JP5461786B2 - 気化器を備えたガス供給装置 - Google Patents
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- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 title claims description 128
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 122
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 98
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 70
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 55
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 10
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 6
- VBCSQFQVDXIOJL-UHFFFAOYSA-N diethylazanide;hafnium(4+) Chemical compound [Hf+4].CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC VBCSQFQVDXIOJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 5
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 5
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- SEQDDYPDSLOBDC-UHFFFAOYSA-N Temazepam Chemical compound N=1C(O)C(=O)N(C)C2=CC=C(Cl)C=C2C=1C1=CC=CC=C1 SEQDDYPDSLOBDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019534 high fructose corn syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N tantalum(v) ethoxide Chemical compound [Ta+5].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIRKRMUMWJFNRI-UHFFFAOYSA-N tris(dimethylamino)silicon Chemical compound CN(C)[Si](N(C)C)N(C)C GIRKRMUMWJFNRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/02—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices for feeding measured, i.e. prescribed quantities of reagents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01B—BOILING; BOILING APPARATUS ; EVAPORATION; EVAPORATION APPARATUS
- B01B1/00—Boiling; Boiling apparatus for physical or chemical purposes ; Evaporation in general
- B01B1/005—Evaporation for physical or chemical purposes; Evaporation apparatus therefor, e.g. evaporation of liquids for gas phase reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4485—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation without using carrier gas in contact with the source material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45561—Gas plumbing upstream of the reaction chamber
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02D—CONTROLLING COMBUSTION ENGINES
- F02D19/00—Controlling engines characterised by their use of non-liquid fuels, pluralities of fuels, or non-fuel substances added to the combustible mixtures
- F02D19/02—Controlling engines characterised by their use of non-liquid fuels, pluralities of fuels, or non-fuel substances added to the combustible mixtures peculiar to engines working with gaseous fuels
- F02D19/021—Control of components of the fuel supply system
- F02D19/023—Control of components of the fuel supply system to adjust the fuel mass or volume flow
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02D—CONTROLLING COMBUSTION ENGINES
- F02D19/00—Controlling engines characterised by their use of non-liquid fuels, pluralities of fuels, or non-fuel substances added to the combustible mixtures
- F02D19/02—Controlling engines characterised by their use of non-liquid fuels, pluralities of fuels, or non-fuel substances added to the combustible mixtures peculiar to engines working with gaseous fuels
- F02D19/026—Measuring or estimating parameters related to the fuel supply system
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02M—SUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
- F02M21/00—Apparatus for supplying engines with non-liquid fuels, e.g. gaseous fuels stored in liquid form
