KR101129104B1 - 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법 및 제조 설비 - Google Patents

화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법 및 제조 설비 Download PDF

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Abstract

재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하고, 고강도 냉연 강판을 제조하는 방법에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 강판 표면을, 철이 산화하는 분위기에 노출하고, 표면을 산화시키고, 어닐링로 출구측으로 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 한다.
용융 아연 포트, 화성 처리, 화성 처리 피막 결정, 급냉로, 가스 공급 설비

Description

화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법 및 제조 설비{PROCESS FOR PRODUCING HIGH-STRENGTH COLD ROLLED STEEL SHEET EXCELLING IN CHEMICAL TREATABILITY AND RELEVANT PRODUCTION EQUIPMENT}
본 발명은, 고강도화에 수반하여 Si나 Mn 등의 함유량을 증대시키는 경우에도, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판을 제조할 수 있는 제조 방법과 이를 실현하는 제조 설비에 관한 것이다.
종래, 고강도 냉연 강판을 제조할 때에는, 노(爐) 내 분위기에 불활성 가스를 투입하는 연속 어닐링로 설비(도 11 참조), 또는 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비(도 12 참조)가 사용되고 있다.
도 11에 도시되는 연속 어닐링로 설비에서는, 일반적으로 그 냉각대에, 기수 냉각(氣水冷却)이나 물 딥 냉각 등의 물을 사용하는 냉각, 냉각된 분위기 가스를 분사하는 가스 냉각, 및/또는 냉각 매체를 내부에 통과시켜 접촉 냉각하는 롤 냉각을 사용하고 있다.
도 12에 도시되는, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서는, 도금 설비[도면 중, 용융 아연 포트(8), 및 패스 라인 L2 참조]를 가지고, 용융 아연 도금 강판 제조시에 도금 밀착성을 유지하기 때문에, 냉각된 분위기 가스를 분사하는 가스 냉각을 사용하는 것이 일반적이다.
또한, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서는, 용융 아연 도금하지 않는 냉연 강판을 어닐링할 때에는, 도 12 중, 점선부에서 나타낸 바와 같이, 냉연 강판은, 다른 노와 마찬가지로, 외기와 차단된 착 탈식의 패스 라인 L1을 통과한다.
상기 설비에 있어서, 연질 강판(예를 들어, Si:0.2% 이하)을 어닐링한 경우에는, 특히 화성 처리성은 문제되지 않았다.
그러나 자동차 분야에서의 경량화의 요구로부터 고강도 강판화가 진행됨에 따라 강도를 향상시키기 때문에, 강도 향상 원소인 Si, Mn 등의 첨가량이 증대하고, 예를 들어, Si가 1.0% 정도까지 증대하면, 강판 표면에 Si나 Mn 등의 산화막이 많이 잔존하여 화성 처리성이 악화되고, Si 산화막 부분에 화성 처리되지 않는 부분, 소위 「코팅 부족(lack of coating)」이라고 불리는 화성 처리 불량이 발생한다.
재결정을 위한 가열에 뒤따르는, 강판 온도가 600 내지 250℃의 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대(冷却帶)에, 기수 냉각이나 물 딥 냉각 등의 물을 사용하는 냉각 방식을 사용한 연속 어닐링로 설비에서는, 강판 표면이 상기 강판 온도에서 물에 노출되기 때문에, 강판이 어닐링로를 나온 부분에서, 강판에 산세와 Ni 도금을 실시하고 있다.
이로 인해, Si나 Mn이 증대된 고강도 냉연 강판에서도, 특히, 화성 처리성은 문제되지 않았다.
그러나 상기 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식에, 물을 사용한 냉각 방식을 사용하지 않고, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각을 사용한 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서는, 노 내가 불활성 분위기 가스로 채워지고, 산소 농도도 이슬점도 극히 낮기 때문에, 종래의 저Si, 저Mn의 재료에서는 산화막의 정도가 문제되지 않고, 통상 어닐링로를 나온 부분에서, 산세나 Ni 도금을 실시하는 설비는 없다.
그 결과, 고Si, 고Mn의 고강도 강판화에 의한 화성 처리성 악화가 현재(懸在)화되었다.
또한, 가스 냉각이란, 노 내로 강판 온도보다 저온의 분위기 가스를 강판에 분사하여 냉각하는 냉각 방법이고, 방산 냉각이란, 강판 온도보다 저온의 분위기 가스가 공급되는 노 내를 통과하여 냉각하는 냉각 방법이며, 냉각관 냉각이란, 노 내에 설치되어 노 내 분위기 가스와는 차단된 배관 내로 냉각 매체를 통과시키고, 노 내 분위기 가스를 냉각함으로써 강판을 냉각하는 냉각 방법이다.
또한, 명세서에서 말하는 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에는, 강판의 연속 어닐링 설비의 연속 어닐링로, 강판의 용융 아연 도금 처리 설비의 연속 어닐링로, 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비의 연속 어닐링로가 포함된다.
