JP6147852B2 - Ｘ線装置及び構造物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、Ｘ線装置及び構造物の製造方法に関する。

物体の内部の情報を非破壊で取得する装置として、例えば下記特許文献に記載されているような、物体にＸ線を照射して、その物体を通過した透過Ｘ線を検出するＸ線装置が知られている。

米国特許出願公開第２００９／０２６８８６９号明細書

検出装置において、物体を支持して移動するテーブルの移動方向での位置を計測する計測装置で移動方向の位置を決める精度を向上させる必要がある。検出装置において、物体を支持して移動するテーブルを案内する装置の位置と、物体を透過した透過Ｘ線を検出する検出器の検出位置とが離れていると、テーブルの測定位置の位置決め精度が低下する可能性がある。その結果、検出精度が低下する可能性がある。

本発明の態様は、検出精度の低下を抑制できるＸ線装置及び構造物の製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様に従えば、被検物体にＸ線を照射して前記被検物体を通過するＸ線を検出することで、前記被検物体の形状を測定する形状測定装置であって、Ｘ線を発光点から射出するＸ線源と、前記被検物体を支持するステージと、前記Ｘ線源から射出され、前記被検物体を通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出する検出器と、前記発光点と前記被検物体の距離又は前記発光点と前記検出器との少なくとも一方の距離を変えるために、前記Ｘ線源、前記ステージ又は前記検出器の一つを、移動物体として第１方向に移動させる移動装置と、前記第１方向での前記移動物体の位置を計測する、第１計測装置及び第２計測装置と、前記X線源が前記ステージに保持された前記被検物体に対してＸ線を照射し、前記検出器が前記被検物体を通過した透過Ｘ線を検出した結果から、前記被検物体の形状を算出する演算装置とを備え、前記第１計測装置と第２計測装置とは、前記移動装置の移動可能領域での前記第１方向と交差する第２方向に配置され、前記第１計測装置及び第２計測装置は、前記X線源の光軸を挟んで配置され、前記第１計測装置の計測位置と第２計測装置の計測位置とを結ぶ線が、前記検出器により前記被検物を透過するX線が検出される領域内に配置される形状測定装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、被検物体にＸ線を照射して前記物体を通過するＸ線を検出することで前記被検物体の形状を測定する形状測定装置であって、Ｘ線を発光点から射出するＸ線源と、前記被検物体を支持するステージと、前記Ｘ線源から射出され、前記被検物体を通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出する検出器と、前記発光点と前記被検物体の距離又は前記発光点と前記検出器との少なくとも一方の距離を変えるために、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を平面である案内面で規定し、前記移動を案内する案内装置と、前記Ｘ線源が前記ステージに保持された前記被検物体に対してＸ線を照射し、前記検出器が前記被検物体を通過した透過Ｘ線を検出した結果から、前記被検物体の形状を算出する演算装置と、支持面に支持されるチャンバ部材であって、前記Ｘ線源、前記ステージ、前記検出器および前記移動装置を取り囲んで前記Ｘ線の外部への漏洩を抑制するチャンバ部材と、を備え、前記案内装置は、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を規定する平面である第１案内面を有する第１案内装置と、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を規定する平面である第２案内面を有する第２案内装置とをさらに備え、前記第１案内装置と第２案内装置との間に前記透過Ｘ線が検出される領域が配置され、前記第１案内面を含み、前記第１案内面と平行な平面が前記透過Ｘ線の検出領域内に配置され、前記第２案内面を含む、前記第２案内面と平行な平面が、前記前記透過Ｘ線が検出される領域内に配置され、前記第１案内面と前記第２案内面は、前記Ｘ線の光軸を挟んで配置され、前記支持面に沿って、前記Ｘ線の光軸が配置されている形状測定装置が提供される。

本発明に関連する発明の態様に従えば、被検物体にＸ線を照射して前記被検物体を通過するＸ線を検出するＸ線装置であって、Ｘ線を発光点から射出するＸ線源と、前記被検物体を支持するステージと、前記Ｘ線源から射出され、前記被検物体を通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出器と、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つを前記発光点と前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の中心とを結ぶ軸と平行な方向の移動を案内する案内装置と、を含み、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の移動を規定する平面である案内面を含み、前記案内面と平行な平面が前記発光点と前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の中心とを結ぶ軸の近傍に配置される、Ｘ線装置が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、構造物の形状に関する設計情報を作成し、前記設計情報に基づいて前記構造物を作製し、作製された前記構造物を前記物体として、作製された前記構造物の形状を前述した形状測定装置を用いて計測し、前記計測によって得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する、構造物の製造方法が提供される。

本発明の態様によれば、検出精度の低下を抑制できるＸ線装置及び構造物の製造方法を提供することができる。

図１は、実施形態に係る装置の一例を示す図である。 図２は、実施形態に係る装置が有する支持体の一例を示す斜視図である。 図３は、図２に示す支持体の第１側壁を示す側面図である。 図４は、図２に示す支持体の第２側壁を示す側面図である。 図５は、実施形態に係る装置が有する支持体の一例を示す底面図である。 図６は、図１のＡ−Ａ矢視図である。 図７は、検出装置の上面図である。 図８は、検出装置が備えるテーブル支持体を示す斜視図である。 図９は、テーブル回転軸の方向に移動させる構造を説明するための図である。 図１０は、テーブル回転軸の方向に移動させる構造を説明するための図である。 図１１は、テーブルを支持する第２可動部材を示す図である。 図１２は、カウンターウエイトを示す図である。 図１３は、案内装置の案内面を説明するための図である。 図１４は、案内装置の案内面を説明するための図である。 図１５は、案内装置の案内面を説明するための図である。 図１６は、検出領域を示す図である。 図１７は、検出領域を示す図である。 図１８は、検出領域と案内面との関係を示す図である。 図１９は、比較例での検出領域と案内面との関係を示す図である。 図２０は、本実施形態での検出領域と案内面との関係を示す図である。 図２１は、本実施形態における検出領域と案内面との関係を示す図である。 図２２は、本実施形態における検出領域と案内面との関係の変形例を示す図である。 図２３は、テーブル支持体の変形例を示す図である。 図２４は、テーブル支持体の変形例を示す図である。 図２５は、テーブル支持体の変形例を示す図である。 図２６は、第１案内装置及び第２案内装置の配置の変形例を示す図である。 図２７は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。 図２８は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。 図２９は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。 図３０は、本実施形態に係るＸ線源の一例を示す断面図である。 図３１は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するためのフローチャートである。 図３２は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するための図である。 図３３は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するための図である。 図３４は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示すフローチャートである。 図３５は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示す図である。 図３６は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示す図である。 図３７は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示す図である。 図３８は、実施形態に係る検出装置を備えた構造物製造システムの一例を示す図である。 図３９は、構造物製造システムによる処理の流れを示したフローチャートである。 図４０は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。

本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下に記載する実施形態により本発明が限定されるものではない。

以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＺ軸方向、水平面内においてＺ軸方向と直交する方向をＸ軸方向、Ｚ軸方向及びＸ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＹ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ及びθＺ方向とする。

図１は、実施形態に係る装置の一例を示す図である。図２は、実施形態に係る装置が有する支持体の一例を示す斜視図である。図３は、図２に示す支持体の第１側壁を示す側面図である。図４は、図２に示す支持体の第２側壁を示す側面図である。図５は、実施形態に係る装置が有する支持体の一例を示す底面図である。本実施形態に係るＸ線装置としての検出装置１は、被検物体としての被測定物ＳにＸ線ＸＬを照射して、その被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を検出する。Ｘ線は、例えば波長１ｐｍから３０ｎｍ程度の電磁波である。Ｘ線は、約５０ｅＶの超軟Ｘ線、約０．１ｋｅから２ｋｅＶの軟Ｘ線、約２ｋｅＶから２０ｋｅＶのＸ線及び約２０ｋｅＶから１００ｋｅＶの硬Ｘ線の少なくとも一つを含む。

本実施形態において、検出装置１は、被測定物ＳにＸ線を照射し、被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を検出して、被測定物Ｓの内部の情報（例えば、内部構造）を非破壊で取得するＸ線ＣＴ検査装置を含む。本実施形態において、被測定物Ｓは、例えば機械部品又は電子部品等の産業用部品を含む。Ｘ線ＣＴ検査装置は、産業用部品にＸ線を照射して、その産業用部品を検査する産業用Ｘ線ＣＴ検査装置を含む。

図１において、検出装置１は、Ｘ線ＸＬを射出するＸ線源２と、被測定物Ｓを支持するステージとしてのテーブル３と、Ｘ線源２から射出され、テーブル３に支持された被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出する検出器４と、テーブル３を支持しながらテーブル３のＸ線ＸＬの光軸と平行な方向への移動を案内する案内装置５とを含む。Ｘ線ＸＬの光軸と平行な方向は、Ｚ軸方向である。本実施形態において、テーブル３は、テーブル支持体７に支持される。テーブル３は、被測定物Ｓを支持する機能を有していればよく、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一方向に移動する機構をさらに有していてもよい。案内装置５は、Ｘ線ＸＬの光軸と平行な方向へのテーブル支持体７の移動を案内する。このような構造により、テーブル３は、テーブル支持体７を介して案内装置５に案内されて、Ｘ線ＸＬの光軸と平行な方向へ移動する。

本実施形態において、検出装置１は、Ｘ線源２と、検出器４と、案内装置５とが取り付けられる支持体６を有する。Ｘ線源２、検出器４及び案内装置５は、同一の支持体６によって支持される。このような構造により、Ｘ線源２、検出器４及び案内装置５は、支持体６とともに同じように動くので、これらが別個の構造物に取り付けられた場合と比較して、これらの姿勢が変化した場合における位置関係の変化を小さくすることができる。その結果、検出装置１は、Ｘ線源２と、検出器４と、案内装置５との位置関係の変化に起因する検出精度の低下を抑制することができる。

支持体６は、図２に示すように、第１支持部材としての第１側壁６ＳＡと、第２支持部材としての第２側壁６ＳＢと、第３支持部材としての底部６Ｂとを有する。第１側壁６ＳＡと第２側壁６ＳＢとは、これらの第１の端部６ＳＡ１、６ＳＢ１側に設けられた第４支持部材としての第３側壁６ＳＣと、これらの第２の端部６ＳＡ２、６ＳＢ２側に設けられた第５支持部材としての第４側壁６ＳＤとで連結されている。第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ及び第４側壁６ＳＤは、板状の部分である底部６Ｂから立ち上がった板状又は壁状の部分である。より具体的には、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ及び第４側壁６ＳＤは、図５に示すように長方形形状である底部６Ｂの角辺の部分から立ち上がっている。第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂは、これらの壁面から直交する方向から見られた場合の形状が、いずれも長方形形状である。

第１側壁６ＳＡと第２側壁６ＳＢとは互いに対向し、かつ壁面が平行になっている。第３側壁６ＳＣと第４側壁６ＳＤとは互いに対向し、かつ壁面が平行になっている。第１側壁６ＳＡの壁面及び第２側壁６ＳＢの壁面は、第３側壁６ＳＣの壁面及び第４側壁６ＳＤの壁面と直交している。底部６Ｂと、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ及び第４側壁６ＳＤとで囲まれた空間６ＳＰに、検出装置１が備える機器類、例えば、被測定物Ｓを支持するテーブル３及びテーブル３を回転させたりＸ軸方向又はＺ軸方向に移動させたりする機構等が配置される。

第３側壁６ＳＣは、図２、図３及び図４に示すように、自身から離れる方向に向かって突出する第１の凸部６ＳＣＸを有する。第３側壁６ＳＣと同様に、第４側壁６ＳＤは、自身から離れる方向に向かって突出する第２の凸部６ＳＤＤを有する。図１に示すように、第１の凸部６ＳＣＸには、Ｘ線源２を支持するＸ線源支持部材２Ｓが取り付けられる。第２の凸部６ＳＤＤには、検出器４を支持する検出器支持部材４Ｓが取り付けられる。このような構造により、Ｘ線源２は、第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢの第１の端部６ＳＡ１、６ＳＢ１側に取り付けられる。検出器４は、第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢの第２の端部６ＳＡ２、６ＳＢ２側に取り付けられる。

図２から図５に示すように、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂは、他の部分よりも厚み（板面と直交する方向の寸法）が小さくなっている複数の肉抜き部６Ｇを有する。本実施形態において、肉抜き部６Ｇは、矩形形状である。隣接する肉抜き部６Ｇの間６Ｒの厚みは、肉抜き部６Ｇよりも大きく、かつ隣接する肉抜き部６Ｇ同士の寸法よりも大きい。このように、隣接する肉抜き部６Ｇの間６Ｒは、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂのリブになっている。以下において、隣接する肉抜き部６Ｇの間６Ｒを適宜リブ６Ｒという。

支持体６は、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂが肉抜き部６Ｇを有するので、質量の増加を抑制することができる。また、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂがリブ６Ｒを有するので、支持体６は、複数の肉抜き部６Ｇを有することによる強度低下も抑制することができる。

本実施形態において、支持体６は、線膨張係数が小さい材料で作製されている。線膨張係数が小さい材料としては、例えば、鉄に３６％のニッケルを加えた不変鋼（インバー又はスーパーインバー）と呼ばれる合金を用いることができる。このような材料は一般的に高価である。前述したように、本実施形態においては、支持体６が肉抜き部６Ｇを有するので、支持体６に用いられる材料の使用量を低減することができる。このため、線膨張係数の小さい高価な材料を支持体６に用いた場合、支持体６が複数の肉抜き部６Ｇを有すると、支持体６の製造コストの増加が抑制される。

前述したように、支持体６には、Ｘ線源２と、検出器４と、案内装置５とが取り付けられている。被測定物Ｓを支持するテーブル３は、テーブル支持体７及び案内装置５を介して支持体６に支持される。支持体６が線膨張係数の小さい材料で作製されることにより、検出装置１による被測定物Ｓの形状等の計測時において支持体６の周囲の温度が上昇しても、支持体６は、温度による寸法の変化が抑制される。その結果、支持体６の熱膨張に起因するＸ線源２と、検出器４と、案内装置５と、テーブル３との相対的な位置関係の変化が最小限に抑制される。このため、検出装置１は、被測定物Ｓの形状等の計測精度が低下することを最小限に抑制することができる。

本実施形態において、第１側壁６ＳＡ、第２側壁６ＳＢ、第３側壁６ＳＣ、第４側壁６ＳＤ及び底部６Ｂは、例えば、鋳造等によって一体の構造物として作製される。このようにすることで、支持体６を容易に製造することができる。なお、支持体６は、鋳造以外の製造方法で作製されてもよい。

第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢは、図２、図３及び図４に示すように、壁面と直交する方向に貫通する複数の貫通孔６Ｈを有している。それぞれの貫通孔６Ｈは、第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢの壁面の異なる位置、より具体的には、Ｙ軸方向及びＺ軸方向において異なる位置に設けられている。このような構造により、複数の貫通孔６Ｈから、支持体６の空間６ＳＰに容易にアクセスすることができる。このため、空間６ＳＰに配置された、検出装置１が備える機器類を清掃したり保守したりすることが容易になる。また、複数の貫通孔６Ｈは、Ｙ軸方向及びＺ軸方向において異なる位置に設けられているので、異なる貫通孔６Ｈを利用して、内部空間ＳＰの異なる位置に容易にアクセスすることができる。このため、検出装置１が備える機器類が空間６ＳＰの異なる位置に配置されていても、前述した機器類を容易に清掃したり保守したりすることが容易になる。

本実施形態において、検出装置１は、Ｘ線源２から射出されるＸ線ＸＬが進行する内部空間ＳＰを形成するチャンバ部材８に収納されている。本実施形態において、検出装置１は、内部空間ＳＰに配置される。本実施形態において、検出装置１は、Ｘ線源２の少なくとも一部に、温度調整された気体Ｇを供給する供給口２６を備えている。供給口２６は、内部空間ＳＰに配置される。

図１に示すように、支持体６は、複数の脚６Ｆを有している。複数の脚６Ｆは、図２に示す支持体６の底部６Ｂに取り付けられる。脚６Ｆは、チャンバ部材８の底部８Ｂと接する。脚６Ｆにより、支持体６の下面、すなわち、チャンバ部材８の底部８Ｂと対向する面と、チャンバ部材８の底部８Ｂとは離れる。すなわち、支持体６の下面とチャンバ部材８の底部８Ｂとの間には空間が形成される。なお、支持体６の下面の少なくとも一部とチャンバ部材８の底部８Ｂとが接触してもよい。支持体６の底部６Ｂは、設置対象であるチャンバ部材８の底部８Ｂ側に配置される。すなわち、底部６Ｂは、検出装置１の設置側となる。本実施形態において、検出装置１は、支持体６をチャンバ部材８の底部８Ｂに載置したが、支持体６の設置方法はこれに限定されない。例えば、索条等を用いて、支持体６を設置対象から吊り下げてもよい。支持体６の複数の脚６Ｆは、検出装置１の外部からの振動がチャンバ部材８を介して、例えばＸ線源２に伝わることを抑制するための防振機構を備えている。防振機構は、例えば、空気バネ又は金属で形成されたバネを用いている。
また、防振機構は、複数の脚６Fのすべてに用いていなくても構わない。

本実施形態において、チャンバ部材８は、支持面ＦＲ上に設置される。支持面ＦＲは、工場等の床面を含む。チャンバ部材８は、複数の脚８Ｓに支持される。チャンバ部材８は、脚８Ｓを介して、支持面ＦＲ上に配置される。本実施形態においては、脚８Ｓにより、チャンバ部材８の下面と、支持面ＦＲとは離れる。すなわち、チャンバ部材８の下面と支持面ＦＲとの間に空間が形成される。なお、チャンバ部材８の下面の少なくとも一部と支持面ＦＲとが接触してもよい。本実施形態において、チャンバ部材８は、鉛を含む。チャンバ部材８は、内部空間ＳＰのＸ線ＸＬが、チャンバ部材８の外部空間ＲＰに漏出することを抑制する。