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- F02M21/0218—Details on the gaseous fuel supply system, e.g. tanks, valves, pipes, pumps, rails, injectors or mixers
- F02M21/023—Valves; Pressure or flow regulators in the fuel supply or return system
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- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
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- F02M21/00—Apparatus for supplying engines with non-liquid fuels, e.g. gaseous fuels stored in liquid form
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00162—Controlling or regulating processes controlling the pressure
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00164—Controlling or regulating processes controlling the flow
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00191—Control algorithm
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00191—Control algorithm
- B01J2219/00193—Sensing a parameter
- B01J2219/00195—Sensing a parameter of the reaction system
- B01J2219/00198—Sensing a parameter of the reaction system at the reactor inlet
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00191—Control algorithm
- B01J2219/00211—Control algorithm comparing a sensed parameter with a pre-set value
- B01J2219/00213—Fixed parameter value
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00191—Control algorithm
- B01J2219/00222—Control algorithm taking actions
- B01J2219/00227—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions
- B01J2219/00229—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions of the reaction system
- B01J2219/00231—Control algorithm taking actions modifying the operating conditions of the reaction system at the reactor inlet
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/6416—With heating or cooling of the system
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- Y10T137/6416—With heating or cooling of the system
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Description
例えば、図12は気化器Vaと液体型熱式質量流量制御装置LMFCとから成るガス供給設備の基本構成の一例を示すものであり、液化ガス受入れタンクT内へ受入れした液化ガスLGを加圧用ガスGpの圧力又は液送用ポンプ(図示省略)を用いて液体型熱式質量流量制御装置LMFCにより流量制御しつつ気化器Vaへ送り、所定流量の気化ガスGをプロセスチャンバCHへ供給するよう構成されている。尚、Hは加熱領域である。
しかし、高温型熱式質量流量制御装置HMFCには、一次側の流量、圧力が変動するとそれに伴って制御流量が大きく変化するという特性があるため、ガス流量の高精度な流量制御を行うためには、気化器Va側の温度制御を高精度で行って気化器Vaの二次側の流量、圧力を所定の設定値に保持する必要がある。また、熱式質量流量制御装置MFCは、原理上センサー部分の温度をメインラインの温度より高く設定する必要があり、液体ソース(材料)の分解、析出を引き起こし易くなる。
また、請求項17の発明は、液体受入れタンクと、所望の内部空間容積を備えた気化チャンバの内部を間隔を置いて配置したオリフィス孔を設けた脈動低減用オリフィスにより複数区画に区分してなり、前記液体受入れタンクから圧送されてきた液体を一側端の区画内へ受入れする気化器と、気化器の他側端の区画からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置と、前記高温型圧力式流量制御装置の上流側のガス圧力が予め定めた設定圧力以上となるよう前記液体受入れタンクから気化器へ圧送する液体量を調整する液体供給制御装置とから構成した気化器を備えたガス供給装置と、から構成したことを発明の基本構成とするものである。
更に、請求項18の発明は、液体受入れタンクと、液体受入れタンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器の気化チャンバの上方に制御装置の本体を搭載した気化器からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置とから構成した気化器を備えたことを、発明の基本構成とするものである。
また、請求項19の発明は、液体受入れタンクと、液体受入れタンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置との間の配管通路に設けられ、通路内のガス圧力が予め定めた高温圧力式流量制御装置の最高使用圧力の近傍に達した際に作動するリリーフ弁とから構成としたことを、発明の基本構成とするものである。
図1は本発明に係る気化器を備えたガス供給装置Aの基本構成を示すブロック構成図であり、図1に於いて、Tは液体受入れタンク、Qは液体供給量制御装置、Mは加熱温度制御装置、V1は液体供給量制御弁、Lはリリーフ弁、Gpは液受入れタンク加圧用ガス、Toはヒータ温度検出器、V2〜V7は開閉弁、P0〜P1は圧力検出器、T1は温度検出器、1は気化器、2は高温型圧力式流量制御器、3は気化チャンバ、4は脈動低減用オリフィス、5は液溜り部、6〜8は加熱装置、9はコントロール弁、10はオリフィス、11はバッファータンク、19は配管路、20はプロセスチャンバである。尚、前記液溜り部5及びバッファータンク11は、削除することも可能である。
また、前記脈動低減用オリフィス4もステンレス鋼により形成されており、そのオリフィス孔4aの内径は液体LGの種類やその気化液量に応じて適宜に選定される。尚、液体LGが水、所要ガス流量が100SCCMの場合には、2枚のオリフィス4・4の各孔径を0.2mmφとしている。
