KR0173535B1 - 압력식 유량제어장치 - Google Patents

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KR0173535B1
KR0173535B1 KR1019960018765A KR19960018765A KR0173535B1 KR 0173535 B1 KR0173535 B1 KR 0173535B1 KR 1019960018765 A KR1019960018765 A KR 1019960018765A KR 19960018765 A KR19960018765 A KR 19960018765A KR 0173535 B1 KR0173535 B1 KR 0173535B1
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노부카주 이케다
아키히로 모리모토
유키오 미나미
코오지 카와다
료오수케 도오이
히로유키 후쿠다
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오가와 슈우헤이
카부시키가이샤 후지킨
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Abstract

유량제어장치의 제어정도를 높임과 아울러, 장치의 소형화, 저코스트화를 달성하는 것을 목적으로 한다.
오리피스 상류측 압력을 하류측 압력의 약 2배이상으로 유지하여 유체의 유량제어를 행하는 압력식 유량제어장치에 있어서, 오리피스와, 그 상류측에 설치한 제어밸브와, 제어밸브와 오리피스 사이에 설치한 압력검출기와, 압력검출기의 검출압력(P1)으로부터 유량을 Qc=KP1(단지, K는 정수)으로 하여 연산함과 아울러, 유량지령신호(Qs)와 연산유량(Qc)의 차를 제어신호(Qy)로 하여 제어밸브(2)의 구동부(14)에 출력하는 연산제어장치(6)로부터 장치를 구성하고, 제어밸브(2)를 개폐하여 압력(P1)을 조정하고, 오리피스 하류측 유량을 제어하는 것을 구성으로한다.

Description

압력식 유량제어장치
제1도는 본 발명에 관한 압력식 유량제어장치의 구성을 표시하는 블록도.
제2도는 압력식 유량제어장치의 종단면도.
제3도는 압력식 유량제어장치의 횡단면도.
제4도는 압전소자형 구동부를 구비한 제어밸브의 종단면도.
제5도는 제4도의 A-A선 단면도.
제6도는 압력식 유량제어장치의 압력검출기의 부착부를 표시하는 부분 종단면도.
제7도는 압력식 유량제어장치의 다른 실시예를 표시하는 종단면도.
제8도는 오리피스를 제어밸브의 밸브본체에 설치한 경우의 다른예를 표시하는 부분 종단면도.
제9도는 오리피스를 제어밸브의 밸브본체에 설치한 경우의 또 다른 예를 표시하는 부분 종단면도.
제10도는 본 발명에 관한 압력식 유량제어장치의 유량제어특성을 표시하는 것이다(오리피스의 하류측 압력이 진공인 경우).
제11도는 본 발명에 관한 압력식 유량제어장치의 유량제어특성을 표시하는 것이다(오리피스의 하류측 압력이 대기압인 경우).
제12도는 종전의 차압식 유량제어장치의 블록선도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 유량제어장치 2 : 제어밸브
3 : 압력검출기 4 : 온도검출기
5 : 오리피스 6 : 연산제어장치
7a, 7b : 증폭기 8a, 8b : A/D변환기
9 : 오리피스대응밸브 9a : 밸브본체
9b : 유체입구 9c : 유체출구
10 : 반전증폭기 11 : 가스배출용 이음매
12 : 밸브본체 12a : 유체입구
12b : 밸브자리 12c : 밸브실
12d : 압력검출기 부착구멍 12e : 유체출구
12f : 오리피스 부착구멍 12g : 오리피스 삽입구멍
13 : 다이어프램 14 : 구동부
14a : 압전소자 15 : 판스프링
16 : 다이어프램 누름부재 17 : 베이스본체
18 : 보올 19 : 압전소자 지지부재
20 : 스트로크 조정나사 21 : 누름너트
22 : 0링 23 : 슬리브
24, 27 : 베어링 25 : 부착나사
26 : 체결누름체
본 발명은 기체 등의 유량제어장치의 개량에 관한 것이며, 주로 반도체 제조설비나 화학제품 제조설비 등에 있어서 이용되는 것이다.
반도체 제조설비 등의 가스유량 제어장치로서는, 종전부터 소위 마스프로컨트롤러가 많이 이용되고 있다.
그러나, 이 마스프로컨트롤러에는 ① 열식 유량센서의 경우는, 응답속도가 비교적 늦다는 것, ② 저유량 영역에 있어서 제어정도가 나쁠 뿐 아니라, 제품마다 정도의 불균형이 있다는 것, ③ 작동상 문제점이 많아서 안정성이 떨어진다는 것, ④ 제품가격이 높을 뿐 아니라, 교환용 부품도 고가여서, 러닝코스트가 높다는 것등의 여러 가지 불편이 존재한다.
한편, 상술한 바와 같은 마스프로컨트롤러의 문제점을 피하는 것으로서, 제12도에 표시한 바와 같은 구성의 차압식 유량제어장치가 많이 사용되고 있다.
즉, 해당 차압식 유량제어장치는, 오리피스(30)의 상·하류측의 유체의 차압 △P를 압력검출기(31), (32)의 검출치로부터 구하고, 검출유량및 검출유량(Qc)과 설정유량(Qs)의 차 Qy=Qc-Qs를 CPU로 연산함과 아울러, 상기한 유량차(Qy)를 제어신호로서 유량제어밸브(33)에 출력하고, 상기한 유량편차 Qy를 영으로 하는 방향으로 유량제어밸브(33)를 개·폐 제어하는 것이다.
그러나, 해당 차압식 유량제어장치에는, ① 검출유량(Qc)의 레인지 범위가 압력검출기(31), (32)의 레인지 범위의 1/2곱으로 되기 때문에, 검출유량(Qc)의 검출정도가 저하하는 것, ② 유량측정 정도를 높이기 위해서는, 오리피스 상·하류측에 비교적 긴 직관로를 설치하여 유체의 흐름을 층류로 할 필요가 있어, 필연적으로 장치가 대형화한다는 것, ③ 압력검출기를 2기 필요로 하기 때문에, 제조코스트의 인하를 도모하기 어렵다는 등의 문제가 남아있다.
