CN114068357A - 基板处理装置和搬送时间表制作方法 - Google Patents

基板处理装置和搬送时间表制作方法 Download PDF

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Abstract

本公开涉及一种基板处理装置和搬送时间表制作方法。基板处理装置具备多个处理部和搬送机构，多个搬送对象体按预先决定的搬入顺序被搬入基板处理装置内，基板处理装置还具备控制部，所述控制部获取工艺任务，所述工艺任务用于将搬送对象体通过所述搬送机构搬送到至少一个所述处理部并针对该搬送对象体进行处理，在一搬送对象体与在其之前先被搬入所述基板处理装置内的先搬入的搬送对象体的所述工艺任务不同、且彼此的所述工艺任务包括同种的处理的情况下，所述控制部在开始将所述一搬送对象体向所述处理部搬送之前，判定能否进行在针对所述先搬入的搬送对象体的所述同种的处理完成之前针对所述一搬送对象体先行实施所述同种的处理的先行实施。

Description

基板处理装置和搬送时间表制作方法
技术领域
本公开涉及一种基板处理装置和搬送时间表制作方法。
背景技术
在专利文献1中，在计算出的最小等待循环小于与执行先投入基板的规定的处理过程所需的循环搬送的次数对应的标准等待循环的情况下，使搬送机器人对后投入的基板的最初的循环搬送在先投入的基板的循环搬送之后在最小等待循环以上且小于标准等待循环的范围内延迟。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平8-153765号公报
发明内容
发明要解决的问题
本公开所涉及的技术进一步提高对基板进行处理的基板处理装置中的吞吐量。
用于解决问题的方案
本公开的一个方式是对基板进行处理的基板处理装置，所述基板处理装置具备：多个处理部，各处理部进行规定的处理；以及搬送机构，其对搬送对象体进行搬送，多个搬送对象体按预先决定的搬入顺序被搬入所述基板处理装置内，所述基板处理装置还具备控制部，所述控制部获取工艺任务，所述工艺任务用于将搬送对象体通过所述搬送机构搬送到至少一个所述处理部并针对该搬送对象体进行处理，其中，在一搬送对象体与在其之前先被搬入所述基板处理装置内的先搬入的搬送对象体的所述工艺任务不同、且彼此的所述工艺任务包括同种的处理的情况下，所述控制部在开始将所述一搬送对象体向所述处理部搬送之前，判定能否进行在针对所述先搬入的搬送对象体的所述同种的处理完成之前针对所述一搬送对象体先行实施所述同种的处理的先行实施。
发明的效果
根据本公开，能够进一步提高对基板进行处理的基板处理装置中的吞吐量。
附图说明
图1是表示本实施方式所涉及的基板处理装置的内部结构的概要的说明图。
图2是表示本实施方式所涉及的基板处理装置的内部结构的概要的主视图。
图3是表示本实施方式所涉及的基板处理装置的内部结构的概要的后视图。
图4是表示搬送时间表的制作处理的一例的流程的流程图。
图5是表示搬送时间表的一例的图。
图6是表示搬送时间表的制作处理的其它例的流程的流程图。
图7是表示搬送时间表的其它例的图。
图8是表示搬送时间表的制作处理的其它例的流程的流程图。
图9是表示搬送时间表的其它例的图。
附图标记说明
1：基板处理装置；4b：获取部；4c：制作部；21：基板搬送单元；30：液处理单元；31：液处理单元；40：热处理单元；41：热处理单元；42：热处理单元；43：热处理单元；44：热处理单元；60：基板搬送单元；G：基板；G1：第一块；G1：块；PJ1：工艺任务；PJ2：工艺任务；PJ3：工艺任务；PJ4：工艺任务；SBU：缓冲单元。
具体实施方式
例如在半导体器件的制造工艺中，例如对半导体晶圆(下面称作“晶圆”。)进行光刻处理来在晶圆上形成规定的抗蚀剂图案。在该光刻处理中，使用形成有规定的图案的掩模来进行晶圆的曝光处理。
在对掩模用的基板形成规定的图案时也进行光刻处理。即，首先，依次进行在基板上涂布抗蚀剂液来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂布处理、将抗蚀剂膜曝光为规定的图案的曝光处理、对曝光后的抗蚀剂膜进行加热的加热处理、对被曝光并被加热后的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等，来在基板上形成规定的抗蚀剂图案。之后，将该抗蚀剂图案作为掩模来对基板进行蚀刻处理，并进行该抗蚀剂膜的去除处理等，来在基板形成规定的图案。
上述的光刻处理中包括的各处理在不同的处理单元中进行，例如，其中的多个处理单元搭载于一个基板处理装置。关于该基板处理装置内的基板的搬送时间表，例如按照向该基板处理装置搬入的搬入顺序来对每个基板进行决定。
另外，根据搬送时间表的决定方法，有时处理单元不被使用的期间长，不能得到高吞吐量。例如，在基板处理装置中连续地被搬入的基板间的应对基板进行的处理不同的情况下，根据搬送时间表的决定方法，有时处理单元不被使用的期间长，不能得到高吞吐量。因此，以往，提出各种搬送时间表的决定方法。
本公开所涉及的技术进一步提高对基板进行处理的基板处理装置中的吞吐量。
