JP2000075931A - 流路絞りノズルを備えた制御バルブ - Google Patents
流路絞りノズルを備えた制御バルブInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス逆拡散の防止はもとより、より正確なガ
ス供給を可能にする制御バルブを、コスト的に安価に提
供する。 【解決手段】 ガス導入流路２４とガス導出流路２５と
を形成した第１ブロック１８と、ガス導入流路２４に相
対峙させる状態でダイアフラム押圧手段３４を貫設した
第２ブロック３１との間に、ダイアフラム３２を配置し
て、ガス導入流路２４とガス導出流路２５とを連通させ
るダイアフラム室３３を形成し、前記ガス導入流路２４
に、流路絞りノズル２７と、前記ダイアフラム３２の押
圧によってガス導入流路２４を閉止する環状のバルブシ
ート２９とを、それぞれ同芯状に形成したノズルブロッ
ク２６を配置して、流路絞りノズルを備えた制御バルブ
を構成している。
ス供給を可能にする制御バルブを、コスト的に安価に提
供する。 【解決手段】 ガス導入流路２４とガス導出流路２５と
を形成した第１ブロック１８と、ガス導入流路２４に相
対峙させる状態でダイアフラム押圧手段３４を貫設した
第２ブロック３１との間に、ダイアフラム３２を配置し
て、ガス導入流路２４とガス導出流路２５とを連通させ
るダイアフラム室３３を形成し、前記ガス導入流路２４
に、流路絞りノズル２７と、前記ダイアフラム３２の押
圧によってガス導入流路２４を閉止する環状のバルブシ
ート２９とを、それぞれ同芯状に形成したノズルブロッ
ク２６を配置して、流路絞りノズルを備えた制御バルブ
を構成している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばガス流量を
制御する圧力式流量制御装置などに用いて好適な流路絞
りノズルを備えた制御バルブに関するものである。
制御する圧力式流量制御装置などに用いて好適な流路絞
りノズルを備えた制御バルブに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】流路絞りノズルを通るガス流の特徴の一
つに、ノズルの一次側圧力Ｐ1 と二次側圧力Ｐ2 の圧力
比Ｐ2 ／Ｐ1 がガスの臨界圧力比以下（空気や窒素など
の場合は、約０．５以下）になると、ノズルを通るガス
の流速が音速になって、ノズル二次側の圧力変動が一次
側に伝播しなくなる事象があり、この所謂音速ノズルの
流量制御の形態をとれば、ノズル一次側の状態に相応し
た安定した質量流量のガスをノズル二次側に得ることが
できる。
つに、ノズルの一次側圧力Ｐ1 と二次側圧力Ｐ2 の圧力
比Ｐ2 ／Ｐ1 がガスの臨界圧力比以下（空気や窒素など
の場合は、約０．５以下）になると、ノズルを通るガス
の流速が音速になって、ノズル二次側の圧力変動が一次
側に伝播しなくなる事象があり、この所謂音速ノズルの
流量制御の形態をとれば、ノズル一次側の状態に相応し
た安定した質量流量のガスをノズル二次側に得ることが
できる。
【０００３】上述の事象を応用した装置の一つとして、
流量制御バルブと圧力センサおよび流路絞りノズルを、
その順に接続して、ノズル一次側の圧力を二次側の圧力
の約２倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行うよ
うにした圧力式流量制御装置があり、従来のマスフロー
コントローラなどの流量制御装置に比べて、流量制御を
高速に行えることから、前記ノズルの二次側に閉止用バ
ルブを設けて、このバルブに例えば反応炉などを接続す
ることで、この反応炉に安定した質量流量のガスを瞬時
に供給することができる。
流量制御バルブと圧力センサおよび流路絞りノズルを、
その順に接続して、ノズル一次側の圧力を二次側の圧力
の約２倍以上に保持した状態でガスの流量制御を行うよ
うにした圧力式流量制御装置があり、従来のマスフロー
コントローラなどの流量制御装置に比べて、流量制御を
高速に行えることから、前記ノズルの二次側に閉止用バ
ルブを設けて、このバルブに例えば反応炉などを接続す
ることで、この反応炉に安定した質量流量のガスを瞬時
に供給することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の圧力
