JPWO2011096320A1 - フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係るフィルムミラーの構成の概要について、図1(a)を用いて説明する。
前記ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記腐食防止層25と樹脂基材21の間に、ガスバリア層を設けることが好ましい。
本発明の前記ガスバリア層に含まれる無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものが好ましい。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ニオブ(Nb)等の元素の酸化物である。
前記ガスバリア層は、加熱により無機酸化物を形成する前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。該前駆体は、ゾル状の有機金属化合物又はポリシラザンが好ましい。
前記有機金属化合物は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、リチウム(Li)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ランタン(La)、イットリウム(Y)、及びニオブ(Nb)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、リチウム(Li)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、及びバリウム(Ba)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、及びリチウム(Li)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
前記一般式(I)において、Mは、酸化数nの金属を表す。R1及びR2は、各々独立に、アルキル基を表す。mは、0〜(n−1)の整数を表す。R1及びR2は、同一でもよく、異なっていてもよい。R1及びR2としては、炭素原子4個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基CH3(以下、Meで表す。)、エチル基C2H5(以下、Etで表す)、プロピル基C3H7(以下、Prで表す。)、イソプロピル基i−C3H7(以下、i−Prで表す。)、ブチル基C4H9(以下、Buで表す)、イソブチル基i−C4H9(以下、i−Buで表す)等の低級アルキル基がより好ましい。
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状(フィルム状、粒子状、繊維状等)の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
前記前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式(I)で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液を塗布し、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に0.05〜3.0μmの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
式中、R1、R2、及びR3は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、フェニル、ビニル又は3−(トリエトキシシリル)プロピル、3−(トリメトキシシリルプロピル)からなる群から選択される基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、この際、n及びpは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、この際、n、p及びqは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
本発明においては、フィルムミラーの最表層は、電気抵抗値が1.0×10−3〜1.0×109Ω・□の帯電防止性を有し、鉛筆硬度がH以上6H未満、加重500g/cm2のスチールウール試験において傷が30本以下の特徴を有する帯電防止ハードコート層であるが、屋外暴露し、ブラシで洗浄した後の反射率が高いことから、鉛筆硬度は2H以上6H未満が好ましい。
前記無機複酸化物微粒子としては、ITO(インジウム錫酸化物)、ATO(アンチモン錫酸化物)、五酸化アンチモン・酸化亜鉛の複酸化物、燐ドープ酸価錫等が挙げられる。
JIS K 5600の規格に従って測定する。鉛筆を45度の角度にして、500gの荷重をかけて、各フィルムミラーのサンプルの表面の引っ掻き試験を行う。5回のうち4回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行った。
スチールウール試験とは、サンプルの機能層面を#0000のスチールウールを用い、1cm2に切り出したスチールウールに500gの荷重をかけ、フィルム上を、ストローク100mm、速度30mm/secで所定回数往復摩擦した後の表面を目視で観察して評価する方法である。
JIS K 7194の規格に従って測定する。但し、試料は湿度50%、温度50℃の環境に2時間以上放置後、測定試料を一直線状に等間隔に配列した探針間隔5mmのプローブ(三菱化学ASPプローブ)にて5点測定する。その5点平均値を電気抵抗値とする。
JIS−R3257に基づいて、接触角計DM300(協和界面化学)を用いて測定した。水を3μL滴下してフィルムミラーの表面の接触角を測定した。
前記銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
前記樹脂基材としては、従来公地の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。
前記接着層は、前記銀反射層または前記金属層と前記樹脂基材との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、該接着層は、樹脂基材と銀反射層または金属層とを密着する密着性、銀反射層または金属層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
前記腐食防止層は前記銀反射層に隣接して設けられることが好ましく、銀に対する腐食防止剤を含有する。該腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止能を有する腐食防止剤(酸化防止剤とも言う)が好ましく用いられる。
