 대기부에 캐리어를 반입하는 단계
(5-3) 자동 반송 장치에 의해, 상류측의 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 하류측의 처리 장치의 캐리어 대기부에 순차적으로 캐리어를 반송하는 단계
(5-4) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하고, 예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 결정하는 단계
(5-5) 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 최종 처리를 수행한 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 자동 반송 장치에 의해 반출하는 단계
를 실행하기 위한 프로그램을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 기판 처리 시스템의 구체적인 양태는 다음과 같다.
a) 상기 처리 장치의 조합 및 상기 예측 경과 시간은 각 처리 장치에서의 메인터넌스 정보에 기초하여 추가적으로 결정된다.
b) 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 검사하는 복수의 검사 장치를 포함하고,
상기 검사 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 검사하는 검사부를 포함한다.
c) 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 세정하는 복수의 세정 장치를 포함하고,
상기 세정 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 세정하는 세정부를 포함한다.
본 발명의 기판 처리 방법은, 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비하며,
상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것인 기판 처리 방법에 있어서,
로트마다 기판을 수납한 캐리어를 자동 반송 장치에 의해, 처리 장치군에 대하여 공통화된 반입 포트에 반입하는 공정과,
자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 호스트 컴퓨터로부터 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 공정과,
상기 반입 포트에 반입된 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하는 공정과,
예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
상류측의 처리 장치에 의해 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 서로 인접한 처리 장치들 사이에 캐리어를 반송하는 전용 반송기를 통해 하류측의 처리 장치에 반송하는 공정과,
상기 복수의 처리 장치에 의한 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 처리 장치군에 대하여 공통화된 반출 포트에 반출하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 기판 처리 방법은, 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비하며,
상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것인 기판 처리 방법에 있어서,
로트마다 기판을 수납한 캐리어를 자동 반송 장치에 의해 반송하는 공정과,
자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 호스트 컴퓨터로부터 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 공정과,
상기 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
결정된 처리 장치의 조합 중에서 최상류측에 위치하는 처리 장치의 캐리어 대기부에 자동 반송 장치에 의해 캐리어를 전달하는 공정과,
결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 계산하는 공정과,
예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
자동 반송 장치에 의해, 상류측의 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 하류측의 처리 장치의 캐리어 대기부에 순차적으로 캐리어를 반송하는 공정과,
일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 최종 처리를 수행한 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 자동 반송 장치에 의해 반출하는 공정을 포함한다.
상기 기판 처리 방법의 구체적 양태는 하기와 같다.
a) 상기 처리 장치의 조합의 결정 및 상기 예측 경과 시간의 결정은 각 처리 장치에서의 메인터넌스 정보에 기초하여 추가적으로 결정된다.
b) 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 검사하는 복수의 검사 장치를 포함하고,
상기 검사 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 검사하는 검사부를 포함한다.
c) 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 세정하는 복수의 세정 장치를 포함하고,
상기 세정 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 세정하는 세정부를 포함한다.
본 발명에 의하면, 최종 처리 장치에서의 로트의 처리의 종료 시점이 빨라지도록 복수의 도포 장치, 복수의 노광 장치, 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군 중에서 사용하는 처리 장치의 조합을 결정하고, 또한 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍이 결정된다. 따라서, 작업 처리량의 향상을 도모하고 기판에 쓸데없는 처리가 행해지는 것을 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 시스템의 전체 구성도이다.
도 2는 기판 처리 시스템을 구성하는 처리 장치의 접속을 나타내는 모식도이다.
도 3은 처리 장치군의 개략도이다.
도 4는 로드 포트를 나타내는 사시도이다.
도 5는 처리 장치군을 구성하는 도포 장치의 평면도이다.
도 6은 처리 장치군을 구성하는 노광 장치의 평면도이다.
도 7은 장치간 캐리어 반송 기구의 동작을 나타내는 사시도이다.
도 8은 기판 처리 시스템의 처리 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 9는 로트의 처리 상황 및 메인터넌스 시간을 나타내는 타임차트이다.
도 10은 웨이퍼의 반송 경로를 나타내는 모식도이다.
도 11은 기판 처리 시스템의 처리 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 12는 기판 처리 시스템의 처리 공정을 나타내는 흐름도이다.
도 13은 기판 처리 시스템의 변형예를 나타내는 구성도이다.
도 14는 다른 기판 처리 시스템의 전체 구성도이다.
도 15는 로트의 처리 상황 및 메인터넌스 시간을 나타내는 타임차트이다.
(제1 실시형태)
도 1은 본 발명의 실시형태인 기판 처리 시스템(1)의 전체 구성도이다. 기판 처리 시스템(1)은 처리 장치군(40)에 의해 구성되어 있고, 캐리어(C)를 처리 장치 사이에서 반송하여 웨이퍼(W)에 레지스트 패턴을 형성한다. 하나의 캐리어(C)에는 복수장의 동종의 웨이퍼(W)가 격납되어 있고, 이 동종의 웨이퍼(W)를 로트라고 칭한다. 기판 처리 시스템(1)은 호스트 컴퓨터(10)와, 클러스터 컨트롤러(21)와, 천정 반송 장치(12)와, 상기 처리 장치군(40)을 구비한다. 처리 장치군(40)은 도포 장치(4A, 4B)와, 노광, 가열 장치(5A∼5C)와, 현상 장치(6A, 6B)를 포함한다.
호스트 컴퓨터(10)에는, 자동 반송 제어부(11)를 통해 천정 반송 장치(12)가 접속되어 있다. 또, 호스트 컴퓨터(10)에는, 클러스터 컨트롤러(21)가 접속되고, 클러스터 컨트롤러(21)의 하류측에는 처리 장치군(40)이 접속되어 있다. 처리 장치군(40)을 구성하는 도포 장치(4A, 4B)와, 노광, 가열 장치(5A∼5C)와, 현상 장치(6A, 6B)는 클러스터 컨트롤러(21)에서 봤을 때 각각 병렬로 접속되어 있다. 또한, 호스트 컴퓨터(10)는 기판 처리 시스템(1)의 상류측에서 웨이퍼(W)에 처리를 수행하는 상류측 장치에 접속되어 있다. 상류측 장치로부터 캐리어(C)에 격납된 상태로 웨이퍼(W)는 기판 처리 시스템(1)에 반송된다. 상류측 장치에서 로트의 처리가 종료되면, 상류측 장치는 그 취지를 나타내는 신호를 호스트 컴퓨터(10)에 송신한다.