式流量制御装置では、閉止用バルブによるガスの閉止状
態において、ノズルの二次側から一次側にガスが逆拡散
する問題があり、更に、上記の装置では、ノズルを通過
するガスのみが流量制御の対象になるのであって、ガス
閉止の状態からガス供給の制御状態に切り換えた際に、
ノズル二次側から閉止用バルブに至る流路間のガスが、
制御されていないガスとして反応炉に供給されてしまう
問題もあった。
式流量制御装置では、閉止用バルブによるガスの閉止状
態において、ノズルの二次側から一次側にガスが逆拡散
する問題があり、更に、上記の装置では、ノズルを通過
するガスのみが流量制御の対象になるのであって、ガス
閉止の状態からガス供給の制御状態に切り換えた際に、
ノズル二次側から閉止用バルブに至る流路間のガスが、
制御されていないガスとして反応炉に供給されてしまう
問題もあった。
【０００５】本発明は、かゝる実情に鑑みて成されたも
のであって、その目的は、ガス逆拡散の防止はもとよ
り、より正確なガス供給を可能にした制御バルブを、コ
スト的に安価に提供する点にある。
のであって、その目的は、ガス逆拡散の防止はもとよ
り、より正確なガス供給を可能にした制御バルブを、コ
スト的に安価に提供する点にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明では、ガス導入流路とガス導出
流路とを形成した第１ブロックと、ガス導入流路に相対
峙させる状態でダイアフラム押圧手段を貫設した第２ブ
ロックとの間に、ダイアフラムを配置して、前記ガス導
入流路とガス導出流路とを連通させるダイアフラム室を
形成すると共に、前記ガス導入流路に、流路絞りノズル
と、前記ダイアフラムの押圧によってガス導入流路を閉
止する環状のバルブシートとを、それぞれ同芯状に形成
したノズルブロックを配置して、流路絞りノズルを備え
た制御バルブを構成している。
め、請求項１記載の発明では、ガス導入流路とガス導出
流路とを形成した第１ブロックと、ガス導入流路に相対
峙させる状態でダイアフラム押圧手段を貫設した第２ブ
ロックとの間に、ダイアフラムを配置して、前記ガス導
入流路とガス導出流路とを連通させるダイアフラム室を
形成すると共に、前記ガス導入流路に、流路絞りノズル
と、前記ダイアフラムの押圧によってガス導入流路を閉
止する環状のバルブシートとを、それぞれ同芯状に形成
したノズルブロックを配置して、流路絞りノズルを備え
た制御バルブを構成している。
【０００７】また、請求項２記載の発明では、ガス導入
流路とガス導出流路とを形成した第１ブロックと、ガス
導入流路に相対峙させる状態でダイアフラム押圧手段を
貫設した第２ブロックとの間に、前記ガス導入流路とガ
ス導出流路とに連通する流路を形成した第３ブロックと
ダイアフラムとを配置して、前記第３ブロックのガス導
入流路とガス導出流路とを連通させるダイアフラム室を
形成すると共に、前記第３ブロックのガス導入流路をブ
ロック中心に形成して、このガス導入流路に流路絞りノ
ズルを形成し、更に、前記ダイアフラムの押圧によって
ガス導入流路を閉止する環状のバルブシートを、前記ノ
ズルと同芯状にして第３ブロックに形成して、流路絞り
ノズルを備えた制御バルブを構成している。
流路とガス導出流路とを形成した第１ブロックと、ガス
導入流路に相対峙させる状態でダイアフラム押圧手段を
貫設した第２ブロックとの間に、前記ガス導入流路とガ
ス導出流路とに連通する流路を形成した第３ブロックと
ダイアフラムとを配置して、前記第３ブロックのガス導
入流路とガス導出流路とを連通させるダイアフラム室を
形成すると共に、前記第３ブロックのガス導入流路をブ
ロック中心に形成して、このガス導入流路に流路絞りノ
ズルを形成し、更に、前記ダイアフラムの押圧によって
ガス導入流路を閉止する環状のバルブシートを、前記ノ
ズルと同芯状にして第３ブロックに形成して、流路絞り
ノズルを備えた制御バルブを構成している。
【０００８】請求項１または２記載の何れの制御バルブ
においても、流路絞りノズルの直後にダイアフラムを配
置して、ガス導入流路を閉止させるので、ノズル二次側
からのガスの逆拡散が確実に防止される。
においても、流路絞りノズルの直後にダイアフラムを配
置して、ガス導入流路を閉止させるので、ノズル二次側