이로 인해, 전술한 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서도, 도 13이나 도 14에 도시한 바와 같이, 어닐링로를 나온 부분에서, 강판에 산세와 Ni 도금을 실시함으로써, 「코팅 부족」의 발생을 회피하고, 화성 처리성을 종래 레벨로 회복시키고 있다.
또한, 일본 특허 출원 공개 제2006-45615호 공보에서는, 강판 표면을, 일단 산화하고, 그 후 환원 분위기 중에서 환원하고, 어닐링 후에 산세나 Ni 도금을 행하지 않고, 화성 처리성의 열화를 방지하는 방법이 제안되어 있다.
그런데, 최근 고강도화의 요구는 더욱 높아지고, Si 이나 Mn 등의 강도 향상 원소의 첨가가 더욱 증가하여, 예를 들어, Si는 1.0 내지 2.0%까지 첨가하게 되었다.
그러자 전술한 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서, 어닐링로를 나온 부분에서, 강판에, 산세와 Ni 도금을 실시하여도, 화성 처리에서 「코팅 부족」이 발생하게 되었다.
그 원인을 조사한 바, 역시 Si나 Mn의 산화막이 강판 표면에 잔존하기 때문인 것을 알 수 있었다. 따라서, 잔존하는 Si나 Mn의 산화막을 제거하기 위하여, 어닐링로를 나온 부분의 산세를 강화하고, 구체적으로는, 통판 속도를 100mpm으로부터 30mpm으로 저하시키고, 산세 온도를 70%로부터 80%로 상승시켰지만, 여전히 Si나 Mn의 산화막이 남고, 화성 처리에서 「코팅 부족」이 남아 문제가 되었다.
또한, 산세를 강화하는 방법으로서, 통상, 어닐링로를 나온 부분의 산세조는, 1조(1槽) 정도인 바, 이를 복수조로 증강하는 수단이 남아 있지만, 이미 30mpm라는 극저속까지 통판 속도를 저하시켜, 산세조 침지 시간을 확보하여도, 「코팅 부족」이 남아있는 상황으로부터 통판 속도를 크게 회복하는 것은 바랄 수 없고, 또한 설비 비용이나 설치 스페이스 등의 과제가 크다.
또한, 이 경향은, Si가 1.0% 이상, 특히, 1.1% 초과, 및/또는, Mn이 2.0% 이상, 특히 2.2% 초과가 되면 현저해진다.
본 발명은, 상기와 같은 과제를 해결하고, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 연속 어닐링하는 경우에 있어서, 강판의 Si나 Mn의 함유량이 높더라도, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조가 가능한 방법, 및 그 설비를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 전술한 바와 같은 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서, 상기 강판 온도 범위에서는, 통상, 강판 주변에, 극저농도의 산소(예를 들어, 몇십 내지 수 ppm) 및/또는 극저이슬점(예를 들어, -20 내지 -60℃)의 불활성 가스 분위기를 형성함으로써, 강판의 산화를 방지하는 부분을, 반대로, 적극적으로 산화 분위기를 형성하고, Si 및 Mn, 또한 강판 중의 철도 산화시켜, 어닐링로를 나온 부분의 산세로, 철의 산화막과 함께, Si나 Mn 등의 산화막을 산세 제거하면, Si, Mn 등의 함유량이 높더라도 「코팅 부족」이 없는, 화성 처리성이 양호한 고강도 냉연 강판을 얻을 수 있다는 것을 발견하였다.
종래 기술과 본 발명에 의한 강판 표면의 상태를, 모식적으로 도 1에 도시한다.
도 1의 (a) 내지 도 1의 (c)에, 종래의 강판 표면 상태를 도시하고, 도 1의 (d)에, 본 발명의 강판 표면 상태를 도시한다.
도 1의 (a)는, Si 및 Mn이 적은 강판(S)에 화성 처리(25)를 실시하였을 경우의 강판 표면 상태를 도시한다. 도 1의 (a)에 도시한 바와 같이, 강판(S) 중의 Si 및 Mn이 적으므로, 화성 처리(25)에 의해, 강판(S)의 표면에, "코팅 부족"이 없는 화성 처리 피막 결정(25a)이 형성된다.
도 1의 (b)는, Si 및 Mn이 많은 강판(S)에 화성 처리(25)를 실시하였을 경우의 강판 표면 상태를 도시한다. 도 1의 (b)에 도시한 바와 같이, 강판(S) 중의 Si 및 Mn이 많으므로, 강판(S)의 표면에는, Si, Mn의 산화막(Sa)이 존재하고, 화성 처리(25)를 실시하면, 코팅 부족(X)이 있는 화성 처리 피막 결정(25a)이 형성된다.