本実施形態おいて、チャンバ部材８は、チャンバ部材８よりも熱伝導率が小さい部材を有する。本実施形態おいて、チャンバ部材８は、チャンバ部材８よりも熱伝導率が小さい部材を有する。本実施形態において、この部材は、チャンバ部材８の外面に配置される。この部材は、内部空間ＳＰの温度が外部空間ＲＰの温度（温度変化）の影響を受けることを抑制する。すなわち、この部材は、外部空間ＲＰの熱が内部空間ＳＰに伝わることを抑制する断熱部材として機能する。この部材は、例えばプラスチックを含む。本実施形態において、この部材は、例えば発泡スチロール又は鉄を含む。例えば、鉄がチャンバ部材の内側に配置されていても構わない。この場合は、チャンバ部材８の鉛部材の他に、鉄の部材が配置されているので、チャンバ部材８の強度を補強することができる。なお、チャンバ部材８と鉄の部材とが直接接触してもよいし、チャンバ部材８の少なくとも一部と鉄の部材とが接触していても構わない。

Ｘ線源２は、被測定物ＳにＸ線ＸＬを照射する。Ｘ線源２は、Ｘ線ＸＬを射出する射出部２Ｅを有する。Ｘ線源２は、点Ｘ線源を形成する。本実施形態において、射出部２Ｅは、点Ｘ線源を含む。Ｘ線源２は、被測定物Ｓに円錐状のＸ線（いわゆる、コーンビーム）を照射する。なお、Ｘ線源２は、射出するＸ線ＸＬの強度を調整できるものであってもよい。Ｘ線源２から射出されるＸ線ＸＬの強度を調整する場合、被測定物ＳのＸ線吸収特性等に基づいてＸ線ＸＬの強度が調整されてもよい。また、Ｘ線源２から射出されるＸ線の拡がる形状は円錐状に限られず、例えば、扇状のＸ線（いわゆる、ファンビーム）でもよい。

射出部２Ｅは、＋Ｚ方向を向いている。＋Ｚ方向は、Ｘ線源２から検出器４に向かう方向である。本実施形態において、射出部２Ｅから射出されたＸ線ＸＬの少なくとも一部は、内部空間ＳＰにおいて、＋Ｚ方向に進行する。

供給口２６は、Ｘ線源２の少なくとも一部に、温度調整された気体Ｇを供給する。本実施形態において、検出装置１は、気体Ｇの温度を調整する調整装置２５を備える。調整装置２５は、例えば電力によって作動する。供給口２６は、調整装置２５からの気体Ｇを内部空間ＳＰに供給する。本実施形態において、調整装置２５は、チャンバ部材８の外部空間ＲＰに配置される。調整装置２５は、支持面ＦＲに設置される。調整装置２５は、導管２６Ｐと接続される。導管２６Ｐは、調整装置２５とチャンバ部材８の内部空間ＳＰとを接続する。

導管２６Ｐは、チャンバ部材８の内部空間ＳＰに開口する。この開口が、内部空間ＳＰに気体Ｇを供給する供給口２６として機能する。本実施形態において、調整装置２５は、例えば外部空間ＲＰの気体を取り入れて、その気体の温度を調整する。調整装置２５によって温度調整された気体Ｇは、導管２６Ｐを介して供給口２６に送られる。供給口２６は、Ｘ線源２の少なくとも一部と対向するように配置される。供給口２６は、調整装置２５からの気体ＧをＸ線源２の少なくとも一部に供給する。

検出器４は、内部空間ＳＰにおいて、Ｘ線源２及びテーブル３よりも＋Ｚ側に配置される。検出器４は、Ｘ線源２の射出部２Ｅと対向する。検出器４の位置は、所定の位置で固定される。なお、検出器４が移動可能でもよい。テーブル３は、内部空間ＳＰのうち、Ｘ線源２と検出器４との間を移動することができる。検出器４は、被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を含むＸ線源２からのＸ線ＸＬが入射する入射面４ＤＰを有するシンチレータ部３６と、シンチレータ部３６において発生した光を受光する受光部３７とを有する。検出器４の入射面４ＤＰは、テーブル３に支持された被測定物Ｓと対向する。入射面４ＤＰは、検出器４のＸ線が入射する面である。本実施形態では、Ｘ線源２から照射されたＸ線ＸＬ及びＸ線源２から照射され、被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線の少なくとも一方が、入射面４ＤＰに入射する。

シンチレータ部３６は、Ｘ線ＸＬが照射されることによって、そのＸ線とは異なる波長の光を発生させるシンチレーション物質を含む。受光部３７は、光電子倍増管を含む。光電子倍増管は、光電効果により光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電管を含む。受光部３７は、シンチレータ部３６において発生した光を増幅し、電気信号に変換して出力する。検出器４は、シンチレータ部３６を複数有する。シンチレータ部３６は、ＸＹ平面内において複数配置される。シンチレータ部３６は、アレイ状に配置される。検出器４は、複数のシンチレータ部３６のそれぞれに接続するように、受光部３７を複数有する。検出器４は、入射するＸ線を、光に変換することなく直接電気信号に変換してもよい。

検出装置１の動作は、制御装置９によって制御される。制御装置９は、例えば、Ｘ線源２の動作を制御したり、検出器４が被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を検出した結果から被測定物Ｓの形状を算出したり、テーブル３の移動を制御したり、調整装置２５の動作を制御したりする。制御装置９は、例えば、コンピュータである。

図６は、図１のＡ−Ａ矢視図である。図７は、検出装置の上面図である。図８は、検出装置が備えるテーブル支持体を示す斜視図である。図６及び図７に示す符号Ｚｒは、Ｘ線源２の光軸を示す。本実施形態において、光軸Ｚｒは、Ｚ軸と平行である。以下の例も同様である。図６及び図７に示すように、テーブル３は、テーブル本体３Ｂに支持されている。テーブル３は、被測定物Ｓを支持するための支持機構（物体支持機構ともいう）３Ｓを備えている。支持機構３Ｓは、例えば、負圧によって支持対象の物体を吸着する方式である。支持機構３Ｓは、吸着方式に限定されず、例えば、部材で支持対象の物体を挟み込む方式であってもよい。テーブル３は、支持機構３Ｓが設けられ、かつ支持機構３Ｓが被測定物Ｓを支持する面が支持面３Ｐとなる。本実施形態において、Ｘ線源２の光軸は、Ｘ線源２で発生するＸ線の発光点と、検出器４の複数ある受光部３７の中心とを結ぶ線である。検出器４の複数ある受光部３７の中心は、図１において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれの中心線が交わる点である。

テーブル本体３Ｂは、テーブル３を支持し、かつテーブル３の取付対象に固定される。テーブル本体３Ｂは、テーブル３の支持面３Ｐと直交する軸Ｙｒの周りに回転させるための回転駆動装置３Ｄを備えている。テーブル３の支持面３Ｐと直交する軸Ｙｒを、以下においては適宜テーブル回転軸Ｙｒともいう。テーブル回転軸Ｙｒは、Ｙ軸と平行な軸であるので、テーブル３は、θＹ方向に回転する。回転駆動装置３Ｄは、例えば、電動モータを備えており、電動モータの回転力によってテーブル３を回転させる。

テーブル３は、テーブル３の回転量（θＹ方向における位置）を計測するためのロータリーエンコーダ１０を備えている。ロータリーエンコーダ１０は、例えば、テーブル本体３Ｂに設けられたスケール部材１０Ｓと、テーブル３に設けられてスケール部材１０Ｓの目盛を検出するエンコーダヘッド１０Ｅとを含む。このような構造により、ロータリーエンコーダ１０は、テーブル本体３Ｂに対するテーブル３の回転量を計測する。図１に示す制御装置９は、例えば、ロータリーエンコーダ１０が計測したテーブル３の回転量に基づき、回転駆動装置３Ｄの動作を制御して、テーブル３の回転量を制御する。

テーブル本体３Ｂは、第１可動部材１１に取り付けられている。第１可動部材１１は、基台１２に取り付けられた案内部材としてのレール１３Ｒによって支持されている。基台１２は、第２可動部材１４に取り付けられている。第２可動部材１４は、テーブル支持体７と第２可動部材１４との間に設けられた案内機構１５を介して、テーブル支持体７に取り付けられている。このように、テーブル３は、テーブル本体３Ｂと、第１可動部材１１と、レール１３Ｒと、基台１２と、第２可動部材１４と、案内機構１５とを介してテーブル支持体７に支持されている。

図７に示すように、基台１２は、第１可動部材１１側に、所定の間隔で実質的に平行に配置された複数本（本実施形態では２本）のレール１３Ｒ、１３Ｒを備えている。２本のレール１３Ｒ、１３Ｒは、Ｘ軸方向に向かって伸びている。第１可動部材１１は、レール１３Ｒ、１３Ｒに案内され、レール１３Ｒ、１３Ｒに沿ってＸ軸方向に移動する。第１可動部材１１は、自身が有するナットにねじ軸１６がねじ込まれている。ねじ軸１６は、アクチュエータ１７の出力軸に取り付けられている。本実施形態において、アクチュエータ１７は、電動モータである。アクチュエータ１７は、ねじ軸１６を回転させる。ねじ軸１６は、基台１２に支持された軸受１８Ａ、１８Ｂによって回転可能に支持される。本実施形態において、ねじ軸１６は、自身の軸線とＸ軸とが実質的に平行となるように、軸受１８Ａ、１８Ｂに支持される。

アクチュエータ１７が回転すると、ねじ軸１６も回転する。ねじ軸１６は、第１可動部材１１が有するナットにねじ込まれているので、ねじ軸１６が回転すると、第１可動部材１１は、Ｘ軸方向に移動する。本実施形態において、第１可動部材１１が有するナットとねじ軸１６との間には、ボールが配置される。すなわち、第１可動部材１１は、ボールねじ機構によって、Ｘ軸方向に移動する。このとき、前述したように、２本のレール１３Ｒ、１３Ｒは、第１可動部材１１のＸ軸方向への移動を案内する。

第１可動部材１１の移動量（Ｘ軸方向の位置）は、リニアエンコーダ１９によって検出される。リニアエンコーダ１９は、エンコーダヘッド１９Ｅとリニアスケール１９Ｓとを含む。リニアスケール１９Ｓは、基台１２の第１可動部材１１側に取り付けられている。エンコーダヘッド１９Ｅは、第１可動部材１１のリニアスケール１９Ｓと対向する位置に取り付けられている。リニアエンコーダ１９は、基台１２に対する第１可動部材１１のＸ軸方向における移動量を計測する。図１に示す制御装置９は、例えば、リニアエンコーダ１９が計測した第１可動部材１１の移動量に基づき、アクチュエータ１７の動作を制御して、第１可動部材１１の移動量を制御する。すなわち、制御装置９は、リニアエンコーダ１９が計測した第１可動部材１１の移動量に基づき、テーブル３のＸ軸方向における移動量を制御する。

図６及び図７に示すように、基台１２が取り付けられた第２可動部材１４は、複数（本実施形態では２個）の案内機構１５、１５を介してテーブル支持体７に取り付けられ、支持されている。案内機構１５は、案内部材としてのレール１５Ｒと、移動体１５Ｍとを含む。移動体１５Ｍは、レール１５Ｒに取り付けられて、レール１５Ｒによって、レール１５Ｒが伸びる方向への移動が案内される。このような構造により、第２可動部材１４は、テーブル３の支持面３Ｐと直交する方向に移動することができる。レール１５Ｒは、テーブル支持体７に取り付けられている。

図６及び図８に示すように、テーブル支持体７は、第１部材７Ａと、第２部材７Ｂと、第３部材７Ｃとを含む。第１部材７Ａは、支持体６の第１側壁６ＳＡ側に配置される。第２部材７Ｂは、支持体６の第２側壁６ＳＢ側に配置される。第３部材７Ｃは、図８に示すように、第１部材７Ａの第１端部７ＡＴ１と第２部材７Ｂの第１端部７ＢＴ１とを連結する。本実施形態において、第１部材７Ａ、第２部材７Ｂ及び第３部材７Ｃは、いずれも板状の部材である。第１部材７Ａと第２部材７Ｂとは、板面が互いに対向している。

第１部材７Ａ、第２部材７Ｂ及び第３部材７Ｃは、検出器４により被測定物Ｓを通過する透過Ｘ線が検出される領域としての検出領域ＤＲの外側に配置される。検出器４を基準とすると、図６及び図７に示すように、第１部材７Ａ、第２部材７Ｂ及び第３部材７Ｃは、検出器４の入射面４ＤＰの外側に配置される。このような構造により、テーブル支持体７は、検出領域ＤＲとの干渉が回避できるので、検出装置１の検出領域ＤＲは、全体が有効に利用される。検出領域ＤＲについては後述する。

本実施形態において、テーブル支持体７は、第１部材７Ａと第２部材７Ｂと第３部材７Ｃとが、例えば、鋳造又は鍛造等の製造方法によって一体の構造物として作製される。このようにすることで、テーブル支持体７を容易に作製することができる。また、前述した製造方法によって一体の構造物として作製されたテーブル支持体７は、第１部材７Ａと第２部材７Ｂと第３部材７Ｃとを別個の部品として製造し、ボルト等の締結部材を用いて一体化することにより作製される場合と比較して、剛性及び強度を高くすることができる。なお、テーブル支持体７は、鋳造又は鍛造以外の製造方法で作製されることを排除するものではない。

本実施形態において、テーブル支持体７は、前述した支持体６と同様に、線膨張係数が小さい材料（例えば、不変鋼）で作製されている。線膨張係数が小さい材料については前述した通りである。テーブル支持体７が線膨張係数の小さい材料で作製されることにより、検出装置１による被測定物Ｓの形状等の計測時においてテーブル支持体７の周囲の温度が上昇しても、テーブル支持体７は、温度による寸法の変化が抑制される。その結果、テーブル支持体７の熱膨張に起因する被測定物Ｓの位置ずれが最小限に抑制される。このため、検出装置１は、被測定物Ｓの形状等の計測精度が低下することを最小限に抑制することができる。

２本のレール１５Ｒ、１５Ｒのうち１本は、テーブル支持体７の第１部材７Ａの側部７ＡＳ１に取り付けられる。もう１本のレール１５Ｒは、テーブル支持体７の第２部材７Ｂの側部７ＢＳ１に取り付けられる。第１部材７Ａの側部７ＡＳ１及び第２部材７Ｂの側部７ＢＳ１は、図７に示すように、Ｘ線源２側の側部である。２本のレール１５Ｒ、１５Ｒは、Ｘ線源２側の側部７ＡＳ１、７ＡＳ２ではなく、図７に示す、第１部材７Ａの検出器４側の側部７ＡＳ２と第２部材７Ｂの検出器４側の側部７ＢＳ２とに取り付けられていてもよい。

第１部材７Ａに取り付けられたレール１５Ｒと第２部材７Ｂに取り付けられたレール１５Ｒとは、実質的に平行に配置される。２本のレール１５Ｒ、１５Ｒは、Ｙ軸方向に向かって伸びている。第２可動部材１４は、それぞれのレール１５Ｒ、１５Ｒに取り付けられて案内される移動体１５Ｍ、１５Ｍを備えている。このような構造により、第２可動部材１４は、移動体１５Ｍ、１５Ｍを介してレール１５Ｒ、１５Ｒに案内され、レール１５Ｒ、１５Ｒに沿ってＹ軸方向に移動する。

図６に示すように、第２可動部材１４は、自身が有するナットにねじ軸２０がねじ込まれている。ねじ軸２０は、アクチュエータ２１の出力軸に取り付けられている。アクチュエータ２１及びねじ軸２０は、被検出物Ｓが支持されるテーブル３の支持面３Ｐと直交する方向と平行にテーブル３を移動させる移動機構である。本実施形態において、アクチュエータ２１は、電動モータである。アクチュエータ２１は、ねじ軸２０を回転させる。ねじ軸２０は、テーブル支持体７、より具体的にはテーブル支持体７の第１部材７Ａに支持された軸受２２Ａ、２２Ｂによって回転可能に支持される。本実施形態において、ねじ軸２０は、自身の軸線とＹ軸とが実質的に平行となるように、軸受２２Ａ、２２Ｂに支持される。

アクチュエータ２１が回転すると、ねじ軸２０も回転する。ねじ軸２０は、第２可動部材１４が有するナットにねじ込まれているので、ねじ軸２０が回転すると、第２可動部材１４は、Ｙ軸方向に移動する。本実施形態において、第２可動部材１４が有するナットとねじ軸２０との間には、ボールが配置される。すなわち、第２可動部材１４は、ボールねじ機構によって、Ｙ軸方向に移動する。このとき、前述したように、２本のレール１５Ｒ、１５Ｒは、第２可動部材１４のＹ軸方向への移動を案内する。

テーブル支持体７は、複数（本実施形態では２個）のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂを備える。テーブル支持体７が備えるリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂの数は限定されるものではなく、単数であってもよいし、３個以上であってもよい。第２可動部材１４の移動量（Ｙ軸方向の位置）は、リニアエンコーダ２３Ａ及びリニアエンコーダ２３Ｂの少なくとも一方によって検出される。リニアエンコーダ２３Ａは、エンコーダヘッド２３ＡＥと第１スケールとしてのリニアスケール２３ＡＳとを含む。リニアエンコーダ２３Ｂは、エンコーダヘッド２３ＢＥと第２スケールとしてのリニアスケール２３ＢＳとを含む。リニアスケール２３ＡＳは、テーブル支持体７の第１部材７Ａの側部７ＡＳ１に取り付けられている。リニアスケール２３ＢＳは、テーブル支持体７の第２部材７Ｂの側部７ＢＳ１に取り付けられている。リニアスケール２３ＡＳは、第１部材７Ａの長さを計測するためにも用いることができ、リニアスケール２３ＢＳは、第２部材７Ｂの長さを計測するためにも用いることができる。