からのガスの逆拡散が確実に防止される。
【０００９】また、流量制御バルブと圧力センサとに、
上記構成の制御バルブを組み付けて、圧力式流量制御装
置を構成した場合、ダイアフラムによるガス閉止部の直
前にノズルが存することから、ダイアフラムによるガス
閉止の状態からガス供給の制御状態に切り換えた際に
は、このノズルを通過するガスそのものを流量制御の対
象にして、このガスを反応炉などに供給できるのであ
り、即ち、ガス供給の制御初期から正確な量のガスを反
応炉などに供給できるのである。
上記構成の制御バルブを組み付けて、圧力式流量制御装
置を構成した場合、ダイアフラムによるガス閉止部の直
前にノズルが存することから、ダイアフラムによるガス
閉止の状態からガス供給の制御状態に切り換えた際に
は、このノズルを通過するガスそのものを流量制御の対
象にして、このガスを反応炉などに供給できるのであ
り、即ち、ガス供給の制御初期から正確な量のガスを反
応炉などに供給できるのである。
【００１０】上記のガス逆拡散の防止ならびに正確なガ
ス供給を可能にする上で、上記の流路絞りノズルをガス
導出流路側に設けることも好適であるが、この場合、バ
ルブシートに対して偏った箇所にノズルを形成する困難
な加工が必要で、コスト的に高く付き、或いは、バルブ
シートとノズルとを個々に形成するするにしても、二体
の構成部材を要することから、コスト的に不利となる。
ス供給を可能にする上で、上記の流路絞りノズルをガス
導出流路側に設けることも好適であるが、この場合、バ
ルブシートに対して偏った箇所にノズルを形成する困難
な加工が必要で、コスト的に高く付き、或いは、バルブ
シートとノズルとを個々に形成するするにしても、二体
の構成部材を要することから、コスト的に不利となる。
【００１１】この点を踏まえて本発明では、バルブシー
トとノズルとを一体の構成部材に同芯状に形成して、加
工の容易化を図っているので、流路絞りノズルを備えた
制御バルブをコスト的安価に提供することができる。
トとノズルとを一体の構成部材に同芯状に形成して、加
工の容易化を図っているので、流路絞りノズルを備えた
制御バルブをコスト的安価に提供することができる。
【００１２】ここで、流路絞りノズルを通過するガスが
低蒸気圧ガス〔例えばＣｌＦ3 （三フッ化塩素）やＳｉ
Ｈ2 Ｃｌ2 （ジクロルシラン）など〕の場合、断熱膨張
によって再液化することが考えられることから、その再
液化を防ぐために、請求項３に記載の通り、第１ブロッ
クの流路絞りノズルの近傍に、この流路絞りノズルを通
過するガスを加熱するためのヒーターを設けることが好
適である。
低蒸気圧ガス〔例えばＣｌＦ3 （三フッ化塩素）やＳｉ
Ｈ2 Ｃｌ2 （ジクロルシラン）など〕の場合、断熱膨張
によって再液化することが考えられることから、その再
液化を防ぐために、請求項３に記載の通り、第１ブロッ
クの流路絞りノズルの近傍に、この流路絞りノズルを通
過するガスを加熱するためのヒーターを設けることが好
適である。
【００１３】更に好適には、ガスの流量制御上で、温度
補正を行うことが重要であることから、請求項４に記載
の通り、第１ブロックの流路絞りノズルの近傍に、この
流路絞りノズルを通過するガスの温度をモニタリングす
るための温度検知センサを設けて、このガス温度の検知
に基づいて、ガスの流量制御をより正確に行えるように
することである。
補正を行うことが重要であることから、請求項４に記載
の通り、第１ブロックの流路絞りノズルの近傍に、この
流路絞りノズルを通過するガスの温度をモニタリングす
るための温度検知センサを設けて、このガス温度の検知
に基づいて、ガスの流量制御をより正確に行えるように
することである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は例えば反応炉に安定した質
量流量のガスを供給するようにした圧力式流量制御装置
を示し、この制御バルブは、圧力制御装置１と流路絞り
ノズル付き制御バルブ２とから構成されている。
に基づいて説明する。図１は例えば反応炉に安定した質
量流量のガスを供給するようにした圧力式流量制御装置
を示し、この制御バルブは、圧力制御装置１と流路絞り
ノズル付き制御バルブ２とから構成されている。
【００１５】この図１において、図中の３はガス流路４