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
前記腐食防止層に含有される腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
本発明において、銀の犠牲防食機能を有するものであるため、銀に隣接した形態で、銀よりもイオン化傾向が高い金属を使用する金属層を設けることができる。例えば、リチウム、セシウム、ルビジウム、カリウム、バリウム、ストロンチウム、カルシウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、マンガン、タンタル、亜鉛、クロム、鉄、カドミウム、コバルト、ニッケル、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス、銅、水銀等を挙げることができる。特にアルミニウム、亜鉛、鉄、スズ、銅であることが好ましい。
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有するか、前記腐食防止層の表面側に紫外線吸収剤層を設けることが好ましい。
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75〜250μmが好ましく、更に好ましくは90〜230μm、更に好ましくは100〜220μmである。
(フィルムミラー1の作製)
図1(a)において、樹脂基材21として、アクリル樹脂フィルム(三菱レイヨン製アクリプレンHBS006、厚さ75μm)を用いた。該アクリル樹脂フィルムの片面にポリエステル系樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネート(コスモネートTDI100、三井武田ケミカル社製)を樹脂固形分比率で10:2に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート(和光純薬製)0.05g/m2となるよう調整した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ100nmの腐食防止層25を形成した。続いて、腐食防止層上に、真空蒸着により銀反射層22を150nmになるように蒸着した。次に銀反射層上に、腐食防止剤層と同じ組成で厚さ20nmの保護層24を形成した。
フィルムミラー1作製の際、帯電防止層の代わりに、67質量%のメタクリル系樹脂(住友化学社製、スミペックス)に3質量%のアモルファスシリカ(日産化学工業社製、スノーテックス)、1質量%の光開始剤(Irg184、BASFジャパン社製)を混合した溶液を、乾燥膜厚が3μmになるようにバーコーティングし、80℃でプレ乾燥させた後、紫外線硬化させることで、最表層23(ハードコート層)を形成し、フィルムミラー2を得た。
図1(a)において、樹脂基材21として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)(PET)を用いた。上記2軸延伸ポリエステルフィルムの片面にポリエステル系樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネート(コスモネートTDI100、三井武田ケミカル社製)を樹脂固形分比率で10:2に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート(和光純薬製)0.05g/m2となるよう調整した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ100nmの腐食防止層25を形成した。続いて、真空蒸着により銀反射層22を150nmになるように蒸着した。次に銀反射層上に、前記腐食防止層25と同じ組成で厚さ20nmの保護層24を形成した。次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製 商品名A−DPH 固形分100%)100質量部に対し、リンドープ酸化スズコロイド(日産化学工業株式会社製 商品名CX−S300M 粒子径20nm 固形分30%)を300質量部、MEK165質量部混合し攪拌した。開始剤としてIrgacure907(BASF社製)を5質量部加え、粘度20mPa・sの帯電防止ハードコート層塗布液を作製した。前記2軸延伸ポリエステルフィルムの腐食防止層25を形成した面の反対面に、硬化後の膜厚が5μmとなるように、前記帯電防止ハードコート層塗布液を塗布し、紫外線照射機を用い紫外線処理を行い、最表層23(帯電防止ハードコート層)を作製しフィルムミラー3を得た。
フィルムミラー3作製の際、樹脂基材21として、アクリル樹脂フィルム(三菱レイヨン株式会社製アクリプレンHBS010P、厚さ75μm)を用いて作製した以外は、フィルムミラー3と同様に作製し、フィルムミラー4を得た。
フィルムミラー4作製の際、図1(b)に示すように、樹脂基材と腐食防止剤層の間にガスバリア層26を形成した。作製方法としては、ジブチルエーテル中の3%パーヒドロポリシラザン液(クラリアント社製 NL120)を用いて、乾燥後の膜の厚さが100nmとなるように、樹脂基材上にバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、70℃のオーブンで30分間アニールし、ガスバリア層26を形成した後に、フィルムミラー3の腐食防止剤層塗布、乾燥させた。その他はフィルムミラー3と同様にして、フィルムミラー5のサンプルを得た。
フィルムミラー5作製の際、リンドープ酸化スズコロイド300質量部の代わりに、五酸化アンチモン・酸化亜鉛の複酸化物コロイド(日産化学工業株式会社製 商品名CX−Z210IP−F2 粒子径50nm 固形分20%)450質量部を用いた以外はフィルムミラー5と同様にして、フィルムミラー6を得た。
フィルムミラー6作製の際、腐食防止剤のグリコールジメルカプトアセテート(銀吸着性腐食防止剤)に替えて、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト(酸化防止剤)(昭和化学工業株式会社製)を0.01g/m2加えた以外は、フィルムミラー6と同様の方法によりフィルムミラー7を作製した。