호스트 컴퓨터(10)는 프로그램(13) 및 메모리(14)를 구비한다. 프로그램(13)은 기판 처리 시스템(1)의 동작을 제어하여, 후술하는 바와 같이 캐리어(C)나 웨이퍼(W)의 반송 및 웨이퍼(W)에 대한 각 처리를 수행하는 것이 가능하도록 단계군이 짜여져 있다. 상기 메모리(14)에는, 웨이퍼(W)에 형성되는 레지스트막의 막두께나 레지스트 패턴의 선폭 등에 관해 설정된 각종 레시피가 저장되어 있다. 각 레시피에는, 처리 장치군(40)에서 웨이퍼(W)를 처리하기 위한 파라미터가 대응하여 기억되어 있다. 상기 파라미터로는, 예를 들어 각 처리 장치에서 공급하는 약액의 공급량, 약액의 공급 시간, 웨이퍼(W)의 가열 온도 및 노광시의 조도 등이 포함된다. 기판 처리 시스템(1)의 사용자가 호스트 컴퓨터(10)에 설치되는 도시하지 않은 입력부로부터 로트와, 그 로트에 처리를 수행하는 레시피를 대응시켜 설정한다.
계속해서, 클러스터 컨트롤러(그룹 컨트롤러)(21)에 관해 설명한다. 도면 중 도면부호 22는 버스이고, 버스(22)에는, 각종 연산을 수행하는 CPU(23), 프로그램 저장부(24) 및 메인 메모리(25)가 접속되어 있다. 프로그램 저장부(24)는, 각 처리 장치의 선택 프로그램(31), 로트의 배출 제어 프로그램(32) 및 캐리어 반송 제어 프로그램(33)을 구비하고, 각 프로그램은, 예를 들어 하드 디스크, 컴팩트 디스크, 마그넷 옵티컬 디스크 또는 메모리 카드 등의 기억 매체에 수납된 상태로 프로그램 저장부(24)에 저장된다.
처리 장치의 선택 프로그램(31)은 후술하는 장치 내 모듈의 조정에 요하는 시간, 각 처리 장치에서의 메인터넌스 상황 또는 처리 상황에 기초하여 캐리어(C)의 반송처를 결정한다. 도포 장치(4A, 4B) 사이나 노광, 가열 장치(5A∼5C) 사이 등, 웨이퍼(W)에 동일한 처리를 수행하는 동종의 처리 장치들 사이에서, 어느 처리 장치에 캐리어(C)를 반송할지가 결정된다.
로트의 배출 제어 프로그램(32)은 후술하는 예측 경과 시간을 연산하고, 이 연산 결과에 기초하여 도포 장치(4A, 4B)에 반송된 캐리어(C)로부터 이들 도포 장치(4A, 4B)에의 웨이퍼(W) 배출의 개시 타이밍을 제어한다. 캐리어 반송 제어 프로그램(33)은 처리 장치의 선택 프로그램(31)에 의해 선택된 처리 장치에 캐리어(C)를 반송하는 역할을 갖고, 후술하는 캐리어 반송 수단(81, 82)의 동작을 제어하여, 처리 장치간 및 처리 장치내에서의 캐리어(C) 전달을 제어한다.
메인 메모리(25)에는 레시피 저장부(34)와, 상황 정보 데이터 저장부(35)가 형성되어 있다. 레시피 저장부(34)에는, 호스트 컴퓨터(10)로부터 송신된 로트의 ID와, 그 로트에 관해 설정된 레시피와, 그 레시피에 대응하는 처리 파라미터와, 로트를 구성하는 웨이퍼(W) 매수 등의 부대 정보가 서로 대응하여 저장된다.
각 처리 장치로부터 클러스터 컨트롤러(21)에 상황 정보 데이터가 실시간으로 송신되어, 상기 상황 정보 데이터 저장부(35)에 저장되고, 저장되는 상황 정보 데이터가 갱신된다. 이 상황 정보 데이터로는, 각 처리 장치에서의 처리 상황, 메인터넌스 정보 및 장치 내 모듈의 조정에 요하는 시간이 포함된다. 상기 처리 상황으로는, 처리 장치가 가동중인지의 여부의 데이터, 가동하지 않는 경우는 가동 재개 시각, 현재 처리중인 캐리어의 처리가 종료되기까지의 시간, 지금부터 처리될 캐리어의 처리 시간이 포함된다. 메인터넌스 정보로는, 처리 장치를 메인터넌스하는 시각, 상기 메인터넌스 개시부터 상기 메인터넌스가 종료되기까지의 시간이 포함된다.
현재 처리중인 캐리어의 처리가 종료되기까지의 시간이란, 현재 시각으로부터 그 캐리어에 포함되는 로트의 최후 웨이퍼(W)가 캐리어(C)에 복귀되기까지의 시간과, 그 캐리어의 배출 시간의 합계이다. 캐리어의 처리 시간이란, 로트의 선두 웨이퍼가 장치에 반입되고 나서 로트의 최후 웨이퍼가 캐리어에 복귀되기까지의 시간과, 캐리어의 배출 시간과, 캐리어의 준비 시간의 합계이다. 캐리어의 준비 시간 및 배출 시간에 관해서는 후술한다.
장치 내 모듈의 조정에 요하는 시간이란, 처리 장치가 하나의 로트의 처리를 종료한 후, 후속하는 로트를 처리하기 위해 각 모듈의 환경을 조정하는데 요하는 시간이다. 이 모듈 환경의 조정으로는, 예를 들어 가열 모듈에서 웨이퍼(W)를 가열하는 열판의 온도를 조정하는 것이나, 노광, 가열 장치(5)의 노광 조도를 조정하는 것 등이 포함된다. 이 조정에 요하는 시간은 그 조정 전후에 처리되는 로트에 설정된 레시피에 기초하여, 예를 들어 각 처리 장치가 결정한다.
계속해서, 처리 장치군(40)에 관해 설명한다. 도 2는 도포 장치(4A, 4B), 노광, 가열 장치(5A, 5B, 5C), 현상 장치(6A, 6B)의 배치 레이아웃을 나타내고 있다. 이 도면에 나타낸 바와 같이, 도포 장치(4A, 4B), 노광, 가열 장치(5A, 5B, 5C), 현상 장치(6A, 6B)가 이 순으로 일렬로 나열되어 있다. 그리고, 각 장치 사이는 캐리어(C)의 전용 반송로(71)에 의해 접속되어 있다.
도 3에서는, 설명을 쉽게 하기 위해 도 2의 처리 장치군(40)의 구성을 간략화하여, 도포 장치(4A), 노광, 가열 장치(5A) 및 현상 장치(6B)만 나타내고 있다. 각 처리 장치는 캐리어(C)를 반입하기 위한 캐리어 스테이션(72)을 구비한다. 캐리어 스테이션(72)은 로드 포트(73)를 구비하고, 상기 전용 반송로(71)에 의해 인접하는 처리 장치 간의 로드 포트(73, 73)가 접속되어 있다. 도 4는 그렇게 서로 접속된 2개의 로드 포트(73, 73)의 정면을 나타내고 있다. 로드 포트(73)에는 반입반출 스테이지를 이루는 캐리어 적재부(74)가 설치되어 있고, 캐리어 적재부(74)는 캐리어(C)를 유지하는 유지 기구를 구비한다. 캐리어 적재부(74)는 캐리어(C)를 전달하는 후퇴 위치와, 캐리어 스테이션(72) 내에 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 배출하는 전진 위치 사이에서 진퇴한다.
