JP2013542591A - インプリント・リソフラフィで用いる蒸気供給システム - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図3
Description
本出願は、2010年9月8日に出願された米国特許出願番号第61/380,760号に基づく優先権を主張するものである。
12:基板
14:基板チャック
16、116:ステージ
18:テンプレート
20:メサ(金型、マスク)
22:パターン形成面
24、52:凹部
26、50:突出部
28:テンプレートのチャック
30:インプリント・ヘッド
32:流体計量供給システム
34:材料
38:エネルギー源
40、64:エネルギー
42:経路
44:基板の表面
46:パターン形成層
48:残留層
54:プロセッサ
56:メモリ
60a−60e:蒸気供給システム
62:真空反応器
64:加熱されたリザーバ
66:弁
67:真空バイパス・ライン
68:供給ライン
70:単一の気化器システム
72:阻流板
80:多重気化器システム
82:大量貯蔵リザーバ
82a:リザーバ
84:液体流量コントローラ
Claims (19)
- 気化した接着材料をインプリント・リソグラフィ・プロセスに用いられる基板に供給するための蒸気供給システムであって、
1つ又はそれ以上の基板を保持するように構成され、真空源と流体連通し、かつ、1つ又はそれ以上の入口をさらに含む反応器チャンバと、
液体接着材料を保持するように構成された流体保持リザーバと、
前記流体保持リザーバを前記反応器チャンバの前記1つ又はそれ以上の入口に接続する供給ラインと、
前記供給ラインに沿って配置され、1つ又はそれ以上の小径コイル管をさらに含むインライン気化器と
を含むことを特徴とする蒸気供給システム。 - 前記気化器と前記反応器チャンバとの間の前記供給ラインに沿って配置された阻流板をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の蒸気供給システム。
- 前記供給ラインに沿って配置された1つ又はそれ以上のパージ弁をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項2のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 前記流体保持リザーバと前記気化器との間の前記供給ラインに接続されたN2パージ・ラインをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 前記気化器と前記反応器との間の前記供給ラインに接続された真空バイパス・ラインをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 前記流体保持リザーバ、前記気化器及び前記反応器のいずれか1つ又はそれ以上を加熱するための加熱要素をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 複数のインライン気化器をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 前記保持リザーバと流体連通する大量貯蔵リザーバをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜請求項7のいずれかに記載の蒸気供給システム。
- 前記大量貯蔵リザーバから前記保持リザーバへの液体接着材料の流れを制御するための、前記大量貯蔵リザーバと前記保持リザーバとの間に配置された流量コントローラをさらに含むことを特徴とする、請求項8に記載の蒸気供給システム。
- 気化した接着材料をインプリント・リソグラフィ・プロセスに用いられる基板に供給するための方法であって、
液体形態の接着材料をリザーバに提供するステップと、
前記リザーバを加熱して、ガス状接着材料を生成するステップと、
1つ又はそれ以上の小径コイル管を通して前記ガス状接着材料を方向付けて気化した接着材料を生成するステップと、
前記気化した接着材料を、1つ又はそれ以上の基板を含む反応器チャンバに方向付けるステップと、
前記気化した接着材料が前記1つ又はそれ以上の基板上に堆積するのを可能にするステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記気化した接着材料を前記反応器チャンバに方向付ける前に、阻流板を通して前記気化した接着材料を方向付けるステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10に記載の蒸気供給方法。
- 前記気化した接着材料の流量を制限して気化効率を高めるステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項11のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 複数の小径コイル管を通して前記気化した接着材料を方向付けるステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項12のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 前記気化した接着材料を真空に曝すステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項13のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 前記リザーバと流体流通している大量貯蔵リザーバを提供して、前記液体接着材料を前記リザーバに与えるステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項14のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 前記大量貯蔵リザーバが周囲温度で保持されることを特徴とする、請求項15に記載の蒸気供給方法。
- 前記流体保持リザーバ、前記気化器、及び前記反応器のいずれか1つ又はそれ以上を加熱するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項16のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 前記接着材料は、インプリント・リソグラフィ・プロセスにおいて典型的に用いられる重合可能材料に共有結合できる官能基と、−CH2−リンカー基と、加水分解脱離基を有するSi原子とを有するシラン化合物をさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項17のいずれかに記載の蒸気供給方法。
- 前記接着材料は、アクリルオキシメチルトリメトキシシランをさらに含むことを特徴とする、請求項10〜請求項18のいずれかに記載の蒸気供給方法。
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