エンコーダヘッド２３ＡＥは、第２可動部材が支持する基台１２であって、第１部材７Ａに取り付けられたリニアスケール２３ＡＳと対向する位置に取り付けられている。エンコーダヘッド２３ＢＥは、第２可動部材が支持する基台１２であって、第２部材７Ｂに取り付けられたリニアスケール２３ＢＳと対向する位置に取り付けられている。リニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂは、テーブル支持体７に対する基台１２及び第２可動部材１４のＹ軸方向における移動量を計測する。図１に示す制御装置９は、例えば、リニアエンコーダ２３Ａ及びリニアエンコーダ２３Ｂの少なくとも一方が計測した基台１２及び第２可動部材１４の移動量に基づき、アクチュエータ２１の動作を制御して、基台１２及び第２可動部材１４の移動量を制御する。すなわち、制御装置９は、リニアエンコーダ２３Ａ等が計測した基台１２及び第２可動部材１４の移動量に基づき、テーブル３のＹ軸方向における移動量を制御する。

本実施形態においては、テーブル支持体７が備える２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂのうちの少なくとも一方が、テーブル支持体７の第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂの少なくとも一方のＹ軸方向における長さを計測することができる。この場合、リニアスケール２３ＡＳが第１部材７Ａの長さ、具体的にはＹ軸方向における長さを計測し、リニアスケール２３ＢＳが第２部材７Ｂの長さ、具体的にはＹ軸方向における長さを計測するために用いられる。本実施形態において、Ｙ軸方向における長さとは、テーブル回転軸Ｙｒと平行な方向における長さである。

第１部材７Ａ及び第２部材７ＢのＹ軸方向における長さは、テーブル３が支持する被測定物Ｓの質量によって変化する。このため、テーブル３が被測定物Ｓを支持しているときにおける第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂの少なくとも一方のＹ軸方向における長さを計測することにより、被測定物Ｓによる第１部材７Ａ及び第２部材７ＢのＹ軸方向における伸び（支持体６の底部６Ｂに向かう伸び）が求められる。制御装置９は、アクチュエータ２１を動作させて、２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂのうちの少なくとも一方が計測した前述の伸びの分、テーブル３を支持体６の底部６Ｂとは反対方向に移動させる。このようにすることで、テーブル３が支持した被測定物Ｓの質量に起因する第１部材７Ａ及び第２部材７ＢのＹ軸方向における伸びを補正することができるので、被測定物Ｓ自身の質量に起因するＹ軸方向における被測定物Ｓの位置のずれを補正して、テーブル３のＹ軸方向における位置を制御することができる。その結果、検出装置１は、被測定物Ｓの形状等の計測精度等が低下することを抑制できる。

第１部材７Ａ及び第２部材７ＢのＹ軸方向における長さを求める場合、２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂのうち一方が、第１部材７Ａ又は第２部材７ＢのＹ軸方向における長さを計測すればよい。第１部材７Ａ及び第２部材７ＢのＹ軸方向における長さを求める場合に、両方のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂを用いることにより、Ｚ軸周りにおけるテーブル３の傾き（ＸＹ平面に対するテーブル３の傾き）が求められる。制御装置９は、２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂの計測値を用いることにより、被測定物Ｓ自身の質量に起因するＹ軸方向における被測定物Ｓの位置のずれをより正確に求めて、テーブル３のＹ軸方向における位置を制御することができる。その結果、検出装置１は、被測定物Ｓの形状等の計測精度等が低下することを抑制できる。

基台１２のＹ方向における位置を検出してテーブル３のＹ軸方向における位置が制御される場合も、２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂの両方を用いることにより、Ｚ軸周りにおけるテーブル３の傾き（ＸＹ平面に対するテーブル３の傾き）が求められる。制御装置９は、２個のリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂの計測値を用いることにより、被測定物Ｓ自身の質量に起因するＹ軸方向における被測定物Ｓの位置のずれをより正確に求めて、テーブル３のＹ軸方向における位置を制御することができる。その結果、制御装置９は、被測定物ＳのＹ軸方向における位置を精度よく制御することができる。このように、検出装置１は、テーブル支持体７の第１部材７Ａと第２部材７Ｂとのそれぞれにリニアエンコーダ２３Ａ、２３Ｂを備え、制御装置９が両者の計測結果に基づいてテーブル３のＹ軸方向の位置を制御したり補正したりすることがより好ましい。

図６に示すように、テーブル支持体７は、図１に示す案内装置５の一部である第１案内装置５Ａと、同じく案内装置５の一部である第２案内装置５Ｂとを介して、支持体６に取り付けられて支持される。第１案内装置５Ａは、案内部材としてのレール５ＡＲと、レール５ＡＲが伸びる方向に案内される移動体５ＡＭとを含む。第２案内装置５Ｂは、案内部材としてのレール５ＢＲと、レール５ＢＲが伸びる方向に案内される移動体５ＢＭとを含む。

テーブル支持体７は、図８に示すように、第１部材７Ａの第３部材７Ｃとは反対側の第２端部７ＡＴ２側に第１フランジ部７ＡＦを、第２部材７Ｂの第３部材７Ｃとは反対側の第２端部７ＢＴ２に第２フランジ部７ＢＦを有する。第１フランジ部７ＡＦは、第１部材７Ａの端部７ＡＴ２から第２部材７Ｂに対して反対方向に向かい、かつＸ軸方向に張り出している。第２フランジ部７ＢＦは、第２部材７Ｂの端部７ＢＴ２から第１部材７Ａに対して反対方向に向かい、かつＸ軸方向に張り出している。

テーブル支持体７を支持体６の内部空間ＳＰ内に配置したとき、第１フランジ部７ＡＦは支持体６の底部６Ｂとは反対側における第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴと重なる位置まで張り出しており、第２フランジ部７ＢＦは支持体６の底部６Ｂとは反対側における第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴと重なる位置まで張り出している。第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴと支持体６の底部６Ｂとは、第１側壁６ＳＡの壁部６ＳＷが連結している。第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴと支持体６の底部６Ｂとは、第２側壁６ＳＢの壁部６ＳＷが連結している。壁部６ＳＷは、底部６Ｂの第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢ側における面としての底面６ＢＩから、実質的に直交する方向に立ち上がっている。なお、リブ６Ｒは、壁部６ＳＷの壁面から、この壁面と実質的に直交する方向に立ち上がっている。

第１案内装置５Ａのレール５ＡＲは、第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴに取り付けられている。第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲは、第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴに取り付けられている。図６及び図７に示すように、第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴと第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴとは、光軸Ｚｒを挟んで配置されている。すなわち、第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴと第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴとは、光軸Ｚｒの両側に配置されている。このため、レール５ＡＲが第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴに取り付けられる第１案内装置５Ａと、レール５ＢＲが第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴに取り付けられる第２案内装置５Ｂとは、光軸Ｚｒの両側に配置される。また、図６に示すように、本実施形態において、第１案内装置５Ａと第２案内装置５Ｂとは、検出領域ＤＲの外側に配置される。

第１案内装置５Ａは、テーブル支持体７の第１フランジ部７ＡＦと、第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴとの間に配置される。第２案内装置５Ｂは、テーブル支持体７の第２フランジ部７ＢＦと、第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴとの間に配置される。第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂは、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂから検出装置１の設置側、すなわち支持体６の底部６Ｂに向かって伸びている。第３部材７Ｃは第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂの設置側、すなわち支持体６の底部６Ｂ側を連結する。このような構造により、テーブル支持体７は、第３部材７Ｃが伸びる方向、すなわち第１部材７Ａから第２部材７Ｂに向かう方向又はその反対方向において、２箇所で支持体６に支持される。すなわち、テーブル支持体７は、両持ち構造によって支持体６に取り付けられて支持される。このため、テーブル支持体７は、片持ち構造で支持体６に支持される場合と比較して、荷重に対する撓みを小さくすることができる。テーブル支持体７は、被測定物Ｓを支持するテーブル３を支持するため、荷重に対するテーブル支持体７の撓みが小さくなることにより、テーブル３に支持された被測定物Ｓの位置ずれも小さくすることができる。その結果、検出装置１は、検出精度の低下を抑制することができる。

第１案内装置５Ａのレール５ＡＲは、第１側壁６ＳＡの壁部６ＳＷと重なる位置に設けられている。第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲは、第２側壁６ＳＢの壁部６ＳＷと重なる位置に設けられている。このような構造により、第１案内装置５Ａのレール５ＡＲ及び第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲから支持体６に伝えられるテーブル支持体７及びテーブル３等の荷重は、第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢの壁部６ＳＷが受けて、支持体６の底部６Ｂに伝えられる。検出装置１は、レール５ＡＲ、５ＢＲと底部６Ｂとの間に壁部６ＳＷが介在するため、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５ＢのＹ軸方向における位置のずれが抑制される。

図６に示すように、底部６Ｂの壁部６ＳＷからは、その壁面と実質的に直交する方向にリブ６Ｒが立ち上がっている。本実施形態において、底部６Ｂのリブ６Ｒと、第１側壁６ＳＡの壁部ＳＷ及び第２側壁６ＳＢの壁部６ＳＷとは、底部６Ｂの壁部６ＳＷを隔てて重なる位置に設けられている。このような構造により、第１側壁６ＳＡの壁部ＳＷ及び第２側壁６ＳＢの壁部６ＳＷから底部６Ｂの壁部６ＳＷに伝えられた荷重に起因する底部６Ｂの壁部６ＳＷの撓みは、第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢとは反対側に配置された底部６Ｂのリブ６Ｒによって最小限に抑制される。その結果、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５ＢのＹ軸方向における位置のずれが抑制される。

第１案内装置５Ａのレール５ＡＲと第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲとは、図７に示すように、光軸Ｚｒと平行な方向に伸びている。第１案内装置５Ａの移動体５ＡＭは、レール５ＡＲと組み合わされて、レール５ＡＲによって自身の移動が案内される。第２案内装置５Ｂの移動体５ＢＭは、レール５ＢＲと組み合わされて、レール５ＢＲによって自身の移動が案内される。すなわち、移動体５ＡＭと移動体５ＢＭとは、レール５ＡＲ及びレール５ＢＲによって光軸Ｚｒと平行な方向に案内される。

図６に示すように、テーブル支持体７の第１部材７Ａに設けられる第１フランジ部７ＡＦは、第３部材７Ｃ側の面７ＡＦＰに、第１案内装置５Ａの移動体５ＡＭが取り付けられる。テーブル支持体７の第２部材７Ｂに設けられる第２フランジ部７ＢＦは、第３部材７Ｃ側の面７ＢＦＰに、第２案内装置５Ｂの移動体５ＢＭが取り付けられる。第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂのレール５ＡＲ、５ＢＲは、前述したように支持体６に取り付けられるので、テーブル支持体７は、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂを介して支持体６に取り付けられる。テーブル支持体７の第１部材７Ａは、第１案内装置５Ａによって光軸Ｚｒと平行な移動が案内される。テーブル支持体７の第２部材７Ｂは、第２案内装置５Ｂによって光軸Ｚｒと平行な移動が案内される。結果として、テーブル支持体７は、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂによって、光軸Ｚｒと平行な方向に移動することができる。

前述したように、テーブル３は、第１可動部材１１及び第２可動部材１４等を介してテーブル支持体７に取り付けられている。このため、テーブル３は、テーブル支持体７を介して支持体６に取り付けられる。そして、テーブル３は、テーブル支持体７を介して、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂによって、光軸Ｚｒと平行な方向に移動することができる。すなわち、第１案内装置５Ａは、検出領域ＤＲの外側に配置されて、テーブル３を支持しながら光軸Ｚｒと平行な方向へのテーブル３の移動を案内する。第２案内装置５Ｂは、検出領域ＤＲの外側かつ第１案内装置５Ａとは異なる位置に配置されて、テーブル３を支持しながら光軸Ｚｒと平行な方向へのテーブル３の移動を案内する。

図６に示すように、第１案内装置５Ａは、光軸Ｚｒと平行、かつＸ線源２、テーブル３及び検出器４の少なくとも１つの移動を規定する平面である第１案内面ＧＰ１を有する。第２案内装置５Ｂは、光軸Ｚｒと平行、かつＸ線源２、テーブル３及び検出器４の少なくとも１つの移動を規定する平面である第２案内面ＧＰ２を有する。本実施形態では、Ｘ線源２及び検出器４の少なくとも一方も、移動可能であってもよい。この場合、Ｘ線源２及び検出器４の少なくとも一方の移動は、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂによって移動が案内されてもよい。第１案内面ＧＰ１の少なくとも一部と、第２案内面ＧＰ２の少なくとも一部とを通る平面を案内面ＧＰとすると、案内面ＧＰは、検出器４の透過Ｘ線の検出領域ＤＲ内を通る。本実施形態においては、案内面ＧＰは、被測定物Ｓが支持されるテーブル３の支持面３Ｐと直交する方向において、検出領域ＤＲ内を通る。図６に示す例において、案内面ＧＰは、第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２と平行、かつこれらを含む平面である。案内面ＧＰは、テーブル３の移動を規定する平面である。案内面ＧＰについては後述する。

図６及び図７に示すように、テーブル支持体７は、自身が有するナット７ＮＴにねじ軸２７がねじ込まれている。本実施形態において、ナット７ＮＴは、図６及び図８に示すように、テーブル支持体７の第１部材７Ａに設けられるが、ナット７ＮＴは、第２部材７Ｂ又は第３部材７Ｃに設けられていてもよい。ねじ軸２７は、図７に示すアクチュエータ２８の出力軸に取り付けられている。本実施形態において、アクチュエータ２８は、電動モータである。アクチュエータ２８は、ねじ軸２７を回転させる。ねじ軸２７は、支持体６、より具体的には支持体６の第１側壁６ＳＡに支持された軸受２９Ａ、２９Ｂによって回転可能に支持される。本実施形態において、ねじ軸２７は、自身の軸線と光軸Ｚｒとが実質的に平行となるように、軸受２９Ａ、２９Ｂに支持される。

アクチュエータ２８が回転すると、ねじ軸２７も回転する。ねじ軸２７は、テーブル支持体７が有するナット７ＮＴにねじ込まれているので、ねじ軸２７が回転すると、テーブル支持体７は、光軸Ｚｒ方向に移動する。本実施形態において、テーブル支持体７が有するナット７ＮＴとねじ軸２７との間には、ボールが配置される。すなわち、テーブル支持体７は、ボールねじ機構によって、光軸Ｚｒ方向に移動する。このとき、前述したように、２本のレール５ＡＲ、５ＢＲは、テーブル支持体７の光軸Ｚｒ方向への移動を案内する。

支持体６は、複数（本実施形態では２個）のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂを備える。支持体６が備えるリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂの数は限定されるものではなく、単数であってもよいし、３個以上であってもよい。テーブル支持体７の移動量（光軸Ｚｒ方向の位置）は、リニアエンコーダ２４Ａ及びリニアエンコーダ２４Ｂの少なくとも一方によって検出される。リニアエンコーダ２４Ａは、エンコーダヘッド２４ＡＥとリニアスケール２４ＡＳとを含む。リニアエンコーダ２４Ｂは、エンコーダヘッド２４ＢＥとリニアスケール２４ＢＳとを含む。

第１スケールとしてのリニアスケール２４ＡＳ及び第２スケールとしてのリニアスケール２４Ｂは、第１方向（本実施形態では光軸Ｚｒ方向）に配列されたパターンを有している。リニアスケール２４ＡＳは、支持体６が有する第１側壁６ＳＡの端面６ＳＡＴに固定されている。第２スケールとしてのリニアスケール２４ＢＳは、支持体６が有する第２側壁６ＳＢの端面６ＳＢＴに固定されている。第１計測装置としてのエンコーダヘッド２４ＡＥは、リニアスケール２４ＡＳのパターンを検出して、移動物体としてのテーブル支持体７の第１方向（本実施形態では光軸Ｚｒ方向）における位置を計測する。第２計測装置としてのエンコーダヘッド２４ＢＥは、リニアスケール２４ＢＳのパターンを検出して、移動装置としてのテーブル支持体７の第１方向における位置を計測する。本実施形態において、エンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥは、移動装置の移動可能領域での第１方向（本実施形態では光軸Ｚｒ方向）と交差する第２方向（本実施形態ではＸ軸方向）に配置される。エンコーダヘッド２４ＡＥは、テーブル支持体７が有する第１フランジ部７ＡＦの第２フランジ部７ＢＦとは反対側の側面７ＡＦＳに取り付けられている。エンコーダヘッド２４ＢＥは、テーブル支持体７が有する第２フランジ部７ＢＦの第１フランジ部７ＡＦとは反対側の側面７ＢＦＳに取り付けられている。このように、エンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥは、移動装置としてのテーブル支持体７に支持されている。また、本実施形態において、エンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥは、光軸Ｚｒを挟んで配置されている。２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、光軸Ｚｒを挟んでその両側かつ検出領域ＤＲの外側に配置される。すなわち、２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、検出領域ＤＲを挟んで、その外側かつ両側に配置されている。

リニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、支持体６に対するテーブル支持体７の光軸Ｚｒ方向における移動量を計測する。図１に示す制御装置９は、例えば、リニアエンコーダ２４Ａ及びリニアエンコーダ２４Ｂの少なくとも一方が計測したテーブル支持体７の移動量に基づき、アクチュエータ２８の動作を制御して、テーブル支持体７の移動量を制御する。すなわち、制御装置９は、リニアエンコーダ２４Ａ等が計測したテーブル支持体７の移動量に基づき、テーブル３の光軸Ｚｒ方向における移動量を制御する。

テーブル支持体７の光軸Ｚｒ方向における位置を検出してテーブル３の光軸Ｚｒ方向における位置が制御される場合、検出領域ＤＲの外側かつ検出領域ＤＲを挟んで配置された２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂの両方を用いることにより、テーブル回転軸Ｙｒ又はＹ軸周りにおけるテーブル支持体７の傾き（ＺＹ平面に対するテーブル支持体７の傾き）が求められる。制御装置９は、２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂの計測値を用いることにより、テーブル回転軸Ｙｒ又はＹ軸周りにおけるテーブル支持体７の傾きに起因する被測定物Ｓの光軸Ｚｒ方向における位置のずれを正確に求めて、テーブル３の位置を制御することができる。その結果、制御装置９は、被測定物Ｓの光軸Ｚｒ方向における位置を精度よく制御することができる。このように、検出装置１は、光軸Ｚｒを挟んだ両側にリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂを備え、制御装置９が両者の計測結果に基づいてテーブル３の光軸Ｚｒ方向の位置を制御することが好ましい。

図９及び図１０は、テーブル回転軸の方向に移動させる構造を説明するための図である。本実施形態においては、前述したように、テーブル３及びテーブル本体３Ｂは、第１可動部材１１、基台１２及び第２可動部材１４を介してテーブル支持体７に支持されている。第２可動部材１４は、テーブル支持体７の第１部材７Ａの側部７ＡＳ１と第２部材７Ｂの側部７ＢＳ１とに案内機構１５を介して支持されているので、テーブル３は、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿って移動する。

テーブル３は、テーブル本体３Ｂ、第１可動部材１１、第１可動部材１１に取り付けられてねじ軸１６がねじ込まれるナット１１ＮＴ、基台１２、レール１３Ｒと移動体１３Ｍとを有し、基台１２に取り付けられる２個の案内機構１３及び第２可動部材１４等のＸＹ移動機構ＳＴｘｙとともに、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿ってＹ軸方向に移動する。本実施形態では、これらを移動させる、図６に示すアクチュエータ２１の負荷を低減するため、テーブル支持体７はカウンターウエイト３０を備える。カウンターウエイト３０は、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂの側部７ＡＳ１、７ＢＳ１とは反対側の側部７ＡＳ２、７ＢＳ２側に配置される。

カウンターウエイト３０は、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂのそれぞれの側部７ＡＳ２、７ＢＳ２に取り付けられた案内機構３１、３１を介して、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに取り付けられている。第１部材７Ａの側部７ＡＳ２及び第２部材７Ｂの側部７ＢＳ２には、それぞれ、案内機構３１が備える案内部材としてのレール３１Ｒ、３１Ｒが取り付けられる。レール３１Ｒ、３１Ｒは、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂが伸びる方向、すなわち、第１フランジ部７ＡＦ及び第２フランジ部７ＢＦから第３部材７Ｃの方向に向かって第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿って伸びている。レール３１Ｒ、３１Ｒと組み合わされてこれに案内される移動体３１Ｍ、３１Ｍは、カウンターウエイト３０に取り付けられる。このような構造により、カウンターウエイト３０は、案内機構３１、３１によって案内され、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿って移動する。

ＸＹ移動機構ＳＴｘｙとカウンターウエイト３０とは、索条３２で連結されている。索条３２は、図１０に示すように、第２部材７Ｂの第２フランジ部７ＢＦ側を通って、ＸＹ移動機構ＳＴｘｙとカウンターウエイト３０とを連結している。第２部材７Ｂの第２フランジ部７ＢＦには、２個のプーリ３３Ａ、３３Ｂと、これらを支持するプーリ支持体３３Ｃとが取り付けられている。プーリ３３Ａ、３３Ｂは、それぞれシャフト３３ＳＡ、３３ＳＢによってプーリ支持体３３Ｃに取り付けられている。ＸＹ移動機構ＳＴｘｙとカウンターウエイト３０とを連結した索条３２は、プーリ３３Ａ、３３Ｂに掛け回されている。

カウンターウエイト３０の質量とＸＹ移動機構ＳＴｘｙの質量とは同程度になっている。このため、第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂの側部７ＡＳ１、７ＢＳ１側と側部７ＡＳ２、７ＢＳ２側とにそれぞれ配置され、かつ索条３２で連結されたＸＹ移動機構ＳＴｘｙとカウンターウエイト３０とは、質量の釣り合いがとれている。したがって、ＸＹ移動機構ＳＴｘｙをＹ軸方向に移動させる場合は、少ない力でこれを移動させることができる。その結果、ＸＹ移動機構ＳＴｘｙを移動させるための動力が低減されるので、図６に示すアクチュエータ２１の負荷が低減される。また、ＸＹ移動機構ＳＴｘｙを移動させるための動力は少なくて済むので、アクチュエータ２１に小型で出力の小さいものを使用することもできる。

図１１は、テーブルを支持する第２可動部材を示す図である。テーブル３を支持する第２可動部材１４は、テーブル支持体７の第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿って移動する板状の部材である。第２可動部材１４は、第１板状部材１４Ａと、第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂとを含む。第１板状部材１４Ａは、案内機構１５、１５の移動体１５Ｍ、１５Ｍが取り付けられている。案内機構１５、１５のレール１５Ｒ、１５Ｒは、それぞれ第１部材７Ａと第２部材７Ｂとに取り付けられている。すなわち、第１板状部材１４Ａは、案内機構１５、１５を介して第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに取り付けられている。そして、第１板状部材１４Ａは、案内機構１５、１５によって第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂに沿って移動する。

本実施形態において、第１板状部材１４Ａは、支持体６及びテーブル支持体７と同様に、線膨張係数の小さい材料（本実施形態では不変鋼）によって作製されている。前述したように、このような材料は高価である。このため、本実施形態においては、線膨張係数の小さい材料の使用量を少なくするために、第１板状部材１４Ａに、第１板状部材１４Ａとは異なる材料で作製された第２板状部材１４Ｂを組み合わせて、第２可動部材１４としている。具体的には、第１板状部材１４Ａは、一対、すなわち２枚の第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂが、第１板状部材１４Ａの両面に取り付けられている。したがって、一対の第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂは、第１板状部材１４Ａをその両面から挟持する。

このようにすることで、第１板状部材１４Ａの厚みを小さくしつつ、第２可動部材１４に必要な強度及び剛性を確保している。本実施形態においては、第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂは、炭素鋼又はステンレス鋼等のような鋼材で作製されている。このような鋼材は、第１板状部材１４Ａの材料であるニッケル基の合金よりも安価である。また、このような鋼材は、強度及び剛性も高い。したがって、第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂに炭素鋼又はステンレス鋼等のような鋼材を用いることにより、第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂの厚みを小さくしても、第２可動部材１４に必要な強度及び剛性を確保することが容易になる。その結果、第２可動部材１４の質量の増加を抑制し、かつ第２可動部材１４に必要な強度及び剛性を確保することができる。また、第２可動部材１４の製造コストも抑制される。

第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂの材料は、第１板状部材１４Ａの材料とは線膨張係数が異なる。具体的には、第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂの材料は、第１板状部材１４Ａの材料よりも線膨張係数が大きい。本実施形態において、第２板状部材１４Ｂは、第１板状部材１４Ａの一方の面に取り付けてもよい。しかし、第１板状部材１４Ａと第２板状部材１４Ｂとの線膨張係数の差があるため、第１板状部材１４Ａよりも線膨張係数が大きい第２板状部材１４Ｂを第１板状部材１４Ａの一方の面に取り付けると、温度の変化によって第２可動部材１４が反ってしまう可能性がある。このため、本実施形態では、第１板状部材１４Ａの両面に、それぞれ第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂを取り付ける。このような構造により、温度の変化に起因した第２可動部材１４の反り（変形）を抑制して、テーブル３及びこれに支持された被測定物Ｓの位置ずれを抑制する。

一対の第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂは、いずれも同一の材料で作製されることが好ましい。さらに、一対の第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂは、形状及び寸法が同一であることが好ましい。このようにすると、第１板状部材１４Ａの両面側における、温度の変化に起因した第２板状部材１４Ｂ、１４Ｂの伸縮を略同一にすることができるので、第２可動部材１４の反り（変形）をさらに抑制することができる。

図１２は、カウンターウエイトを示す図である。カウンターウエイト３０は、第１の板状部材３０Ａの両面を、一対、すなわち２枚の第２の板状部材３０Ｂが挟持した構造である。第１の板状部材３０Ａには、案内機構３１のレール３１Ｒに案内される移動体３１Ｍが取り付けられている。このため、温度の変化に起因する第１の板状部材３０Ａの変形を最小限に抑えるため、第１の板状部材３０Ａは、線膨張係数の小さい材料（本実施形態では不変鋼）によって作製されている。

線膨張係数の小さい材料は、前述した通り高価であるため、カウンターウエイト３０のすべてを線膨張係数の小さい材料で作製すると、カウンターウエイト３０の製造コストが増加する。このため、第１の板状部材３０Ａに、これよりも安価な材料で作製された第２の板状部材３０Ｂを取り付ける。このとき、同一の材料で作製された一対の第２の板状部材３０Ｂ、３０Ｂで第１の板状部材３０Ａを挟持することにより、第１の板状部材３０Ａの両面における第２の板状部材３０Ｂの変形を同様にすることができる。その結果、カウンターウエイト３０の機能を発揮させつつ、温度の変化に起因したカウンターウエイト３０の反り（変形）を抑制することができる。

また、カウンターウエイト３０の製造コストも抑制することができる。さらに、一対の第２の板状部材３０Ｂ、３０Ｂは、形状及び寸法が同一であることが好ましい。このようにすると、第１の板状部材３０Ａの両面側における、温度の変化に起因した第２の板状部材３０Ｂ、３０Ｂの伸縮をさらに同様にすることができるので、カウンターウエイト３０の反り（変形）をさらに抑制することができる。

図１３、図１４及び図１５は、案内装置の案内面を説明するための図である。図１３及び図１４は、移動体５Ｍ、５Ｍａの移動方向、すなわちレール５Ｒ、５Ｒａが伸びる方向と直交する平面で切ったときの断面（以下、適宜横断面という）を示している。本実施形態において、図６、図７及び図８等に示すテーブル支持体７が支持したテーブル３の光軸Ｚｒ方向への移動を案内する案内装置５、すなわち第１案内装置５Ａと第２案内装置５ｂとは、図６及び図１３に示すように、それぞれ第１案内面ｇｐ１と第２案内面ｇｐ２とを有している。第１案内面ｇｐ１及び第２案内面ｇｐ２は、移動体５ＡＭ、５ＢＭの移動を規定する平面である。第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂの両方が図６及び図７等に示すテーブル支持体７を介してテーブル３の移動を案内する場合、第１案内面ｇｐ１及び第２案内面ｇｐ２は、テーブル３の移動を規定する平面となる（以下同様）。

図１３に示す案内装置５、すなわち第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５ｂは、レール５Ｒ（５ＡＲ、５ＢＲ）と、移動体５Ｍ（５ＡＭ、５ＢＭ）とが互いに接触している。案内装置５は、移動体５Ｍとレール５Ｒとの間に、２個の接触面ＳＲ１と接触面ＳＲ２とを有している。移動体５Ｍとレール５Ｒとの接触面積は、接触面ＳＲ１の方が接触面ＳＲ２よりも大きい。このため、横断面における接触面ＳＲ１の接触長さＬｗは、接触面ＳＲ２の接触長さＬｈよりも大きい（Ｌｗ＞Ｌｈ）。移動体５Ｍの移動方向、すなわちレール５Ｒが伸びる方向と平行な軸（以下、適宜案内軸という）ａｘｇ周りに、移動体５Ｍが傾く場合を考える。この傾きを抑制する作用は、横断面における接触長さＬｗが接触面ＳＲ２の接触長さＬｈよりも大きい接触面ＳＲ１の方が、接触面ＳＲ２よりも大きくなる。本実施形態において、案内装置５、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂの案内面ＧＰ、第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２は、案内軸ａｘｇ周りにおける移動体５Ｍ、５ＡＭ、５ＢＭの傾きを抑制する作用が大きい方の接触面ＳＲ１をいうものとする。

図１４に示す案内装置５ａ、すなわち第１案内装置５Ａａ及び第２案内装置５Ｂａは、レール５Ｒａ（５ＡＲａ、５ＢＲａ）と移動体５Ｍａ（５ＡＭａ、５ＢＭａ）との間に転動体（本例では玉）５ＲＬ１、５ＲＬ２、５ＲＬ３、５ＲＬ４が介在したものである。移動体５Ｍａは、転動体５ＲＬ１、５ＲＬ２、５ＲＬ３、５ＲＬ４を介してレール５Ｒａに案内される。レール５Ｒａは、横断面の形状が略長方形である。

横断面において、レール５Ｒａの長辺側には、隣接して転動体５ＲＬ１と転動体５ＲＬ２とが設けられる。また、横断面において、レール５Ｒａの短辺側には、隣接して転動体５ＲＬ２と転動体５ＲＬ３とが設けられ、隣接して転動体５ＲＬ１と転動体５ＲＬ４とが設けられる。横断面において、転動体５ＲＬ１と移動体５Ｍａとの接触部であって、移動体５Ｍａの広い方の面（以下、適宜第１面という）５ＭＰ１に最も近い部分と、転動体５ＲＬ２と移動体５Ｍａとの接触部であって、第１面５ＭＰ１に最も近い部分とを結ぶ線分Ｌ１を考える。この線分Ｌ１を、案内軸ａｘｇと平行に展開することによって形成される平面を、平面ＶＰ１とする。

次に、横断面において、転動体５ＲＬ２（又は転動体５ＲＬ１）と移動体５Ｍａとの接触部であって、移動体５Ｍａの狭い方の面（以下、適宜第２面という）５ＭＰ２に最も近い部分と、転動体５ＲＬ３（又は転動体５ＲＬ４）と移動体５Ｍａとの接触部であって、第２面５ＭＰ２に最も近い部分とを結ぶ線分Ｌ２を考える。この線分Ｌ２を、案内軸ａｘｇと平行に展開することによって形成される平面を、平面ＶＰ２とする。

平面ＶＰ１及び平面ＶＰ２は、レール５Ｒａが移動体５Ｍａの移動を規定する面である。移動体５Ｍａとレール５Ｒａとが重なる部分においては、平面ＶＰ１の方が平面ＶＰ２よりも面積が大きい。このため、横断面における平面ＶＰ１の長さ、すなわち線分Ｌ１の長さＬｗａは、横断面における平面ＶＰ２の長さ、すなわち線分Ｌ２の長さＬｈａよりも大きい（Ｌｗａ＞Ｌｈａ）。

案内装置５ａの案内軸ａｘｇ周りに、移動体５Ｍａが傾く場合を考える。この傾きを抑制する作用は、横断面における接触長さＬｗａが平面ＶＰ２の接触長さＬｈａよりも大きい平面ＶＰ１の方が、平面ＶＰ２よりも大きくなる。本実施形態において、案内装置５ａ、第１案内装置５Ａａ及び第２案内装置５Ｂａの案内面ＧＰ、第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２は、案内軸ａｘｇ周りにおける移動体５Ｍａの傾きを抑制する作用が大きい方の平面ＶＰ１をいうものとする。

図１５に示す案内装置５ｂは、平行かつ対向に配置される２個の接触面ＳＲ１、ＳＲ２を有している。接触面ＳＲ１、ＳＲ２は、レール５Ｒｂと移動体５Ｍｂとが接する面である。移動体５Ｍｂの広い方の面である第１面５ＭＰ１は、接触面ＳＲ１、ＳＲ２側の面である。移動体５Ｍｂの狭い方の面である第２面５ＭＰ２は、一対の第１面５ＭＰ１、５ＭＰ１を接続する面である。案内装置５ｂは、第２面５ＭＰ２に構造物が取り付けられる。２個の接触面ＳＲ１、ＳＲ２を有する案内装置５ｂの場合、２個の接触面ＳＲ１、ＳＲ２と平行、かつそれぞれの接触面ＳＲ１、ＳＲ２からの距離が等しい位置に存在する平面が案内面ＧＰである。それぞれの接触面ＳＲ１、ＳＲ２から案内面ＧＰまでの距離は、いずれもＬｈ／２である。また、案内面ＧＰは、案内軸ａｘｇを通る。

本実施形態では、図６に示すように、案内面ＧＰは、被測定物Ｓが支持されるテーブル３の支持面３Ｐと直交する方向において、検出領域ＤＲ内を通っている。テーブル３の支持面３Ｐは、検出装置１が設置されると、鉛直方向、すなわち重力の作用する方向に対して直交する。このため、案内面ＧＰと検出領域ＤＲとの関係を前述したようにすると、テーブル３及びテーブル支持体７等の荷重の方向と案内面ＧＰとが直交するようになる。すると、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂは、レール５ＡＲ、５ＢＲと移動体５ＡＭ、５ＢＭとがより大きな面積で重なる部分で前述した荷重を受けることができるので好ましい。