フィルムミラー6作製の際、図1(c)に示すように、樹脂基材とガスバリア層の間に、ポリエステル系樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネート(コスモネートTDI100、三井武田ケミカル社製)を樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中にメチルエチルケトンを加え、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール(BASF社製)を0.01g/m2となるように含有させ、グラビアコート法により形成した厚さ100nmの紫外線吸収剤層27を設けた以外はフィルムミラー6と同様にして、フィルムミラー8を作製した。
フィルムミラー8作製の際、樹脂基材21として、アクリル樹脂フィルム(三菱レイヨン製アクリプレンHBS010P、厚さ75μm)を、アクリル樹脂フィルム(三菱レイヨン株式会社製アクリプレンHBS010P、厚さ125μm)に替えた以外は、フィルムミラー8と同様の方法により、フィルムミラー9を作製した。
前記フィルムミラー3の作製において、帯電防止ハードコート層塗布液のリンドープ酸化スズコロイド(日産化学工業株式会社製 商品名CX−S300M 粒子径20nm 固形分30%)300質量部を、導電性高分子(ORMECON(登録商標)、日産化学工業製、高導電性ポリアニリン系有機溶媒分散液)100質量部に替えたほかは同様にしてフィルムミラー10を作製した。
前記フィルムミラー3において、図2(a)に示すように、最表層23(帯電防止ハードコート層)を、2軸延伸ポリエステルフィルムの腐食防止層25を形成した面の反対面に設ける代わりに、保護層24上に設けた他は同様にして、フィルムミラー11を作製した。
前記フィルムミラー11において、図2(b)に示すように、保護層24と最表層23との間に、フィルムミラー5で用いたガスバリア層26を形成した以外は、フィルムミラー11と同様にして、フィルムミラー12を作製した。
フィルムミラー12作製の際、リンドープ酸化スズコロイド300質量部の代わりに、五酸化アンチモン・酸化亜鉛の複酸化物コロイド(日産化学工業株式会社製 商品名CX−Z210IP−F2 粒子径50nm 固形分20%)450質量部を用いた以外はフィルムミラー12と同様にして、フィルムミラー13を得た。
フィルムミラー13作製の際、腐食防止剤のグリコールジメルカプトアセテート(和光純薬製)0.05g/m2に替えて、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト(酸化防止剤)(昭和化学工業株式会社製)を0.01g/m2加えた以外は、フィルムミラー13と同様の方法によりフィルムミラー14を作製した。
フィルムミラー14作製の際、図2(c)に示すように、樹脂基材とガスバリア層の間に、ポリエステル系樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネート(コスモネートTDI100、三井武田ケミカル社製)を樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中にメチルエチルケトンを加え、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール(BASF社製)を0.01g/m2となるように含有させ、グラビアコート法により形成した厚さ100nmの紫外線吸収剤層27を設けた以外はフィルムミラー14と同様にして、フィルムミラー15を作製した。
上記で得たフィルムミラー1〜15について、下記の方法により正反射率及び耐候性、紫外線耐性の測定をそれぞれ行った。
島津製作所社製の分光光度計「U−4100」に、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、250nmから2500nmまでの平均反射率として測定した。入射は、最表層側から行った。
アイ スーパーUVテスター SUV−W151(結露形)(岩崎電気製)を用い、照射強度100mW/cm2、温度60℃、湿度85%RHの条件で1ヶ月間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、強制劣化試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
5:正反射率の低下率が5%未満
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上
<鉛筆硬度試験>
JIS K 5600の規格に従って実施した。鉛筆を45度の角度として、500gの荷重をかけて、各フィルムミラーの最表層面の引っ掻き試験を行った。5回のうち4回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行った。
得られたフィルムミラー1〜15の最表層面を#0000のスチールウールを用い、1cm2に切り出したスチールウールに500gの荷重をかけ、フィルム上を、ストローク100mm、速度30mm/secで所定回数往復摩擦した後の表面を目視で観察し、以下のA〜Eで評価した。
A:傷0本
B:傷1〜10本
C:傷11〜30本
D:傷31〜50本
E:50本以上
<電気抵抗値>
JIS K 7194の規格に従って各フィルムミラーの最表層面を測定した。但し、試料を湿度50%、温度50℃の環境に24時間以上放置後、ハイレスタUP MCP−HT450型を用い、測定試料を一直線状に等間隔に配列した探針間隔5mmのプローブ(三菱化学ASPプローブ)にて5点測定する。その5点平均値を電気抵抗値とする。
フィルムミラー1〜10の保護層の上、またフィルムミラー11〜15の2軸延伸ポリエステルフィルムの腐食防止層を形成した面の反対面に、粘着層を塗布し、粘着層とアルミ基材を対面して貼り付けて太陽熱発電用反射装置を作製し、10m四方の砂場に地面との角度が45度となるように設置し、180日間放置し、上記条件で反射率を測定した。また、所定のブラシと水でフィルム最表面を洗浄した後の同様に測定した。尚、粘着層塗布液はアクリル粘着剤(リンテック株式会社、TL−75K)であり、塗布膜厚は50μmである。
以下、他の好ましい態様について、図3、4を参照し、参考例および参考例の比較例を用いて具体的に説明する。なお、以下の「比較例」は参考例の比較例を意味する。
図3(a)は比較例1の構成を示す。
図3(b)は比較例2の構成を示す。
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記2軸延伸ポリエステルフィルムの片面に、酸化ランタンと酸化アルミニウムを8:2で混合した混合物を真空蒸着法により60nmになるように蒸着し、続いて銅の真空蒸着により厚さ100nmの金属層を形成し、同様に銀反射層を150nmになるように蒸着した。銀反射層上に、ポリエステル系樹脂とTDI系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート(和光純薬製)を0.05g/m2となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ100nmの腐食防止層5を形成した。腐食防止層上に、オプスターZ7537(JSR)を厚さ5μmで塗布し、紫外線照射により硬化して防汚性兼耐傷性を有する最表層7を形成し、参考例1のサンプルを得た。