下面，参照附图来说明本实施方式所涉及的基板处理装置和搬送时间表决定方法。此外，在本说明书中，对具有实质上相同的功能结构的要素标注相同的标记，由此省略重复说明。
<基板处理装置>
图1是表示本实施方式所涉及的基板处理装置1的内部结构的概要的说明图。图2和图3分别是表示基板处理装置1的内部结构的概要的主视图和后视图。下面，说明对作为基板的掩模用的基板G进行处理的情况。基板G例如由玻璃构成。
如图1所示，基板处理装置1具有例如与外部之间搬入搬出盒C的盒站2、以及具备用于实施显影处理、PEB(Post Exposure Bake：曝光后烘烤)处理等规定的处理的多个各种处理单元的处理站3。而且，基板处理装置1具有将盒站2与处理站3连接为一体的结构。另外，基板处理装置1具有对该基板处理装置1进行控制的控制部4。
盒站2例如被分为盒搬入搬出部10和基板搬送部11。例如，盒搬入搬出部10设置于基板处理装置1的X方向负方向(图1的左方向)侧的端部。
在盒搬入搬出部10设置有盒载置台12。盒载置台12上的Y方向正方向(图1的上方向)侧构成为能够载置多个例如两个盒C。能够以沿水平方向的Y方向(图1的上下方向)排成一列的方式载置盒C。盒C是能够收容基板G且构成为能够被设置于基板处理装置1的外部的OHT(Overhead Hoist Transfer：高架提升传输装置)等盒搬送装置(未图示)进行搬送的可搬送容器。在本实施方式中，在各盒C中仅收容一张基板G。另外，在本实施方式中，由上述盒搬送装置将被后述的基板搬送单元21移出基板G而变空的盒C从盒载置台12上去除，并由上述盒搬送装置将收容有基板G的其它的盒C载置于盒载置台12上。由上述盒搬送装置在规定的定时将变空的盒C返回到盒载置台12，并由基板搬送单元21将被从该盒C搬出并被基板处理装置1处理后的基板G收纳于该变空的盒C。此外，下面有时将收容有被基板处理装置1处理前的基板G的盒C称作盒C-IN，将收容被基板处理装置处理后的基板G的盒C称作盒C-OUT。
另外，在盒载置台12的Y方向负方向(图1的下方向)侧的内部设置有作为等待部的缓冲单元SBU。缓冲单元SBU用于暂时地收容基板G。该缓冲单元SBU是供基板G在从搬送开始起至搬送结束为止的期间中的任一定时进行等待的部分。具体地说，缓冲单元SBU是供基板G在被从盒C-IN搬入起至被向盒C-OUT搬出为止的期间中的任一定时进行等待的部分。此外，下面，有时将供被基板处理装置1处理前的基板G等待的、作为搬入侧等待部的缓冲单元SBU称作缓冲单元SBU-IN，将供被基板处理装置1处理后的基板G等待的、作为搬出侧等待部的缓冲单元SBU称作缓冲部SBU-OUT。
如图1所示，在基板搬送部11设置有在沿Y方向延伸的搬送路径20上移动自如的作为搬送机构的基板搬送单元21。基板搬送单元21还沿铅垂方向移动自如并绕铅垂轴(θ方向)移动自如。能够由基板搬送单元21将基板G在盒载置台12上的盒C与处理站3的后述的第三块G3的交接单元TRS之间、盒载置台12上的盒C与盒载置台12上的缓冲单元SBU之间、盒载置台12上的缓冲单元SBU与上述第三块G3的交接单元TRS之间进行搬送。
在处理站3设置有多个具备各种单元的块、例如第一块～第三块G1、G2、G3这三个块。例如，在处理站3的正面侧(图1的Y方向负方向侧)设置有第一块G1。另外，在处理站3的与盒站2侧相反的一侧(图1的X方向正方向侧)设置有第二块G2，在处理站3的盒站2侧(图1的X方向负方向侧)设置有第三块G3。
在第一块G1，例如图2所示，以层叠的方式配置有构成为能够对基板G进行旋转涂布处理的两个液处理单元30、31。液处理单元30是显影处理用的液处理单元，液处理单元31是冲洗处理用的液处理单元。冲洗处理为使用在显影处理时使用的处理液来清洗基板G的表面的处理。此外，也可以设为液处理单元30、31双方即能被用于显影处理也能被用于冲洗处理。例如以沿铅垂方向排列的方式配置有两个液处理单元30。另外，能够任意地选择液处理单元的数量、配置。
在液处理单元30中，例如对基板G进行利用规定的处理液的旋转涂布处理。在旋转涂布处理中，例如从喷出喷嘴(未图示)向基板G上喷出处理液，并且使基板G旋转，来使处理液在基板G的表面扩散。
在第二块G2，例如图3所示，设置有对基板G进行加热、冷却之类的热处理的五个热处理单元40～44。对于热处理单元的数量、配置，也能够任意地选择。
热处理单元40～44例如具有冷却板45和热板46。在由热处理单元40～44对基板G进行热处理时，例如首先将基板G载置于冷却板45，之后载置于热板46。对于冷却板45与热板46之间的基板G的交接，例如可以由热处理单元40～44中内置的搬送机构(未图示)进行，也可以由后述的基板搬送单元60进行。此外，下面，设为由热处理单元40～44内的搬送机构(未图示)进行冷却板45与热板46之间的基板G的交接，设为由该搬送机构进行搬送所需的时间包含在热处理单元40的热处理时间中。
在第三块G3，设置有多个例如两个交接单元TRS。此外，下面，有时将用于收容被基板处理装置1处理前的基板G的交接单元TRS称作交接单元TRS-IN，将用于收容被基板处理装置1处理后的基板G的交接单元TRS称作交接单元TRS-OUT。
另外，在第三块G3设置有用于保存清洗用治具的治具保管单元50。