상기 캐리어(C)의 준비 시간은 캐리어 적재부(74)가 후퇴 위치에서 캐리어(C)를 수취하고 나서 전진 위치로 이동하여 장치에 웨이퍼(W)를 배출하기까지의 시간이며, 이 준비 시간에 캐리어 적재부(74)의 유지 기구에 의한 캐리어(C)의 유지, 캐리어(C)의 덮개의 개방 및 캐리어 적재부(74)에 의한 캐리어(C)의 높이 위치가 조정된다. 상기 캐리어(C)의 배출 시간은 캐리어(C)에 모든 웨이퍼(W)가 복귀되고 나서 후퇴 위치로 이동하기까지의 시간이며, 그 동안에 캐리어(C)의 덮개가 폐쇄되고 상기 유지 기구에 의한 캐리어(C)의 유지가 해제된다.
캐리어 적재부(74)의 상방측에는 선반부(75, 76)가 설치되어 있고, 이들 선반부(75, 76)는 처리 장치에 반입된 캐리어(C)를 일시적으로 후퇴시키는 캐리어 대기부를 이루는 후퇴 영역(70)을 구비한다. 처리 장치에 반송된 캐리어(C)는, 캐리어 적재부(74)가 채워져 있는 경우, 캐리어 적재부(74)가 비워질 때까지 후퇴 영역(70)으로 후퇴된다. 그리고, 처리 장치에 반송된 순으로 캐리어(C)는 후퇴 영역(70)으로부터 캐리어 적재부(74)에 반송된다. 또, 도포 장치(4A)를 제외한 처리 장치에 있어서, 선반부(76)의 도포 장치(4A)측은 상기 도포 장치(4A)측에 인접하는 처리 장치로부터 캐리어(C)를 수취하기 위한 반입 포트(77)로서 구성되어 있다.
도포 장치(4A)를 제외한 각 처리 장치에 있어서, 각 처리 장치의 선반부(76)의 도포 장치(4A)측은 상기 도포 장치(4A)측에 인접하는 처리 장치로부터 캐리어(C)를 수취하기 위한 반입 포트(77)로서 구성되어 있다. 또, 도 3에 나타낸 바와 같이 도포 장치(4A)에는 반입 포트(77) 대신, 천정 반송 장치(12)로부터 캐리어(C)를 수취하기 위한 공용 반입 포트(78)가 설치되어 있다.
현상 장치(6B)를 제외한 각 처리 장치에 있어서, 각 처리 장치의 선반부(76)의 현상 장치(6B)측에는, 상기 현상 장치(6B)측에 인접하는 처리 장치에 캐리어(C)를 전달하기 위한 캐리어 이동 적재기를 이루는 장치간 캐리어 반송 수단(81)이 설치되어 있다. 또, 현상 장치(6B)의 선반부(76)에 있어서는, 도 3에 나타낸 바와 같이 장치간 캐리어 반송 수단(81) 대신 천정 반송 장치(12)에 캐리어(C)를 전달하기 위한 공용 반출 포트(79)가 설치되어 있다.
또한 로드 포트(73)는 장치내 캐리어 반송 수단(82)을 구비한다. 이 캐리어 반송 수단(82)은 승강축(83)을 따라서 승강 가능한 베이스부(84)와, 그 베이스부(84)에 접속되며, 그 베이스부(84)에 대하여 수직축 주위에 회전 가능한 다관절의 반송 아암(85)을 구비한다. 이 승강축(83)은, 가이드레일(86)을 따라서 가로 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 캐리어 반송 수단(82)에 의해, 선반부(75, 76)의 후퇴 영역(70), 장치간 캐리어 반송 수단(81) 및 캐리어 적재부(74) 사이에서 캐리어(C)가 전달된다. 도 4 중 화살표 끝에는, 이와 같이 전달이 이루어지기 위해 반송 아암(85)이 캐리어(C)를 파지한 상태를 나타내고 있다.
천정 반송 장치(12)에 관해 설명한다. 천정 반송 장치(12)는, 도 3에 점선으로 나타내는 레일(14)과 반송 장치 본체(15)를 구비하며, 레일(14)을 따라서 반송 장치 본체(15)가 이동한다. 도시를 생략하고 있지만 반송 장치 본체(15)는 캐리어(C)를 파지하는 파지부를 구비하며, 상류측 장치로부터 도포 장치(4A)의 공용 반입 포트(78)에 캐리어(C)를 반송하고, 현상 장치(6B)에 설치되는 공용 반출 포트(79)로부터 캐리어(C)를 반출한다.
계속해서, 도포 장치(4A)에 관해 도 5를 참조하면서 설명한다. 도포 장치(4A)에 설치된 캐리어 스테이션(72)에는 처리 스테이션(101)이 접속되어 있다. 캐리어 스테이션(72) 내에 설치되는 반송 아암(102)은 캐리어 적재부(74)에 적재된 캐리어(C)와, 처리 스테이션(101)에 설치된 전달 모듈(103) 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다. 처리 스테이션(101)에서는, 전달 모듈(103)과 복수단에 적층된 도포 모듈(104)과, 복수단에 적층된 가열 모듈(105)이 주위 방향으로 설치되어 있다. 또, 이들 모듈에 둘러싸이도록 메인 반송 아암(106)이 설치된다. 메인 반송 아암(106)은 승강, 회동 및 진퇴 가능하게 구성되며, 각 모듈 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다. 도포 모듈(104)은 웨이퍼(W)에 약액으로서 레지스트를 공급하여 레지스트막을 형성한다. 도포 장치(4B)는 도포 장치(4A)와 동일하게 구성되어 있기 때문에, 상세한 설명을 생략한다.
현상 장치(6A, 6B)는 도포 모듈(104)에 대응하는 현상 모듈(107)을 구비하고, 이 현상 모듈(107)에서는, 웨이퍼(W)에 레지스트 대신 현상액이 공급된다. 또, 도포 장치(4)의 가열 모듈(105)에 대응하는 가열 모듈(108)이 설치되어 있다. 이러한 차이를 제외하고 현상 장치(6A, 6B)는 도포 장치(4A)와 동일하게 구성되어 있다.
계속해서, 노광, 가열 장치(5A)에 관해 도 6을 참조하면서 설명한다. 노광, 가열 장치(5A)가 구비한 캐리어 스테이션(72)에는 처리 스테이션(111)이 접속되어 있고, 캐리어 스테이션(72) 내에 설치되는 반송 아암(102)은 캐리어 적재부(74)에 적재된 캐리어(C)와 처리 스테이션(111)에 설치된 전달 모듈(113) 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다. 처리 스테이션(111)에서는, 전달 모듈(113)과, 복수단에 적층된 가열 모듈(114)과, 전달 모듈(115)이 주위 방향으로 설치되고, 이들 모듈에 둘러싸이도록 메인 반송 아암(116)이 설치된다.