更に、図2に於いては、気化チャンバ3の内部空間を3区画に区分しているが、チャンバー出口側に於ける内圧P0の許容変動幅に応じて区分数は2〜5に選定される。
尚、前記図2の気化器2に於いては、気化チャンバ3を筺型に形成しているが、これを円筒型に形成すると共に脈動低減用オリフィス4を円盤型として、複数のオリフィス4を円芯状に配置して気化チャンバ3の内壁面へ溶接固定するようにしてもよい。
図3に於いて9はコントロール弁、9aは駆動部、10はオリフィス、15は演算制御部であり、圧力検出器P1及び温度検出器T1の検出値が増幅・AD変換部15cを通して流量演算部15aへ入力され、オリフィス10を流通するガス流量がQc=KP1として演算される。その後、設定入力部15dからの設定流量値Qsと前記演算流量値Qcとが比較部15bで比較され、両者の差信号Qyがコントロール弁9の駆動部9aへ入力されることにより、前記差信号Qyが零となる方向にコントロール弁9が開・閉される。
尚、圧力式流量制御装置そのものは特開平8−338546号等その他によって公知であるため、ここではその詳細な説明を省略する。
即ち、装置本体(ボディ)16にはカートリッジヒータ17が挿着されており、これによって装置本体16やコントロール弁9のダイヤフラム弁体9の部分が約50〜300℃に加熱される。
尚、図4に於いては、カートリッジヒータ17や補助シースヒータ18を用いて圧力式流量制御装置2の加熱装置7を形成しているが、使用するヒータの型式や使用の形態は如何なるものであっても良いことは勿論である。
同様に、気化器1の加熱温度検出器Toからの信号によって加熱温度制御装置Mを介して加熱装置8のヒータ13への入力や液体供給量制御弁V1の開度調整が行われ、前記液体供給量制御装置Qと加熱温度制御装置Mとによって、高温型圧力式流量制御装置2の上流側ガス圧が所望の流量及び圧力値以上となるように制御される。
尚、流量制御装置2の設定流量は100SCCMである。また、気化チャンバ3内の内圧が140〜160KPaに保持されるようにベリタスポンプPm1の流量調整を行った。更に、ベントバルブV6の開放設定圧は300KPaとした。
気化器の加熱装置6(I/Hヒータ13)の設定温度160℃、液圧送用のベリタスポンプPm1の流量0.58cc/min、圧力式流量制御装置の設定流量100sccm、圧力式流量制御装置の加熱装置(カートリッジヒータ17)7の設定温度120℃として、純水LGの気化試験を行った。
図9及び図10はその結果を示すものであり、図9は経過時間と各部の圧力及び圧力流量制御装置の流量の関係を、また、図10は経過時間と各部の温度の関係を夫々示すものである。
気化器の加熱装置6(I/Hヒータ13)の設定温度160℃,液圧送用のバリタスポンプPm1の流量0.63cc/min,圧力式流量制御装置の設定流量100sccm,圧力式流量制御装置の加熱装置(カートリッジヒータ17)の設定温度120℃として、純水LGの気化試験を行った。
図11は、その試験結果を示すものであり、経過時間と各部の圧力及び圧力式流量制御装置の流量を示すものである。
また、本発明は、水や半導体製造用の液化ガスのみならず、加温により気化するあらゆる液体を原料とするガス供給装置に適用できるものである。
Tは液体受入れタンク
LGは液体
Gはガス
V1は液体供給量制御弁
V2〜V7は開閉弁
Qは液体供給量制御装置
Mは加熱温度制御装置
Lはリリーフ弁
Gpは液受入れタンク加圧用ガス
Toはヒータ温度検出器
P0〜P1は圧力検出器
T1は温度検出器
1は気化器
2は高温型圧力式流量制御装置
3は気化チャンバ
3a、3b、3cはブロック体
3dは液体入口
3eはガス出口
3f、3gは加熱促進体
4は脈動低減用オリフィス
4aはオリフィス孔
5は液溜り部
6〜8は加熱装置
9はコントロール弁
9aは駆動部
9bはダイヤフラム弁体
10はオリフィス
11はバッファータンク
12は均熱プレート
13はヒータ
13aはアルミニウム板
13bはヒータ挿入溝
13cはコイルヒータ
14は断熱材
15は演算制御装置
15aは流量演算部
15bは比較部
15cは増幅・AD変換部
15dは設定入力部
16は制御装置本体
16aはガス出口
17はカートリッジヒータ
18は補助シースヒータ
19は配管路
20はプロセスチャンバ
21は真空ポンプ
22はオリフィス
23は配管路
Claims (19)
- 液体受入れタンクと、液体受入れタンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置と、から構成した気化器を備えたガス供給装置。
- 液体を水、弗化水素、テトラエトキシシラン、トリメチルアルミニウム又はテトラキスジエチルアミノハフニウムの中の何れか一つとする請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器の気化チャンバの上方に高温型圧力式流量制御装置の装置本体を搭載する構成とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 高温型圧力式流量制御装置の上流側のガス圧力が予め定めた設定圧力以上となるように、液体受入れタンクから気化器へ圧送する液体量を調整する液体供給制御装置を備えた構成とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 高温型圧力式流量制御装置の上流側圧力が予め定めた設定圧力以上となるように、気化器の加熱温度を調整する温度制御装置を備えた構成とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器を、所望の内部空間容積を備えた気化チャンバと、気化チャンバの内部に間隔を置いて配置した複数の脈動低減用オリフィスと、気化チャンバの外側面に配設したヒータとから成る気化器とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器と高温型圧力式流量制御装置との間の配管通路に、通路内のガス圧力が予め定めた高温圧力式流量制御装置の最高使用圧力の近傍に達した際に作動するリリーフ弁を備えた構成とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 高温型圧力式流量制御装置の装置本体をヒータにより20〜250℃の温度に加熱する高温型圧力式流量制御とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器の加熱温度を20℃〜250℃とするようにした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器と高温型圧力式流量制御装置との間の配管路にバッファータンクを介設する構成とした請求項1に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器の気化チャンバを金属製気化チャンバとすると共にその外側面に均熱プレートを設け、更に、その外側に断熱材を備えた気化器とした請求項6に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化器の気化チャンバを、気化チャンバ内に存在する液分の溜り部を備えた気化チャンバとした請求項6に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 金属製気化チャンバを、金属製円筒型気化チャンバとすると共に、脈動低減用オリフィスを円盤型とし、気化チャンバの内部に間隔を置いて2枚の脈動低減用オリフィスを同芯状に配置した金属製気化チャンバとした請求項6に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 気化チャンバの内部に鋼製ボールや多孔金属板製の加熱促集体を充填するようにした請求項6に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 高温型圧力式流量制御装置の装置本体にアルミニウム製均熱板を固着すると共に、装置本体のガス入口側通路及びガス出口側通路の近傍にシースヒータを配設し、接ガス部分の温度差を6℃以下とするようにした請求項8に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- アルミ製厚板の内側面に形成したヒータ挿入溝内に所望の長さのシースヒータを挿着固定して成るヒータを高温型圧力式流量制御装置の両側面又は気化器の両側面及び底面に配設する構成とした請求項8又は請求項9に記載の気化器を備えたガス供給装置。