如图1所示，在处理站3的中央配置有作为搬送机构的基板搬送单元60。
基板搬送单元60具有例如沿X方向、Y方向、θ方向以及铅垂方向移动自如的搬送臂61。基板搬送单元60能够在处理站3内移动，向周围的第一块G1、第二块G2以及第三块G3内的规定的单元搬送基板G。处理站3中配置的基板搬送单元60的数量可以为一个，也可以为多个。
上述的控制部4例如为具备CPU、存储器等的计算机，并具有程序保存部(未图示)。在程序保存部中保存有用于控制上述的各种处理单元、搬送单元等的驱动系统的动作来控制由基板处理装置1对基板G的处理的程序。另外，在程序保存部中还保存有用于后述的搬送时间表制作处理的程序。此外，上述程序也可以记录于可由计算机读取的存储介质，从该存储介质被安装至控制部4。也可以将程序的一部分或全部用专用硬件(电路基板)来实现。
控制部4具有存储部4a、获取部4b以及制作部4c。
存储部4a用于存储各种信息，例如存储用于制作基板G的搬送时间表的数据等。此外，搬送时间表中包含各基板G的搬送目的地的信息及各基板G的搬送顺序的信息、即各基板G的搬送路径的信息，并且还包含向各搬送目的地进行搬送的定时即搬送时刻的信息。另外，用于制作上述搬送时间表的数据例如为搬送制程和处理制程。
在搬送制程中设定有用于设定直到将从盒C-IN搬出的基板G在基板处理装置1中进行处理后搬入盒C-OUT为止的搬送路径的信息。各搬送制程包括依次被执行的一个或多个搬送工序(步骤)，针对每个搬送工序设定有一个或多个搬送目的地候选。
在处理制程中设定有与由各处理单元进行的处理的内容有关的信息。例如，在为液处理单元30的情况下，在处理制程中设定有与基板G的旋转速度、处理液的供给时间等有关的信息，在为热处理单元40的情况下，在处理制程中设定有与温度设定值、温度调整时间等有关的信息。能够根据对基板G设定的后述的工艺任务，来从多种处理制程中进行选择。
获取部4b获取工艺任务。工艺任务用于将基板G由基板搬送单元21和基板搬送单元60搬送至至少一个处理单元并对该基板G进行处理。具体地说，工艺任务用于针对每个基板组决定使用处理单元对基板G进行的处理。在本实施方式中，预先针对每个盒C、即每张基板G1(由于如上所述，在本实施方式中在各盒C中收容一张基板G)设定有工艺任务。另外，工艺任务中包含工艺任务的识别信息、被设定各工艺任务的基板G的识别信息、确定针对各基板G实施的处理制程的信息。
该工艺任务例如被存储于对设置有基板处理装置1的工厂内的装置进行管理的主计算机(未图示)，获取部4b经由通信部(未图示)来从上述主计算机获取工艺任务。
在本实施方式中，预先决定有从作为基板G的搬送开始位置的盒C-IN向基板处理装置1内搬入基板G的搬入顺序。制作部4c针对每个基板G来按上述搬入顺序决定基板G的搬送时间表。此外，从盒C-IN向基板处理装置1内搬入基板G的搬入顺序为将收容有该基板G的盒C-IN载置于盒载置台12的顺序。
具体地说，制作部4c基于工艺任务中设定的信息来选择要针对作为时间表制作对象的基板G(下面有时省略为“作为制作对象的基板G”。)实施的处理制程，并选择能够执行该处理制程中设定的处理的处理单元。制作部4c选择包含选择出的处理单元并包含基板G在被搬入各处理单元之前通过的交接单元TRS、缓冲单元SBU等的搬送制程，并基于该搬送制程72来决定作为时间表制作对象的基板G的搬送路径。然后，制作部4c基于决定出的搬送路径来制作作为时间表制作对象的基板G的搬送时间表。
将制作部4c制作出的搬送时间表存储于存储部4a。
在后文叙述由制作部4c进行的更具体的搬送时间表的制作方法。
接着，对以上那样构成的基板处理装置1的动作的一例进行说明。
当由盒搬送装置(未图示)将盒C-IN搬入盒载置台12时，获取部4b从主计算机(未图示)获取关于该盒C-IN中收容的一张基板G的工艺任务。接着，制作部4c基于获取部4b获取到的工艺任务来针对盒中收容的一张基板G制作搬送时间表。
然后，基于制作出的搬送时间表，控制部4一边控制基板搬送单元21、60等来搬送基板G，一边对该基板G进行基于工艺任务的处理。例如，首先，基板搬送单元21将基板G从盒C-IN搬入基板处理装置1内。此外，当基板G被从盒C-IN移出时，由盒搬送装置(未图示)将该盒C-IN从盒载置台12去除。
接着，基板搬送单元21将基板G直接或经由缓冲单元SBU-IN搬送到交接单元TRS-IN。接着，基板搬送单元60按照搬送时间表将该基板G搬送至基于工艺任务选择出的处理单元。当基于工艺任务选择出的处理单元全部完成处理时，基板搬送单元60从进行最后的处理的处理单元中将基板G搬送至交接单元TRS-OUT。然后，基板搬送单元21将基板G从交接单元TRS-OUT直接或经由缓冲单元SBU-OUT搬出至作为搬送结束位置的盒C-OUT。此外，盒C-OUT要在对应的基板G被搬送至交接单元TRS-OUT或缓冲单元SBU-OUT时载置于盒载置台12。
<搬送时间表的制作处理的例1>
接着，说明搬送时间表的制作处理的一例。
在本实施方式中，如上所述，预先针对每张基板G1设定有工艺任务。因此，作为制作部4c的时间表制作对象的基板G与先搬入的基板G(下面有时省略为“未完成基板G”。)的工艺任务(的识别信息)不同，该先搬入的基板G为其基于工艺任务的处理在作为时间表制作对象的基板G被搬入的时间点尚未完成的基板。此外，作为制作对象的基板G被搬入的时间点具体例如为收纳有作为制作对象的基板G的盒C被搬入基板处理装置1的时间点。