메인 반송 아암(116)은 승강, 회동, 진퇴 가능하게 구성되고, 각 모듈 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다. 처리 스테이션(111)에는, 인터페이스 블록(117)을 통해 노광 장치(118)에 접속되어 있다. 인터페이스 아암(119)은 전달 모듈(115)과 노광 장치(118) 사이에서 웨이퍼(W)를 전달한다. 노광, 가열 장치(5B, 5C)는, 노광, 가열 장치(5A)와 동일하게 구성되어 있다.
처리 장치군(40)의 각 처리 장치 간의 캐리어(C) 전달에 관해 도 7을 참조하면서 설명한다. 상기 장치간 캐리어 반송 수단(81)은 다관절 아암으로서 구성되며, 장치내 캐리어 반송 수단(82)에 의해 아암의 선단부에 캐리어(C)가 전달되면, 이 선단부는 캐리어(C)를 유지한 상태로, 현상 장치(6)측에 인접하는 처리 장치의 반입 포트(77)를 향해 이동한다. 반입 포트(77)는, 예를 들어 승강 가능한 지지 핀(81a)을 구비하며, 지지 핀(81a)과 장치간 캐리어 반송 수단(81)의 협동 작업에 의해 상기 반입 포트(77)에 캐리어(C)가 전달된다.
캐리어 반송 수단(81, 82) 및 반입 포트(77)의 전원이나 컨트롤러는 이들 반송 수단 및 포트가 설치되는 처리 장치의 전원이나 컨트롤러로부터 분리되어 있다. 이에 따라, 캐리어(C)가 반송되는 경로의 처리 장치에서 전원이 떨어지거나, 메인터넌스가 이루어지거나, 갑자기 처리가 정지하더라도, 이 처리 장치에서 처리되지 않은 로트를 포함하는 캐리어(C)는 다음 공정을 수행하는 처리 장치에 반송되도록 되어 있다.
계속해서, 기판 처리 시스템(1)의 작용에 관해 도 8의 흐름을 참조하면서 설명한다. 이 예에서는 도포 장치(4)에서의 로트의 처리 종료로부터 노광 가열 장치에서의 상기 로트의 처리 개시까지의 경과 시간이 제어된다. 호스트 컴퓨터(10)가 상류측 장치로부터 캐리어(C)의 로트의 처리가 종료된 것을 나타내는 신호를 수신한다(단계 S1). 호스트 컴퓨터(10)가 천정 반송 장치(12)에 신호를 송신하고, 천정 반송 장치(12)는 상류측 장치에서 캐리어(C)를 수취하여, 공용 반입 포트(78)에 캐리어(C)를 반입한다(단계 S2).
호스트 컴퓨터(10)가, 클러스터 컨트롤러(21)에 상기 캐리어(C) 내의 로트의 ID, 레시피, 그 레시피에 대응하는 처리 파라미터 및 웨이퍼(W)의 매수 등의 부대정보를 송신하고, 이들 데이터가 클러스터 컨트롤러(21)의 메인 메모리(25)에 저장된다(단계 S3).
그리고, 클러스터 컨트롤러(21)는 보다 빠르게 상기 로트의 처리를 개시할 수 있는 도포 장치(4)를 선택한다. 이 도포 장치(4)의 선택에 관해, 일례로서 도 9의 타임차트를 참조하면서 설명한다. 공용 반입 포트(78)에 상기 캐리어(C)가 반입된 시각 t0에 있어서, 예를 들어 도포 장치(4A)에는 로트 A, B가 이미 반입되어 있고, 도포 장치(4B)에는 로트 C, D가 이미 반입되어 있는 것으로 하고, 이번에 새롭게 기판 처리 시스템(1)에 반입되는 로트는 로트 E로 한다. 또, 도포 장치(4A, 4B)에서는 로트 A, B가 처리중인 것으로 한다.
클러스터 컨트롤러(21)는 로트 A, B의 캐리어의 처리가 종료되기까지의 시간, 각 로트 처리 사이에서 모듈 조정에 요하는 시간, 로트 C, D의 캐리어의 처리 시간에 기초하여, 로트 C, D의 캐리어의 처리가 종료되는 시각 t1, t2를 각각 연산한다. 계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는 로트 E에 관해 웨이퍼(W)의 매수나 레시피, 처리 파라미터 등의 데이터를 도포 장치(4A, 4B)에 송신한다. 도포 장치(4A, 4B)는 송신된 데이터에 기초하여 로트 E의 캐리어의 처리 시간을 연산하고 모듈 조정에 요하는 시간을 연산한다. 클러스터 컨트롤러(21)는 연산된 이들 정보를 수신하여, 도포 장치(4A, 4B)에서 각각 로트 E를 처리한다고 한 경우에서의 로트 E의 캐리어의 처리 종료 시각 t3, t4를 연산한다. 여기서는 상기 조정의 개시 시각은 로트 C, D의 캐리어의 처리가 종료되는 시각 t1, t2인 것으로 한다.
계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는, 시각 t1-t3 사이, 시각 t2-t4 사이가 각각 장치에서 메인터넌스를 수행하는 시간과 중복되지 않는지의 여부를 판정한다. 중복되지 않으면, 시각 t1, t2 후에 상기 조정이 끝나는 시각 t5, t6을 로트 E의 처리 개시 시각으로 한다. 시각 t1-t3 사이, 시각 t2-t4 사이가 각각 장치에서 메인터넌스를 수행하는 시간과 중복되는 경우, 예를 들어 상기 메인터넌스 종료 시에서 상기 조정이 이루어지는 하여, 다시 로트 E의 캐리어의 처리 개시 시각 t5, t6을 연산한다. 도 9의 예에서는 시각 t1-t3 사이가 도포 장치(4A)에서 메인터넌스를 수행하는 시간과 중복된다. 따라서, 도면 중 화살표로 나타낸 바와 같이, 메인터넌스 종료 후에, 상기 조정, 로트 E의 캐리어의 처리가 순차적으로 이루어지도록, 이들 조정 및 캐리어의 처리 시간을 어긋나게 하여 상기 처리 개시 시각 t5가 연산된다.
그리고, 클러스터 컨트롤러(21)는 도포 장치(4A)에서의 로트 E의 캐리어의 처리 개시 시각 t5와, 도포 장치(4B)에서의 로트 E의 캐리어의 처리 개시 시각 t6 중 어느 쪽이 빠른 시각인지 판정하여, 시각이 빠른 쪽의 도포 장치(4)에 로트 E를 포함하는 캐리어(C)를 반송하도록 결정한다.
이와 같이 클러스터 컨트롤러(21)는 도포 장치(4A, 4B)에 있어서, 먼저 도포 장치(4A, 4B)에서 처리되는 것이 결정되어 있는 로트의 처리 상황에 기초하여, 각 도포 장치에서 각각 로트 E를 처리하기 위해 조정을 수행하는 것이 가능한 시각을 검출한다. 그리고, 각 도포 장치에 있어서, 상기 로트 E의 조정 시간 및 로트 E의 처리 시간이 메인터넌스 시간과 중복되는지의 여부를 판정한다. 중복되는 경우는, 메인터넌스 종료 시각에 조정을 수행하는 시각을 어긋나게 하고, 각 장치(4A, 4B)에서 로트 E의 처리가 가능해지는 시각을 검출하여, 그 시각에 기초하여 로트 E의 반송처를 결정한다.