도 1의 (c)는, Si 및 Mn이 더욱 많은 강판(S)에, 산세(26), 계속하여, 화성 처리(25)를 실시하였을 경우의 강판 표면 상태를 도시한다. 도 1의 (c)에 도시한 바와 같이, 강판(S) 중의 Si 및 Mn이 더욱 많으므로, 강판(S)의 표면에는, 두꺼운 Si, Mn의 산화막(Sa)이 존재하고, 산세(26)를 실시하여도, 완전히 제거할 수 없고, 계속하여, 화성 처리(25)를 실시하면, 코팅 부족(X)이 있는 화성 처리 피막 결정(25a)이 형성된다.
도 1의 (d)는, 본 발명에 의한 강판 표면 상태를 도시한다. 도 1의 (d)에 도시한 바와 같이, 강판(S) 중의 Si 및 Mn이 더욱 많은 경우, 강판(S)의 표면에는, 두꺼운 Si, Mn의 산화막(Sa)이 존재하나, 산화 분위기 중에서, 강판 표면을 적극적으로 산화(27)하고, Si, Mn의 산화막 Sa를 덮는 철 산화막(27a)을 형성하고, 산세(26)에 의해, 철 산화막(27a)과 함께 Si, Mn의 산화막(Sa)을 제거한다. 동시에, 화성 처리 피막 결정의 석출핵이 되는 강판 표면상의 미소 산화물(철 산화물 등)도 제거하여, 화성 처리 피막의 형성이 곤란한 표면 상태가 되기 때문에, 계속하여, 상기 표면에 철 또는 Ni 도금(28)을 실시하여, 철 또는 Ni 도금 피막(28a)을 형성하고, 그 후 화성 처리(25)를 실시하면, 철 또는 Ni 도금 피막(28a) 상에 코팅 부족(X)이 없는 화성 처리 피막 결정(25a)을 형성할 수 있다.
본 발명은, 상기 지식에 기초하여 이루어진 것이며, 청구 범위 제1항의 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법은, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하는 경우에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 강판 표면을, 철이 산화하는 분위기에 노출하여 산화시키고, 어닐링로 출구측에서 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을, 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 하는 것이다.
이러한 경우, 상기 산화 상태는, 강판을, 노 외를 통판시킴으로써, 형성할 수 있다.
또한, 청구 범위 제2항의 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법은, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 고강도 냉연 강판을 연속 어닐링하는 경우에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내의 노 내에 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스를 공급하고, 노 내의 산소 농도 또는 이슬점을 측정하고, 그 측정 결과로부터, 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스의 공급량을 제어하고, 어닐링로 출구측에서 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을, 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 하는 것이다.
청구 범위 제3항의 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법은, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부에 있어서, 강판을, 노 외를 통판시킴으로써, 강판 표면을 철이 산화하는 분위기에 노출하고, 그 후, 어닐링로 출구측에서 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을, 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 하는 것이다.
또한, 청구 범위 제4항에 기재한 바와 같이, Si가 1.0 내지 2.0% 및/또는 Mn은 2.0 내지 3.0%의 경우, 본 발명의 효과가 현저하게 드러난다.
또한, 청구 범위 제5항의 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 설비는, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 강판 주변 분위기에 산소 또는 수증기를 공급하는 설비를 구비하고, 어닐링로 출구측에는 산세 설비와 철 또는 Ni 도금 설비를 구비하는 것을 특징으로 하는 것이다.
여기서, 산소 또는 수증기를 공급하는 설비는, 강판을 노 외 통판하고, 외기와 접촉시키는 설비라고 할 수 있다.
또한, 청구 범위 제6항의 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 설비는, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 노 내에 산소 또는 수증기를 함유하는 분위기 가스를 공급하는 설비를 구비하고, 노 내의 산소 농도 또는 이슬점을 측정하는 설비를 갖고, 그 측정 결과로부터, 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스의 공급량을 제어하는 제어 장치를 구비하고, 어닐링로 출구측에는, 산세 설비와 철 또는 Ni 도금 설비를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은, 통상은 환원 분위기로 유지되는 냉각대에 있어서, 강판을 적극적으로 산화 분위기에 노출하고, Si 및 Mn, 또한 강판 표면의 Fe도 산화시킨 뒤, 어닐링로를 나온 부분에서 행하는 산세로, 강판 표면의 철 산화막 함께, Si나 Mn 등의 산화막을 제거한다는 신규의 착상에 의해, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서, 강판의 Si나 Mn 등의 함유량이 높더라도, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판을 제조하는 것을 가능하게 하는 것이다.
도 1은 종래 기술과 본 발명에 의한 강판 표면의 상태를 도시하는 도면이다. (a) 내지 (c)는 종래 기술에 의한 강판 표면의 상태를 도시하고, (d)는 본 발명에 의한 강판 표면의 상태를 도시한다.
도 2는 철의 산화 영역을 도시하는 도면이다.
도 3은 가스 공급 설비를 도시하는 도면이다.
도 4는 노 외 통판 설비를 도시하는 도면이다.
도 5는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비의 주요부를 도시하는 도면이다.
도 6은 연속 어닐링로에, 가스 공급 설비를 조립한 설비 전체의 구성을 도시하는 도면이다.