본 발명은, 상기한 마스프로컨트롤러나 차압식 유량제어장치에 있어서 상술한 바와 같은 문제, 즉 ① 장치로서의 종합적인 검출정도가 낮다는 것, 및 ② 장치의 소형화나 제조코스트의 저감이 곤란하다는 등의 문제의 해결을 직접 목적으로 하는 것이고, 1기의 압력검출기의 검출압력을 기준으로 하여, 해당 검출압력치에 정비례하는 형으로 검출유량을 연산함으로써, 높은 정도인 유량제어를 할 수 있고, 또한 소형이고 또한 염가로 제조할 수 있도록 한 압력식 유량제어장치를 제공하는 것이다.
그리하여, 노즐을 통하는 기체류의 특징의 하나로서,노즐 전후의 기체의 압력비 P2/P1이 기체의 임계압력비(공기나 질소 등의 경우는 약 0.5) 아래로 되면, 노즐을 통하는 기체의 유속이 음속으로 되어서 노즐하류측의 압력변동이 상류측에 전파하지 않기 때문에, 노즐상류측의 상태에 상응한 안정한 질량유량을 얻을 수 있다고 하는 사상(事象)이 있다.
단지, 노즐의 경우에는, 기체가 가지는 점성 때문에 노즐 단면적과 음속의 적(積)이 직접 실제의 기체유량을 나타내는 것으로는 되지 않고, 기체의 유량연산을 행함에는, 노즐의 형태에 의해 정해지는 유출계수를 구해야만 되는 것은 물론이다.
그 때문에, 본 발명자 등은, 각종의 노즐의 형태와 유체(가스)에 대하여, 그 유출계수를 구하는 시험을 반복하여 왔으나, 그 시험과정에 있어서, 상기한 기체의압력비 P2/P1가 기체의 임계압력비 이하의 경우에는, 하류측의 압력변동이 상류측에 전파하지 않는다는 특성에 착안하여, 기체유통로를 노즐에 대신해서 미소 오리피스로 한 경우의 오리피스 형태와 기체유량 및 오리피스 상류측의 기체압력(P1)과 기체유량의 관계에 대하여, 각종의 측정시험을 행하였다. 그 결과, 기체압력비 P2/P1가 기체의 임계압력비 이하인 경우에는, 판형상의 미소 오리피스를 유통하는 기체유량은, 미소 오리피스의 지름이 일정한 경우에는, 기체의 종류에 관계없이, 오리피스상류측의 기체압력(P1)에 정비례하여 변화하는 것을 발견하였다.
즉, 미소 오리피스를 유통하는 기체유량(Qc)는, 오리피스 상류측의 압력(P1)에 정비례하는 것이 되어, 오리피스 상류측 압력(P1)을 자동제어하는 것에 의해, 오리피스를 유통하는 유량의 피드백제어를 행할 수 있다.
또, 오리피스를 유통하는 기체유량은, 오리피스 상류측의 기체의 유속분포나, 오리피스하류측의 압력변동의 영향을 받지 않기 위해, 오리피스 상류측에 직관로를 필요로 하지 않고, 장치의 대폭적인 소형화가 도모됨과 아울러, 압력검출기도 1기로 좋고, 유량제어장치의 제조코스트의 인하가 가능하게 된다.
또한, 유량과 압력의 관계가 1차 함수로 되기 때문에, 압력검출기의 레인지와 유량의 레인지가 동일하게 되어, 종전의 차압식 유량계의 경우와 비교하여 측정정도가 현저하게 향상한다.
그런데, 종래부터, 디스크터치형의 유량제어밸브 등의 제작에 있어서도, 기체압력비 P2/P1가 임계압력비 이하인 경우의 밸브를 통과하는 기체유량(Qc)을, Qc=KSP1(단지, S는 최소유면적, P1은 1차측 압력, K는 상수)으로 하여 연산하는 것이 경험적으로 행하여지고 있다.
그러나, 해당 유량제어밸브에 있어서 실제의 기체유량(Q)은, Qc=KSP1으로 연산한 유량의 ±20% 정도의 값으로 되어, 상기한 QC=KSP1의 관계를 기체유량의 정밀한 측정에 응용하는 것은 곤란한 상태에 있다.
본원 발명은, 상술한 바와 같은 본원발명자 등의 식견에 따라서 창작된 것이며, 오리피스의 상류측 압력(P1)을 하류측 압력(P2)의 약 2배 이상으로 유지한 상태에서 유체의 유량제어를 행하는 압력식 유량제어장치에 있어서, 오리피스(5)와, 오리피스(5)의 상류측에 설치한 제어밸브(2)와, 제어밸브(2)와 오리피스(5) 사이에 설치한 압력검출기(3)와, 압력검출기(3)의 검출압력(P1)으로부터 유량(Qc)을 Qc=KP1(단지, K는 정수)으로 하여 연산함과 아울러, 유량지령신호(Qs)와 상기한 연산한 유량신호(Qc)의 차를 제어신호(Qy)로 하여, 상기한 제어밸브(2)의구동부(14)로 출력하는 연산제어장치(6)로 구성되고, 제어밸브(2)의 개폐에 의하여 오리피스 상류측 압력(P1)을 조정하여, 오리피스 하류측 유량을 제어하는 것을 발명의 기본 구성으로 하는 것이다.
압력검출기(3)에 의해 오리피스(5)의 상류측의 유체압력(P1)이 검출되어, 연산제어장치(6)에 입력된다.
연산제어장치(6)에서는 Qc=KP1의 연산식을 사용하여 유량(Qc)이 연산됨과 아울러, 유량지령치(Qs)와 (Qc)의 비교가 행하여지고, 양자의 차 Qc-Qs에 상당하는 제어신호(Qy)가 제어밸브(2)의 구동부(14)에 입력된다.