ａ，４ｂが形成された本体ブロックで、耐化学薬品性を
有する素材、例えばステンレス鋼よりなり、この本体ブ
ロック３の左右両端には、それぞれガス導入用ならびに
ガス導出用のパイプ継手５，６が形成されている。
ａ，４ｂが形成された本体ブロックで、耐化学薬品性を
有する素材、例えばステンレス鋼よりなり、この本体ブ
ロック３の左右両端には、それぞれガス導入用ならびに
ガス導出用のパイプ継手５，６が形成されている。
【００１６】７はガス流量を制御するためのガス制御弁
で、前記ガス流路４ａ，４ｂにわたって設けられてお
り、８は圧力センサで、例えば歪みセンサから成り、前
記ガス流路４ｂに臨ませて設けられている。
で、前記ガス流路４ａ，４ｂにわたって設けられてお
り、８は圧力センサで、例えば歪みセンサから成り、前
記ガス流路４ｂに臨ませて設けられている。
【００１７】前記ガス制御弁７は例えばピエゾ式バルブ
よりなり、次のように構成されている。即ち、一次側の
ガス流路４ａに連通するガス導入流路９と、二次側のガ
ス流路４ｂに連通するガス導出流路１０とを、それぞれ
ブロック１１に形成すると共に、このブロック１１を本
体ブロック３に形成の凹部１２に内蔵すると共に、前記
弁ブロック１３とブロック１１との間に、上方にやゝ撓
ませたダイアフラム１４を配置して、前記ガス導入流路
９とガス導出流路１０とを連通させるダイアフラム室１
５を形成している。
よりなり、次のように構成されている。即ち、一次側の
ガス流路４ａに連通するガス導入流路９と、二次側のガ
ス流路４ｂに連通するガス導出流路１０とを、それぞれ
ブロック１１に形成すると共に、このブロック１１を本
体ブロック３に形成の凹部１２に内蔵すると共に、前記
弁ブロック１３とブロック１１との間に、上方にやゝ撓
ませたダイアフラム１４を配置して、前記ガス導入流路
９とガス導出流路１０とを連通させるダイアフラム室１
５を形成している。
【００１８】そして、ダイアフラム押圧手段（例えば圧
電素子型アクチュエータ）１６のプランジャ１７を、前
記ガス導入流路９に相対峙させる状態で弁ブロック１３
に貫設させて成り、圧力センサ８が圧力変化を検知し
て、その検知情報に基づいて圧電素子型アクチュエータ
１６に所定の電圧が印加されると、その印加量に応じて
プランジャ１７が押圧駆動され、これによって、ガス導
入流路９とダイアフラム１４との隙間調整すなわち開度
調整が行われることで、二次側のガス流路４ｂに流れる
ガス流量が制御されるのである。
電素子型アクチュエータ）１６のプランジャ１７を、前
記ガス導入流路９に相対峙させる状態で弁ブロック１３
に貫設させて成り、圧力センサ８が圧力変化を検知し
て、その検知情報に基づいて圧電素子型アクチュエータ
１６に所定の電圧が印加されると、その印加量に応じて
プランジャ１７が押圧駆動され、これによって、ガス導
入流路９とダイアフラム１４との隙間調整すなわち開度
調整が行われることで、二次側のガス流路４ｂに流れる
ガス流量が制御されるのである。
【００１９】前記制御バルブ２は、次のように構成され
ている。即ち、図２にも示すように、第１ブロック１８
に、本体ブロック３の二次側ガス流路４ｂに接続される
パイプ１９と反応炉２０に接続されるパイプ２１との接
続口２２，２３を形成すると共に、この第１ブロック１
８に、前記接続口２２，２３に連通させる状態で、それ
ぞれ上部側で開口するガス導入流路２４とガス導出流路
２５とをＬ字状に形成している。
ている。即ち、図２にも示すように、第１ブロック１８
に、本体ブロック３の二次側ガス流路４ｂに接続される
パイプ１９と反応炉２０に接続されるパイプ２１との接
続口２２，２３を形成すると共に、この第１ブロック１
８に、前記接続口２２，２３に連通させる状態で、それ
ぞれ上部側で開口するガス導入流路２４とガス導出流路
２５とをＬ字状に形成している。
【００２０】そして、前記ガス導入流路２４を第１ブロ
ック１８の中心部に位置させると共に、このガス導入流
路２４のまわりに環状凹部ａを形成し、かつ、ガス導入
流路２４の上部開口を第１ブロック１８周部の上端面よ
りもやゝ控えさせる一方、ガス導出流路２５の上部開口
については、これをガス導入流路２４の上部開口よりも
やゝ控えさせ、更に、このガス導出流路２５の上部開口
を前記凹部ａに臨ませているのである。