另外，存在以下情况：虽然作为制作对象的基板G的工艺任务与未完成基板G的工艺任务不同，但是后者的工艺任务中包含与前者的工艺任务中包含的由处理单元进行的处理同种的处理。
在如上所述、工艺任务虽然互不相同但双方包含同种的处理的情况下，制作部4c在制作作为制作对象的基板G的搬送时间表时进行以下这样的判定。即，制作部4c判定能否进行在针对未完成基板G的上述同种的处理完成之前对作为制作对象的基板G先行实施上述同种的处理的先行实施(下面有时称作“同种处理的先行实施”。)。此时，不变更先制作出的未完成基板G的搬送时间表。然后，制作部4c基于能否进行同种处理的先行实施的判定结果来制作作为制作对象的基板G的搬送时间表。在进行该制作时，基于上述判定结果来设定搬送时间表中包含的在缓冲单元SBU-IN等待的时间。
制作部4c例如基于未完成基板G和作为时间表制作对象的基板G之间进行基于工艺任务的处理的处理单元是否重复，来判定能否进行同种处理的先行实施。而且，在不重复的情况下，制作部4c判定为能够进行同种处理的先行实施。
图4是表示由制作部4c进行的搬送时间表的制作处理的一例的流程的流程图。图5是表示通过本例的制作处理制作出的搬送时间表的一例的图。此外，下面，设为作为时间表制作对象的基板G的工艺任务和未完成基板G的工艺任务中包含同种处理。
制作部4c在制作作为时间表制作对象的基板G的搬送时间表时，首先判定是否满足基本条件(步骤S1)。具体地说，基于获取部4b获取到的工艺任务的信息，来决定包含被用于针对作为时间表制作对象的基板G的处理的处理单元在内的、作为时间表制作对象的基板G的搬送路径。另外，制作部4c获取未完成基板G的搬送时间表。然后，制作部4c基于作为时间表制作对象的基板G的搬送路径及工艺任务、未完成基板G的搬送时间表等，来判定是否满足例如以下的基本条件(A1)～(A4)的全部条件。
(A1)在处理站3内不存在缓冲单元SBU的剩余收纳张数以上的基板G。
(A2)作为时间表制作对象的基板G和未完成基板G的工艺任务不同。
(A3)针对作为时间表制作对象的基板G决定出的搬送路径使用针对处理站3内的全部搬送工序(步骤)分别仅设定有一个搬送目的地候选的搬送制程。
(A4)针对作为时间表制作对象的基板G决定出的搬送路径中包含有缓冲单元SBU-IN和缓冲单元SBU-OUT。
上述(A1)为用于防止在进行同种处理的先行实施时在处理站3内有基板G被滞留的条件。
上述(A3)为用于限定进行能否进行同种处理的先行实施的判定的机会的条件。
上述(A4)中的与缓冲单元SBU-IN有关的条件为用于需要将向处理站3内的搬送保留到针对先投入的基板G的处理结束为止的基板G的条件。另外，缓冲单元SBU-OUT的条件为用于需要将向盒C-OUT的搬送保留到对应的盒C-OUT被载置于盒载置台12为止的基板G的条件。
此外，也可以以上述搬送路径使用以下的搬送制程为条件，来代替上述(A3)的条件。即，为以下条件：在仅提取了与作为制作对象的基板G和未完成基板G双方的工艺任务中包含的同种的处理有关的搬送工序的情况下，使用针对提取出的搬送工序分别仅设定有一个搬送目的地候选的搬送制程。
在满足上述的基本条件的情况(在步骤S1中为“是”的情况)下，制作部4c基于作为时间表制作对象的基板G和未完成基板G之间进行基于工艺任务的处理的处理单元是否重复，来判定能否进行同种处理的先行实施(步骤S2)。该判定基于制作部4c决定出的作为时间表制作对象的基板G的搬送路径和制作部4c获取的未完成基板G的搬送时间表等来进行。
在处理单元不重复从而判定为能够针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S2中为“否”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G以进行同种处理的先行实施的方式制作搬送时间表(步骤S3)。例如，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G，以将该基板G沿着决定出的搬送路径以最短时间搬送至进行基于工艺任务的处理的处理单元的方式设定在缓冲单元SBU-IN等待的时间，来制作搬送时间表。
另一方面，在步骤S2中，在处理单元重复从而判定为不能针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(“是”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G与以往同样地决定搬送时间表(步骤S4)。例如，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G如以下那样设定在缓冲单元SBU-IN等待的时间，来制作搬送时间表。即，制作部4c以如下方式设定在缓冲单元SBU-IN等待的时间：不向在作为时间表制作对象的基板G和未完成基板G之间重复的处理单元搬送作为时间表制作对象的基板G，直到该处理单元针对未完成基板G的处理完成并从该处理单元搬出未完成基板G为止。