즉, 제어밸브(2)는, 상기한 제어신호(Qy)에 의하여 상기한 양자의 차 Qc-Qs가 영으로 되는 방향으로 개폐제어되어, 이에 의하여 오리피스 하류측의 유량(Qc)이 설정유량(유량지령치)(Qs)에 상시 유지된다.
[실시예]
아래, 도면에 따라서 본 발명의 실시예를 설명한다. 제1도는 본 발명에 관한 유량제어장치의 블록구성도이고, 해당 유량제어장치(1)는 제어밸브(2), 압력검출기(3), 온도검출기(4), 오리피스(5), 연산제어장치(6), 증폭기(7a), (7b), A/D변환(8a), (8b) 오리피스대응밸브(9), 가스배출용 이음매(11) 등으로 형성되어 있다.
상기한 제어밸브(2)에는, 뒤에 진술하는 바와 같은 이른바 다이렉트터치형의 메탈다이어프램밸브가 사용되고 있고, 또, 그 구동부에는, 압전소자형 구동장치가 사용되고 있다. 그리고, 제어밸브(2)의 구동부로서는 이외에, 자왜소자형 구동장치나, 솔레노이드형 구동장치, 모터형 구동장치, 공기압형 구동장치, 열팽창형 구동장치 등의 사용이 가능하다.
상기한 압력검출기(3)에는 반도체왜형 압력센서가 사용되고 있으나, 압력검출기(3)로서는 이외에, 금속박왜형 압력센서나 정전용량형 압력센서, 자기저항형 압력센서 등의 사용도 가능하다.
또, 상기한 온도검출기(4)에는, 열전대형 온도센서가 사용되고 있으나, 측온저항형 온도센서 등의 사용도 가능하다.
상기한 오리피스(5)에는, 판형상의 금속박판제 가스켓에 방전가공에 의하여 구멍부를 설치한 오리피스가 사용되고 있으나, 오리피스(5)로서는 이외에, 주세파이프나 에칭에 의하여 금속망에 구멍을 형성한 오리피스를 사용할 수가 있다.
상기한 연산제어장치(6)는, 이른바 제어 회로기판으로 형성되어 있고, 온도보정회로(6a), 유령연산회로(6b), 비교회로(6c), 증폭회로(6d)등이 구비되어 있다.
다음에, 본 발명에 관한 유량제어장치(1)의 작동에 대하여 설명한다.
제1도을 참조하여, 제어밸브(2)의 출구측,즉 오리피스(5)의 상류측의 기체압(P1)이 압력검출기(3)에 의하여 검출되고, 증폭기(7a) 및 A/D변환기(8a)를 거쳐, 디지털화된 신호가 유량연산회로(6b)에 입력된다. 동일하게, 오리피스 상류측의 기체온도(T1)가 온도검출기(4)에서 검출되고, 증폭기(7b) 및 A/D변환기(8b)를 거쳐서 디지털화된 신호가 온도보정회로(6a)에 입력된다.
상기한 연산제어회로(6)에서는, 압력신호(P1)를 사용하여 유량 Q'=KP1이 연산됨과 아울러, 상기한 온도보정회로(6a)로부터 보정신호를 사용하여 상기한 유량(Q')의 온도보정이 행해져서, 연산유량신호(Qc)가 비교회로(6c)에 입력된다.
한편, 비교회로(6c)에는 유량지령신호(Qs)가 입력되어 있고, 여기에서 상기한 연산유량신호(Qc)와 비교가 행해짐과 아울러, 양자의 차신호 Qy=Qc-Qs가, 제어신호로서 제어밸브(2)의 구동부(14)에 출력된다.
즉, 연산유량신호(Qc)가 유량지령신호(Qs)보다 큰 경우에는, 제어밸브(2)를 폐쇄하는 방향으로, 또, 상기한 Qc가 Qs보다 작은 경우에는 제어밸브(2)를 개방하는 방향으로 밸브구동부(14)가 작동되어, Qc=Qs로 되도록 제어밸브(2)의 개도가 자동제어된다.
그리고, 본 발명에 있어서는, 상기한 오리피스(5)의 상류측의 기체압력(P1)과 하류측의 압력(P2)의 사이에, P2/P1가 약 0.5 보다작다는 것. 즉, 오리피스(5)의 상류측 압력(P1)이 하류측 입력(P2)의 약 2배보다 크다는 조건이, 항상 성립하고 있다는 것은 물론이다.
그 때문에, 제1도의 점선으로 표시하는 바와 같이, 오리피스(5)의 상류측 기체 압력(P1)과 하류측 기체압력(P2)을 반전증폭기(10)에 입력하고, 압력(P1)과 압력(P2)의 크기가 역전하는 경우(즉, 역류를 일으키는 상태로 된 경우)나, 혹은 P2/P10.5의 상태로 된 경우(즉, 역류는 일어나지 않지만 높은 정도로 유량제어를 하진 않게 된 경우)에는, 제어밸브(2)를 자동적으로 폐쇄하도록 하여도 좋다.
제2도 및 제3도는, 본 발명에 관한 장치의 연산제어장치(6)를 제외한 부분의 한예를 표시하는 종단면도와 횡단면도이고, 또, 제4도 및 제5도는, 압전소자형 구동부를 구비한 장치의 종단면도와 A-A선 경사단면도이다. 그리고, 제2도∼제4도에 있어서, (2)는 제어밸브 (3)은 압력검출기, (5)는 오리피스, (9)는 오리피스대응밸브, (11)은 가스배출용 이음매, (12)는 밸브본체, (13)은 다이어프램, (14)는 구동부이다.