도 7은 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에, 가스 공급 설비를 조립한 설비 전체의 구성을 도시하는 도면이다.
도 8은 연속 어닐링로에, 노 외 통판부를 조립한 설비 전체의 구성을 도시하는 도면이다.
도 9는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에, 바이패스 라인을 조립한 설비 전체의 구성을 도시하는 도면이다.
도 10은 실시예 및 비교예의 산화 조건을 도시하는 도면이다.
도 11은 종래의 연속 어닐링로 설비를 도시하는 도면이다.
도 12는 종래의 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비를 도시하는 도면이다.
도 13은 종래의 어닐링로의 출구측에서 산세와 Ni 도금을 실시하는 설비를 도시하는 도면이다.
도 14는 종래의 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비의 출구측에서 산세와 Ni 도금을 실시하는 설비를 도시하는 도면이다.
본 발명에서는, 강판을 적극적으로 산화 분위기에 노출하고, Si, Mn에 더하여, 강판 표면의 철도 산화시켜, 어닐링로를 나온 부분의 산세로, 강판 표면의 철 산화막과 함께 Si나 Mn 등의 산화막을 제거하기 위하여, 어닐링의 가열에서 균열 후, 냉각대에서 강판을 산화시킨다. 구체적으로는, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 냉각 도중에, 강판 온도가 250 내지 600℃의 범위에서, 강판 표면을 Fe가 산화 하는 분위기에 노출한다.
본 발명에서는, 냉각대, 특히 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대에 있어서, 물을 사용하지 않는 냉각 방식인 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상을 적용하는 것이 큰 특징이다.
기수 냉각이나 물 딥 냉각에서는, 강판이 물에 직접 노출되는 한편, 가스 냉각, 방산 냉각, 및 냉각관 냉각의 경우에는, 강판 표면이 산소나 이슬점이 높은 분위기 가스 또는 외기에 노출되지 않는 것이 상식이므로, 본 발명에서는 강판 표면을 일부러 산소나 이슬점이 높은 분위기에 노출하는 점이 중요하다.
철이 산화하는 분위기란, 강판의 상기 온도 범위에 있어서, 열역학적으로 정해진 평형 상태도(예를 들어, 재료 환경학 입문, 부식 방식 협회편, p203, 마루젠, 1993)에 기초하여, 철이 산화하는 상태에 있는 분위기를 말한다.
도 2에 있어서, 예를 들어, 3% 수소-잔류 질소, 이슬점-50℃의 분위기 하의 산소 포텐셜은, 파선 상에 있다. 어떤 원소의 산소 포텐셜이, 이 파선보다 상부에 위치하는 경우에는, 그 원소는 환원 상태를 유지하고, 또한, 이 파선보다 하부에 위치하는 경우에는, 그 원소는 산화 상태를 유지한다.
구체적으로는, 철/산화철 평형선은, 약 50℃ 이상의 영역에 있어서, 파선보다 상부에 위치하기 때문에, 이 범위에 있어서, 환원 상태, 즉 금속철로서 존재한다.
또한, Si는, 도 2에 도시한 바와 같이, 온도 범위의 전역에서, 상기 파선보 다 하부에 위치하고 있어, 이 조건 하에서는, 산화 상태, 즉 SiO2로서 존재한다.
철을 산화하는 분위기 하에 강판을 노출하는 방법으로서는, 예를 들어, 도 3에 도시한 바와 같이, 급냉로(1)에 가스 공급 설비(2)를 설치하고, 냉각용 분위기 가스(At)와 함께, 산소나 에어(Oa)를 공급하거나, 또는 이슬점을 올리기 위한 수증기(Ho)를 공급하면 좋다. 이 경우에는, 노 내로부터 산소 농도계 또는 이슬점계(3)로 샘플 가스를 채취하고, 그 측정 결과를 제어 장치(4)로 송신하고, 가스 공급 설비(2)의 밸브(5)를 조작하고, 산소 분압, 수분압, 또한, 수소 분압을 관리하고, 철의 산화 상태를 유지하는 것이 바람직하다.
철을 산화시키기 위한 강판 온도가 250℃ 미만이면, 산화가 진행되지 않고, 또한, 600℃를 초과하면, 철의 산화가 지나치게 진행되어, 산화철을 제거하는 산세에서의 부하가 커지는 동시에, 산화철이 탈락하고, 노 내의 반송 롤에 고착되어 강판 표면의 품질 결함으로 이어진다. 그로 인해, 철을 산화시키기 위한 강판 온도는, 250℃ 내지 600℃가 바람직하다. 조업상의 온도 관리로부터, 300℃ 내지 500℃가 더욱 바람직하다.
또한, 본 발명의 냉각대에 있어서, 냉각 속도는, 1℃/s 이상이면, 특히 규정할 필요가 없고, 과시효로(過時效爐)에 있어서의 「보온」이나 「유지」라고 칭하는 온냉각이나 방산 냉각이라도 상관없다.