另外，在步骤S1中，在不满足上述的基本条件的情况(“否”的情况)下，与步骤S2同样，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G以与以往同样的方法来制作搬送时间表(步骤S4)。
在此，如图5所示，设为将工艺任务PJ1的基板G、工艺任务PJ2的基板G、工艺任务PJ3的基板G从盒C-IN中依次搬入基板处理装置1。另外，设为已针对工艺任务PJ1的基板G制作了搬送时间表。
工艺任务PJ1的基板G的搬送路径为盒C-IN→缓冲单元SBU-IN→交接单元TRS-IN→冲洗处理用的液处理单元31→热处理单元40→显影处理用的液处理单元30→交接单元TRS-OUT→缓冲单元SBU-OUT→盒C-OUT。
工艺任务PJ2的基板G的搬送路径为盒C-IN→缓冲单元SBU-IN→交接单元TRS-IN→显影处理用的液处理单元30→交接单元TRS-OUT→缓冲单元SBU-OUT→盒C-OUT。
工艺任务PJ3的基板G的搬送路径为盒C-IN→缓冲单元SBU-IN→交接单元TRS-IN→热处理单元41→交接单元TRS-OUT→缓冲单元SBU-OUT→盒C-OUT。
工艺任务PJ2的基板G与工艺任务PJ1的未完成基板G之间，显影处理用的液处理单元30重复，因此符合步骤S2中的“是”的情况。因而，制作部4c与以往同样地制作工艺任务PJ2的基板G的搬送时间表。因此，在工艺任务PJ2的基板G的搬送时间表中，较长地设定在缓冲单元SBU-IN的等待时间，以使工艺任务PJ2中的利用液处理单元30进行的显影处理在工艺任务PJ1中的利用液处理单元30进行的显影处理结束后开始。
与此相对，工艺任务PJ3的基板G与工艺任务PJ1的未完成基板G及工艺任务PJ2的未完成基板G之间没有重复的处理单元，因此符合步骤S2中的“否”的情况。因而，制作部4c针对工艺任务PJ3的基板G以进行同种处理(在此为热处理)的先行实施的方式制作搬送时间表，具体地说，制作使在缓冲单元SBU-IN等待的时间最短的搬送时间表。
如以上那样，在本实施方式中，在作为时间表制作对象的基板G与未完成基板G的工艺任务不同、且彼此的工艺任务包括同种的处理的情况下，制作部4c在制作搬送时间表时判定能否进行同种处理的先行实施。因而，在基板处理装置1中，基于能否进行同种处理的先行实施来制作搬送时间表，由此能够缩短从将各基板G搬入基板处理装置1内起到将各基板G从基板处理装置1搬出为止的时间(还包括各处理单元的处理时间)。换言之，能够针对工艺任务与未完成基板G不同的作为时间表制作对象的基板G制作使从将该作为时间表制作对象的基板G搬入基板处理装置1内起到将该作为时间表制作对象的基板G从基板处理装置1搬出为止的时间短的搬送时间表。其结果，能够进一步提高吞吐量。
<搬送时间表的制作处理的例2>
在本例中，对于作为制作对象的基板G，在进行处理的处理单元单一且与未完成基板G的处理单元重复的情况下，制作部4c判定直至从该重复的处理单元搬出作为时间表制作对象的基板G为止的预定时间是否比直至未完成基板G到达该处理单元为止的预定时间短。而且，在上述直至搬出为止的预定时间短的情况下，制作部4c判定为能够进行同种处理的先行实施，针对作为时间表制作对象的基板G制作基于上述判定结果的搬送时间表。
图6是表示本例的搬送时间表的制作处理的流程的流程图。图7是表示通过本例的制作处理制作出的搬送时间表的一例的图。此外，下面设为作为时间表制作对象的基板G的工艺任务和未完成基板G的工艺任务包括同种的处理。
在步骤S1中，在满足前述的基本条件的情况(在步骤S1中为“是”的情况)下，制作部4c对于作为时间表制作对象的基板G判定进行处理的处理单元是否单一且与未完成基板G的处理单元重复(步骤S11)。该判定基于制作部4c决定出的作为时间表制作对象的基板G的搬送路径和制作部4c获取到的未完成基板G的搬送时间表等来进行。
在不满足单一这个条件和重复这个条件中的至少任一个条件，从而判定为不能针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S11中为“否”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G与以往同样地决定搬送时间表。
另一方面，在单一这个条件和重复这个条件均被满足的情况(在步骤S11中为“是”的情况)下，制作部4c判定直至从该重复的处理单元中搬出作为时间表制作对象的基板G为止的预定时间T2是否比直至未完成基板G到达该处理单元为止的预定时间T1短(步骤S12)。制作部4c基于未完成基板G的搬送时间表来计算上述直至到达为止的预定时间T1。另外，制作部4c例如基于使基板G从盒C-IN到达该处理单元为止所需的最短的时间T21和该处理单元的处理时间T22、根据下式来计算上述直至搬出为止的预定时间T2。
T2＝T21+T22
在计算上述直至搬出为止的预定时间T2所需的上述最短的时间T21的信息和该处理单元的处理时间T22的信息中，前者的信息例如预先存储于存储部4a，后者的信息被表示为通过工艺任务确定出的工艺制程。
此外，对于上述直至搬出为止的预定时间T2，制作部4c也可以对其考虑余量T23而根据下式来计算预定时间T2。