상기한 제어밸브(2)는, 유체입구(12a), 밸브자리(12b), 밸브실(12c), 압력검출기 부착구멍(12d), 유체출구(12e) 등을 구비한 스테인레스강제의 밸브본체(12)와, 스테인레스강이나 니켈, 코발트합금제의 다이어프램(13)과, 다이어프램(13)을 아래로 누르는 압전소자형 구동부(14) 등으로 형성되어 있다.
또, 제4도의 장치에 있어서는, 상기한 다이어프램(13)은 판스프링(15)의 탄성에 의하여 상시 아래로 눌러져 있고, 밸브자리(12)에 맞닿은 상태로 되어 있다.
또한, 압전소자(14a)의 입력에 의해 이것이 신장하면, 압전소자 지지부재(19)를 통해 다이어프램 누름부재(16)가 위쪽으로 인상된다. 그 결과, 다이어프램(13)이 위쪽으로 탄성복귀하여, 밸브자리(12b)로부터 떨어져 있는 사이에, 밸브가 열림상태로 된다.
그리고, 본 실시예에서는 제4도에 표시하는 바와 같이, 변위량 16㎛, 5㎜×5㎜×18㎜의 압전(피에조)소자장치(14a)를 3개 직렬형상으로 조합시키는 것에 의해, 압전소자구동부(14)를 형성하고 있고, 제4도 및 제5도에 있어서, (16)은 다이어프램 누름부재, (17)은 베이스본체, (18)은 보올, (19)는 압전소자 지지부재(스파인버재), (20)은 스트로크 조정나사이다.
또, 상기한 압전소자 지지부재(19)의 열팽창율은 압전소자(피에조소자)의 열팽창률에 대략 가까운 스파인버재에 의해 형성되어 있다. 제6도는 압력검출기(3)의 부착부의 상세를 표시하는 것이며, 본 실시예에서는 밸브본체(12)의 하면측에 설치한 부착구멍(12d)내에 반도체 왜곡게이지로 이루어지는 압력검출기(3)가, 누름너트(21)에 의해 메탈 0링(22)을 통해 기밀형상으로 부착되어 있다.
그리고, 제6도에 있어서, (23)은 슬리브, (24)는 베어링이고, 또 상기한 메탈 0링(22)에대신하여 메탈 C링이나, 메탈가스켓을 사용할 수가 있다.
또한, 본 실시예에서는, 상기한 압력검출기 부착구멍(12d)을 밸브본체(12)의 밸브실(12c)보다 약간 하류측 부근의 저면에 형성하도록 하고 있으나, 제7도의 표시하는 바와 같이 밸브본체(12)의 하면측에 밸브실(12c)과 반대방향으로 부착구멍(12d)을 천설하도록 하여도 좋다.
상기한 오리피스(5)는 제2도에 표시하는 바와 같이, 상기한 압력검출기(3)보다 하류측에 설치되어 있고, 본 실시예에서는, 메탈다이어프램형의 오리피스대응밸브(9)의 밸브본체(9a)에 형성한 유체입구(9b)내에 배설되고, 부착나사(25)을 체결하는 것에 의해 베어링(24)을 통해 고정되고 있다. 그리고, 제2도 및 제3도에 있어서, (9c)는 오리피스대응밸브(9)의 유체출구이다.
제8도는, 오리피스(5)의 부착위치를 제어밸브(2)의 밸브본체(12)측에 설치한 예를 표시하는 것이며, 부착구조 그자체는, 상기한 오리피스대응밸브(9)의 밸브본체(9a)측에 설치하도록한 제2도의 경우와, 전부 동일하다.
제9도는 오리피스(5)의 또 다른 부착예를 표시하는 것이며, 오리피스(5) 그자체를 교환자재하게 부착한 것이다.
즉, 밸브본체(12)의 오리피스 부착구멍(12f)내에 링형상의 맞닿은 면을 형성함과 아울러, 오리피스삽입구멍(12g)을 유체통로와 수직방향으로 형성하고, 판형상의 오리피스(5)를 삽입구멍(12g)을 통하여 위쪽으로부터 부착구멍(12f)내에 삽입함과 아울러, 체결누름체(26)를 체결함으로써, 베어링(27)을 통해 오리피스(5)를 고정하도록 형성되어 있다.
또, 유량범위에 따라서 오리피스(5)를 교환하는 경우에는, 상기한 누름체(26)를 느슨하게 하고, 오리피스(5)를 교환한 후, 재차 누름체(26)를 체결한다.
본 발명에서는, 제어밸브(2)의 밸브본체(12)를 블록화하여, 이에 오리피스 부착구멍(12f)이나 압력검출기 부착구멍(12d)을 각각 일체적으로 형성하는 구성으로 하고 있기 때문에, 이른바 유량조정장치(1)의 내부에 있어서 유체통로 공간의 용적으로 대폭 작게 할 수 있고, 가스의 치환성 등이 향상한다.
제10도 및 제11도는 본 발명에 관한 압력식 유량제어장치의 기체를 질소가스로 한 경우의 유량제어특성을 표시하는 것이며, 제10도는 오리피스(5)의 하류측을 약10torr의 진공으로 한 경우, 또, 제11도는 오리피스(5)의 하류측을 대기압으로 한 경우를 각각 표시하는 것이다.
제10도 및 제11도에서도 명백한 바와 같이, 상류측 압력(P1)이 하류측 압력(P2)의 약 2배를 넘는 범위에 있어서는, 유량(Qc)과 (P1)은 비례(직선)관계로 유지되어 있다. 그리고, 제10도 및 제11도에 있어서 곡선(A),(B),(C)는 각각 오리피스 내경을 0.37㎜φ, 0.20㎜φ, 0.07㎜φ로 한 경우를 표시하는 것이다.
표1은, 본 발명에 관한 압력식 유량제어장치와 종전의 차압식 유량제어장치의 정도 등을, 압력검출기의 측정범위와 정도를 동일하다고 가정해서 비교한 것이다.