또한, 본 발명의 냉각대는, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상에 의한 냉각대이며, 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강 판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하고 있으면 좋고, 또한, 상기 강판 온도 범위 내에서, 전술한 강판을 산화 분위기에 노출할 수 있으면, 본 발명의 효과가 얻어진다.
또한, 가열에 뒤따르는 냉각의 도중에 강판의 재가열이 있어도, 강판의 재가열 온도가 600 내지 250℃의 범위 내이거나, 불활성 가스 분위기 내에서의 재가열이면 상관없다.
어닐링로를 나온 부분에서, 강판 표면의 철 산화막과 함께, Si나 Mn 등의 산화막을 산세하여 제거하기 위한 산세 조건에 대하여, 산의 종류는 특별히 한정되지 않지만, 염산 또는 황산이 바람직하다. 산의 농도는 1 내지 20wt%가 바람직하고, 1wt% 미만에서는, 산세 효과에 부족하고, 특히, 어닐링로를 나온 부분의 산세 설비에 사용되고 있는 산세조가 1조 정도에서는, 산화막을 모두 떨어뜨릴 수 없다.
또한, 산의 농도가 20wt% 초과에서는, 산세 효과가 포화하여 비용 증가의 영향이 커지기 때문에 바람직하지 않다.
산세조의 액온은 60 내지 95℃가 바람직하고, 60℃ 미만에서는, 농도의 경우와 마찬가지로, 산화막을 떨어뜨리지 않고, 95℃ 초과에서는, 산세 효과가 포화하여버려 승온에 사용하는 에너지 비용 증가의 영향이 커지기 때문에 바람직하지 않다.
산세 후에는, 철 또는 Ni 도금을 1 내지 50㎎/㎡ 실시한다. 이는, 산세에 의해 강판 표면의 미려화가 지나치게 되고, 화성 처리 결정이 석출되기 위한 핵이 소실되어, 화성 처리성이 열화하기 때문이다.
화성 처리성의 열화는, 피막이 일부 부착하지 않는 "코팅 부족"이라고 불리는 장소가 발생하는 현상이나, 강판 토대에 결정 석출하는 포스포파일라이트(phosphorphyllite)[Zn2Fe(PO)2?4H2O]가 석출되지 않는 등의 현상으로서 나타난다.
전자의 현상은, 전자 현미경에 의한 관찰로 확인하는 것이 가능하다. 철 또는 Ni 도금은, 전면에 균일하게 부착되어 있는 것이 중요하다.
후자의 현상은, X선 회절 강도로부터, 포스포파일라이트의 결정 비율을 나타내는 P비를 산출하여 확인한다. 일반적으로는, P비≥0.80인 것이, 내식 성능이나 도장 성능을 만족시키기 위해 구해지고, 또한, 융설염 살포 지역 등의 엄격한 부식 환경 하에 있어서는, P비≥0.85인 것이 구해진다.
화성 처리에 바람직한 표면을 형성하기 위한 철 또는 Ni 도금량은, 1 내지 50㎎/㎡이다. 철 또는 Ni 도금량이 1㎎/㎡ 미만에서는 지나치게 적어, 화성 처리 결정의 편차가 발생하고, 한편, 50㎎/㎡을 초과하면, 철 또는 Ni 도금 효과가 포화하여, 비용 증가의 영향이 커져 바람직하지 않다.
또한, 산세와 철 또는 Ni 도금의 사이, 및/또는, 철 또는 Ni 도금의 후에, 강판의 표면을 세정하는 것이, 강판 표면에 약액을 남기지 않고 표면 품위를 악화시키지 않기 때문에 바람직하다.
또한, 산세 설비와, 철 또는 Ni 도금 설비는, 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비의 어닐링로 출구측에 연접되 어 있는 것이, 공정 단축과 비용의 점에서 바람직하지만, 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비와는 다른 설비에서, 산세와, 철 또는 Ni 도금을 행하여도 상관없다.
다른 설비에서, 산세와, 철 또는 Ni 도금을 행하는 경우, 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 조질 압연을 행하면, 산화막이 조질 압연에 의해 부서져 이물질이 되고, 강판의 광택 불량이나 압박 상처 등의 품질 결함으로 이어지므로, 다른 설비에서, 산세와, 철 또는 Ni 도금을 행한 후, 조질 압연을 행하는 것이 바람직하다.
가스 냉각시, 강판 표면을, 철이 산화하는 분위기로 노출하기 위한 간단한 수단으로서, 도 4에 도시한 바와 같이, 냉각대 도중에, 강판 온도가 250 내지 600℃ 사이에서, 노 외 통판부(6)를 설치할 수 있다. 이와 같이 하여, 강판을, 급냉로(1)의 노 외로 노출시키면, 보다 확실하게 강판 표면의 철을 산화하고, 후의 산세에서, Si나 Mn 등의 산화막과 함께 제거되기에 충분한 철의 산화막을 형성할 수 있다.