도포 장치(4)의 결정 방법에 관해 설명했지만, 클러스터 컨트롤러(21)는 노광, 가열 장치(5) 및 현상 장치(6)에 관해서도, 도포 장치(4)와 마찬가지로 각 처리 장치에서의 처리 상황, 메인터넌스 정보 및 조정 시간에 기초하여, 로트 E의 캐리어(C)의 처리 개시 시각을 결정한다. 그리고, 노광, 가열 장치(5A∼5C) 중, 처리 개시 시각이 가장 빠른 장치에 로트 E의 캐리어(C)를 반송하도록 결정한다. 또, 현상 장치(6A∼6B) 중, 처리 개시 시각이 가장 빠른 장치에 로트 E의 캐리어를 반송하도록 결정한다(단계 S4). 즉, 가장 빠르게 로트 E의 처리를 종료할 수 있도록, 처리 장치를 선택한다.
클러스터 컨트롤러(21)는 단계 S4에서 선택된 각 처리 장치에 송신된 로트 E의 처리 파라미터로 처리를 수행하도록 지시한다. 그리고, 공용 반입 포트(77)로부터 캐리어 반송 수단(81 및 82)을 통해 선택한 도포 장치(4)[도 9의 경우는 도포 장치(4B)]의 캐리어 적재부(74) 또는 후퇴 영역(70)에 캐리어(C)를 반송한다(단계 S5). 후퇴 영역(70)에 캐리어(C)를 반송한 경우는, 캐리어 적재부(74)가 비워지는 대로, 상기 적재부(74)에 캐리어(C)가 반송된다.
계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는 선택된 도포 장치(4)에서의 로트 E의 캐리어의 처리 종료 시각(도 9의 예에서는 시각 t4가 로트 E의 처리 종료 시각이다)과, 선택된 노광, 가열 장치(5)의 로트 E의 처리 개시 시각의 차분을 연산하여, 도포 처리 종료부터 노광 처리 개시까지의 예측 경과 시간 Ta1을 연산한다(단계 S6).
계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는 상기 예측 경과 시간 Ta1이 미리 설정된 시간 Ta0 이내인지의 여부를 판정한다(단계 S7). 단계 S7에서 예측 경과 시간 Ta1이 설정 시간 Ta0 이내라고 판정된 경우는, 선택된 도포 장치(4)에서, 로트 E의 바로 앞의 로트(도 9에서는 로트 D)의 캐리어의 처리, 로트 E를 처리하기 위한 모듈의 조정이 순차적으로 끝나고, 로트 E의 캐리어가 처리 가능해진 시점에서, 그 캐리어의 처리를 개시한다(단계 S8). 단계 S7에서 예측 대기 시간 Ta가 설정 시간 T0 이내가 아니라고 판정된 경우는, 로트 E가 처리 가능해진 시점으로부터 (Ta1-Ta0) 경과 후에 로트 E의 처리를 개시한다(단계 S9).
이후, 웨이퍼(W)의 반송 경로를 나타낸 도 10도 참조하면서 설명한다. 캐리어(C)로부터 배출된 웨이퍼(W)는 도포 장치(4)에서 전달 모듈(103)→도포 모듈(104)의 순으로 반송되어, 도포 모듈(104)에서 웨이퍼(W)에 레지스트가 도포된다. 계속해서 웨이퍼(W)는 가열 모듈(105)에서 가열 처리를 받아, 전달 모듈(103)→캐리어(C)의 순서로 반송된다.
도포 장치(4)에서 캐리어(C) 내의 모든 웨이퍼(W)에 관해 처리가 종료되면, 캐리어(C)는 반송 수단(81, 82)에 의해 선택된 노광, 가열 장치(5)의 캐리어 적재부(74)에 상기 캐리어(C)를 반송한다. 노광, 가열 장치(5)에서 웨이퍼(W)의 처리가 가능하게 되면, 캐리어(C)에서 웨이퍼(W)가 순차적으로 배출된다. 상기 웨이퍼(W)는, 전달 모듈(113)→전달 모듈(115)→노광 장치(118)의 순으로 반송되어, 노광 처리를 받는다. 노광 처리를 받은 웨이퍼(W)는 전달 모듈(115)→가열 모듈(114)의 순으로 반송되어, 가열 모듈(114)에서 가열 처리(포스트 익스포져 베이크)를 받는다. 가열 처리를 받은 웨이퍼(W)는 전달 모듈(113)을 경유하여 캐리어(C)에 복귀된다.
계속해서, 캐리어(C)는 선택된 현상 장치(6)에 반송된다. 그리고, 캐리어(C)에서 배출된 웨이퍼(W)는 현상 장치(6)의 전달 모듈(103)→현상 모듈(107)의 순으로 반송되어, 현상 처리된다. 계속해서 웨이퍼(W)는 가열 모듈(108)에서 가열 처리(포스트 베이크)를 받아, 전달 모듈(103)→캐리어(C)의 순서로 반송된다(단계 S10).
모든 로트 E의 웨이퍼(W)가 캐리어(C)에 반송된 후, 캐리어(C)는 공용 반출 포트(79)에 반송되고(단계 S11), 클러스터 컨트롤러(21)는 캐리어(C)의 반출 준비가 가능하다는 취지를 나타내는 신호를 호스트 컴퓨터(10)에 출력한다. 호스트 컴퓨터(10)가 천정 반송 장치(12)에 신호를 송신하고, 천정 반송 장치(12)가 공용 반출 포트(79)로 캐리어(C)를 수취해서, 하류측의 장치에 그 캐리어(C)를 반송한다(단계 S12).
이 기판 처리 시스템(1)에 따르면, 클러스터 컨트롤러(21)가 처리 장치의 로트의 처리 상황 및 메인터넌스 상황에 기초하여, 동종의 처리 장치 중에서 로트의 처리 개시 시점이 빠른 장치를 선택한다. 이것에 의해, 예를 들어 도포, 현상 장치에 노광 장치가 접속된 기판 처리 시스템에 비해, 로트의 반송처를 전술한 바와 같이 처리 장치의 상황에 따라서 선택할 수 있기 때문에, 각 처리 장치에서 효율적으로 로트의 처리가 이루어질 수 있어, 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 선택된 도포 장치(4)에서의 처리 종료 시각으로부터 노광 처리 개시 시각까지의 예측 경과 시간 Ta1을 계산하고, 그 예측 경과 시간에 기초하여 웨이퍼(W)의 배출이 제어된다. 따라서, 웨이퍼(W)에 레지스트 도포 후, 노광하기까지의 시간이 길어지는 것이 억제되기 때문에, 웨이퍼(W)에 쓸데없이 처리가 이루어지는 것을 방지할 수 있어, 비용 저하를 도모할 수 있다.