이 표에서도 명백한 바와 같이, 본 건 발명은 차압식 유량제어장치에 비교하여, 유량측정정도나 측정가능범위의 점에서 뛰어나고 있음과 아울러, 장치를 보다 소형화 할 수 있다는 것을 알 수 있다.
또, 표2는, 종전의 표준적인 마스프로컨트롤러와 본원 발명의 특성 등을 비교한 것이다. 이 표에서도 명백한 바와 같이, 본원 발명은 저유량 영역에 있어서의 측정정도 및 제조코스트 등의 점에서, 마스프로컨트롤러에 뛰어난 것임을 알 수 있다.
본 발명에서 상술한 바와 같이, 오리피스의 상류측 입력(P)을 오리피스의 하류측 압력(P)의 약 2배 이상으로 유지하는 것에 의하여, 상기한 압력(P)과 오리피스 하류측 유량의 사이에 1차 함수 관계를 성립시키고, 이에 따라 상기한 상류측 압력(P1)을 조정함으로써, 하류측 유량(Qc)을 설정치로 자동 제어하는 구성을 하고 있다.
그 결과, 종전의 마스프로컨트롤러에 비교하여, 저류영역에 있어서의 측정정도를 높임과 아울러, 고장도 적게할 수 있고, 또한, 제조코스트의 대폭인하를 도모할 수 있는 등의 뛰어난 효과가 얻어진다.
또, 본원 발명에서는, 종전의 차압식 유량제어장치와 비교하여 높은 유량검출정도가 얻어짐과 아울러, 장치의 소형화 및 제조코스트의 인하를 도모할 수가 있다.
또한, 본 발명에서는, 오리피스 상류측의 압력(P)을 제어함으로써, 오리피스 하류측 유량을 압력(P)이 1차 함수의 형으로 얻는 구성으로 하고 있기 때문에, 이른바 유량의 피드백 제어가 용이하게 되고, 제어장치의 안정성의 향상이나 제조코스트의 인하가 가능하게 된다.

Claims (6)

  1. 오리피스의 상류측 압력(P1)을 하류측 압력(P2)의약 2배 이상으로 유지한 상태에서 유체의 유량제어를 시행하는 압력식 유량제어 장치에 있어서, 유체입구(12a)로부터 유입하여 오는 유체를 제어하는 제어밸브(2)와, 제어밸브(2)의 하류측에 설치한 오리피스대응밸브(9)와, 제어밸브(2)와 오리피스대응밸브(9) 사이의 유체통로에 설치한 오리피스(5)와, 제어밸브(2)와 오리피스(5) 사이에 설치한 압력검출기(3)와, 압력검출기(3)의 검출압력(P1)으로부터 유량(Qc)을 Qc=KP1(단지 K는 정수)으로 하여 연산하는 동시에, 유량지령신호(Qs)과 상기의 연산된 유량신호(Qc)와의 차를 제어신호(Qy)로서 상기한 제어밸브(2)의 구동부(14)로 출력하는 연산제어장치(6)와, 압력검출기(3)와 연산제어장치(6) 사이에 설치되어 신호를 디지털화 하는 증폭기(7a) 및 A/D변환기(8a)로 구성되고, 제어밸브(2)의 개폐에 의해 오리피스 상류측 압력(P1)을 조정하여, 오리피스 하류측 유량을 제어하는 것을 특징으로 하는 압력식 유량제어 장치.
  2. 제1항에 있어서,제어밸브(2)의 밸브본체(12)에 압력검출기(3)의 부착구멍(12d) 및 오리피스(5)의 부착구멍(12f)을 각각 설치하여, 제어밸브(2)의 밸브본체(12)를 블록화하여 이루어진 압력식 유량제어장치.
  3. 제1항에 있어서, 오리피스 대응밸브(9)의 밸브본체(9a)의 유체입구(9b)내로 상기한 오리피스(5)를 부착하도록 한 압력식 유량제어장치.
  4. 제1항에 있어서, 오리피스(5)의 상류측의 기체온도(T1)를 검출하는 온도검출기(4)를 구비하고, 연산제어장치(6)가, 연산한 유량(Qc)의 값을 상기한 기체온도(T1)에 따라서 보정하기 위한 온도보정회로(6a)를 보유하는 것을 특징으로 하는 압력식 유량제어장치.
  5. 제1항에 있어서, 제어밸브(2)를, 오리피스(5)의 상류측 압력(P1)과 하류측 압력(P2)의 검출치가 입력되는 반전증폭기(10)로부터의 출력신호에 의하여, 상류측압력(P1)과 하류측 압력(P2)의 관계가 P2/P10.5 로 된 때에 폐쇄하는 제어밸브(2)로한 압력식 유량제어장치.