ック１８の中心部に位置させると共に、このガス導入流
路２４のまわりに環状凹部ａを形成し、かつ、ガス導入
流路２４の上部開口を第１ブロック１８周部の上端面よ
りもやゝ控えさせる一方、ガス導出流路２５の上部開口
については、これをガス導入流路２４の上部開口よりも
やゝ控えさせ、更に、このガス導出流路２５の上部開口
を前記凹部ａに臨ませているのである。
【００２１】一方、ノズルブロック２６の中心部に、流
路絞りノズル２７を形成すると共に、このノズルブロッ
ク２６の上部フランジ２８に、前記ノズル２７と同芯状
のバルブシート２９を環状に形成して、このノズルブロ
ック２６を前記ガス導入流路２４に圧入（ノズルブロッ
ク２６とノズル２７との熱膨張係数の差を利用した圧入
や機械的な圧入などを任意に選択可能）する一方、締め
込み部材３０によってノズルブロック２６周部の上端面
に向けて圧着される第２ブロック３１と前記第１ブロッ
ク１８との間に、バルブシート２９から離間させるよう
に上方にやゝ撓ませたダイアフラム３２を配置して、前
記ガス導入流路２４とガス導出流路２５とを連通させる
ダイアフラム室３３を形成している。
路絞りノズル２７を形成すると共に、このノズルブロッ
ク２６の上部フランジ２８に、前記ノズル２７と同芯状
のバルブシート２９を環状に形成して、このノズルブロ
ック２６を前記ガス導入流路２４に圧入（ノズルブロッ
ク２６とノズル２７との熱膨張係数の差を利用した圧入
や機械的な圧入などを任意に選択可能）する一方、締め
込み部材３０によってノズルブロック２６周部の上端面
に向けて圧着される第２ブロック３１と前記第１ブロッ
ク１８との間に、バルブシート２９から離間させるよう
に上方にやゝ撓ませたダイアフラム３２を配置して、前
記ガス導入流路２４とガス導出流路２５とを連通させる
ダイアフラム室３３を形成している。
【００２２】更に、ダイアフラム押圧手段（例えば圧電
素子型アクチュエータ）３４のプランジャ３５を、前記
ガス導入流路２４に相対峙させる状態で第２ブロック３
１に貫設させて成るもので、流路閉止情報に基づいて、
圧電素子型アクチュエータ３４に所定の電圧が印加され
ると、これに伴ってプランジャ３５が押圧駆動され、ダ
イアフラム３２が環状のバルブシート２９を押圧して、
ガス導入流路２４が閉止（図３を参照）されることで、
反応炉２０へのガスの供給が停止されるのであり、か
つ、この状態では、流路絞りノズル２７の一次側へのガ
スの逆拡散が確実に防止されるのである。
素子型アクチュエータ）３４のプランジャ３５を、前記
ガス導入流路２４に相対峙させる状態で第２ブロック３
１に貫設させて成るもので、流路閉止情報に基づいて、
圧電素子型アクチュエータ３４に所定の電圧が印加され
ると、これに伴ってプランジャ３５が押圧駆動され、ダ
イアフラム３２が環状のバルブシート２９を押圧して、
ガス導入流路２４が閉止（図３を参照）されることで、
反応炉２０へのガスの供給が停止されるのであり、か
つ、この状態では、流路絞りノズル２７の一次側へのガ
スの逆拡散が確実に防止されるのである。
【００２３】一方、ガス供給の再開情報に基づいて、プ
ランジャ３５が引き上げ駆動されると、これに伴ってダ
イアフラム３２がバルブシート２９から離間すること
で、反応炉２０へのガスの供給が再開されるのであり、
この際、流路絞りノズル２７を通過した制御ガスのみが
反応炉２０に供給されることから、反応炉２０には正確
な制御量のガス供給が成されることになる。
ランジャ３５が引き上げ駆動されると、これに伴ってダ
イアフラム３２がバルブシート２９から離間すること
で、反応炉２０へのガスの供給が再開されるのであり、
この際、流路絞りノズル２７を通過した制御ガスのみが
反応炉２０に供給されることから、反応炉２０には正確
な制御量のガス供給が成されることになる。
【００２４】ここで、上記の実施の形態では、流路絞り
ノズル２７の一次側と二次側とにテーパー部分ｂ，ｃを
形成しているので、ガスの流れがスムースに行われて好
適であるが、この場合、ノズル二次側のテーパー部分ｃ
に残留する僅かなガスが、制御されないガスとして反応
炉２０に供給されることになる。
ノズル２７の一次側と二次側とにテーパー部分ｂ，ｃを
形成しているので、ガスの流れがスムースに行われて好
