JPWO2013051594A1 - X線装置、x線照射方法、及び構造物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る検出装置1の一例を示す図である。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第6実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第7実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第8実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第9実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第10実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第11実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第12実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第13実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第14実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第15実施形態について説明する。図19は、第15実施形態に係る検出装置1Pの一例を示す図である。
次に、第16実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第17実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第18実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (34)
- 物体にX線を照射して前記物体を通過するX線を検出するX線装置であって、
X線を射出するX線源と、
前記物体を保持するステージと、
前記X線源から射出され、前記物体を通過した前記X線の少なくとも一部を検出する検出装置と、
前記X線源、前記ステージ、及び前記検出装置が配置される内部空間を形成するチャンバ部材と、
前記内部空間を、前記X線源が配置される第1空間と前記検出装置が配置される第2空間とに分ける仕切部と、を備えるX線装置。 - 前記仕切部は、前記第1空間及び前記第2空間の一方から他方への流体の流通を抑制する請求項1に記載のX線装置。
- 前記仕切部は、前記X線源と前記検出装置との間の少なくとも一部に配置される仕切部材を含む請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記仕切部材は、前記X線源から射出されたX線が通過可能な開口を有する請求項3に記載のX線装置。
- 前記仕切部は、前記X線の照射方向と交差する方向に気体を供給する気体供給部を含む請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記第1空間の温度を調整する第1温度調整装置を備える請求項1〜5のいずれか一項に記載のX線装置。
- 前記第1空間の温度調整は、前記第1空間に配置された部材の温度調整を含む請求項6に記載のX線装置。
- 前記第1温度調整装置は、前記第1空間に温度調整された気体を供給する第1供給部を含む請求項7に記載のX線装置。
- 前記第1供給部は、前記X線源の少なくとも一部に気体を供給する請求項8に記載のX線装置。
- 前記第1温度調整装置は、前記チャンバ部材の少なくとも一部の温度を調整する請求項7に記載のX線装置。
- 前記第1空間及び前記第1空間に配置される部材の少なくとも一方の温度を検出する第1温度センサを備え、
前記第1温度調整装置は、前記第1温度センサの検出結果に基づいて、前記第1空間の温度を調整する請求項6〜10のいずれか一項に記載のX線装置。 - 前記第2空間の温度を調整する第2温度調整装置を備える請求項1〜11のいずれか一項に記載のX線装置。
- 前記ステージの少なくとも一部は、前記第2空間に配置される請求項1〜12のいずれか一項に記載のX線装置。
- 前記ステージは、前記第1空間に配置される第1ステージと、前記第2空間に配置される第2ステージとを含む請求項1〜13のいずれか一項に記載のX線装置。
- 前記第1空間に配置され、前記第1ステージの位置を計測する第1計測装置と、
前記第2空間に配置され、前記第2ステージの位置を計測する第2計測装置と、を備え、
前記第1計測装置の分解能は、前記第2計測装置の分解能よりも高い請求項14に記載のX線装置。 - 前記第1計測装置は、前記第1空間に配置され、第1間隔で形成された目盛を有する第1スケール部材と、前記第1ステージの少なくとも一部に配置され、前記第1スケール部材の目盛を検出する第1検出器と、を含み、