図１６及び図１７は、検出領域を示す図である。図１６は、検出器４の入射面４ＤＰが長方形（正方形を含む）である場合の検出領域ＤＲを示している。図１７は、検出器４ａの入射面４ＤＰａが円形である場合の検出領域ＤＲａを示している。検出器４の入射面４ＤＰが長方形である場合、検出領域ＤＲは、図１等に示すＸ線源２の発光領域（フォーカルポイント）ＸＳ及び検出器４がＸ線を受光する入射面４ＤＰの外縁４Ｅを結ぶことにより形成される面Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４と、入射面４ＤＰとで囲まれる領域である。この場合、検出領域ＤＲは、入射面４ＤＰを底面とし、発光領域ＸＳを頂点とする四角錐となる。

図１７に示すように、検出器４ａの入射面４ＤＰａが円形である場合、検出領域ＤＲａは、図１等に示すＸ線源２の発光領域ＸＳ及び検出器４ａがＸ線を受光する入射面４ＤＰａの外縁４Ｅａを結ぶことにより形成される面Ｐａと、入射面４ＤＰａとで囲まれる領域である。この場合、検出領域ＤＲａは、入射面４ＤＰａを底面とし、発光領域ＸＳを頂点とする円錐となる。入射面４ＤＰが長方形以外の多角形、例えば三角形又は六角形等の多角形であってもよいし、入射面４ＤＰａが円形以外の楕円形等であってもよい。

図１８は、検出領域と案内面との関係を示す図である。本実施形態において、図６に示すように、第１案内装置５Ａと第２案内装置５Ｂとは光軸Ｚｒを挟んで配置され、略Ｕ字形状のテーブル支持体７を支持体６に支持している。この場合、案内面ＧＰは、第１案内装置５Ａの第１案内面ＧＰ１の少なくとも一部と、第２案内装置５Ｂの第２案内面ＧＰ２の少なくとも一部とを通る平面である。図６に示す検出装置１においては、第１案内面ＧＰ１と第２案内面ＧＰ２とがテーブル回転軸Ｙｒ方向又はＹ軸方向において同一の位置となるようにしている。この場合、案内面ＧＰは、第１案内装置５Ａの第１案内面ＧＰ１及び第２案内装置５Ｂの第２案内面ＧＰ２と平行、かつこれらを含む平面となる。すなわち、案内面ＧＰは、第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２のすべてを通る平面である。第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２は、図１３及び図１４を用いて説明した通りである。

図６に示す検出装置１では、案内面ＧＰ（又は案内面ＧＰを含み、かつ案内面ＧＰと平行な平面）は、検出器４の透過Ｘ線の検出領域ＤＲ内を通り、さらに光軸Ｚｒを含みかつ光軸Ｚｒに平行である。案内面ＧＰは、検出領域ＤＲ内を通っていればよい。この条件を満たしていれば、図１８に示す案内面ＧＰａのように光軸Ｚｒを含まなくてもよいし、案内面ＧＰｂのように光軸Ｚｒと平行でなくてもよい。

図１９は、比較例での検出領域と案内面との関係を示す図である。図２０は、本実施形態での検出領域と案内面との関係を示す図である。図１９及び図２０中の符号ＤＰＨ、ＤＰＬは検出器４の入射面４ＤＰの検出中心である。この例において、検出中心ＤＰＨ、ＤＰＬは、光軸Ｚｒ上に存在する。案内面ＧＰから検出中心ＤＰＨまでの距離（最短距離）をＬＨ、案内面ＧＰから検出中心ＤＰＬまでの距離（最短距離）をＬＬとする。

比較例は、案内面ＧＰが検出領域ＤＲの外に配置されており、両者は交わらない。本実施形態において、案内面ＧＰは検出領域ＤＲ内を通っている。本実施形態では、さらに、案内面ＧＰは、光軸Ｚｒを含み、かつ光軸Ｚｒと平行になるように配置されている。図１８及び図１９は、案内面ＧＰを拡大して表示してある。案内面ＧＰは、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂが備えるレール５ＡＲ、５ＢＲの移動体５ＡＭ、５ＢＭ側の表面によって規定される。レール５ＡＲ、５ＢＲの表面は、加工誤差等によって設計通りの寸法及び形状になっていない可能性がある。このため、レール５ＡＲ、５ＢＲの表面によって規定される案内面ＧＰは、巨視的には平面であるが、微視的には平面ではない。したがって、案内面ＧＰは、図１９及び図２０に示すように、微視的にはＺ軸方向においてＹ軸方向の位置が異なっている。

案内面ＧＰは、移動体５ＡＭ、５ＢＭ、これらに取り付けられたテーブル支持体７及びテーブル支持体７が支持するテーブル３の移動を規定する平面である。案内面ＧＰのＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なると、案内面ＧＰに移動が規定されるテーブル３は、図６に示す支持面３ＰがＸ軸周りに傾く、すなわちＸＺ平面に対して傾斜することになる。その結果、テーブル３の支持面３Ｐに支持された被測定物Ｓも、Ｘ軸周りに傾くことになる。検出中心ＤＰＨ、ＤＰＬは、テーブル３の支持面３Ｐに支持された被測定物Ｓを通る。このため、被測定物ＳがＸ軸周りに傾くと、被測定物Ｓの位置が本来の位置からずれる結果、図６に示す検出装置１の検出精度が低下する。

アッベの原理から、テーブル３の支持面３Ｐの傾斜による被測定物Ｓの位置ずれは、案内面ＧＰと検出中心ＤＰＨ、ＤＰＬとの距離ＬＨ、ＬＬが大きくなるにしたがって大きくなる。案内面ＧＰから検出中心ＤＰＨ、ＤＰＬまでの距離ＬＨ、ＬＬは、本実施形態の方が比較例よりも小さい。このため、本実施形態は、案内面ＧＰのＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを、比較例よりも小さくすることができる。その結果、本実施形態は、検出装置１の検出精度の低下を抑制することができる。

本実施形態では、案内面ＧＰが検出領域ＤＲを通る。この場合、案内面ＧＰは、リニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂのエンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥが、リニアスケール２４ＡＳ、２４ＢＳを読み取る位置（以下、適宜エンコーダ読み取り位置という）を通ってもよい。このようにすると、エンコーダ読み取り位置が案内面ＧＰと離れることによる、エンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥがリニアスケール２４ＡＳ、２４ＢＳを読み取る際の誤差を低減できる。このため、検出装置１は、制御装置９が、エンコーダヘッド２４ＡＥ、２４ＢＥの計測結果に基づいてテーブル支持体７の移動を制御する際の精度の低下を抑制することができる。その結果、検出装置１は、検出精度の低下を抑制することができる。

図２１は、本実施形態における検出領域と案内面との関係を示す図である。図２１に示す例では、光軸Ｚｒ方向におけるＸ線源２の発光領域ＸＳと検出器４の入射面４ＤＰとの距離はＬｚである。本実施形態において、案内面ＧＰは、検出領域ＤＲ内を通っていればよい。図２０で示した例は、案内面ＧＰ、光軸Ｚｒを含み、かつ光軸Ｚｒと平行になるように配置されているが、案内面ＧＰが検出領域ＤＲ内を通っていれば、必ずしも案内面ＧＰをこのような配置とする必要はない。図２１に示す案内面ＧＰ１、ＧＰ２は、光軸Ｚｒと平行であるが、光軸Ｚｒを含まない。案内面ＧＰ１、ＧＰ２は、検出領域ＤＲ内を通っているため、このような配置も可能である。

検出器４は、検出領域ＤＲの外の物体を検出することはできない。このため、案内面ＧＰ１の場合は、Ｘ線源２の発光領域ＸＳからの距離がＬｚ１の範囲に存在する被測定物Ｓを検出する場合、検出中心は、案内面ＧＰ１から離れた位置になる。例えば、案内面ＧＰ１の場合は、発光領域ＸＳからの距離がＬｚ１の位置ＤＰ１に存在する被測定物Ｓを検出器４が検出するにあたって、被測定物Ｓが検出領域ＤＲ内に存在している。このため、案内面ＧＰ１から測定中心までの距離を０にすることができるので、案内面ＧＰ１のＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを抑制することができる。

発光領域ＸＳからの距離がＬｚ２の位置ＤＰ２に存在する被測定物Ｓを検出器４が検出するにあたり、案内面ＧＰ１の場合は、被測定物Ｓが検出領域ＤＲ内に存在することが必要になる。このため、案内面ＧＰ１から測定中心までは、少なくともΔＹ１の距離が必要になるので、案内面ＧＰ１のＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれが大きくなる可能性がある。すなわち、案内面ＧＰ１の場合、検出器４の入射面４ＤＰからの距離がＬｚ−Ｌｚ１までの領域において、被測定物Ｓの位置ずれを効果的に抑制することができる。

案内面ＧＰ２は、光軸Ｚｒまでの距離が案内面ＧＰ１よりも近くなっている。案内面ＧＰ２の場合は、発光領域ＸＳからの距離がＬｚ２（＜Ｌｚ１）の位置ＤＰ２に存在する被測定物Ｓを検出器４が検出するにあたって、被測定物Ｓが検出領域ＤＲ内に存在している。このため、案内面ＧＰ２から測定中心までの距離を０にすることができるので、案内面ＧＰ２のＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを、案内面ＧＰ１の場合よりも小さくすることができる。

案内面ＧＰ２の場合は、発光領域ＸＳからの距離がＬｚ２よりもＸＳに近いＬｚ３の位置ＤＰ３に存在する被測定物Ｓを検出器４が検出するにあたって、被測定物Ｓが検出領域ＤＲ外に存在している。このため、案内面ＧＰ２から測定中心までは、少なくともΔＹ２の距離が必要になる。その結果、案内面ＧＰ２のＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを十分に抑制できない可能性がある。すなわち、案内面ＧＰ２の場合、検出器４の入射面４ＤＰからの距離がＬｚ−Ｌｚ２までの領域において、被測定物Ｓの位置ずれを効果的に抑制することができる。

案内面ＧＰを、光軸Ｚｒを含み、かつ光軸Ｚｒと平行にすることにより、発光領域ＸＳからの距離がＬｚ３の位置ＤＰ３に存在する被測定物Ｓを検出器４が検出するにあたって、案内面ＧＰから測定中心までの距離を０にすることができる。その結果、案内面ＧＰのＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを、案内面ＧＰ２の場合よりも小さくすることができる。すなわち、案内面ＧＰを、光軸Ｚｒを含み、かつ光軸Ｚｒと平行とした場合、検出器４の入射面４ＤＰからの距離がＬｚまでの領域、すなわち、理論上はすべての検出領域ＤＲ内において、被測定物Ｓの位置ずれを効果的に抑制することができる。

このように、案内面ＧＰを光軸Ｚｒに近づけることにより、検出器４の入射面４ＤＰからの距離が離れた領域まで、被測定物Ｓの位置ずれを効果的に抑制することができる。検出器４の入射面４ＤＰからの距離が大きくなるほど、検出器４が検出した透過Ｘ線に基づく被測定物Ｓの像は拡大される。すなわち、検出装置１は、被測定物Ｓの像を高い倍率で検出（測定）することができる。このため、案内面ＧＰを光軸Ｚｒに近づけた方が、検出装置１は被測定物Ｓの像を低い倍率から高い倍率まで検出（測定）できることになるので、好ましい。すなわち、案内面ＧＰは、光軸Ｚｒと略同一の位置又は実質的に同一の位置にあることが好ましく、光軸Ｚｒと同一の位置にあることがより好ましい。なお、検出領域ＤＲが１０％程度広い面積となった場合において、案内面ＧＰが配置されても構わない。検出領域ＤＲの、光軸Ｚｒを中心として例えばＹ軸に対して５％、１０％、１５％程度の面積内を光軸Ｚｒ近傍の領域としても構わない。また、光軸Ｚｒを中心として、例えばＹ軸に対してＸ線源２の近傍を５％の程度の面積とし、入射面４ＤＰの近傍を１５％程度の面積としても構わない。すなわちＺ軸方向に沿って近傍とする範囲の面積を変えても構わない。

図２２は、本実施形態における検出領域と案内面との関係の変形例を示す図である。図２２には、検出領域ＤＲを通る複数の案内面ＧＰ、ＧＰｃ、ＧＰｄ、ＧＰｅが示されている。案内面ＧＰは、光軸Ｚｒを含み、かつ光軸Ｚｒと平行としたものである。案内面ＧＰｃは、光軸Ｚｒ及びＸ軸と平行であるが光軸Ｚｒは含まないものである。案内面ＧＰｄ、ＧＰｅは、光軸Ｚｒと平行であるが光軸Ｚｒは含まず、さらにＸ軸と交差するものである。案内面ＧＰｄ、ＧＰｅは、検出器４の入射面４ＤＰを斜めに横切っている。このように、案内面ＧＰ、ＧＰｃ、ＧＰｄ、ＧＰｅは、検出領域ＤＲを通っていれば、案内面ＧＰ、ＧＰｃ、ＧＰｄ、ＧＰｅのＹ軸方向の位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを効果的に抑制することができる。

図２３は、テーブル支持体の変形例を示す図である。このテーブル支持体７ａは、第１部材７Ａａ及び第２部材７Ｂａの両端部を、それぞれ第３部材７Ｃａと第４部材７Ｄとで連結した構造である。テーブル支持体７ａは、第１部材７Ａａと、第２部材７Ｂａと、第３部材７Ｃａと、第４部材７Ｄとで囲まれた部分に、テーブル３及び検出器４の検出領域ＤＲが配置される。第１部材７Ａａは、両端部の間に、外側に向かって延在する第１フランジ部７ＡＦａを有している。第２部材７Ｂａは、両端部の間に、外側に向かって延在する第２フランジ部７ＢＦａを有している。第１フランジ部７ＡＦａには第１案内装置５Ａが取り付けられ、第２フランジ部７ＢＦａには第２案内装置５Ｂが取り付けられる。テーブル支持体７ａは、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂを介して、支持体６に取り付けられる。実施形態のテーブル支持体７と同様に、この変形例のテーブル支持体７ａも、テーブル３、テーブル本体３Ｂ、第１可動部材１１、基台１２及び第２可動部材１４が、２個の案内機構１５、１５によって、第１部材７Ａａ及び第２部材７Ｂａに取り付けられている。

このテーブル支持体７ａは、第１部材７Ａａと第２部材７Ｂａとを、それぞれ第３部材７Ｃａと第４部材７Ｄとで連結した、略Ｏ字形状の構造体である。実施形態のテーブル支持体７は、第１部材７Ａと第２部材７Ｂとを第３部材７Ｃが連結した、略Ｕ字形状の構造体である。このような構造の違いにより、このテーブル支持体７ａは、実施形態のテーブル支持体７と比較して、より剛性が高くなるという利点がある。その結果、テーブル支持体７ａはテーブル３及び被測定物Ｓ等の荷重による変形をより効果的に抑制できるので、テーブル３の位置決め精度が向上する。このテーブル支持体７ａを備える検出装置１ｃは、検出精度がより向上する。

図２４は、テーブル支持体の変形例を示す図である。このテーブル支持体７ｂは、第１部材７Ａｂと第２部材７Ｂｂとが実質的に直交するように、第１部材７Ａｂの一端部と第２部材７Ｂｂの一端部とを連結した、略Ｌ字形状の構造体である。第１部材７Ａｂの他端部には、第１フランジ部７ＡＦｂが設けられている。第２部材７Ｂｂの他端部には、第２フランジ部７ＢＦｂが設けられている。第１フランジ部７ＡＦｂには第１案内装置５Ａが取り付けられ、第２フランジ部７ＢＦｂには第２案内装置５Ｂが取り付けられる。テーブル支持体７ｂは、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂを介して、支持体６ｂに取り付けられる。テーブル３及び検出器４の検出領域ＤＲは、第１部材７Ａｂと第２部材７Ｂｂとの間に配置される。

このテーブル支持体７ｂは、２個の案内装置５Ａ、５Ｂによって支持体６ｂに取り付けられている。第１フランジ部７ＡＦｂに取り付けられる第１案内装置５Ａの第１案内面ＧＰ１と、第２フランジ部７ＢＦｂに取り付けられる第２案内装置５Ｂの第２案内面ＧＰ２とは、互いに直交している。このように配置された２個の案内装置５Ａ、５Ｂにおいて、案内面ＧＰは、第１案内面ＧＰ１及び第２案内面ＧＰ２を通り、これらと交差した平面である。すなわち、本変形例における案内面ＧＰは、第１案内面ＧＰ１の一部と、第２案内面ＧＰ２の一部とを通る平面である。

案内面ＧＰは、図２４に示すように、検出器４の検出領域ＤＲを通る。このため、テーブル支持体７ｂを備える検出装置１ｂは、案内面ＧＰと直交する方向における案内面ＧＰの位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを小さくすることができる。その結果、検出装置１ｂは、検出精度の低下を抑制することができる。

図２５は、テーブル支持体の変形例を示す図である。前述したテーブル支持体７、７ａ、７ｂは、いずれも第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂの計２個を用いて光軸Ｚｒ方向の移動が案内されていた。本変形例のテーブル支持体７ｃは、１個の案内装置５によって光軸Ｚｒ方向の移動が案内される。テーブル支持体７ｃは、第１部材７Ａｃと、第２部材７Ｂｃと、第３部材７Ｃｃと、第４部材７Ｄｃとを、それぞれの両端部で連結した、略Ｏ字形状の構造体である。テーブル支持体７ｃは、第１部材７Ａｃと、第２部材７Ｂｃと、第３部材７Ｃｃと、第４部材７Ｄｃとで囲まれた部分に、テーブル３及び検出器４の検出領域ＤＲが配置される。第４部材７Ｄｃは、両端部の間に、外側に向かって延在するフランジ部７Ｆを有している。フランジ部７Ｆには案内装置５が取り付けられている。実施形態のテーブル支持体７と同様に、この変形例のテーブル支持体７ｃも、テーブル３、テーブル本体３Ｂ、第１可動部材１１、基台１２及び第２可動部材１４が、２個の案内機構１５、１５によって、第１部材７Ａｃ及び第２部材７Ｂｃに取り付けられている。