또한, 강판이, 급냉로(1)의 노 외로 나오는 부분이나, 노 내로 복귀되는 부분에는, 시일 롤 등의 시일 장치(7)를 설치하고, 노 내 분위기를 외부로부터 차단하는 것이 바람직하다.
도 3 및 도 4에는 도시하고 있지 않으나, 어닐링로를 나온 부분에서 산세를 행하고, Si 이나 Mn 등의 산화막을, 철의 산화막과 함께 산세, 제거하고, 계속하여, 철 또는 Ni 도금을 행함으로써, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판을 얻 을 수 있다.
냉각대 도중에, 강판 온도가 250 내지 600℃의 사이에서, 강판을 노 외로 노출하는 방법을, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 실시할 경우를 도 5에 도시한다. 도 8은 급냉로(1)의 출구에 설치된 용융 아연 포트, 도 9는 워터 켄치(water quench)조, 도 10은 산세 설비, 도 11은 도금 설비(예를 들어, Ni 도금 설비)이다.
용융 아연 도금을 행하는 경우에는, 실선으로 나타내는 아연 도금 강판 패스 라인 L2를 따라 강판을 주행시키지만, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 어닐링하는 경우에는, 파선으로 나타낸 바와 같이, 급냉로(1)의 후단에서, 용융 아연 포트(8)를 바이패스시켜, 강판을, 강판 패스 라인 L1을 주행시킨다.
종래에는, 이 바이패스부도, 강판의 산화를 방지하기 위하여, 어닐링로와 같은 노 내 분위기 가스로 채워지고, 외기와 차단되어 있지만, 본 발명에서는, 도 5에 도시한 바와 같이, 바이패스부에서, 강판을 노 외를 통과시킴으로써, 후의 산세에서, Si나 Mn 등의 산화막과 함께 제거되기에 충분한 철의 산화막을 형성한다.
도 6에, 연속 어닐링로에, 도 2에 도시하는 가스 공급 설비(2)를 조립한 설비 전체의 구성을 도시한다. 페이 오프 릴(12)로부터 인출된 강판은, 용접기(13), 입구측 세정 장치(14), 입구측 루퍼(15)를 경유하여, 연속 어닐링로(16)로 들어간다.
연속 어닐링로(16)는, 가열로(17), 균열로(18), 서냉로(예를 들어, 가스 냉각)(19), 가스 냉각식의 급냉로(1), 과시효로(20), 최종 냉각로(21)로 구성되어 있지만, 과시효로(20)가 없는 경우도 있다.
더욱이, 연속 어닐링로(16)의 출구측에는, 워터 켄치조(9), 산세 설비(10), 도금 설비(11), 출구측 루퍼(22), 조질 압연기(23), 텐션 릴(24)이 순서대로 배치되어 있다.
또한, 도금 설비로서, Ni 도금 설비를 사용하여도 좋고, 또한 철 도금 설비를 사용하여도 좋다. 그리고 도 3에 도시되는 가스 공급 설비(2)가 급냉로(1)에 설치되어 있다.
도 7에, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에, 도 3에 도시되는 가스 공급 설비(2)를 조립한 설비 전체의 구성을 도시한다. 급냉로(1)의 후단에서, 파선으로 나타낸 바와 같이, 강판을, 용융 아연 포트(8)를 바이패스시켜 통판하고, 강판 온도가 600 내지 250℃의 범위에서, 강판 주변 분위기에, 산소, 에어(Oa) 또는 수증기(Ha)를 공급한다.
도 6 및 도 7에 도시되는 설비의 어느 경우에도, 노 내의 산소 농도 또는 이슬점을 측정하는 설비(P)를 구비하고, 그 측정 결과로부터, 산소 또는 수증기를 함유하는 분위기 가스의 공급량을 제어하는 제어 장치(4)를 구비하는 것이 바람직하다.
도 8에, 연속 어닐링로에, 도 4에 도시되는 노 외 통판부(6)를 조립한 설비 전체의 구성을 도시한다.
도 9에, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에, 도 5에 도시되는 바이패스 라인을 조립한 설비 전체의 구성을 도시한다.
급냉로(1)의 후단에서, 파선으로 나타낸 바와 같이, 강판을, 용융 아연 포트(8)를 바이패스시켜, 강판 패스 라인을 통판시키고, 강판 온도가 600 내지 250℃의 범위에서, 강판을 외기와 접촉시켜, 후의 산세에서, Si나 Mn 등의 산화막과 함께 제거하기에 충분한 철의 산화막을 형성한다.
상기한 바와 같이, 강판 온도 250 내지 600℃의 범위에서 강판을 산화시키는 장치에는, 여러 가지 형태가 존재한다.
그러나 어떠한 경우에도, 상기 온도에서 강판을 적극적으로 산화 분위기에 노출하여, Si, Mn은 물론, 강판 표층부의 철도 산화시키고, 어닐링로를 나온 부분의 산세로, 강판 표면의 철 산화막과 함께, Si나 Mn 등의 산화막을 산세 제거함으로써, Si, Mn 등의 함유량이 높더라도, 「코팅 부족」이 없는, 화성 처리성이 양호한 고강도 냉연 강판을 얻을 수 있다.