前記第2検出装置は、前記第2空間に配置され、第2間隔で形成された目盛を有する第2スケール部材と、前記第2ステージの少なくとも一部に配置され、前記第2スケール部材の目盛を検出する第2検出器と、を含み、
前記分解能は、前記目盛の間隔を含み、前記第1間隔は、前記第2間隔よりも小さい請求項15に記載のX線装置。 - 前記チャンバ部材の、前記第1空間を画成する部分には、前記第1空間の気体の少なくとも一部を前記第1空間から排出する第1排出口が形成されている請求項1に記載のX線装置。
- 前記チャンバ部材は、前記第1排出口に接続された導管を有し、前記第1排出口は前記X線源の上方に配置されている請求項17に記載のX線装置。
- 物体にX線を照射して前記物体を通過するX線を検出するX線装置であって、
X線を射出するX線源と、
前記物体を保持するステージと、
前記X線源から射出され、前記物体を通過した前記X線の少なくとも一部を検出する検出装置と、
前記ステージの位置を計測する計測装置と、を備え、
前記X線源から射出される前記X線の照射方向に関して前記X線源に近い第1空間における前記計測装置の分解能は、前記第1空間よりも前記検出装置に近い第2空間における前記計測装置の分解能よりも高いX線装置。 - 前記計測装置は、前記第1空間及び前記第2空間に配置され、間隔をあけて形成された目盛を有するスケール部材と、前記ステージの少なくとも一部に配置され、前記目盛を検出する検出器と、を含み、
前記分解能は、前記目盛の間隔を含み、
前記第1空間における前記目盛の間隔は、前記第2空間における前記目盛の間隔よりも小さい請求項19に記載のX線装置。 - 前記ステージは、前記第1空間及び前記第2空間を移動する請求項19又は20に記載のX線装置。
- 前記ステージは、前記第1空間を移動する第1ステージと、前記第2空間を移動する第2ステージと、を含む請求項19又は20に記載のX線装置。
- 前記第1空間に温度調整された気体を供給する供給部を備える請求項19〜22のいずれか一項に記載のX線装置。
- 前記供給部は、前記X線源及び前記第1空間のステージの少なくとも一方に気体を供給する請求項23に記載のX線装置。
- 物体にX線を照射して前記物体を通過するX線を検出するX線装置であって、
X線を射出するX線源と、
移動可能な第1ステージと、
前記物体を保持して移動可能で、前記第1ステージとは異なる第2ステージと、
前記X線源から射出され、前記物体を通過した前記X線の少なくとも一部を検出する検出装置と、を備えるX線装置。 - 前記第1ステージは、前記物体を保持して移動可能である請求項25に記載のX線装置。
- 前記第1ステージと前記第2ステージとは、前記X線源から射出される前記X線の照射方向に配置される請求項25又は26に記載のX線装置。
- 前記第1ステージは、前記X線の照射方向に関して前記X線源に近い第1空間において移動し、前記第2ステージは、前記第1空間よりも前記検出装置に近い第2空間において移動する請求項27に記載のX線装置。
- 構造物の形状に関する設計情報を作製する設計工程と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作成する成形工程と、
作製された前記構造物の形状を請求項1〜28のいずれか一項に記載のX線装置を用いて計測する工程と、
前記測定工程で得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する検査工程と、を有する構造物の製造方法。 - 前記検査工程の比較結果に基づいて実行され、前記構造物の再加工を実施するリペア工程を有する請求項29に記載の構造物の製造方法。
- 前記リペア工程は、前記成形工程を再実行する工程である請求項30に記載の構造物の製造方法。
- X線源からのX線を既知の物体に照射することと、
第1の温度において前記既知の物体に前記X線源からのX線を照射し、前記既知の物体を通過した透過X線を検出器で検出することと、
前記第1の温度における前記既知の物体に対するX線の照射及び前記既知の物体を通過した透過X線の検出における、前記X線源と前記既知の物体と前記検出器との相対位置を算出することと、を含むX線照射方法。 - 第2の温度において前記既知の物体とは異なる測定物に前記X線源からのX線を照射し、前記測定物を通過した透過X線を検出することと、
前記第1の温度と、前記第2の温度とを比較することと、
前記比較の結果と、前記第1の温度での算出結果とに基づいて、前記X線源と前記測定物と前記検出器の相対位置を算出することと、をさらに含む請求項32に記載のX線照射方法。 - 構造物の形状に関する設計情報を作製する設計工程と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作成する成形工程と、
作製された前記構造物の形状を請求項32又は33に記載のX線照射方法を用いて計測する工程と、
前記測定工程で得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する検査工程と、を有する構造物の製造方法。
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