案内装置５のレール５Ｒは、支持体６ｃに取り付けられる。案内装置５の移動体５Ｍは、テーブル支持体７ｃのフランジ部７Ｆに取り付けられる。案内装置５の案内面ＧＰは、光軸Ｚｒと平行、かつテーブル３の移動を規定する平面であり、この例においてはＸ軸と直交している。案内面ＧＰを含み、案内面ＧＰと平行な平面ＧＰＮ、すなわち案内面ＧＰは、図２５に示すように、検出器４の検出領域ＤＲを通る。このため、テーブル支持体７ｃを備える検出装置１ｃは、案内面ＧＰと直交する方向における案内面ＧＰの位置がＺ軸方向において異なることに起因する被測定物Ｓの位置ずれを小さくすることができる。その結果、検出装置１ｃは、検出精度の低下を抑制することができる。また、テーブル支持体７ｃは、第１部材７Ａｃと、第２部材７Ｂｃと、第３部材７Ｃｃと、第４部材７Ｄｃとをそれぞれの両端部で連結した構造なので、剛性を高くすることができる。その結果、テーブル支持体７ｃはテーブル３及び被測定物Ｓ等の荷重による変形をより効果的に抑制できるので、このテーブル支持体７ｃを備える検出装置１ｃは、テーブル３の位置決め精度及び検出精度がより向上する。

図２６は、第１案内装置及び第２案内装置の配置の変形例を示す図である。前述した実施形態では、図７に示すように、第１案内装置５Ａのレール５ＡＲと第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲとは、いずれも光軸Ｚｒと平行に配置されていた。すなわち、両者は平行に配置されていた。本実施形態において、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂは、光軸Ｚｒの両側かつ検出器４の検出領域ＤＲの外側に配置されていればよいので、両者が平行である必要はない。この例では、第１案内装置５Ａのレール５ＡＲは検出領域ＤＲを規定する面Ｐ２と平行に、第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲは検出領域ＤＲを規定する面Ｐ４と平行に配置される。検出領域ＤＲは、Ｘ線源２の発光領域ＸＳを頂点とし、検出器４の入射面４ＤＰを底面とした四角錐の領域である。このため、第１案内装置５Ａのレール５ＡＲと第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲとは、Ｘ線源２の発光領域ＸＳから検出器４に向かって両者の間隔が大きくなっている。

テーブル支持体７ｄは、第１部材７Ａｄが第１案内装置５Ａに取り付けられ、第２部材７Ｂｄが第２案内装置５Ｂに取り付けられる。第１部材７Ａｄと第２部材７Ｂｄとは、一方の端部が第３部材７Ｃｄで連結される。第１部材７Ａｄと第１案内装置５Ａとの間及び第２部材７Ｂｄと第２案内装置５Ｂとの間には、それぞれ伸縮可能な連結機構７ＡＥ、７ＢＥが取り付けられている。連結機構７ＡＥ、７ＢＥは、第１部材７Ａｄと第１案内装置５Ａとの距離及び第２部材７Ｂｄと第２案内装置５Ｂとの距離が大きくなると伸び、前述した距離が小さくなると縮む機構である。連結機構７ＡＥ、７ＢＥは、テーブル支持体７ｄが光軸Ｚｒ方向へ移動することにともなう前述した距離の変化を吸収する。このような構造により、Ｘ線源２の発光領域ＸＳから検出器４に向かって第１案内装置５Ａのレール５ＡＲと第２案内装置５Ｂのレール５ＢＲとの間隔が大きくなるようにレール５ＡＲ、５ＢＲを配置した場合でも、テーブル支持体７ｄは光軸Ｚｒ方向へ移動することができる。

図２７は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。この検出装置１ｅは、実施形態の検出装置１が備える支持体６の第２側壁６ＳＢに複数の脚６Ｆを取り付けて、検出装置１を横置きにしたものである。脚６Ｆは、図１に示すチャンバ部材８の底部８Ｂと接する。第２側壁６ＳＢは、チャンバ部材８の底部８Ｂと対向して配置される。このように、検出装置１ｅは、第２側壁６ＳＢが設置側、すなわち設置対象であるチャンバ部材８の底部８Ｂ側となる。第２側壁６ＳＢは下方に、第２側壁６ＳＢと対向する第１側壁６ＳＡは上方に配置される。なお、第１側壁６ＳＡに複数の脚６Ｆを取り付けて、第１側壁６ＳＡが下方に配置されてもよい。

支持体６の開口部６ＨＵは、横、すなわちＸ軸側に配置される。テーブル３及びテーブル本体３Ｂは、第１可動部材１１ｅと、基台１２と、第２可動部材１４と、テーブル支持体７と、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂとを介して支持体６に取り付けられて支持される。テーブル支持体７の第１部材７Ａ及び第２部材７Ｂは、支持体６の開口部６ＨＵから底部６Ｂに向かって伸びている。テーブル３及びテーブル本体３Ｂを支持する第１可動部材１１ｅは、Ｙ軸方向に移動する。第２可動部材１４は、Ｘ軸方向に移動する。テーブル支持体７は光軸Ｚｒ方向に移動する。第１案内装置５Ａと第２案内装置５Ｂとで規定される案内面ＧＰは、検出器４の検出領域ＤＲを通っている。このように、実施形態の検出装置１は、変形例の検出装置１ｅのように横置きにしてもよい。

図２８及び図２９は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。この検出装置１ｆは、支持体６ｆと、被測定物Ｓを支持するテーブル３と、テーブル３を支持するテーブル支持体７ｆと、検出器４と、図２９に示すＸ線源２とを備えている。支持体６ｆは、底部６Ｂｆと、底部６Ｂｆから立ち上がり、互いに対向する一対の側壁６Ｓｆ、６Ｓｆとを有している。一方の側壁６Ｓｆは、複数の脚６Ｆが取り付けられる。複数の脚６Ｆは、図１に示すチャンバ部材８の底部８Ｂと接する。支持体６ｆは、テーブル支持体７ｆを介してテーブル３を支持している。底部６Ｂｆの側壁６Ｓｆ、６Ｓｆ側の面には、第１案内装置５Ａと第２案内装置５Ｂとが取り付けられている。第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂは、底部６Ｂｆとテーブル支持体７ｆとの間に介在して、テーブル支持体７ｆの光軸Ｚｒ方向の移動を案内する。

テーブル３及びテーブル本体３Ｂは、第１可動部材１１ｆに取り付けられる。第１可動部材１１ｆは、基台１２に取り付けられた案内部材としてのレール１３Ｒを介して基台１２に支持されている。レール１３Ｒは、第１可動部材１１ｆのＹ軸方向への移動を案内する。基台１２が取り付けられる第２可動部材１４は、案内部材としての一対のレール１５Ｒ、１５Ｒを介してテーブル支持体７ｆに支持されている。一対のレール１５Ｒ、１５Ｒは、第２可動部材１４のＸ軸方向への移動を案内する。このような構造により、テーブル３及びテーブル本体３Ｂは、第１可動部材１１ｆ、基台１２及び第２可動部材１４を介してテーブル支持体７に支持される。テーブル支持体７ｆは、光軸Ｚｒ方向へ移動するので、テーブル３も光軸Ｚｒ方向に移動する。

アクチュエータ１７は、自身の出力軸に取り付けられたねじ軸１６を介して第１可動部材１１ｆをＹ軸方向に移動させる。アクチュエータ１７は、自身の出力軸に取り付けられたねじ軸２０を介して第２可動部材１４をＸ軸方向に移動させる。

テーブル支持体７ｆは、第１部材７Ａｆと、第２部材７Ｂｆと、第１部材７Ａｆ及び第２部材７Ｂｆの一端部を連結する第３部材７Ｃｆとを有する。第１部材７Ａｆ、第２部材７Ｂｆ及び第３部材７Ｃｆは、いずれも板状の部材である。第１部材７Ａｆと第２部材７Ｂｆとは互いに板面が対向し、かつ実質的に平行に配置される。第３部材７Ｃｆは、第１部材７Ａｆ及び第２部材７Ｂｆと直交する。第２可動部材１４を案内する一対のレール１５Ｒ、１５Ｒは、それぞれ第１部材７Ａｆと第２部材７Ｂｆとに取り付けられている。第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂは、第３部材７Ｃｆに取り付けられている。

テーブル支持体７ｆの第１部材７Ａｆと第２部材７Ｂｆとは、光軸Ｚｒの両側、かつ検出器４の検出領域ＤＲの外側に配置される。第１部材７Ａｆと一方の側壁６Ｓｆとの間には、リニアエンコーダ２４Ａが設けられている。第２部材７Ｂｆと他方の側壁６Ｓｆとの間には、リニアエンコーダ２４Ｂが設けられている。第１部材７Ａｆにはリニアエンコーダ２４Ａのエンコーダヘッド２４ＡＥが取り付けられている。一方の側壁６Ｓｆのエンコーダヘッド２４ＡＥと対向する部分には、リニアスケール２４ＡＳが取り付けられている。第２部材７Ｂｆにはリニアエンコーダ２４Ｂのエンコーダヘッド２４ＢＥが取り付けられている。他方の側壁６Ｓｆのエンコーダヘッド２４ＢＥと対向する部分には、リニアスケール２４ＢＳが取り付けられている。

２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、光軸Ｚｒの両側、かつ検出領域ＤＲの外側に配置されている。すなわち、２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、検出領域ＤＲを挟んで、その外側かつ両側に配置されている。リニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂは、支持体６ｆに対するテーブル支持体７ｆの光軸Ｚｒ方向における移動量を計測する。図１に示す制御装置９は、例えば、リニアエンコーダ２４Ａ及びリニアエンコーダ２４Ｂの少なくとも一方が計測したテーブル支持体７の移動量に基づき、テーブル支持体７ｆの移動量を制御する。

検出領域ＤＲの外側かつ検出領域ＤＲを挟んで配置された２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂの両方を用いることにより、図２９に示すように、Ｘ軸周りにおけるテーブル支持体７ｆの傾き（ＸＺ平面に対するテーブル支持体７ｆの傾き）が求められる。図１に示す制御装置９は、２個のリニアエンコーダ２４Ａ、２４Ｂの計測値を用いることにより、Ｘ軸周りにおけるテーブル支持体７ｆの傾きに起因する被測定物Ｓの光軸Ｚｒ方向における位置のずれを正確に求めて、テーブル３の位置を制御することができる。その結果、制御装置９は、被測定物Ｓの光軸Ｚｒ方向における位置を精度よく制御することができる。その結果、検出装置１ｆは、検出精度の低下を抑制することができる。

図３０は、本実施形態に係るＸ線源の一例を示す断面図である。次に、Ｘ線源２についてより詳細に説明する。図３０において、Ｘ線源２は、電子を発生するフィラメント３９と、電子の衝突又は電子の透過によりＸ線を発生するターゲット４０と、電子をターゲット４０に導く導電子部材４１とを備えている。また、本実施形態において、Ｘ線源２は、導電子部材４１の少なくとも一部を収容するハウジング４２を備えている。本実施形態において、フィラメント３９、導電子部材４１及びターゲット４０のそれぞれが、ハウジング４２に収容されている。

フィラメント３９は、例えばタングステンを含む。フィラメント３９に電流が流れ、その電流によってフィラメント３９が加熱されると、フィラメント３９から電子（熱電子）が放出される。フィラメント３９の形状は、先端が尖っており、その尖った部分から電子が放出される。フィラメント３９の形状は、コイル状に巻かれている。ターゲット４０は、例えばタングステンを含み、電子の衝突又は電子の透過によりＸ線を発生する。本実施形態において、Ｘ線源２は、いわゆる、透過型である。本実施形態において、ターゲット４０は、電子の透過により、Ｘ線ＸＬを発生する。ターゲット４０がＸ線ＸＬを発生する部分が発光領域ＸＳである。本実施形態において、Ｘ線源２は透過型のＸ線源であるが、反射型のＸ線源でも構わない。また、ターゲット４０は固定されているが、ターゲットを移動可能としても構わない。例えば、図３０において、ターゲット４０がＹ軸方向に移動可能で配置され、適宜、ターゲット４０上での電子の照射位置が変更可能となっても構わない。また、例えば、ターゲット４０が回転し、電子の照射位置を回転にともない、変更可能とする回転ターゲット方式でも構わない。

例えば、ターゲット４０を陽極とし、フィラメント３９を陰極として、ターゲット４０とフィラメント３９との間に電圧が加えられると、フィラメント３９から飛び出した熱電子が、ターゲット（陽極）４０に向かって加速し、ターゲット４０に照射される。すると、ターゲット４０からＸ線が発生する。導電子部材４１は、フィラメント３９とターゲット４０との間において、フィラメント３９からの電子の通路の周囲の少なくとも一部に配置される。導電子部材４１は、例えば集束レンズ及び対物レンズ等の電子レンズ又は偏光器を含み、フィラメント３９からの電子をターゲット４０に導く。導電子部材４１は、ターゲット４０の一部の領域（Ｘ線焦点）に電子を衝突させる。ターゲット４０において電子が衝突する領域の寸法（スポットサイズ）は、十分に小さい。このようにすることで、実質的に点Ｘ線源が形成される。

本実施形態においては、ハウジング４２の外面に、供給口２６から温度調整された気体Ｇが供給される。本実施形態において、供給口２６は、ハウジング４２の外面の少なくとも一部と対向する。本実施形態において、供給口２６は、Ｘ線源２（ハウジング４２）よりも上方（＋Ｙ側）に配置される。供給口２６は、Ｘ線源２の上から、Ｘ線源２のハウジング４２の外面に気体Ｇを吹き付ける。Ｘ線源２において、ターゲット４０に電子が照射されると、その電子のエネルギーのうち、一部のエネルギーがＸ線ＸＬとなり、一部のエネルギーが熱となる。ターゲット４０に対する電子の照射により、ターゲット４０、ターゲット４０の周囲の空間及びターゲット４０の近傍に配置されている部材の温度が上昇する。

ターゲット４０の温度が上昇すると、例えばターゲット４０が熱変形したり、ハウジング４２が熱変形したり、フィラメント３９とターゲット４０との相対位置が変動したりする可能性がある。ターゲット４０を含むＸ線源２の温度が上昇すると、Ｘ線源２が配置されている内部空間ＳＰの温度が変動する可能性がある。ターゲット４０を含むＸ線源２の温度が上昇すると、例えばテーブル３、第１可動部材１１、基台１２及び第２可動部材１４等の少なくとも一部が変形したり、第１案内装置５Ａ及び第２案内装置５Ｂが熱変形したり、検出器４が熱変形したりする可能性がある。Ｘ線源２の温度が上昇すると、Ｘ線源２とテーブル３との相対位置が変動したり、Ｘ線源２と検出器４との相対位置が変動したり、テーブル３と検出器４との相対位置が変動したりする可能性がある。このように、Ｘ線源２の温度が変化すると、検出装置１の部材の少なくとも一部が熱変形したり、部材同士の相対位置が変動したりする可能性がある。その結果、検出装置１の検出精度（検査精度、測定精度）が低下する可能性がある。

本実施形態においては、熱を発生するＸ線源２の少なくとも一部に、温度調整された気体Ｇが供給されるので、Ｘ線源２を含む内部空間ＳＰの部材の少なくとも一部が熱変形したり、内部空間ＳＰの温度が変動したり、内部空間ＳＰの部材同士の相対位置が変動したりすることが抑制される。また、本実施形態において、内部空間ＳＰにおいては、Ｘ線源２、テーブル３及び検出器４等の複数の部材及び装置が配置されているが、それらの複数の部材の中でも熱を発生するＸ線源２の少なくとも一部に、温度調整された気体Ｇが供給される。したがって、内部空間ＳＰにおいて、温度調整された気体Ｇが到達する割合は、Ｘ線源２、テーブル３及び検出器４等の複数の部材の中で、Ｘ線源２が一番高い。また、本実施形態においては、内部空間ＳＰにおいて、Ｘ線源２、テーブル３及び検出器４等の複数の部材が配置されているが、Ｘ線源２の一部に温度調整された気体Ｇが供給される。本実施形態においては、内部空間ＳＰの中でも、内部空間ＳＰよりも小さい、局所的な空間であるＸ線源２の周囲の温度を調整することができる。また、内部空間ＳＰにおいて、Ｘ線源２、テーブル３及び検出器４等の複数の部材が配置されているが、その複数の部材のすべてに向けて温度調整された気体Ｇを供給するのではなく、Ｘ線源２のうち、温度調整された気体Ｇが到達する部分のみの温度を調整することができる。次に、本実施形態に係る検出装置の動作の一例について説明する。

図３１は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するためのフローチャートである。図３２は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するための図である。図３３は、実施形態に係る検出装置の動作の一例を説明するための図である。本実施形態においては、図３１のフローチャートに示すように、検出装置１のキャリブレーション（ステップＳＡ１）と、被測定物Ｓに対するＸ線ＸＬの照射及び被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線の検出（ステップＳＡ２）と、被測定物Ｓの内部構造の算出（ステップＳＡ３）とが実行される。

キャリブレーション（ステップＳＡ１）について説明する。図３２に示すように、キャリブレーションにおいて、テーブル３に被測定物Ｓとは異なる基準部材Ｒが支持される。また、キャリブレーションにおいて、供給口２６から温度調整された気体ＧがＸ線源２の少なくとも一部に供給される。温度調整された気体Ｇが供給口２６からＸ線源２に供給されることによって、その気体Ｇによって、Ｘ線源２を含む内部空間ＳＰの温度が調整される。次の説明において、供給口２６から供給された気体Ｇによって調整された、Ｘ線源２を含む内部空間ＳＰの温度を適宜、所定温度Ｔａと称する。