  6. 제3항에 있어서, 오리피스 삽입구멍(12g)을 유체통로 수직방향으로 형성하고, 오리피스(5)를 제어밸브(2)의 밸브본체(12)의 오리피스 부착구멍(12f) 내로, 상기한 오리피스 삽입구멍(12g)을 통해 삽입하고, 체결누름체(26)를 체결하여, 베어링(27)을 통해 오리피스(5)를 고정하도록 형성함으로써, 오리피스가 교환자재하게 구성된 압력식 유량제어장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100804646B1 (ko) * 2003-07-31 2008-02-20 가부시키가이샤 후지킨 챔버로의 가스 공급 장치 및 이것을 이용한 챔버의 내압제어 방법
KR101274635B1 (ko) * 2005-08-31 2013-06-13 사파스고교 가부시키가이샤 압력계 및 압력계 조립체

Families Citing this family (139)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2837112B2 (ja) * 1995-06-09 1998-12-14 株式会社平井 音速ノズルを用いた質量流量制御方法および装置
JP3580645B2 (ja) * 1996-08-12 2004-10-27 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
US6062256A (en) * 1997-02-11 2000-05-16 Engineering Measurements Company Micro mass flow control apparatus and method
JPH10268942A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Nippon Aera Kk 音速ノズルを用いた流量制御弁
JPH10275018A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ
JP4267079B2 (ja) * 1997-04-18 2009-05-27 ツェットエフ、フリードリッヒスハーフェン、アクチエンゲゼルシャフト 圧力制御弁
ATE314580T1 (de) 1997-08-15 2006-01-15 Fujikin Kk Düse eines durchflussreglers mit einer druckregelung und deren herstellungsverfahren
JP3586075B2 (ja) * 1997-08-15 2004-11-10 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
JPH11212653A (ja) * 1998-01-21 1999-08-06 Fujikin Inc 流体供給装置
JPH11265216A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
JPH11265217A (ja) * 1998-03-17 1999-09-28 Omi Tadahiro 圧力式流量制御装置
US6076637A (en) * 1998-03-23 2000-06-20 Tranergy Corporation Top-of-rail lubrication rate control by the hydraulic pulse width modulation method
JPH11280932A (ja) * 1998-03-31 1999-10-15 Taiheiyo Cement Corp 駆動装置
SE9801588D0 (sv) * 1998-05-05 1998-05-05 Swiss Fed Inst Of Tech Zuerich Electromagnetic valve for gaseous fluids
JP3522535B2 (ja) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備
JP3604059B2 (ja) * 1998-07-17 2004-12-22 株式会社堀場製作所 部分希釈方式のガス希釈システム
DE69917837T2 (de) * 1998-07-17 2005-06-23 Horiba Ltd. Vorrichtung zur Regelung des Durchflusses eines Gases
JP3604060B2 (ja) * 1998-07-17 2004-12-22 株式会社堀場製作所 希釈用ガス流量制御装置
JP3522544B2 (ja) * 1998-08-24 2004-04-26 忠弘 大見 流体可変型流量制御装置
KR100348853B1 (ko) * 1998-08-24 2002-08-17 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량제어장치에 있어서의 막힘 검출방법 및 그검출장치
JP2000075931A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Stec Kk 流路絞りノズルを備えた制御バルブ
US6152162A (en) 1998-10-08 2000-11-28 Mott Metallurgical Corporation Fluid flow controlling
JP3684307B2 (ja) * 1998-10-19 2005-08-17 シーケーディ株式会社 ガス供給制御装置
JP4287935B2 (ja) * 1999-01-14 2009-07-01 株式会社堀場エステック ピエゾ方式の流量調整弁駆動部構造
JP3577236B2 (ja) * 1999-03-11 2004-10-13 シーケーディ株式会社 ガス供給制御装置
JP3387849B2 (ja) * 1999-05-10 2003-03-17 株式会社フジキン フローファクターによる流体可変型流量制御方法およびその装置
EP2028577A2 (en) 1999-04-16 2009-02-25 Fujikin Incorporated Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device
JP3626874B2 (ja) * 1999-04-16 2005-03-09 忠弘 大見 並列分流型の流体供給装置
US6210482B1 (en) * 1999-04-22 2001-04-03 Fujikin Incorporated Apparatus for feeding gases for use in semiconductor manufacturing
US6155289A (en) 1999-05-07 2000-12-05 International Business Machines Method of and system for sub-atmospheric gas delivery with backflow control
US6192922B1 (en) 1999-06-01 2001-02-27 Synetics Solutions Inc. Airflow control valve for a clean room
US6581623B1 (en) 1999-07-16 2003-06-24 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
US6302139B1 (en) 1999-07-16 2001-10-16 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
JP3554509B2 (ja) * 1999-08-10 2004-08-18 忠弘 大見 圧力式流量制御装置における流量異常検知方法
JP2001147722A (ja) * 1999-11-22 2001-05-29 Ace:Kk ガス流量制御装置
JP2001201414A (ja) * 2000-01-20 2001-07-27 Smc Corp 複合センサ及び複合センサを備えたフローコントローラ
US6830060B2 (en) * 2000-06-27 2004-12-14 Siemens Vdo Automotive, Inc. Air mass flow controller valve
US20040025598A1 (en) * 2000-09-21 2004-02-12 Festo Ag & Co. Integrated fluid sensing device
US6832628B2 (en) * 2000-10-11 2004-12-21 Flowmatrix, Inc. Variable pressure regulated flow controllers
US6631334B2 (en) * 2000-12-26 2003-10-07 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller system
US6564824B2 (en) 2001-04-13 2003-05-20 Flowmatrix, Inc. Mass flow meter systems and methods
ATE310986T1 (de) * 2001-04-24 2005-12-15 Celerity Group Inc Verfahren zur bestimmung einer ventilöffnung für einen massenflussregler
US6711956B2 (en) * 2001-10-31 2004-03-30 Macronix International Co., Ltd. Method and apparatus for regulating exhaust pressure in evacuation system of semiconductor process chamber
JP4082901B2 (ja) 2001-12-28 2008-04-30 忠弘 大見 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
JP2003270010A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Ckd Corp 流量設定装置及び流量計測器
JP3856730B2 (ja) 2002-06-03 2006-12-13 東京エレクトロン株式会社 流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