T2＝T21+T22+T23
例如考虑由于搬送其它的基板G而引起的延迟时间等而设定余量T23。
在上述直至搬出为止的预定时间T2比上述直至到达为止的预定时间T1长、从而判定为不能针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S12中为“否”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G与以往同样地决定搬送时间表。
另一方面，在上述直至搬出为止的预定时间T2比上述直至到达为止的预定时间T1短、从而判定为能够针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S12中为“是”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G以进行同种处理的先行实施的方式制作搬送时间表。
在此，如图7所示，设为将工艺任务PJ1的基板G、工艺任务PJ2的基板G从盒C-IN依次搬入基板处理装置1。另外，设为已对工艺任务PJ1的基板G制作了搬送时间表。
关于工艺任务PJ2的基板G，对该基板G进行处理的处理单元仅有显影处理用的液处理单元30、即对该基板G进行处理的处理单元单一，并且对该基板G进行处理的处理单元与工艺任务PJ1的未完成基板G的处理单元重复，因此符合步骤S11中的“是”的情况。另外，直至从显影处理用的液处理单元30搬出工艺任务PJ2的基板G为止的预定时间T2比直至工艺任务PJ1的未完成基板G到达显影处理用的液处理单元30为止的预定时间T1短。因此，工艺任务PJ2的基板G符合步骤S12中的“是”的情况。
因而，制作部4c以能够针对工艺任务PJ2的基板G进行同种处理的先行实施(显影处理的先行实施)的方式制作搬送时间表，具体地说，制作在缓冲单元SBU-IN等待的时间最短的搬送时间表。
如上所述，判定能否进行同种处理的先行实施的条件包括针对作为时间表制作对象的基板G进行处理的处理单元单一这个条件，由此具有以下的效果。即，在进行了能够进行同种处理的先行实施这个判定的情况下，不需要计算对进行其它的处理的工序的影响，因此具有能够容易地制作搬送时间表的效果。
<搬送时间表的制作处理的例3>
在本例中，在作为时间表制作对象的基板G与未完成基板G之间有多个进行基于工艺任务的处理的处理单元重复的情况下，制作部4c进行以下的判定。即，制作部4c对于重复的各处理单元，判定直至从该处理单元搬出作为时间表制作对象的基板G为止的预定时间是否比直至未完成基板G到达该处理单元为止的预定时间短。而且，在重复的各处理单元中上述直至搬出为止的预定时间短的情况下，制作部4c判定为能够进行同种处理的先行实施，针对作为时间表制作对象的基板G制作基于上述判定结果的搬送时间表。
图8是表示本例的搬送时间表的制作处理的流程的流程图。图9是表示通过本例的制作处理制作出的搬送时间表的一例的图。此外，下面设为作为时间表制作对象的基板G的工艺任务与未完成基板G的工艺任务包括同种的处理。
在步骤S1中满足前述的基本条件的情况(在步骤S1中为“是”的情况)下，制作部4c判定在作为时间表制作对象的基板G与未完成基板G之间是否有多个进行基于工艺任务的处理的处理单元重复(步骤S21)。该判定基于制作部4c决定出的作为时间表制作对象的基板G的搬送路径和制作部4c获取到的未完成基板G的搬送时间表等来进行。
在没有多个处理单元重复、从而判定为不能针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S21中为“否”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的基板G与以往同样地决定搬送时间表。
另一方面，在有多个处理单元重复的情况(在步骤S21中为“是”的情况)下，制作部4c判定重复的多个各处理单元中直至从该处理单元搬出作为时间表制作对象的基板G为止的预定时间T2是否比直至未完成基板G到达该处理单元为止的预定时间T1短(步骤S22)。
在只要在一个重复的处理单元中上述直至搬出为止的预定时间T2比上述直至到达为止的预定时间T1长、从而判定为不能针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S12中为“否”的情况)下，制作部4c针对该作为时间表制作对象的基板G与以往同样地决定搬送时间表。
另一方面，在所有的重复的处理单元中上述直至搬出为止的预定时间T2比上述直至到达为止的预定时间T1短、从而判定为能够针对作为时间表制作对象的基板G进行同种处理的先行实施的情况(在步骤S12中为“是”的情况)下，制作部4c针对作为时间表制作对象的该基板G以进行同种处理的先行实施的方式来制作搬送时间表。
在此，如图9所示，设为将工艺任务PJ1的基板G、工艺任务PJ4的基板G从盒C-IN中依次搬入基板处理装置1。另外，设为已对工艺任务PJ1的基板G制作了搬送时间表。
工艺任务PJ4的基板G的搬送路径为盒C-IN→缓冲单元SBU-IN→交接单元TRS-IN→热处理单元40→显影处理用的液处理单元30→交接单元TRS-OUT→缓冲单元SBU-OUT→盒C-OUT。