図３２に示すように、本実施形態において、基準部材Ｒは、球体である。基準部材Ｒの外形（寸法）は、既知である。基準部材Ｒは、熱変形が抑制された物体である。基準部材Ｒは、少なくとも被測定物Ｓよりも熱変形が抑制された物体である。内部空間ＳＰにおいて温度が変化しても、基準部材Ｒの外形（寸法）は、実質的に変化しない。なお、本実施形態では、基準部材Ｒの形状は球体に限られない。制御装置９は、ロータリーエンコーダ１０、リニアエンコーダ１９、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂでテーブル３の位置を計測しつつ、テーブル３の回転駆動装置３Ｄ、アクチュエータ１７、２１、２８を制御して、基準部材Ｒを支持したテーブル３の位置を調整する。制御装置９は、基準位置Ｐｒに基準部材Ｒが配置されるように、テーブル３の位置を調整する。

制御装置９は、供給口２６からの気体Ｇの供給の少なくとも一部と並行して、Ｘ線源２からＸ線を射出するために、フィラメント３９に電流を流す。すると、フィラメント３９が加熱され、フィラメント３９から電子が放出される。フィラメント３９から放出された電子は、ターゲット４０に照射される。これにより、ターゲット４０からＸ線が発生する。Ｘ線源２から発生したＸ線ＸＬは、基準部材Ｒに照射される。所定温度Ｔａにおいて、基準部材ＲにＸ線源２からのＸ線ＸＬが照射されると、その基準部材Ｒに照射されたＸ線ＸＬは、基準部材Ｒを透過する。基準部材Ｒを透過した透過Ｘ線は、検出器４の入射面４ＤＰに入射する。検出器４は、基準部材Ｒを透過した透過Ｘ線を検出する。所定温度Ｔａにおいて、検出器４は、基準部材Ｒを透過した透過Ｘ線に基づいて得られた基準部材Ｒの像を検出する。本実施形態において、所定温度Ｔａにおいて得られる基準部材Ｒの像の寸法（大きさ）は、寸法Ｗａである。検出器４の検出結果は、制御装置９に出力される。

制御装置９は、基準部材Ｒの像の寸法及び基準部材Ｒの寸法に基づいて、Ｘ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置を算出する。また、本実施形態においては、球体は一つであるが、球体を複数用いてもよい。球体を複数用いる場合、例えば、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の一方又は両方において互いの球体の位置を異ならせてもよい。また、球体を複数用いる場合、基準部材Ｒの像ではなく、基準部材Ｒ同士の距離に基づいて、Ｘ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置を算出してもよい。また、基準部材Ｒ同士の距離の算出は、基準部材Ｒの中心位置同士の距離でも、基準部材Ｒの外形の所定の位置同士の距離でもよい。

本実施形態において、内部空間ＳＰの温度Ｔが変化すると、透過Ｘ線に基づいて得られる像の寸法（大きさ）が変化する。透過Ｘ線に基づいて得られる像の寸法とは、検出器４が取得する像の寸法であり、例えば、入射面４ＤＰに形成される像の寸法を含む。例えば、温度Ｔが変化すると、Ｘ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置（Ｚ軸方向に関する相対位置）が変動する。例えば、内部空間ＳＰが基準温度（理想温度、目標温度）Ｔｒである場合、基準位置Ｐｒに配置されている基準部材Ｒに照射されたＸ線ＸＬに基づいて検出器４が取得する像の寸法は、基準寸法Ｗｒとなる。

内部空間ＳＰが基準温度Ｔｒとは異なる温度ＴＸである場合、例えばＸ線源２、テーブル３、検出器４及びチャンバ部材８の少なくとも一部が熱変形し、Ｘ線源２と、テーブル３に支持されている基準部材Ｒと、検出器４との相対位置が変動する可能性がある。その結果、例えば、基準部材Ｒが基準位置Ｐｒに配置されるように、ロータリーエンコーダ１０、リニアエンコーダ１９、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂの計測結果に基づいてテーブル３の位置が調整されても、実際には、基準部材Ｒは、基準位置Ｐｒに配置されない可能性がある。換言すれば、内部空間ＳＰが温度ＴＸである場合、基準部材Ｒは、基準位置Ｐｒとは異なる位置ＰＸに配置される可能性がある。なお、位置ＰＸは、Ｘ線源２及び検出器４の少なくとも一方に対する基準部材Ｒの相対位置を含む。

また、内部空間ＳＰが温度ＴＸであり、Ｘ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置が変動すると、検出器４が取得する像の寸法ＷＸは、基準寸法Ｗｒとは異なる。本実施形態において、制御装置９は、記憶装置を含む。記憶装置には、内部空間ＳＰの温度Ｔと、その温度Ｔにおいて基準部材Ｒに照射されたＸ線ＸＬのうち基準部材Ｒを通過した透過Ｘ線に基づいて得られる基準部材Ｒの像（画像）の寸法（大きさ）との関係が記憶されている。前述したように、内部空間ＳＰの温度Ｔの変化にともなって、Ｘ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置が変化する。また、その相対位置の変化にともなって、検出器４が取得する像の寸法が変化する。記憶装置には、相対位置と像の寸法との関係も記憶されている。なお、記憶装置に記憶されている情報は、予備実験及びシミュレーションの少なくとも一方により求められる。

このようにすることで、制御装置９は、記憶装置に記憶されている情報と、検出器４によって取得された基準部材Ｒの像の寸法とに基づいて、温度ＴにおけるＸ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置を算出することができる。例えば、内部空間ＳＰが所定温度Ｔａである場合、制御装置９は、記憶装置に記憶されている情報と、検出器４によって取得された基準部材Ｒの像の寸法Ｗａとに基づいて、その所定温度ＴａにおけるＸ線源２と基準部材Ｒと検出器４との相対位置を算出することができる。

キャリブレーションが終了した後、被測定物Ｓの検出が行われる（ステップＳＡ２）。図３３に示すように、検出において、テーブル３に被測定物Ｓが支持される。制御装置９は、テーブル３を制御して、被測定物ＳをＸ線源２と検出器４との間に配置する。また、検出において、供給口２６から温度調整された気体ＧがＸ線源２の少なくとも一部に供給される。温度調整された気体Ｇが供給口２６からＸ線源２に供給されることによって、その気体Ｇによって、Ｘ線源２を含む内部空間ＳＰの温度が調整される。

制御装置９は、内部空間ＳＰが所定温度Ｔａになるように、供給口２６から温度調整された気体Ｇを、Ｘ線源２を含む内部空間ＳＰに供給する。制御装置９は、ロータリーエンコーダ１０、リニアエンコーダ１９、２３Ａ、２３Ｂ、２４Ａ、２４Ｂでテーブル３の位置を計測しつつ、テーブル３の回転駆動装置３Ｄ、アクチュエータ１７、２１、２８を制御して、被測定物Ｓを支持したテーブル３の位置を調整する。制御装置９は、供給口２６からの気体Ｇの供給の少なくとも一部と並行して、Ｘ線源２からＸ線を射出するために、フィラメント３９に電流を流す。すると、フィラメント３９が加熱され、フィラメント３９から電子が放出される。フィラメント３９から放出された電子は、ターゲット４０に照射される。すると、ターゲット４０からＸ線が発生する。

Ｘ線源２から発生したＸ線ＸＬの少なくとも一部は、被測定物Ｓに照射される。所定温度Ｔａにおいて、被測定物ＳにＸ線源２からのＸ線ＸＬが照射されると、その被測定物Ｓに照射されたＸ線ＸＬの少なくとも一部は、被測定物Ｓを透過する。被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線は、検出器４の入射面４ＤＰに入射する。検出器４は、被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を検出する。所定温度Ｔａにおいて、検出器４は、被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線に基づいて得られた被測定物Ｓの像を検出する。本実施形態において、所定温度Ｔａにおいて得られる被測定物Ｓの像の寸法（大きさ）は、寸法Ｗｓである。検出器４の検出結果は、制御装置９に出力される。

本実施形態において、制御装置９は、所定温度Ｔａにおいて被測定物Ｓに照射されたＸ線ＸＬのうち、被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線の検出結果を、キャリブレーションの結果を用いて補正する。例えば、制御装置９は、所定温度Ｔａにおいて得られた被測定物Ｓの像が、基準温度Ｔｒにおいて得られる像となるように、その所定温度Ｔａにおいて得られた被測定物Ｓの像を補正する。例えば、制御装置９は、所定温度Ｔａにおいて得られた被測定物Ｓの像の寸法Ｗｓである場合、その寸法Ｗｓに、補正値であるＷｒ／Ｗａを乗ずる。すなわち、制御装置９は、演算として、Ｗｓ×（Ｗｒ／Ｗａ）を実行する。このような処理によって、制御装置９は、内部空間ＳＰの実際の温度が所定温度Ｔａの場合でも、基準温度Ｔｒにおける被測定物Ｓの像（像の寸法）を算出することができる。

本実施形態において、制御装置９は、被測定物ＳにおけるＸ線源２からのＸ線ＸＬの照射領域を変更するために、被測定物Ｓの位置を変更しながら、その被測定物ＳにＸ線源２からのＸ線ＸＬを照射する。すなわち、制御装置９は、複数の被測定物Ｓの位置毎で、被測定物ＳにＸ線源２からのＸ線ＸＬを照射し、その被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を、検出器４で検出する。本実施形態において、制御装置９は、被測定物Ｓを支持したテーブル３を回転させて、Ｘ線源２に対する被測定物Ｓの位置を変更することによって、被測定物ＳにおけるＸ線源２からのＸ線ＸＬの照射領域を変更する。

すなわち、本実施形態において、制御装置９は、被測定物Ｓを支持したテーブル３を回転させながら、その被測定物ＳにＸ線ＸＬを照射する。テーブル３の各位置（各回転角度）において被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線（Ｘ線透過データ）は、検出器４に検出される。検出器４は、各位置における被測定物Ｓの像を取得する。制御装置９は、検出器４の検出結果から、測定物の内部構造を算出する（ステップＳＡ３）。本実施形態において、制御装置９は、被測定物Ｓの各位置（各回転角度）のそれぞれにおいて被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線（Ｘ線透過データ）に基づく被測定物Ｓの像を取得する。すなわち、制御装置９は、被測定物Ｓの像を複数取得する。

制御装置９は、被測定物Ｓを回転させつつその被測定物ＳにＸ線ＸＬを照射することにより得られた複数のＸ線透過データ（像）に基づいて演算をして、被測定物Ｓの断層画像を再構成して、被測定物Ｓの内部構造の三次元データ（三次元構造）を取得する。本実施形態において、制御装置９は、画像を再構成する画像再構成部９−１を有している。画像再構成部９−１は、検出器４から取得する画像を保存する画像メモリ部９−２を用いて、画像を再構成する。画像再構成により得られた画像は、再び画像メモリ部９−２に出力される。出力された画像メモリ部９−２が保有する再構成画像は、不図示のディスプレイに表示される。このようにして、被測定物Ｓの内部構造が算出される。このように、本実施形態において、制御装置９は、検出器４が被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線を検出した結果から、被測定物Ｓの形状を算出する演算装置として機能する。測定物の断層画像の再構成方法としては、例えば、逆投影法、フィルタ補正逆投影法又は逐次近似法が挙げられる。逆投影法及びフィルタ補正逆投影法に関しては、例えば、米国特許出願公開第２００２／０１５４７２８号明細書に記載されている。また、逐次近似法に関しては、例えば、米国特許出願公開第２０１０／０２２０９０８号明細書に記載されている。

以上説明したように、本実施形態は、被測定物Ｓを支持するテーブル３の移動を規定する案内面ＧＰが検出領域ＤＲ内を通るようにしてある。このため、検出装置１は、光軸Ｚｒ方向における案内面ＧＰの位置の変化に起因するテーブル３の位置ずれを抑制できるので、検出精度の低下を抑制することができる。また、本実施形態は、Ｘ線源２、テーブル３及び検出器４を同一の支持体６によって支持している。このため、検出装置１は、Ｘ線源２とテーブル３と検出器４との姿勢変化に起因する誤差を抑制できるので、検出精度の低下を抑制することができる。さらに、本実施形態は、テーブル支持体７が両持ち構造によって支持体６に支持されているので、テーブル支持体７の撓みを抑制できる。このため、検出装置１は、テーブル支持体７に支持されるテーブル３の位置ずれを抑制できるので、検出精度の低下を抑制することができる。このように、本実施形態は、検出装置１の機械的な誤差要因を小さくすることにより、検出装置１の検出精度の低下を抑制している。このため、検出装置１は、正確なキャリブレーションを実現できる。また、検出装置１は、正確なキャリブレーションを実現できること及び被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線の検出精度の低下を抑制できることから、被測定物Ｓの内部構造の正確な三次元データ（三次元構造）を得ることができる。このため、検出装置１は、精密測定に適している。

また、本実施形態は、Ｘ線源２に対して供給口２６から温度調整された気体Ｇを供給するようにしたので、Ｘ線源２の温度を調整することができる。したがって、Ｘ線源２の少なくとも一部が熱変形することを抑制することができる。また、供給口２６から温度調整された気体Ｇが供給されることによって、内部空間ＳＰの温度を調整することができ、内部空間ＳＰの温度が変動することを抑制することができる。

また、供給口２６から温度調整された気体Ｇが供給されることによって、テーブル３、第１可動部材１１、基台１２、第２可動部材１４及び検出器４等、内部空間ＳＰに配置されている部材及び装置の少なくとも一部の温度が調整されるため、その部材及び装置の熱変形を抑制することができる。また、供給口２６から温度調整された気体Ｇが供給されることによって、例えばＸ線源２と被測定物Ｓ（テーブル３）と検出器４との相対位置が変動することを抑制することができる。したがって、検出装置１は、検出精度の低下が抑制される。例えば、検出装置１は、被測定物Ｓの内部構造に関する情報を正確に取得することができる。

本実施形態においては、被測定物Ｓに対するＸ線ＸＬの照射領域を変更して、被測定物Ｓの像を複数取得し、その複数の像（画像）に基づいて、被測定物Ｓの内部構造の三次元データを取得することとしたが、１つの像（画像）に基づいて、被測定物Ｓの内部構造に関する情報を取得することとしてもよい。すなわち、被測定物Ｓに対して、異なる角度からＸ線ＸＬを照射することなく、被測定物Ｓの内部構造の二次元データを取得してもよい。次に、検出装置１を用いて被測定物Ｓの形状等を計測する手順の一例を説明する。

図３４は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示すフローチャートである。図３５から図３７は、実施形態に係る検出装置を用いて被測定物の形状等を計測する手順の一例を示す図である。前述したキャリブレーションの終了後、検出装置１を用いて被測定物Ｓの形状等を計測するにあたり、図３５に示すように、制御装置９は、テーブル３をホームポジションに移動させる（ステップＳ１１）。ホームポジションは、Ｘ線源２と検出器４との間、かつ支持体６の開口部６ＨＵの近傍である。本実施形態では、テーブル３に被測定物Ｓを搭載する際には、支持体６の開口部６ＨＵ近傍にテーブル３が移動するので、検出装置１のオペレータは、テーブル３に被測定物Ｓを搭載しやすくなるという利点がある。

テーブル３に被測定物Ｓが搭載されると、テーブル３は、支持機構３Ｓが被測定物Ｓを支持する。次に、制御装置９は、テーブル３をＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の少なくとも一方向に移動させて、被測定物Ｓを計測位置まで移動させる（ステップＳ１２）。図３５に示す例では、制御装置９は、Ｘ線源２側にテーブル３を移動させている（図３５の矢印Ｍ１で示す方向）。次に、制御装置９は、計測位置に移動させた被測定物ＳにＸ線源２からＸ線を照射し、検出器４で被測定物Ｓを透過した透過Ｘ線を検出する。このとき、前述したように、制御装置９は、被測定物Ｓを支持したテーブル３を回転させながら、その被測定物ＳにＸ線を照射する（図３６参照）。制御装置９は、被測定物Ｓの各位置（各回転角度）のそれぞれにおいて被測定物Ｓを通過した透過Ｘ線（Ｘ線透過データ）に基づく被測定物Ｓの像を取得する。そして、制御装置９は、取得したＸ線透過データ（像）に基づいて演算をして、被測定物Ｓの断層画像を再構成して、被測定物Ｓの内部構造の三次元データ（三次元構造）を取得する（ステップＳ１３）。

被測定物Ｓの内部構造の三次元データが取得されたら、制御装置９は、テーブル３をホームポジションに移動させる（ステップＳ１４）。本実施形態では、制御装置９は、図３７の矢印Ｍ２で示す方向にテーブル３を移動させる。テーブル３は、ホームポジションに移動すると、支持機構３Ｓによる被測定物Ｓの支持を解除する。すると、オペレータは、被測定物Ｓをテーブル３から取り外すことができる。前述したように、ホームポジションは、支持体６の開口部６ＨＵの近傍であるので、オペレータは、テーブル３から被測定物Ｓを取り外しやすくなるという利点がある。

このように、検出装置１は、開口部６ＨＵ、すなわち、図２に示す支持体６の第１側壁６ＳＡ及び第２側壁６ＳＢの底部６Ｂとは反対側、かつ第１側壁６ＳＡと第２側壁６ＳＢとの間から、テーブル３に被測定物Ｓが載置され、テーブル３から被測定物Ｓが取り出される。支持体６の開口部６ＨＵは、第１側壁６ＳＡの端部と、第２側壁６ＳＢの端部と、第３側壁６ＳＣの端部と、第４側壁６ＳＤの端部とで囲まれる部分なので、面積が大きい。このため、開口部６ＨＵを通すことにより、テーブル３に被測定物Ｓを載置しやすくなり、また、テーブル３から被測定物Ｓを取り出しやすくなる。