이 기판 처리 시스템(1)에 있어서는, 천정 반송 장치(12)가 하나의 캐리어(C)에 대하여 공용 반입 포트(78)에 반입할 때와, 공용 반출 포트(79)로부터 반출할 때의 2회만 액세스한다. 그리고, 각 처리 장치 사이에서 캐리어(C)는 기판 처리 시스템(1)의 전용 장치간 캐리어 반송 수단(81)에 의해 전달된다. 따라서, 천정 반송 장치(12)가 처리 장치마다 웨이퍼(W)를 반입반출하는 경우보다, 천정 반송 장치(12)의 부하가 가벼워지고, 천정 반송 장치(12)의 동작 상황에 상관없이 처리 장치 사이에서 캐리어(C)를 반송할 수 있기 때문에, 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.
계속해서, 제1 실시형태의 제1 변형예의 흐름을 도 11에 나타낸다. 이 변형예에서는 레지스트 도포 처리 종료 후부터 노광 처리 개시까지의 예측 경과 시간이 제어되는 대신, 노광, 가열 처리 종료 후부터 현상 처리 개시까지의 예측 경과 시간이 제어된다. 우선, 이미 전술한 단계 S1∼S5에 따라서 처리가 행해진다. 그리고, 클러스터 컨트롤러(21)는 제1 실시형태와 마찬가지로, 각 처리 장치에서의 처리 상황, 메인터넌스 정보 및 조정 시간에 기초하여, 임의의 로트의 캐리어(C)의 노광, 가열 장치의 처리 종료 시점과, 현상 처리 개시 시점을 연산한다. 또한, 상기 노광 가열 처리 종료 시점부터 현상 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간 Tb1을 연산한다(단계 S101). 계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는 연산된 예측 경과 시간 Tb1이 미리 설정된 시간 Tb0 이내인지의 여부를 판정한다(단계 S102).
단계 S102에서 예측 경과 시간 Tb1이 설정 시간 Tb0 이내라고 판정된 경우는, 상기 캐리어(C)가 처리 가능해진 시점에서, 선택된 도포 장치(4)에서 로트의 처리를 개시한다(단계 S103). 단계 S103에서 예측 경과 시간 Tb1이 설정 시간 Tb0 이내가 아니라고 판정된 경우는, 상기 캐리어(C)가 처리 가능해진 시점으로부터 (Tb1-Tb0) 경과 후에 로트 E의 처리를 개시한다(단계 S104). 그 후에는, 이미 전술한 단계 S10∼S12에 따라서 처리가 진행된다.
제1 실시형태의 제2 변형예의 흐름을 도 12에 나타낸다. 이 제2 변형예에서는, 레지스트 도포 처리 종료 후부터 노광 처리 개시까지의 예측 경과 시간 및 노광, 가열 처리 종료 후부터 현상 처리 개시까지의 예측 경과 시간이 모두 제어된다. 우선, 이미 전술한 단계 S1∼S5에 따라서 처리가 행해지고, 그 후 클러스터 컨트롤러(21)는 제1 실시형태의 단계 S6과 마찬가지로, 각 처리 장치에서의 처리 상황, 메인터넌스 정보 및 조정 시간에 기초하여, 임의의 로트의 캐리어(C)에서의 도포 장치에서의 처리 종료 시점으로부터 노광 개시 시점까지의 예측 경과 시간 Ta1을 계산한다. 또, 클러스터 컨트롤러(21)는 제1 변형예의 단계 S101과 마찬가지로, 노광 가열 처리 종료 시점부터 현상 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간 Tb1을 연산한다(단계 S201).
계속해서, 클러스터 컨트롤러(21)는 연산된 예측 경과 시간 Ta1이 미리 설정된 시간 Ta0 이내인지의 여부를 판정한다. 또한, 예측 경과 시간 Tb1이 미리 설정된 시간 Tb0 이내인지의 여부를 판정한다(단계 S202).
예측 경과 시간 Ta1이 설정 시간 Ta0 이내이고, 예측 경과 시간 Tb1이 설정 시간 Tb0 이내라고 판정되었을 때에는, 선택된 도포 장치(4)에서 상기 로트가 처리 가능해진 시점에서, 그 로트의 처리를 개시한다(단계 S203).
예측 경과 시간 Ta1이 설정 시간 Ta0을 초과했거나, 또는 예측 경과 시간 Tb1이 설정 시간 Tb0을 초과한 경우, 클러스터 컨트롤러(21)는 그 초과한 시간을 연산한다. 그리고, 선택된 도포 장치(4)에서 상기 로트가 처리 가능해진 시점으로부터, 연산한 시간이 경과했을 때 상기 로트의 처리를 개시한다(단계 S204).
예측 경과 시간 Ta1이 설정 시간 Ta0을 초과했고, 예측 경과 시간 Tb1이 설정 시간 Tb0을 초과한 경우, 클러스터 컨트롤러(21)는 각 예측 경과 시간 Ta1, Tb1에 관해 각각 초과한 시간을 연산한다. 그리고, 선택된 도포 장치(4)에서, 상기 로트가 처리 가능해진 시점으로부터, 초과한 시간이 긴 쪽의 시간이 경과했을 때 상기 로트의 처리를 개시한다(단계 S204). 그 후에는, 이미 전술한 단계 S10∼S12에 따라서 처리가 진행된다.
기판 처리 시스템(1)에 있어서, 로트에 관해, 상기와 같이 어느 공정의 처리를 종료하고 나서, 어느 공정의 처리를 개시하기까지의 시간을 제어할지는, 예를 들어 사용자가 임의로 선택할 수 있도록 되어 있다.
(제2 실시형태)
도 13에는 제2 실시형태의 기판 처리 시스템(121)의 레이아웃을 나타내고 있다. 도포 장치(4A, 4B), 노광, 가열 장치(5A, 5B), 현상 장치(6A, 6B), 검사 장치(7A, 7B)가 이 순으로 접속되어 있다.
검사 장치(7A, 7B)는 현상 후의 웨이퍼(W)의 표면 상태를 검사하는 검사 모듈을 구비하고, 검사 장치(7A, 7B)는 처리 스테이션(101)에 도포 모듈 대신 상기 검사 모듈이 적재되어 있는 것을 제외하면, 도포 장치(4A)와 동일하게 구성되어 있다. 현상 후의 웨이퍼(W)는 검사 장치(7A 또는 7B)에서 검사된다. 캐리어(C)는 도포 장치(4A)측으로부터 검사 장치(7B)측을 향해 반송되고, 검사 장치(7B)의 캐리어 스테이션(72)에는 공용 반출 포트(79)가 설치되어 있다.