본 발명은, 특히, 질량 %로, Si가 1.0 내지 2.0%, 및/또는, Mn이 2.0 내지 3.0%처럼, 높은 함유량의 경우에 효과가 있다. Si이 1.0% 미만, 및/또는, Mn이 2.0% 미만에서도 물론 효과를 발현하지만, 과잉된 효과이다.
종래 기술에서도, Si, Mn의 산화막을 제거하여 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판을 얻는 것이 가능하므로, 본 발명에서는, Si는 1.0%를 하한으로 하고, Mn은 2.0%를 하한으로 한다.
Si 및 Mn의 상한에 대해서는, 강도가 향상되어도, 연성 그 밖의 재질 조건과 의 밸런스가 악화되므로, Si는 2.0%를 상한으로 하고, Mn은 3.0%를 상한으로 한다.
Si과 Mn 이외의 원소는, 표면 품위, 내부 결함, 인장 강도, 신장, 국부 연성, 구멍 확장성, 내충격성, 용접성, 용접부의 재질 열화 방지, 소부 경화성, 시효성, 온간 프레스성 등, 사용자로부터의 요구에 따라 조정된다.
예를 들어, Si, Mn 이외에, 질량%로, C:0.01 내지 0.3%, P:0.0001 내지 0.15%, S:0.0001 내지 0.02%, Al:0.001 내지 0.4%, N:0.0002 내지 0.02%를 함유하고, 잔량부 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지고, 요구 특성에 따라, Ti, Nb, V, Zr, W, Mo, Cr, Ni, Cu, Ca, REM, B, Mg나 La, Ce 등의 란타노이드계 원소의 1종 또는 2종 이상을, 각각, 0.0001 내지 1%의 범위로 함유하는 것이라도 상관없다.
또한, 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에 있어서는, 통상은 강판의 산화를 방지하기 때문에, 노 내를, 질소 등을 주성분으로 하는 불활성 가스로 채우고, 노를 시일 밀폐하여, 외기를 차단하고 있다.
이 시일 수단으로서, 고온 영역으로부터의 냉각 방식이, 기수 냉각, 물 딥 냉각, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각, 롤 냉각에 한정되지 않고, 종래로부터, 어닐링로 출구에, 워터 켄치라고 불리는 최종 냉각을 겸한 물에 의한 시일 장치를 설치하는 것이 알려져 있다.
여기에서의 최종 냉각은, 강판 온도를 250℃ 정도로부터, 상온 내지 80℃ 정 도까지 물에 의해 냉각된다. 물에 의해 냉각되므로, 강판 표면의 철도 산화되어, 철의 산화막이 형성되지만, 본 발명의 경우에서도, 종래 기술에서도, 이 워터 켄치에 의한 철의 산화막 형성이 화성 처리성을 좌우하지 않는다.
이 이유는, 본 발명의 경우와 달리, 워터 켄치에서는, 강판 온도가 250℃ 미만이기 때문에, 철의 산화막 형성이 매우 작은 것이며, 본 발명과 같이, Si나 Mn 등의 산화막과 함께 제거되는 것과 같은 두꺼운 철 산화막이 아니기 때문이라고 생각된다.
[실시예]
강의 종류가 하기 A 내지 D의 4종류의 고강도 강판을 사용하여, 실험을 행하였다. 어닐링은 모두, 연속 어닐링로를 사용하고, 어닐링 조건(850℃-60초, 10% 수소-잔류 질소, 이슬점-40℃), 가스 냉각 조건(5% 수소-잔류 질소, 이슬점-60℃)의 공통 조건이다. 또한, 산화 조건, 산세 조건, 도금 조건을, 표 1에 정리하였다.
강종 A : Si:0.7%, Mn:2.8%
강종 B : Si:1.0%, Mn:1.8%
강종 C : Si:1.3%, Mn:1.2%
강종 D : Si:1.8%, Mn:1.5%
Figure 112009041464259-pct00001
또한, 실시예 및 비교예의 산화 조건의 위치는, 도 10에 있어서, 각각 파선으로 나타내었다. 이 파선과, 온도(250 내지 600℃)의 교점이 철/산화철 평형선으로부터 위에 있으면, 철은 산화하고, 아래에 있으면, 철은 환원된다.
실시예 1로부터 실시예 3은, 250℃로부터 600℃ 범위에 있어서, 상기 교점이 모두 철/산화철 평형선보다 상부에 위치하므로, 이 조건 하에서는, 산화가 발생하고, 산화철이 생성된다.
또한, 비교예 4 및 비교예 5에 있어서는, 반대로, 상기 교점이 철/산화철 평형선보다 하부에 위치하므로, 이 조건 하에서는, 산화철은 환원되어, 철이 단체철(單體鐵)로서 존재한다.