工艺任务PJ4的基板G与工艺任务PJ1的未完成基板G之间重复的处理单元为热处理单元40和显影处理用的液处理单元30这两个单元，即重复的处理单元为多个，因此符合步骤S21中的“是”的情况。另外，在热处理单元40和显影处理用的液处理单元30的各处理单元中直至从处理单元搬出工艺任务PJ4的基板G为止的预定时间T2比直至工艺任务PJ1的未完成基板G到达处理单元为止的预定时间T1短。因此，工艺任务PJ4的基板G符合步骤S22中的“是”的情况。
因而，制作部4c针对工艺任务PJ2的基板G以进行同种处理的先行实施的方式制作搬送时间表，具体地说制作使在缓冲单元SBU-IN等待的时间最短的搬送时间表。
此外，对于搬送时间表的制作处理的例2、例3中的制作部4c的动作，能够总结后如以下这样表述。
在上述例2、例3中，在作为时间表制作对象的基板G与未完成基板G之间进行基于工艺任务的处理的处理单元重复的情况下，制作部4c对于重复的各处理单元判定直至从该处理单元搬出作为时间表制作对象的基板G为止的预定时间是否比直至未完成基板G到达该处理单元为止的预定时间短。而且，在上述例2、例3中，在重复的各处理单元中上述直至搬出为止的预定时间短的情况下，制作部4c判定为能够进行同种处理的先行实施，针对作为时间表制作对象的基板G制作基于上述判定结果的搬送时间表。
此外，可以并用搬送时间表的制作处理的例1～例3的全部，也可以并用上述例1～例3中的任意几例的组合。
如搬送时间表的制作处理的例1～例3那样，当决定搬送时间表时，基本上会在搬送时间表中指定向缓冲单元SBU-IN及缓冲单元SBU-OUT搬送基板G。也可以设为，虽然是像这样指定的情况，但是基于是否满足预先决定的条件使基板搬送单元21以不经由缓冲单元SBU-IN及缓冲单元SBU-OUT的方式进行基板G的搬送。关于缓冲单元SBU-IN的上述预先决定的条件例如是判定为能够对被搬送的基板G进行同种处理的先行实施。关于缓冲单元SBU-OUT的上述预先决定的条件例如是与被搬送的基板G对应的盒C-OUT被载置于盒载置台12。
通过像这样以不经由缓冲单元SBU的方式进行基板G的搬送，能够省略从缓冲单元SBU搬送基板G以及向缓冲单元SBU搬送基板，因此基板搬送单元21的负担减少。能够与像这样负担减少的量相应地，将基板搬送单元21用于有助于高吞吐量的基板的搬送。因而，通过以不经由缓冲单元SBU的方式进行基板G的搬送，能够进一步提高基板处理装置1的吞吐量。
以上的搬送时间表的制作处理还能够应用于与基板同样地在基板处理装置1内搬送的除基板以外的搬送对象体的搬送时间表的制作。除基板以外的搬送对象体例如为被搬送至液处理单元30、31来使用于对液处理单元的清洗的清洗用治具。此外，治具保管单元50相当于清洗用治具的搬送开始位置和等待部。
另外，也有时在基板处理装置1内同时存在多个处于能够被基板搬送单元60进行搬送的状态的基板G。在该情况下，可以设为，基板搬送单元60优先搬送尚未被处理单元处理的基板。还可以设为，基板搬送单元60最优先搬送交接单元TRS-IN中收容的基板G。由此，能够增加处理站3内的基板G的数量。对于基板搬送单元21也是，也可以设为，优先搬送尚未被处理单元处理的基板。还可以设为，基板搬送单元21例如最优先向交接单元TRS-IN搬送基板G。由此，能够缩短处理单元不被使用的时间。
并且，也可以设为，在利用热处理单元40～44进行的热处理时，在需要热板46的温度变更的基板G为时间表制作对象的情况下，以使该基板G在直到热板46的温度整定为止的期间在缓冲单元SBU-IN等待的方式制作该基板G的搬送时间表。由此，相比于在直到热板46的温度整定为止的期间在盒C内等待的情况，能够缩短基板处理装置1内的处理单元的未使用时间，因此能够进一步提高吞吐量。
在以上的例子中，在制作搬送时间表时对作为时间表制作对象的基板G进行了能否进行同种处理的先行实施的判定。也可以在制作了搬送时间表之后且按照该搬送时间表将后搬入的基板G搬送至处理单元之前，在后搬入的基板G和先搬入的基板G之间进行能否进行同种处理的先行实施的判定。而且，也可以设为，基于该判定结果对后搬入的基板G的搬送时间表进行修正。
此外，在后搬入的基板G与先搬入的基板G之间使用相同的处理单元的情况下，优选在紧接着利用上述相同的处理单元对先搬入基板G进行的处理完成之后不设置多余的期间地使用上述相同的处理单元对后搬入的基板G进行处理，以提高吞吐量。为了能够实现上述情形，决定或修正后搬入的基板G的搬送时间表中的在缓冲单元SBU-IN等待的时间。
在基于能否进行同种处理的先行实施的判定结果修正了后搬入的基板G的搬送时间表的情况下，在除上述同种处理以外的处理中，在后搬入的基板G与先搬入的基板G之间可能有处理单元在时间表上重复。因而，在基于能否进行同种处理的先行实施的判定结果修正了后搬入的基板G的搬送时间表的情况下，可以设为判定是否还需要等待时间的修正等，也可以设为设定适当的等待时间。
例如如以下那样决定或修正在缓冲单元SBU-IN等待的时间。
首先，确定出在假设没有设定等待时间时从搬入后搬入的基板G的定时起到搬出紧挨着的前一个先搬入的基板G的定时为止的时间最长的处理单元。然后，以紧接在从确定出的该处理单元搬出先搬入的基板G之后向该处理单元搬入后搬入的基板G的方式决定或修正上述等待时间。