이 기판 처리 시스템(121)에 있어서는, 기판 처리 시스템(1)과 마찬가지로 각 장치로부터 메인터넌스 정보와 웨이퍼(W)의 처리 상황과 레시피에 기초하여 결정되는 조정 시간이 클러스터 컨트롤러(21)에 송신되고, 클러스터 컨트롤러(21)는 이들에 기초하여, 로트의 반송처를 결정한다. 도포 장치(4), 노광, 가열 장치(5), 현상 장치(6) 외에 검사 장치에 관해서도 7A, 7B 중 어느 쪽에 로트를 반송할지, 처리 개시 시각이 빠른 쪽으로 결정한다. 그 후에는, 제1 실시형태와 마찬가지로 도포 장치(4)에 대한 로트의 배출이 제어된다.
이 기판 처리 시스템(121)에 있어서는, 제1 실시형태의 각 예와 마찬가지로, 검사 장치의 처리 개시 시점과, 그 상류측의 처리 장치의 처리 종료 시점 사이의 예측 경과 시간을 연산하고, 그 예측 경과 시간에 따라서 도포 장치에 웨이퍼(W)를 배출하도록 제어할 수 있다.
검사 장치(7A, 7B) 대신 현상 처리 후의 웨이퍼(W)에 세정 처리를 수행하는 복수의 세정 장치를 설치할 수도 있다. 세정 장치는 검사 모듈 대신, 웨이퍼(W)에 세정액을 공급하여 세정하는 세정 모듈을 구비한 것 외에는 검사 장치(7A, 7B)와 동일한 구성이다. 세정 장치는 검사 모듈(7A, 7B)의 전단에 설치되어도 좋고, 검사 모듈(7A, 7B)의 후단에 설치되어도 좋다.
클러스터 컨트롤러(21) 및 호스트 컴퓨터(10)의 접속으로는 도 1의 예에 한정되지 않고, 도 14와 같이 접속될 수도 있다. 이 예에서는 클러스터 컨트롤러(21)가 호스트 컴퓨터(10)의 하류에 처리 장치군(40)과 병렬로 접속되어 있다. 이 예에서는 호스트 컴퓨터(10)로부터 로트의 ID, 로트의 레시피 및 처리 파라미터가 클러스터 컨트롤러(21) 및 처리 장치군에 송신된다. 클러스터 컨트롤러(21)가 고장난 경우에는, 상기와 같은 처리 장치군(40)의 선택, 예측 경과 시간에 기초한 로트의 배출 제어는 할 수 없게 되지만, 처리 장치군(40)이 개별적으로 동작하여, 처리 장치 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하여 처리할 수 있다.
상기 각 예에서는 장치간 캐리어 반송 기구(81)를 설치하고 있지만, 이러한 캐리어 반송 기구를 설치하는 대신 천정 반송 장치(12)를 이용하여 각 장치 사이에서 캐리어(C)를 반송할 수 있다. 예를 들어 각 처리 장치에 캐리어 반송 기구(81) 대신 반출 포트를 설치하여, 처리 장치에서 처리를 끝낸 캐리어(C)를 그 반출 포트에 반송한다. 그리고, 천정 반송 장치(12)가 상기 반출 포트로부터 캐리어(C)를 수취하여, 선택된 후단의 처리 장치의 반입 포트(77)에 그 캐리어(C)를 적재하도록 해도 좋다.
예를 들어, 각 실시형태에 있어서, 클러스터 컨트롤러(21)는 각 처리 장치의 메인터넌스 시간에 상관없이, 로트의 처리 상황 및 조정 시간에 기초하여, 로트의 반송처의 처리 장치를 결정하고, 또한 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)의 배출을 제어해도 좋다. 이하, 그와 같은 일례에 관해 설명한다. 이 예에서는 제1 실시형태와 마찬가지로 도포 장치(4)에서의 처리 후부터 노광, 가열 장치(5)의 처리 개시까지의 시간이 제어되어 있는 것으로 한다.
제1 실시형태의 도 9와 같이 로트 A∼로트 D의 처리 시간 및 각 로트 C∼로트 E를 처리하기 위한 조정 시간이 설정되어 있다고 한 경우, 메인터넌스 시간을 고려하지 않으면, 로트 E가 처리 가능해지는 시각은 도포 장치(4A) 쪽이 빠르기 때문에, 클러스터 컨트롤러(21)는 그 도포 장치(4A)에 로트 E의 캐리어를 반송하도록 결정한다. 그리고, 상기 단계 S5∼S6에 따라서, 로트 E의 캐리어가 도포 장치(4A)에 반송되어, 예측 경과 시간 Ta1이 연산된다.
여기서, 각 도포 장치(4)에서는, 예를 들어 로트의 조정 시간 및 처리 시간에 메인터넌스 시간이 중복되면, 메인터넌스의 개시 시각을 그 로트의 처리 종료 시각과 어긋나도록 변경하도록 구성되어 있는 것으로 한다. 구체적으로, 상기 로트 E에 관해 보면 도 15의 (a)에 나타낸 바와 같이, 도포 장치(4A)의 메인터넌스 시간이 상기 로트 E의 조정 시간 및 처리 시간과 중복되기 때문에, 도포 장치(4A)는 도 15의 (b)에 나타낸 바와 같이 로트 E의 처리가 종료되는 시각 t3으로부터 메인터넌스가 개시되도록 메인터넌스 시간의 설정을 변경한다. 로트 E에 관해서는, 그 후, 이미 전술한 S7 이후의 단계에 따라서 처리가 이루어진다.
이 설정 변경에 의해 발생하는 도포 장치(4A)에 반입되는 후속하는 로트(도 15에서는 로트 F라고 함)의 처리 개시 시각의 변경에 관한 정보가 도포 장치(4A)로부터 클러스터 컨트롤러(21)에 송신된다. 클러스터 컨트롤러(21)는 이와 같이 갱신된 도포 장치(4A)의 처리 상황에 기초하여, 반송처가 결정되지 않은 후속하는 로트에 관해, 로트 E와 마찬가지로 반송처를 결정하여 처리를 수행한다. 이러한 실시형태에서도, 상기 각 실시형태와 동일한 효과가 있지만, 제1 실시형태와 같이 클러스터 컨트롤러(21)가 메인터넌스 시간도 참조하여 처리 장치를 선정하고 예측 경과 시간 Ta1을 연산함으로써, 보다 확실하게 웨이퍼(W)의 배출 시각을 관리할 수 있어, 웨이퍼(W)에 쓸데없는 처리가 행해지는 것을 억제할 수 있다.