適であるが、この場合、ノズル二次側のテーパー部分ｃ
に残留する僅かなガスが、制御されないガスとして反応
炉２０に供給されることになる。
【００２５】これを回避するならば、図４に示すよう
に、流路絞りノズル２７の一次側にのみテーパー部分ｂ
を形成して、このノズル２７の二次側をブロック端面に
開設すればよいのである。
に、流路絞りノズル２７の一次側にのみテーパー部分ｂ
を形成して、このノズル２７の二次側をブロック端面に
開設すればよいのである。
【００２６】別の実施の形態による制御バルブ２を図５
に示している。この図５は図２の矢符Ａ−Ａ線の断面に
相当するもので、この制御バルブ２が図２に示した制御
バルブと異なる点は、流路絞りノズル２７の近傍に、温
度検知センサ３６と加熱ヒーター３７とを設けた点であ
る。
に示している。この図５は図２の矢符Ａ−Ａ線の断面に
相当するもので、この制御バルブ２が図２に示した制御
バルブと異なる点は、流路絞りノズル２７の近傍に、温
度検知センサ３６と加熱ヒーター３７とを設けた点であ
る。
【００２７】即ち、流路絞りノズル２７を通過するガス
流量は、次の理論式によって演算される。
流量は、次の理論式によって演算される。
【００２８】Ｑ＝ＡＣＰ√（Ｎ／ＲＴ） 但し、Ｑ；ガス流量（Ｋｇ／ｓｅｃ） Ａ；ノズルスロート部の断面積（ｍ2 ） Ｃ；臨界定数 Ｐ；ノズル一次側圧力（Ｐａ） Ｎ；モル質量（Ｋｇ／ｍｏｌ） Ｒ；普遍気体定数（Ｊ／°Ｋ・ｍｏｌ） Ｔ；ガス温度（°Ｋ）
【００２９】ここで、より正確に流量を制御する上で、
温度補正を行うことが重要であることは明白であり、こ
のことから、例えば白金抵抗や熱電対、サーミスタなど
による温度検知センサ３６によって、流路絞りノズル２
７を通過するガスの温度をモニタリングするようにし、
このガス温度の検知に基づいて温度補正することによ
り、ガス流量を正確に制御できるようにしているのであ
る。
温度補正を行うことが重要であることは明白であり、こ
のことから、例えば白金抵抗や熱電対、サーミスタなど
による温度検知センサ３６によって、流路絞りノズル２
７を通過するガスの温度をモニタリングするようにし、
このガス温度の検知に基づいて温度補正することによ
り、ガス流量を正確に制御できるようにしているのであ
る。
【００３０】一方、ノズル２７を通過するガスが低蒸気
圧ガス〔例えばＣｌＦ3 （三フッ化塩素）やＳｉＨ2 Ｃ
ｌ2 （ジクロルシラン）など〕の場合、断熱膨張によっ
て再液化することが考えられるので、その再液化を防ぐ
ために加熱ヒーター３７を設けているのである。
圧ガス〔例えばＣｌＦ3 （三フッ化塩素）やＳｉＨ2 Ｃ
ｌ2 （ジクロルシラン）など〕の場合、断熱膨張によっ
て再液化することが考えられるので、その再液化を防ぐ
ために加熱ヒーター３７を設けているのである。
【００３１】更に別の実施の形態による制御バルブ２を
図６に示している。このこの制御バルブ２が図２に示し
た制御バルブと異なる点は、第１及び第２のブロック１
８，３１間に第３のブロック３８を配置して、この第３
ブロック３８と第２ブロック３１との間によってダイア
フラム３２を挟着すると共に、この第３ブロック３６に
流路絞りノズル２７とバルブシート２９とを形成した点
である。
図６に示している。このこの制御バルブ２が図２に示し
た制御バルブと異なる点は、第１及び第２のブロック１
８，３１間に第３のブロック３８を配置して、この第３
ブロック３８と第２ブロック３１との間によってダイア
フラム３２を挟着すると共に、この第３ブロック３６に
流路絞りノズル２７とバルブシート２９とを形成した点
である。
【００３２】即ち、第３ブロック３８に、第１ブロック
１８のガス導入流路２４とガス導出流路２５とに連通す
る流路３９，４０を形成すると共に、この内のガス導入
流路３９に流路絞りノズル２７を形成し、更に、ダイア
フラム３２の押圧によってガス導入流路３９を閉止する
環状のバルブシート２９を、前記ノズル２７と同芯状に
して第３ブロック３８の上面部に形成すると共に、この
第３ブロック３８の上下の面部に、ガス導入流路３９ま
わりの環状凹部ｄ，ｅを形成し、かつ、この環状凹部
ｄ，ｅにガス導出流路４０を臨ませており、組み付けに
際しては、第３ブロック３８（または第１ブロック１
８）に形成の環状溝にＯリング４１，４２をセットする
のである。