図３８は、実施形態に係る検出装置を備えた構造物製造システムの一例を示す図である。図３９は、構造物製造システムによる処理の流れを示したフローチャートである。まず、設計装置１１０が、構造物の形状に関する設計情報を作成する（ステップＳ１０１）。次に、成形装置１２０は、設計情報に基づいて前述した構造物を作製する（ステップＳ１０２）。次に、検出装置１は構造物の形状に関する座標を測定する（ステップＳ１０３）。次に制御装置１３０の検査部１３２は、検出装置１から作成された構造物の形状情報と、前述した設計情報とを比較することにより、構造物が設計情報通りに作製された否かを検査する（ステップＳ１０４）。

次に、制御装置１３０の検査部１３２は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する（ステップＳ１０５）。作成された構造物が良品である場合（ステップＳ１０５、ＹＥＳ）、構造物製造システム２００はその処理を終了する。作成された構造物が良品でない場合（ステップＳ１０５、ＮＯ）、制御装置１３０の検査部１３２は、作成された構造物が修復できるか否か判定する（ステップＳ１０６）。作製された構造物が修復できる場合（ステップＳ１０６、ＹＥＳ）、リペア装置１４０は、構造物の再加工を実行し（ステップＳ１０７）、ステップＳ１０３の処理に戻る。作製された構造物が修復できない場合（ステップＳ１０６、ＮＯ）、構造物製造システム２００はその処理を終了する。以上で、本フローチャートの処理を終了する。

実施形態における検出装置１が構造物の座標を正確に測定することができるので、構造物製造システム２００は、作成された構造物が良品であるか否か判定することができる。また、構造物製造システム２００は、構造物が良品でない場合、構造物の再加工を実施し、修復することができる。

前述の各実施形態においては、検出装置１がＸ線源を有することとしたが、Ｘ線源が検出装置１に対する外部装置でもよい。換言すれば、Ｘ線源が検出装置の少なくとも一部を構成しなくてもよい。前述の実施形態において、被測定物Ｓは産業用部品に限られず、例えば人体でもよい。また、前述の実施形態において、検出装置１が医療用に用いられてもよい。前述の実施形態においては、Ｘ線源と検出装置を所定の位置に固定し、テーブルを回転させ、被測定物Ｓの像を取得しているが、走査方法はこれに限られない。Ｘ線源及び検出装置の一方が所定の位置に固定され、他方が移動可能でもよい。また、Ｘ線源及び検出装置の両方が移動可能でもよい。

図４０は、実施形態の変形例に係る検出装置を示す図である。前述の各実施形態に加えて、Ｘ線源の保持方法は、図４０に示す変形例のような保持方法でも構わない。実施形態のＸ線源２の保持方法は、Ｘ線源支持部材２ＳでＸ線源２を保持していたが、これに加えてＸ線支持部材２Ｓ１を追加しても構わない。Ｘ線源２は、Ｘ線源２の射出部２Ｅの近傍と、Ｘ線射出部２Ｅに対するＸ線源２の他方とで支持される。このような構造により、射出部２Ｅの位置が、例えば、図４０のＹ軸方向に沿って所定の位置から変位することを抑制することができる。また、Ｘ線源支持部材２Ｓ１として、Ｘ線源２を支持する部材と、不図示のガイド機構とを備えるようにしてもよい、この場合には、Ｘ線支持する部材を固定した状態で、例えば、Ｘ線源２がＸ線を射出することにともなって熱変形し、Ｘ線源２がＺ軸方向に伸縮した場合であっても、Ｘ線源２を支持する部材が固定された場合と比べて、不図示のガイド機構に沿って、Ｘ線源２を支持する部材の固定位置がＺ軸方向で変化することができる。そのため、Ｘ線源２が変形することを抑制することができる。さらに、Ｘ線源２の変形にともなう、Ｘ線の射出方向が変化することを抑制することができる。

前述の各実施形態に加えて、検出器４の保持方法は、図４０に示す変形例のような保持方法でも構わない。実施形態において、検出器支持部材４Ｓは、検出器４のＸ線を検出する検出面の裏側から検出器４を支持していたが、これに加えて、図４０に示すように、検出器の側面を検出器支持部材４Ｓで支持しても構わない。本実施形態においては、Ｘ軸方向において、第１側壁６ＳＡと同じ位置に支持部材４Ｓが設けられている。また、本変形例においては、Ｘ軸方向において、第２側壁６ＳＢと同じ位置に支持部材４Ｓが設けられている。本変形例において、支持部材４Ｓは、第１側壁６ＳＡと同じ部材で作製されている。また、支持部材４Ｓは、第１側壁６ＳＡと一体として作製されていても構わない。本変形例は、検出器４の裏面、すなわち入射面４ＤＰの反対面に支持部材４Ｓを配置する必要がないので、例えば、チャンバ部材８をＺ軸方向に拡張する必要がなくなる。

前述の各実施形態に加えて、チャンバ部材８の内部空間ＳＰの温度を調整するために、温調した液体を用いても構わない。例えば、図４０に示すように、液体温調装置２６Ｗ１が所定の温度に調整した液体を、液体温調流路２６Ｗに導入する。液体温調流路２６Ｗは、チャンバ部材８の内部空間ＳＰに配置される。液体温調流路２６Ｗは、例えばステンレスで作製されている。液体温調流路２６Ｗの内部に、温度調整された液体（例えば、水）を満たすことで、液体温調流路２６Ｗの内部空間ＳＰに接する表面を、温度調整された液体と略近い温度にすることができる。その表面と、内部空間ＳＰの空気とが接触することで、内部空間ＳＰの空気の温度を調整することができる。

この場合には、内部空間ＳＰの空気と液体温調流路２６Ｗとが接触する面積が広いほうが望ましい。本変形例においては、液体温調流路２６Ｗの流路断面が円形の流路を用い、断面外側においてはすべてが内部空間ＳＰの空気と接触可能である。なお、断面においては、少なくとも一部の液体温調流路２６Ｗと内部空間ＳＰの空気とが接触すれば、内部空間ＳＰ内部の空気の温度を所定の温度に調整することが可能である。なお、本変形例においては、液体温調流路２６Ｗが１個であるが、これを複数設けても構わない。また、複数設けた場合には、それぞれの内部に導入する液体の温度を変えても構わない。また、不図示の温度センサーをチャンバ部材８の内部空間ＳＰの、例えば、Ｘ線源２の近傍に設け、液体温調装置２６Ｗ１は、温度センサーから出力されるチャンバ部材８の内部空間ＳＰの温度に基づいて、液体温調流路２６Ｗに導入する液体温度を調整しても構わない。

本変形例においては、液体温調装置２６Ｗ１から温調流路２６Ｗに導入される液体は、外部空間ＲＰに配置される温調流路２６Ｗの内部を通過して、内部空間ＳＰに配置される温調流路２６Ｗを通過し、再び外部空間ＲＰを通過して、温調流路２６Ｗに到達する。液体は、温調流路２６Ｗに到達した後で、温調装置２６Ｗ１の内部で所定の温度に調整された後に、再び温調流路２６Ｗに導入される。なお、本変形例においては、温調装置２６Ｗ１が外部空間ＲＰに配置されているが、内部空間ＳＰに配置されていても構わない。また、温調装置２６Ｗ１は、内部空間ＳＰを温調していたが、これに加えて、例えば、同じ温調流路２６ＷがＸ線源２を経由して、内部空間ＳＰを温調しても構わない。

前述の実施形態の各構成要素は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、前述の各実施形態及び変形例で引用した検出装置などに関するすべての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。前述した実施形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施形態及び運用技術等は、すべて本実施形態の範囲に含まれる。

１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｅ、１ｆ 検出装置
２ Ｘ線源
３ テーブル
６Ｒ リブ
６Ｈ 貫通孔
６ＳＡ 第１側壁
６ＳＢ 第２側壁
６Ｂ、６Ｂｆ 底部

Claims (29)

1. 被検物体にＸ線を照射して前記被検物体を通過するＸ線を検出することで、前記被検物体の形状を測定する形状測定装置であって、
   Ｘ線を発光点から射出するＸ線源と、
   前記被検物体を支持するステージと、
   前記Ｘ線源から射出され、前記被検物体を通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出する検出器と、
   前記発光点と前記被検物体の距離又は前記発光点と前記検出器との少なくとも一方の距離を変えるために、前記Ｘ線源、前記ステージ又は前記検出器の一つを、移動物体として第１方向に移動させる移動装置と、
   前記第１方向での前記移動物体の位置を計測する、第１計測装置及び第２計測装置と、
   前記X線源が前記ステージに保持された前記被検物体に対してＸ線を照射し、前記検出器が前記被検物体を通過した透過Ｘ線を検出した結果から、前記被検物体の形状を算出する演算装置とを備え、
   前記第１計測装置と第２計測装置とは、前記移動装置の移動可能領域での前記第１方向と交差する第２方向に配置され、
   前記第１計測装置及び第２計測装置は、前記X線源の光軸を挟んで配置され、
   前記第１計測装置の計測位置と第２計測装置の計測位置とを結ぶ線が、前記検出器により前記被検物を透過するX線が検出される領域内に配置される形状測定装置。
2. 前記第１計測装置の計測位置と前記第２計測装置の計測位置とを結ぶ線が、前記Ｘ線の光軸を通る、請求項１に記載の形状測定装置。
3. 前記被検物体が保持される前記ステージの保持面と直交する方向において、前記第１計測装置の計測位置と前記第２計測装置の計測位置とが同じ位置に配置されている、請求項１又は２に記載の形状測定装置。
4. 支持面に支持されるチャンバ部材であって、前記Ｘ線源、前記ステージ、前記検出器および前記移動装置を取り囲んで前記Ｘ線の外部への漏洩を抑制するチャンバ部材をさらに備え、
   前記支持面に沿って前記Ｘ線の光軸が配置されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の形状測定装置。
5. 被検物に対して、複数方向からＸ線を照射することで被検物の再構成を行う請求項１〜４のいずれか一項に記載の形状測定装置。
6. 前記第１計測装置及び前記第２計測装置は、前記移動装置に支持されている請求項１に記載の形状測定装置。
7. 前記第１方向に配列されたパターンを有し、固定して配置される第１スケール及び第２スケールとを、さらに備え、
   前記第１計測位置で前記第１計測装置が前記第１スケールのパターンを検出するとともに、前記第２計測位置で前記第２計測装置が前記第２スケールのパターンを検出することで、前記第１方向での前記移動物体の位置を計測する請求項６に記載の形状測定装置。
8. 前記第１方向での前記移動装置の移動を案内する案内面をさらに備え、
   前記被検物体を支持する支持面と直交方向で、前記第１計測装置の前記第１スケールの計測位置及び前記第２計測装置の前記第２スケールの計測位置と、前記案内面とが同じである請求項７に記載の形状測定装置。
9. 前記案内面は、第１案内面と第２案内面とをさらに備え、
   前記第１案内面及び第２案内面が前記Ｘ線源の光軸を挟んで配置される、請求項８に記載の形状測定装置。
10. 前記Ｘ線源の発光点から前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の外縁を結ぶことにより形成される面と、前記受光面とで囲まれる領域の外側に、前記第１計測装置及び第２計測装置が配置される請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の形状測定装置。
11. 被検物体にＸ線を照射して前記物体を通過するＸ線を検出することで、前記被検物体の形状を測定する形状測定装置であって、
    Ｘ線を発光点から射出するＸ線源と、
    前記被検物体を支持するステージと、
    前記Ｘ線源から射出され、前記被検物体を通過した透過Ｘ線の少なくとも一部を検出する検出器と、
    前記発光点と前記被検物体の距離又は前記発光点と前記検出器との少なくとも一方の距離を変えるために、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を平面である案内面で規定し、前記移動を案内する案内装置と、
    前記Ｘ線源が前記ステージに保持された前記被検物体に対してＸ線を照射し、前記検出器が前記被検物体を通過した透過Ｘ線を検出した結果から、前記被検物体の形状を算出する演算装置と、
    支持面に支持されるチャンバ部材であって、前記Ｘ線源、前記ステージ、前記検出器および前記移動装置を取り囲んで前記Ｘ線の外部への漏洩を抑制するチャンバ部材と、
    を備え、
    前記案内装置は、
    前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を規定する平面である第１案内面を有する第１案内装置と、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つの移動を規定する平面である第２案内面を有する第２案内装置とをさらに備え、
    前記第１案内装置と第２案内装置との間に前記透過Ｘ線が検出される領域が配置され、前記第１案内面を含み、前記第１案内面と平行な平面が前記透過Ｘ線の検出領域内に配置され、前記第２案内面を含む、前記第２案内面と平行な平面が、前記前記透過Ｘ線が検出される領域内に配置され、
    前記第１案内面と前記第２案内面は、前記Ｘ線の光軸を挟んで配置され、
    前記支持面に沿って、前記Ｘ線の光軸が配置されている形状測定装置。
12. 前記被検物体が保持される前記ステージの保持面と直交する方向において、前記案内面を含み前記案内面と平行な平面が、前記透過Ｘ線が検出される領域内に配置される、請求項１１に記載の形状測定装置。
13. 前記第１案内面を含み前記第１案内面と平行な平面が、前記第２案内面を含む、請求項１２に記載の形状測定装置。
14. 前記第１案内面を含み前記第１案内面と平行な平面が、前記発光点と前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の中心とを結ぶ軸を含む、請求項１３に記載の形状測定装置。
15. 前記第１案内装置及び第２案内装置が、前記透過Ｘ線が検出される領域の外側に配置されている、請求項１１から請求項１４のいずれか１項に記載の形状測定装置。
16. 前記第１案内装置及び前記第２案内装置は、前記Ｘ線源、前記ステージ及び前記検出器の少なくとも一つを移動させる移動装置をそれぞれ備え、
    前記第１案内装置及び前記第２案内装置は、前記発光点と前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の中心とを結ぶ軸と平行な方向での位置を読み取る計測装置をさらに備え、前記第１案内面及び第２案内面と平行な平面での前記駆動部の位置を計測する、請求項１１から請求項１５のいずれか１項に記載の形状測定装置。
17. 前記第１案内装置と前記第２案内装置を連結し、前記透過Ｘ線が検出される領域の外側に配置される第１部材、第２部材及び第３部材を有し、
    前記第１案内装置に連結される前記第１部材と、前記第２案内装置に連結される前記第２部材とを、前記第３部材で連結し、前記第３部材の上に前記ステージが位置する、請求項１１から請求項１６のいずれか１項に記載の形状測定装置。
18. 前記第１部材及び前記第２部材に沿って、前記支持面と直交する方向に移動可能な第１板状部材をさらに備え、
    前記第１板状部材の上に前記ステージが位置し、前記第１板状部材の線膨張係数とは異なる一対の第２板状部材が前記第１板状部材を挟持する、請求項１７に記載の形状測定装置。
19. 前記第１部材は、前記第１部材の長さを計測するための第１スケールを有し、
    前記第２部材は、前記第２部材の長さを計測するための第２スケールを有する、請求項１７又は請求項１８に記載の形状測定装置。
20. 前記第１案内装置及び第２案内装置をそれぞれ支持する第１支持部材及び第２支持部材と、
    前記第１支持部材及び前記第２支持部材を連結する第３支持部材と、を備え、
    前記第１支持部材、前記第２支持部材及び前記３支持部材と、前記第１部材、前記第２部材及び前記第３部材とがそれぞれ対向して配置される、請求項１１から請求項１９のいずれか１項に記載の形状測定装置。
21. 前記ステージを、前記被検物体が支持される前記ステージの支持面と直交する方向と平行に移動させる移動機構を備える、請求項１１から請求項２０のいずれか１項に記載の形状測定装置。
22. 前記第１支持部材及び前記第２支持部材とを連結する第４支持部材及び第５支持部材を、前記ステージの移動方向とは交差する方向に配置する、請求項２１に記載の形状測定装置。
23. 前記第１支持部材及び前記第２支持部材は、前記Ｘ線源と前記検出器とを支持する、請求項２０から請求項２２のいずれか１項に記載の形状測定装置。
24. 前記第１支持部材及び前記第２支持部材は、複数の貫通孔を異なる位置に有する、請求項２０から請求項２３のいずれかに１項に記載の形状測定装置。
25. 前記透過Ｘ線が検出される領域は、前記Ｘ線源の発光点から前記検出器が前記Ｘ線を受光する受光面の外縁を結ぶことにより形成される面と、前記受光面とで囲まれる領域である、請求項１１から請求項２４のいずれか１項に記載の形状測定装置。
26. 前記Ｘ線源が前記ステージに保持された前記被検物体に対してＸ線を照射し、前記検出器が前記被検物体を通過した透過Ｘ線を検出した結果から、前記被検物体の形状を算出する演算装置を有する、請求項１１から請求項２５のいずれか１項に記載の形状測定装置。
27. 構造物の形状に関する設計情報を作成し、
    前記設計情報に基づいて前記構造物を作製し、
    作製された前記構造物を前記被検物体として、作製された前記構造物の形状を請求項１から請求項２６のいずれか１項に記載の形状測定装置を用いて計測し、
    前記計測によって得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する、構造物の製造方法。
28. 形状情報と、前記設計情報とを比較した比較結果に基づいて実行され、前記構造物の再加工を実行する、請求項２７に記載の構造物の製造方法。
29. 前記再加工は、前記設計情報に基づいて前記構造物を再び作製する、請求項２８に記載の構造物の製造方法。

Images