- 液体受入れタンクと、所望の内部空間容積を備えた気化チャンバの内部を間隔を置いて配置したオリフィス孔を設けた脈動低減用オリフィスにより複数区画に区分してなり、前記液体受入れタンクから圧送されてきた液体を一側端の区画内へ受入れする気化器と、気化器の他側端の区画からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置と、前記高温型圧力式流量制御装置の上流側のガス圧力が予め定めた設定圧力以上となるよう前記液体受入れタンクから気化器へ圧送する液体量を調整する液体供給制御装置とから構成した気化器を備えたガス供給装置。
- 液体受入れタンクと、液体受入れタンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器の気化チャンバの上方に制御装置の本体を搭載した気化器からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置とから構成した気化器を備えたガス供給装置。
- 液体受入れタンクと、液体受入れタンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器からの流出ガスの流量を調整するコントロール弁と駆動部とオリフィスと演算制御部と圧力検出器と温度検出器とから成る高温型圧力式流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された配管路の所望部分を加熱する加熱装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置との間の配管通路に設けられ、通路内のガス圧力が予め定めた高温圧力式流量制御装置の最高使用圧力の近傍に達した際に作動するリリーフ弁とから構成とした気化器を備えたガス供給装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008094640A JP5461786B2 (ja) | 2008-04-01 | 2008-04-01 | 気化器を備えたガス供給装置 |
KR1020107018619A KR101116118B1 (ko) | 2008-04-01 | 2009-02-17 | 기화기를 구비한 가스 공급장치 |
PCT/JP2009/000643 WO2009122646A1 (ja) | 2008-04-01 | 2009-02-17 | 気化器を備えたガス供給装置 |
CN2009801119104A CN101983418B (zh) | 2008-04-01 | 2009-02-17 | 具备气化器的气体供给装置 |
US12/935,870 US8931506B2 (en) | 2008-04-01 | 2009-02-17 | Gas supply apparatus equipped with vaporizer |
TW98109369A TW200946811A (en) | 2008-04-01 | 2009-03-23 | Gas supply device equipped with carburetor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008094640A JP5461786B2 (ja) | 2008-04-01 | 2008-04-01 | 気化器を備えたガス供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009252760A JP2009252760A (ja) | 2009-10-29 |
JP5461786B2 true JP5461786B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=41135055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008094640A Active JP5461786B2 (ja) | 2008-04-01 | 2008-04-01 | 気化器を備えたガス供給装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8931506B2 (ja) |
JP (1) | JP5461786B2 (ja) |
KR (1) | KR101116118B1 (ja) |
CN (1) | CN101983418B (ja) |
TW (1) | TW200946811A (ja) |
WO (1) | WO2009122646A1 (ja) |
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2009
- 2009-02-17 KR KR1020107018619A patent/KR101116118B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-17 CN CN2009801119104A patent/CN101983418B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-02-17 US US12/935,870 patent/US8931506B2/en active Active
- 2009-02-17 WO PCT/JP2009/000643 patent/WO2009122646A1/ja active Application Filing
- 2009-03-23 TW TW98109369A patent/TW200946811A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024050249A1 (en) * | 2022-08-30 | 2024-03-07 | Lam Research Corporation | Modular vapor delivery system for semiconductor process tools |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110100483A1 (en) | 2011-05-05 |
CN101983418B (zh) | 2013-09-18 |
KR101116118B1 (ko) | 2012-04-12 |
TW200946811A (en) | 2009-11-16 |
KR20100118583A (ko) | 2010-11-05 |
CN101983418A (zh) | 2011-03-02 |
US8931506B2 (en) | 2015-01-13 |
WO2009122646A1 (ja) | 2009-10-08 |
TWI378207B (ja) | 2012-12-01 |
JP2009252760A (ja) | 2009-10-29 |
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Legal Events
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