AU2003253991A1 (en) * 2002-07-19 2004-02-09 Celerity Group, Inc. Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller
JP4669193B2 (ja) * 2002-10-16 2011-04-13 忠弘 大見 圧力式流量制御装置の温度測定装置
JP4137612B2 (ja) * 2002-12-02 2008-08-20 株式会社フジキン レイノルズ数と流出係数の対応関係の測定方法
US6769299B2 (en) * 2003-01-08 2004-08-03 Fetso Corporation Integral dual technology flow sensor
JP4195819B2 (ja) * 2003-01-17 2008-12-17 忠弘 大見 弗化水素ガスの流量制御方法及びこれに用いる弗化水素ガス用流量制御装置
JP3754678B2 (ja) 2003-04-16 2006-03-15 株式会社フジキン 耐食金属製熱式質量流量センサとこれを用いた流体供給機器
JP3863505B2 (ja) 2003-06-20 2006-12-27 忠弘 大見 圧力センサ及び圧力制御装置並びに圧力式流量制御装置の自動零点補正装置
JP4195837B2 (ja) 2003-06-20 2008-12-17 東京エレクトロン株式会社 ガス分流供給装置及びガス分流供給方法
JP4351495B2 (ja) * 2003-07-16 2009-10-28 株式会社堀場エステック 流量比率制御装置
JP2005079141A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Asm Japan Kk プラズマｃｖｄ装置
JP4399227B2 (ja) 2003-10-06 2010-01-13 株式会社フジキン チャンバの内圧制御装置及び内圧被制御式チャンバ
US6901794B2 (en) * 2003-10-16 2005-06-07 Festo Corporation Multiple technology flow sensor
US6973375B2 (en) * 2004-02-12 2005-12-06 Mykrolis Corporation System and method for flow monitoring and control
JP2005241279A (ja) 2004-02-24 2005-09-08 Fujikin Inc 耐食金属製流体用センサ及びこれを用いた流体供給機器
JP2005307233A (ja) * 2004-04-19 2005-11-04 Tokyo Electron Ltd 成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法
JP4421393B2 (ja) * 2004-06-22 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US7117104B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Celerity, Inc. Ultrasonic liquid flow controller
US7216019B2 (en) * 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
JP4560394B2 (ja) * 2004-12-13 2010-10-13 長州産業株式会社 薄膜形成用分子供給装置
US20060219301A1 (en) * 2005-04-05 2006-10-05 Reid Kenneth E Ii System and method for maintaining pressure and flow in a vent header
JP4856905B2 (ja) 2005-06-27 2012-01-18 国立大学法人東北大学 流量レンジ可変型流量制御装置
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9383758B2 (en) 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
WO2007021883A1 (en) * 2005-08-12 2007-02-22 Celerity, Inc. Ultrasonic flow sensor
JP4690827B2 (ja) 2005-08-26 2011-06-01 株式会社フジキン ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
JP4866682B2 (ja) 2005-09-01 2012-02-01 株式会社フジキン 圧力センサを保有する流量制御装置を用いた流体供給系の異常検出方法
JP2007102754A (ja) * 2005-09-09 2007-04-19 Advance Denki Kogyo Kk 流量制御装置
US7814936B2 (en) * 2005-11-16 2010-10-19 Fisher Controls International Llc Sound pressure level feedback control
JP4820698B2 (ja) 2006-07-03 2011-11-24 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置の絞り機構下流側バルブの作動異常検出方法
US20080029170A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 O'reilly Edward Three-in-one valve and control system
JP5372353B2 (ja) 2007-09-25 2013-12-18 株式会社フジキン 半導体製造装置用ガス供給装置
JP5054500B2 (ja) * 2007-12-11 2012-10-24 株式会社フジキン 圧力制御式流量基準器
US20100269924A1 (en) * 2007-12-27 2010-10-28 Horiba Stec, Co., Ltd. Flow rate ratio controlling apparatus
JP5461786B2 (ja) 2008-04-01 2014-04-02 株式会社フジキン 気化器を備えたガス供給装置
JP5027729B2 (ja) 2008-04-25 2012-09-19 株式会社フジキン 流量自己診断機能を備えた圧力式流量制御装置の圧力制御弁用駆動回路
CN102037423B (zh) * 2008-05-21 2014-02-05 株式会社富士金 使用压力流量控制装置的流体非连续式流量切换控制方法
US7826986B2 (en) * 2008-09-26 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. Method and system for operating a mass flow controller
EP2335126A1 (en) * 2008-10-14 2011-06-22 Circor Instrumentation Technologies, Inc. Method and apparatus for low powered and/or high pressure flow control
DE102008055854B4 (de) * 2008-11-04 2011-05-12 Abb Technology Ag Elektropneumatischer Wandler mit einem pneumatischen Druckregelventil
JP5669384B2 (ja) 2009-12-01 2015-02-12 株式会社フジキン 圧電駆動式バルブ及び圧電駆動式流量制御装置
KR101375678B1 (ko) 2009-12-01 2014-04-01 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치
US20110226354A1 (en) * 2010-03-17 2011-09-22 Petur Thordarson Flow Controller
US9157643B2 (en) 2010-10-14 2015-10-13 Fimcim S.P.A. Conditioning plant
KR101599343B1 (ko) 2011-05-10 2016-03-03 가부시키가이샤 후지킨 유량 모니터 부착 압력식 유량 제어 장치
GB201109290D0 (en) * 2011-06-02 2011-07-20 Linde Ag A flow apparatus and monitoring system relating thereto
JP5755958B2 (ja) 2011-07-08 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置の原料ガス供給装置
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US9188989B1 (en) 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
JP5647083B2 (ja) 2011-09-06 2014-12-24 株式会社フジキン 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
JP5754853B2 (ja) * 2012-01-30 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置のガス分流供給装置
JP5665793B2 (ja) * 2012-04-26 2015-02-04 株式会社フジキン 可変オリフィス型圧力制御式流量制御器
JP5868815B2 (ja) * 2012-09-03 2016-02-24 株式会社堀場エステック 流量制御装置
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
JP5775110B2 (ja) 2013-03-26 2015-09-09 株式会社フジキン 流量制御装置用の流量制御弁
JP6306286B2 (ja) 2013-04-25 2018-04-04 株式会社フジキン 流量制御用のオリフィスプレート及びこれを用いた圧力式流量制御装置
KR102155810B1 (ko) * 2013-09-04 2020-09-14 가부시키가이샤 호리바 에스텍 인터레이스 리프팅 기구