1 : 기판 처리 시스템 10 : 호스트 컴퓨터
11 : 자동 반송 제어부 12 : 천정 반송 장치
21 : 클러스터 컨트롤러 25 : 메인 메모리
31 : 선택 프로그램 32 : 배출 제어 프로그램
33 : 캐리어 반송 제어 프로그램 40 : 처리 장치군
4A, 4B : 도포 장치 5A, 5B, 5C : 노광, 가열 장치
6A, 6B : 현상 장치 71 : 전용 반송로
72 : 캐리어 스테이션 81 : 장치간 캐리어 반송 수단
82 : 장치내 캐리어 반송 수단

Claims (10)

  1. 기판을 로트마다 수납한 캐리어로부터 기판을 취출하여 처리를 수행하는 기판 처리 시스템에 있어서,
    (1) 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비한 것,
    (2) 상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것,
    (3) 처리 장치군에 대하여 공통화되고 자동 반송 장치로부터 캐리어를 수취하기 위한 반입 포트, 및 처리 장치군에 대하여 공통화되고 자동 반송 장치에 캐리어를 전달하기 위한 반출 포트를 설치한 것,
    (4) 서로 인접한 처리 장치들 사이에 캐리어를 반송하는 전용 반송 기구를 설치한 것,
    (5) 상기 처리 장치군에 대하여 관리하고 상기 캐리어 이동 적재기 및 상기 전용 반송 기구를 제어하는 그룹 컨트롤러를 설치한 것,
    (6) 상기 자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 호스트 컴퓨터를 설치한 것
    을 포함하고,
    (7) 상기 그룹 컨트롤러는,
    (7-1) 상기 반입 포트에 반입된 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 결정하는 단계,
    (7-2) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하고, 예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 결정하는 단계,
    (7-3) 상기 복수의 처리 장치에 의한 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를 반출 포트에 반출하는 단계
    를 실행하기 위한 프로그램을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  2. 기판을 로트마다 수납한 캐리어로부터 기판을 취출하여 처리를 수행하는 기판 처리 시스템에 있어서,
    (1) 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비한 것,
    (2) 상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것,
    (3) 상기 처리 장치군에 대하여 관리하고 상기 캐리어 이동 적재기를 제어하는 그룹 컨트롤러를 설치한 것,
    (4) 상기 각 반입반출 스테이지에 상기 캐리어를 반송하기 위한 자동 반송 장치에 의해 운반되는 그 캐리어 내의 기판에 관해 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 호스트 컴퓨터를 설치한 것
    을 포함하고,
    (5) 상기 그룹 컨트롤러는,
    (5-1) 상기 자동 반송 장치에 의해 반송되는 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 결정하는 단계,
    (5-2) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 자동 반송 장치에 의해 최초 처리 장치의 캐리어 대기부에 캐리어를 반입하는 단계,
    (5-3) 자동 반송 장치에 의해, 상류측의 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 하류측의 처리 장치의 캐리어 대기부에 순차적으로 캐리어를 반송하는 단계,
    (5-4) 결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하고, 예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 결정하는 단계,
    (5-5) 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 최종 처리를 수행한 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 자동 반송 장치에 의해 반출하는 단계
    를 실행하기 위한 프로그램을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리 장치의 조합 및 상기 예측 경과 시간은 각 처리 장치에서의 메인터넌스 정보에 기초하여 추가적으로 결정되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 검사하는 복수의 검사 장치를 포함하고,
    상기 검사 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 검사하는 검사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 세정하는 복수의 세정 장치를 포함하고,
    상기 세정 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 세정하는 세정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.
  6. 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비하며,
    상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것인 기판 처리 방법에 있어서,
    로트마다 기판을 수납한 캐리어를 자동 반송 장치에 의해, 처리 장치군에 대하여 공통화된 반입 포트에 반입하는 공정과,
    자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 호스트 컴퓨터로부터 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 공정과,
    상기 반입 포트에 반입된 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
    결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 계산하는 공정과,
    예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
    상류측의 처리 장치에 의해 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 서로 인접한 처리 장치들 사이에 캐리어를 반송하는 전용 반송기를 통해 하류측의 처리 장치에 반송하는 공정과,
    상기 복수의 처리 장치에 의한 일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 처리 장치군에 대하여 공통화된 반출 포트에 반출하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  7. 기판에 대하여 레지스트막을 형성하기 위한 복수의 도포 장치와, 기판 상의 레지스트막을 노광하기 위한 복수의 노광 장치와, 노광 후의 기판을 현상액에 의해 현상하기 위한 복수의 현상 장치를 포함하는 처리 장치군을 구비하며,
    상기 도포 장치, 노광 장치 및 현상 장치는 각각, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판에 대하여 목적으로 하는 처리를 수행하는 처리부를 포함하는 것인 기판 처리 방법에 있어서,
    로트마다 기판을 수납한 캐리어를 자동 반송 장치에 의해 반송하는 공정과,
    자동 반송 장치에 의해 운반되는 캐리어 내의 기판에 관해 호스트 컴퓨터로부터 처리 레시피를 그룹 컨트롤러에 대하여 송신하는 공정과,
    상기 캐리어 내의 기판에 대하여 순차적으로 복수의 처리 장치에 의해 처리가 이루어졌을 때 최종 처리 장치에서 처리가 종료되는 시점이 가장 빠른 처리 장치의 조합을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
    결정된 처리 장치의 조합 중에서 최상류측에 위치하는 처리 장치의 캐리어 대기부에 자동 반송 장치에 의해 캐리어를 전달하는 공정과,
    결정된 처리 장치의 조합에 있어서, 미리 결정된 하나의 처리 장치에 의한 로트의 처리 종료 시점부터 그 로트에 관해, 미리 결정된 하류측의 처리 장치에 의한 처리 개시 시점까지의 예측 경과 시간을, 기판의 처리 레시피 및 각 처리 장치에서의 처리 상황에 기초하여 상기 그룹 컨트롤러가 계산하는 공정과,
    예측 경과 시간이 설정 시간을 초과했을 때에는, 예측 경과 시간이 설정 시간 내에 수습되도록 상기 하나의 처리 장치 또는 그 하나의 처리 장치보다 상류측의 처리 장치에 기판을 배출하는 타이밍을 상기 그룹 컨트롤러가 결정하는 공정과,
    자동 반송 장치에 의해, 상류측의 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 하류측의 처리 장치의 캐리어 대기부에 순차적으로 캐리어를 반송하는 공정과,
    일련의 처리가 종료된 기판을 수납한 캐리어를, 최종 처리를 수행한 처리 장치의 캐리어 대기부로부터 자동 반송 장치에 의해 반출하는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 처리 장치의 조합의 결정 및 상기 예측 경과 시간의 결정은 각 처리 장치에서의 메인터넌스 정보에 기초하여 추가적으로 결정되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  9. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 검사하는 복수의 검사 장치를 포함하고,
    상기 검사 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 검사하는 검사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  10. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 처리 장치군은 현상 장치에 의해 현상된 기판을 세정하는 복수의 세정 장치를 포함하고,
    상기 세정 장치는, 캐리어가 반입반출되는 반입반출 스테이지와, 캐리어를 대기시키기 위한 캐리어 대기부와, 상기 반입반출 스테이지와 캐리어 대기부 사이에서 캐리어를 이동시켜 적재하는 캐리어 이동 적재기와, 상기 반입반출 스테이지에 적재된 캐리어에 대하여 기판을 전달하는 전달 기구와, 이 전달 기구에 의해 전달된 기판을 세정하는 세정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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