参考例1のサンプルの基材として、アクリル樹脂フィルム(アクリプレンHBS006、100μm)を用いた以外は、参考例1の層構成で作成し、参考例2のサンプルを得た。
参考例1において、最表層にガスバリア性を付与した。作成方法としては、実施例1の最表層に替えて、ジブチルエーテル中の3%パーヒドロポリシラザン液(クラリアント社製 NL120)を用いて、乾燥後の膜の厚さが100nmとなるように、腐食防止層5上にバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、70℃のオーブンで30分間アニールし、ガスバリア性を有する最表層7を得た。その他は参考例1と同様にして、参考例3のサンプルを得た。
参考例3において、ガスバリア性を有する最表層上に、AZエレクトロニクス社製の「親水化促進剤」(製品名)を塗布することにより、ガスバリア性を有する最表層7の親水性を向上した他は同様にして参考例4のサンプルを得た。
参考例4において、腐食防止層5のグリコールジメルカプトアセテート(銀吸着性腐食防止剤)に替えて、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト(酸化防止剤)を0.01g/m2加えた以外は、参考例4と同様の方法により参考例5のサンプルを作製した。
参考例4において、腐食防止層5の上に、ポリエステル系樹脂とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中にメチルエチルケトンを加え、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾールを0.01g/m2となるように含有させ、グラビアコート法により形成した厚さ100nmの紫外線吸収剤層10をもうけ、その上に最表層7を設けた他は同様に、参考例6のサンプルを作製した。
参考例6において、樹脂基材1として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ175μm)に替えた以外は、参考例6と同様の方法により、参考例7のサンプルを作製した。
上記で得たフィルムミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、紫外線耐性の測定をそれぞれ行った。
島津製作所社製の分光光度計「UV265」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、250nmから2500nmまでの平均反射率として測定した。
キセノンランプ照射下、温度85℃、湿度85%RHの条件で30日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率から、強制劣化試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上。
JIS K 5600の規格に従って実施した。鉛筆を45度の角度として、500gの荷重をかけて、各フィルムミラーのサンプルの表面の引っ掻き試験を行った。5回のうち4回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行った。
JIS−R3257に基づいて、水3μL滴下してフィルムミラーの表面の接触角を、接触角計DM300(協和界面化学)を用いて測定した。
実施例にて作成したサンプルをアルミ基材に貼り付けて太陽熱発電用反射装置を作製し、砂漠に地面との角度が45度となるように設置し、1ヶ月放置し、上記条件で反射率を測定した。また、所定のブラシと水でフィルム最表面を洗浄した後の同様に測定した。
2 接着層
3 金属層
4 銀反射層
5 腐食防止層
6 ガスバリア層
7 最表層(防汚性兼耐傷性)
8 最表層(防汚性)
9 最表層(耐傷性)
10 紫外線吸収剤層
21 樹脂基材
22 銀反射層
23 最表層
24 保護層
25 腐食防止層
26 ガスバリア層
27 紫外線吸収層
Claims (9)
- 樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面に銀反射層が設けられたフィルムミラーであって、前記フィルムミラーは、光入射側に最表層を有し、該最表層の表面の電気抵抗値は、1.0×10−3〜1.0×109Ω・□であり、かつ、鉛筆硬度がH以上6H未満、加重500g/cm2のスチールウール試験における傷が30本以下であることを特徴とするフィルムミラー。
- 前記最表層が無機複酸化物微粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載のフィルムミラー。
- 前記最表層がアクリレートまたはウレタン系樹脂を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムミラー。
- 前記銀反射層の両面に銀の腐食防止層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記腐食防止層と前記樹脂基材との間に、ガスバリア層を有することを特徴とする請求項4に記載のフィルムミラー。
- 前記銀反射層と、前記樹脂基材の間、又は前記銀反射層以外のいずれか一層に紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
- フィルムミラー全体の厚さが、75〜250μmの範囲内であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のフィルムミラー。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載のフィルムミラーが、太陽熱発電用フィルムミラーであることを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
- 請求項8に記載の太陽熱発電用フィルムミラーの光入射側の反対側の表面に粘着層を塗設した後、該粘着層を介して、金属基材上に該太陽熱発電用フィルムミラーを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽光発電用反射装置。
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