１８のガス導入流路２４とガス導出流路２５とに連通す
る流路３９，４０を形成すると共に、この内のガス導入
流路３９に流路絞りノズル２７を形成し、更に、ダイア
フラム３２の押圧によってガス導入流路３９を閉止する
環状のバルブシート２９を、前記ノズル２７と同芯状に
して第３ブロック３８の上面部に形成すると共に、この
第３ブロック３８の上下の面部に、ガス導入流路３９ま
わりの環状凹部ｄ，ｅを形成し、かつ、この環状凹部
ｄ，ｅにガス導出流路４０を臨ませており、組み付けに
際しては、第３ブロック３８（または第１ブロック１
８）に形成の環状溝にＯリング４１，４２をセットする
のである。
【００３３】かゝる構成の制御バルブ２においても、図
５に示したように、流路絞りノズル２７の近傍に、温度
検知センサ３６と加熱ヒーター３７とを設けることが好
適であることは言うまでもない。
５に示したように、流路絞りノズル２７の近傍に、温度
検知センサ３６と加熱ヒーター３７とを設けることが好
適であることは言うまでもない。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ガ
ス逆拡散の防止はもとより、より正確なガス供給を可能
にした制御バルブが、そのうちのバルブシートとノズル
とを一体の構成部材に同芯状に形成したことで、コスト
的に安価に提供される。
ス逆拡散の防止はもとより、より正確なガス供給を可能
にした制御バルブが、そのうちのバルブシートとノズル
とを一体の構成部材に同芯状に形成したことで、コスト
的に安価に提供される。
【図１】圧力式流量制御装置の一例を示す縦断面図であ
る。
る。
【図２】本発明による制御バルブの断面図である。
【図３】ガス導入流路の閉止状態を示す制御バルブの断
面図である。
面図である。
【図４】流路絞りノズルの別の実施の形態を示す制御バ
ルブの断面図である。
ルブの断面図である。
【図５】別の実施の形態による制御バルブの断面図であ
る。
る。
【図６】更に別の実施の形態による制御バルブの断面図
である。
である。
１８…第１ブロック、２４…ガス導入流路、２５…ガス
導出流路、２６…ノズルブロック、２７…流路絞りノズ
ル、２９…バルブシート、３１…第２ブロック、３２…
ダイアフラム、３３…ダイアフラム室、３４…ダイアフ
ラム押圧手段、３８…第３ブロック、ｂ，ｃ…テーパー
部分。
導出流路、２６…ノズルブロック、２７…流路絞りノズ
ル、２９…バルブシート、３１…第２ブロック、３２…
ダイアフラム、３３…ダイアフラム室、３４…ダイアフ
ラム押圧手段、３８…第３ブロック、ｂ，ｃ…テーパー
部分。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3H056 AA07 BB24 BB32 CA08 CC13 CE03 DD04 DD10 EE04 GG03 5H307 BB01 EE02 EE19 EE36 FF02 FF12 FF15 JJ01
Claims (4)
- 【請求項１】 ガス導入流路とガス導出流路とを形成し
た第１ブロックと、ガス導入流路に相対峙させる状態で
ダイアフラム押圧手段を貫設した第２ブロックとの間
に、ダイアフラムを配置して、前記ガス導入流路とガス
導出流路とを連通させるダイアフラム室を形成すると共
に、前記ガス導入流路に、流路絞りノズルと、前記ダイ
アフラムの押圧によってガス導入流路を閉止する環状の
バルブシートとを、それぞれ同芯状に形成したノズルブ
ロックを配置して成ることを特徴とする流路絞りノズル
を備えた制御バルブ。 - 【請求項２】 ガス導入流路とガス導出流路とを形成し
た第１ブロックと、ガス導入流路に相対峙させる状態で
ダイアフラム押圧手段を貫設した第２ブロックとの間
に、前記ガス導入流路とガス導出流路とに連通する流路
を形成した第３ブロックとダイアフラムとを配置して、
前記第３ブロックのガス導入流路とガス導出流路とを連
通させるダイアフラム室を形成すると共に、前記第３ブ
ロックのガス導入流路をブロック中心に形成して、この
ガス導入流路に流路絞りノズルを形成し、更に、前記ダ
イアフラムの押圧によってガス導入流路を閉止する環状
のバルブシートを、前記ノズルと同芯状にして第３ブロ
ックに形成して成ることを特徴とする流路絞りノズルを