在该例中，以将后搬入的基板G搬入缓冲单元SBU-IN的时间点为基准，来测量后搬入的基板G在缓冲单元SBU-IN等待的时间。
也可以以以下那样的时间点为基准来测量后搬入的基板G在缓冲单元SBU-IN等待的时间。例如，对于在后搬入的基板G与先搬入的基板G之间时间有可能重复且是后搬入的基板G最初被搬入的处理单元，可以以向该处理单元搬入紧挨着的前一个先搬入的基板的时间点为基准进行测量。在该情况下，以在紧接着从上述时间可能重复的、最初被搬入的处理单元搬出上述紧挨着的前一个先搬入的基板之后向该处理单元搬入后搬入的基板G的方式，决定或修正后搬入的基板G在缓冲单元SBU-IN等待的时间。另外，作为其它的方法，也可以将在该处理单元中对先搬入的基板进行处理的中途的该处理单元的动作状态(没有图示，为单元内的设备或基板的动作状态等)作为上述的基准。
应认为，本次公开的实施方式的所有点均为例示性的而非限制性的。可以不脱离所附的权利要求书及其主旨地，对上述的实施方式以各种方式进行省略、置换、变更。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，对基板进行处理，所述基板处理装置具备：
多个处理部，各处理部进行规定的处理；以及
搬送机构，其对搬送对象体进行搬送，
多个搬送对象体按预先决定的搬入顺序被搬入所述基板处理装置内，
所述基板处理装置还具备控制部，所述控制部获取工艺任务，所述工艺任务用于将搬送对象体通过所述搬送机构搬送到至少一个所述处理部并针对该搬送对象体进行处理，
其中，在一搬送对象体与在其之前先被搬入所述基板处理装置内的先搬入的搬送对象体的所述工艺任务不同、且彼此的所述工艺任务包括同种的处理的情况下，所述控制部在开始将所述一搬送对象体向所述处理部搬送之前，判定能否进行在针对所述先搬入的搬送对象体的所述同种的处理完成之前针对所述一搬送对象体先行实施所述同种的处理的先行实施。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制部基于所述一搬送对象体和所述先搬入的搬送对象体之间进行基于所述工艺任务的处理的所述处理部是否重复，来判定是否进行所述先行实施，
在不重复的情况下，判定为进行所述先行实施。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
对于所述一搬送对象体，在进行基于所述工艺任务的处理的所述处理部单一且与所述先搬入的搬送对象体的处理部重复的情况下，所述控制部基于直至从重复的该处理部搬出所述一搬送对象体为止的预定时间是否比直至所述先搬入的搬送对象体到达该处理部为止的预定时间短，来判定是否进行所述先行实施，
在直至搬出所述一搬送对象体为止的预定时间短的情况下，所述控制部判定为进行所述先行实施。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述一搬送对象体和所述先搬入的搬送对象体之间有多个进行基于所述工艺任务的处理的所述处理部重复的情况下，所述控制部基于在重复的各所述处理部中直至从该处理部搬出所述一搬送对象体为止的预定时间是否比直至所述先搬入的所述搬送对象体到达该处理部为止的预定时间短，来判定是否进行所述先行实施，
当在重复的各所述处理部中直至搬出所述一搬送对象体为止的预定时间短的情况下，所述控制部判定为进行所述先行实施。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：
等待部，其供搬送对象体进行等待，
对于在搬送时间表中被指定向所述等待部搬送的搬送对象体，在满足预先决定的条件的情况下，所述搬送机构以不经由所述等待部的方式进行搬送。
6.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述基板处理装置内存在多个处于能够被所述搬送机构进行搬送的状态的搬送对象体的情况下，该搬送机构优先搬送尚未被所述处理部处理的搬送对象体。
7.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
搬送对象体为形成有规定的图案的、被用于掩模的制造的掩模基板。
8.一种搬送时间表制作方法，制作对基板进行处理的基板处理装置内的、搬送对象体的搬送时间表，
所述基板处理装置具备：
多个处理部，各处理部进行规定的处理；以及
搬送机构，其对搬送对象体进行搬送，
多个搬送对象体按预先决定的搬入顺序被搬入所述基板处理装置内，
所述搬送时间表制作方法包括以下工序：
获取用于将搬送对象体通过所述搬送机构搬送到至少一个所述处理部并针对该搬送对象体进行处理的工艺任务；以及
在一搬送对象体与在其之前先被搬入所述基板处理装置内的先搬入的搬送对象体的所述工艺任务不同、且彼此的所述工艺任务包括同种的处理的情况下，在开始将所述一搬送对象体向所述处理部搬送之前，判定能否进行在针对所述先搬入的搬送对象体的所述同种的处理完成之前针对所述一搬送对象体先行实施所述同种的处理的先行实施。
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