US20150101677A1 (en) * 2013-10-15 2015-04-16 Continental Automotive Systems, Inc. Integrated pressure transducer in a latching valve
JP6216389B2 (ja) * 2013-10-31 2017-10-18 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6372998B2 (ja) * 2013-12-05 2018-08-15 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
JP6321972B2 (ja) * 2014-01-21 2018-05-09 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置及びその流量制御開始時のオーバーシュート防止方法
JP6194097B2 (ja) 2014-02-24 2017-09-06 株式会社フジキン 圧電式リニアアクチュエータ、圧電駆動バルブ、及び、流量制御装置
JP6399085B2 (ja) * 2014-03-20 2018-10-03 日立金属株式会社 熱式質量流量計及びこれを用いた質量流量制御装置
US9605346B2 (en) * 2014-03-28 2017-03-28 Lam Research Corporation Systems and methods for pressure-based liquid flow control
CN105204532A (zh) * 2014-06-18 2015-12-30 中国科学院大连化学物理研究所 一种用于离子迁移谱的气体流量控制装置
JP6416529B2 (ja) 2014-07-23 2018-10-31 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
KR102371907B1 (ko) * 2015-07-10 2022-03-08 피포탈 시스템즈 코포레이션 가스 흐름 제어 방법 및 장치
US10573801B2 (en) * 2015-08-21 2020-02-25 Fujikin Incorporated Piezoelectric linear actuator, piezoelectrically driven valve, and flow rate control device
JP6541584B2 (ja) 2015-09-16 2019-07-10 東京エレクトロン株式会社 ガス供給系を検査する方法
US10274972B2 (en) 2015-09-16 2019-04-30 Tokyo Electron Limited Method of inspecting gas supply system
KR102152048B1 (ko) * 2016-03-29 2020-09-04 가부시키가이샤 후지킨 압력식 유량 제어 장치 및 유량 자기 진단 방법
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
JP6600854B2 (ja) 2016-08-24 2019-11-06 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置、その流量算出方法および流量制御方法
JP7085997B2 (ja) * 2016-09-12 2022-06-17 株式会社堀場エステック 流量比率制御装置、流量比率制御装置用プログラム、及び、流量比率制御方法
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
EP3566107A1 (en) 2017-01-09 2019-11-13 Saudi Arabian Oil Company Gas assisted chemical injection system
US10983538B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
US11073215B2 (en) * 2017-07-31 2021-07-27 Fujikin Incorporated Gas supply system
CN111971636B (zh) * 2018-04-19 2023-12-12 株式会社堀场Stec 流量控制装置、诊断方法和存储介质
JP2020067689A (ja) 2018-10-22 2020-04-30 東京エレクトロン株式会社 検査方法及び検査装置
JP2020067690A (ja) 2018-10-22 2020-04-30 東京エレクトロン株式会社 検査方法及び流量制御器
KR102436497B1 (ko) * 2019-11-01 2022-08-26 주식회사 엘지화학 폴리이미드 공중합체 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름
KR20220100897A (ko) * 2019-11-18 2022-07-18 스웨이지락 캄파니 제어된 밸브 유량을 위한 배열 및 방법
JP7197943B2 (ja) 2019-12-27 2022-12-28 株式会社フジキン 流量制御装置および流量制御方法
RU198735U1 (ru) * 2020-06-02 2020-07-24 Общество с ограниченной ответственностью "Промавтоматика-Саров" Клапан отсекатель
JP7424322B2 (ja) * 2021-01-19 2024-01-30 Smc株式会社 流体圧力制御装置
WO2022186971A1 (en) 2021-03-03 2022-09-09 Ichor Systems, Inc. Fluid flow control system comprising a manifold assembly
US11585206B2 (en) 2021-03-09 2023-02-21 Saudi Arabian Oil Company Injection of additives into a produced hydrocarbon line
US11920784B2 (en) 2021-05-10 2024-03-05 Saudi Arabian Oil Company Total flare gas recovery system
WO2023032393A1 (ja) * 2021-08-31 2023-03-09 株式会社フジキン ダイヤフラムバルブおよび流量制御装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0017351B1 (en) * 1979-03-16 1984-05-09 LUCAS INDUSTRIES public limited company Improvements in high pressure hydraulic systems
US4431020A (en) * 1981-10-08 1984-02-14 Marotta Scientific Controls, Inc. Flow-control system having a wide range of flow-rate control
DE3247325C2 (de) * 1982-12-21 1990-02-15 Grünbeck Wasseraufbereitung GmbH, 8884 Höchstädt Rohrtrenner
US4508127A (en) * 1983-03-30 1985-04-02 The Garrett Corporation Fuel mass flow measurement and control system
SE8801299L (sv) * 1988-04-08 1989-10-09 Bertil Hoeoek Mikromekanisk envaegsventil
US4836233A (en) * 1988-06-06 1989-06-06 Eclipse Ion Technology, Inc. Method and apparatus for venting vacuum processing equipment
US5146941A (en) * 1991-09-12 1992-09-15 Unitech Development Corp. High turndown mass flow control system for regulating gas flow to a variable pressure system
US5148829A (en) * 1991-10-25 1992-09-22 Deville Wayne E Multi-orifice plate and fitting with positioner and differential selector
GB9212122D0 (en) * 1992-06-09 1992-07-22 Technolog Ltd Water supply pressure control apparatus
US5190068A (en) * 1992-07-02 1993-03-02 Brian Philbin Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100804646B1 (ko) * 2003-07-31 2008-02-20 가부시키가이샤 후지킨 챔버로의 가스 공급 장치 및 이것을 이용한 챔버의 내압제어 방법
KR101274635B1 (ko) * 2005-08-31 2013-06-13 사파스고교 가부시키가이샤 압력계 및 압력계 조립체

Also Published As

Publication number Publication date
JP3291161B2 (ja) 2002-06-10
EP0749058A3 (en) 1998-11-11
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US5669408A (en) 1997-09-23
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EP0749058A2 (en) 1996-12-18
US5791369A (en) 1998-08-11
IL118586A (en) 2000-07-26
DE69615933T2 (de) 2002-04-25
CA2177790C (en) 2000-01-18

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