備えた制御バルブ。 - 【請求項３】 前記第１ブロックの流路絞りノズルの近
傍に、この流路絞りノズルを通過するガスを加熱するた
めのヒーターを設けてある請求項１または２記載の流路
絞りノズルを備えた制御バルブ。 - 【請求項４】 前記第１ブロックの流路絞りノズルの近
傍に、この流路絞りノズルを通過するガスの温度をモニ
タリングするための温度検知センサを設けてある請求項
１乃至３のいずれかに記載の流路絞りノズルを備えた制
御バルブ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245421A JP2000075931A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 流路絞りノズルを備えた制御バルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10245421A JP2000075931A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 流路絞りノズルを備えた制御バルブ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000075931A true JP2000075931A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17133415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10245421A Pending JP2000075931A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 流路絞りノズルを備えた制御バルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000075931A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004138425A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Tadahiro Omi | 圧力式流量制御装置の温度測定装置 |
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| KR20160070721A (ko) | 2013-10-21 | 2016-06-20 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유체 제어 밸브 |
| KR20160134675A (ko) | 2014-03-20 | 2016-11-23 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 열식 질량 유량계 및 이것을 사용한 질량 유량 제어 장치 |
| KR20190015568A (ko) | 2016-06-17 | 2019-02-13 | 씨케이디 가부시키 가이샤 | 유체 제어 밸브 |
| US10883615B2 (en) | 2017-03-30 | 2021-01-05 | Kitz Sct Corporation | Metal diaphragm valve |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH072688U (ja) * | 1993-06-12 | 1995-01-13 | 株式会社エステック | 圧力調整器 |
| JPH08152918A (ja) * | 1994-11-28 | 1996-06-11 | Nippon Gas Kiki Kensa Kyokai | 定格流量発生器 |
| JPH08338546A (ja) * | 1995-06-12 | 1996-12-24 | Fujikin:Kk | 圧力式流量制御装置 |
-
1998
- 1998-08-31 JP JP10245421A patent/JP2000075931A/ja active Pending
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