상기 강종, 산화 조건, 산화판 온도, Ni 도금량을 변화시켜 고강도 냉연 강판을 제조하고, 화성 처리 후의 외관 평가와, P비의 측정을 행하고, 그 결과를 표 2에 정리하였다.
여기서, 화성 처리 후의 외관 평가는, "코팅 부족"이 없고, 입자가 가지런한 것을 ○, "코팅 부족"이 있는 것을 ×라고 하였다.
P비는, 포스포필라이트 (100)면(P)와 호페아이트(hopeite) (020)면(H)의 X선 회절 강도비 P/(P+H)를 지표로 하고, 0.85 이상을 ◎, 0.80 이상 0.85 미만을 ○, 0.80 미만을 ×라고 하였다.
실시예 1 내지 실시예 11은 본 발명예이며, 모두 화성 처리성은 양호하다. 한편, 비교예 12, 13, 15, 16, 및, 18에서는, 적극적인 철의 산화를 행하지 않았기 때문에, Si나 Mn의 잔존 산화물에 의한 화성 불량이 발생하였다.
비교예 14에서는, 적극적인 산화를 실시하였지만, 산화판 온도가 지나치게 높아, 산화물이 극단적으로 두꺼워진 것으로, 그 후의 산세 처리로, 산화막이 제거되지 않고 잔존하며, 화성 불량이 발생하였다.
비교예 17에서는, 탈로 온도가 지나치게 낮기 때문에, 산화가 진행되지 않고, 결과적으로, Si나 Mn의 산화물이 제거되지 않고 잔존하며, 화성 불량이 발생하였다.
비교예 19 및 비교예 20에서는, 산세 후에 Ni 도금을 실시하지 않았기 때문에, 화성 피막 자체는, 포스포필라이트가 석출되었지만, "코팅 부족"이 많이 발생하였고, 화성 처리성은 불량하였다.
Figure 112009041464259-pct00002
상기 데이터에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 의하면, 고강도화 때문에, 강 중의 Si나 Mn 등의 함유량을 증대시켰을 경우에도, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판을 제조할 수 있다.
본 발명은, 전술한 바와 같이, 강판의 Si나 Mn 등의 함유량이 높더라도, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 F 제조를 가능하게 한 것이다. 따라서, 특히, 자동차 분야로의, 고강도 강판의 적용 확대에 크게 공헌하는 것이다.

Claims (7)

  1. 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위 내의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하여, 고강도 냉연 강판을 제조하는 방법에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 강판 표면을 철이 산화하는 분위기에 노출하여 산화시키고, 어닐링로 출구측에서 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을, 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법.
  2. 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하여, 고강도 냉연 강판을 제조하는 방법에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내의 노 내에, 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스를 공급하고, 노 내의 산소 농도 또는 이슬점을 측정하고, 그 측정 결과로부터, 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스의 공급량을 제어하고, 어닐링로 출구측에서 산세한 후, 철 또는 Ni 도금을, 1 내지 50㎎/㎡ 실시하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부에 있어서, 강판을, 노 외를 통판시킴으로써, 강판 표면을, 철이 산화하는 분위기에 노출하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고강도 냉연 강판이, 질량%로, Si:1.0 내지 2.0%, Mn:2.0 내지 3.0% 중 하나 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 방법.
  5. 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하여 고강도 냉연 강판을 제조하는, 고강도 냉연 강판의 제조 설비에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 강판 주변 분위기에 산소 또는 수증기를 공급하는 설비를 구비하고, 어닐링로 출구측에는, 산세 설비와, 철 또는 Ni 도금 설비를 구비하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 설비.
  6. 재결정을 위한 가열에 뒤따르는 600 내지 250℃의 강판 온도 범위의 일부 또는 전부를 포함하는 냉각대의 냉각 방식이, 가스 냉각, 방산 냉각, 냉각관 냉각의 1종 또는 2종 이상인 연속 어닐링로나, 연속 어닐링로를 갖는 냉연 강판/용융 아연 도금 강판 겸용 설비에서 냉연 강판을 연속 어닐링하여 고강도 냉연 강판을 제조하는, 고강도 냉연 강판의 제조 설비에 있어서, 상기 강판 온도 범위 내에서, 노 내에 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스를 공급하는 설비를 구비하고, 노 내의 산소 농도 또는 이슬점을 측정하는 설비를 갖고, 그 측정 결과로부터, 산소 또는 수증기를 함유한 분위기 가스의 공급량을 제어하는 제어 장치를 구비하고, 어닐링로 출구측에는, 산세 설비와, 철 또는 Ni 도금 설비를 구비하는 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 설비.
  7. 제5항에 있어서, 상기 산소 또는 수증기를 공급하는 설비는, 강판을 노 외 통판하고, 외기와 접촉시키는 설비인 것을 특징으로 하는, 화성 처리성이 우수한 고강도 냉연 강판의 제조 설비.
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