JPWO2011078156A1 - フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 - Google Patents
フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2011078156A1 JPWO2011078156A1 JP2011547557A JP2011547557A JPWO2011078156A1 JP WO2011078156 A1 JPWO2011078156 A1 JP WO2011078156A1 JP 2011547557 A JP2011547557 A JP 2011547557A JP 2011547557 A JP2011547557 A JP 2011547557A JP WO2011078156 A1 JPWO2011078156 A1 JP WO2011078156A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- resin
- film mirror
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
- F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
- F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
Description
本発明のフィルムミラーは、構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とする。
本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
本発明に係る接着層は銀反射層と樹脂基材(樹脂フィルム)との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材(樹脂フィルム)と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
本発明における安定剤とは、光の照射及び酸素の存在によって発生するペルオキシドラジカル等のラジカルを補足あるいは分解して安定化させる機能をもつ酸化防止剤や光安定剤を指し、金属の表面に安定な重錯体皮膜を形成し金属の腐食劣化を防止する腐食防止剤とは異なるものである。
当該紫外線吸収層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
前記紫外線吸収層に含有される紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
本発明のフィルムミラーに用いられる下部隣接層は、銀反射層を介し、樹脂基材(支持体)の反対側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止に寄与するものである。当該下部隣接層は腐食防止剤を含有することが好ましい。
ここで、「腐食」とは、金属(銀)がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103−2004参照)。
本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を設けることが好ましい。
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。
本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、リチウム(Li)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ランタン(La)、イットリウム(Y)、及びニオブ(Nb)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、リチウム(Li)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、及びバリウム(Ba)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、及びリチウム(Li)のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
前記一般式(1)において、Mは、酸化数nの金属を表す。R1及びR2は、各々独立に、アルキル基を表す。mは、0〜(n−1)の整数を表す。R1及びR2は、同一でもよく、異なっていてもよい。R1及びR2としては、炭素原子4個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基CH3(以下、Meで表す。)、エチル基C2H5(以下、Etで表す)、プロピル基C3H7(以下、Prで表す。)、イソプロピル基i−C3H7(以下、i−Prで表す。)、ブチル基C4H9(以下、Buで表す)、イソブチル基i−C4H9(以下、i−Buで表す)等の低級アルキル基がより好ましい。
本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ニオブ(Nb)等の元素の酸化物であることを特徴とする。
ここで、「ゾル−ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状(フィルム状、粒子状、繊維状等)の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
式(I): −(SiR1R2−NR3)n−
式中、R1、R2、及びR3は、同一かまたは異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または(トリアルコキシシリル)アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、フェニル、ビニルまたは3−(トリエトキシシリル)プロピル、3−(トリメトキシシリルプロピル)からなる群から選択される基を表し、この際、nは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
式(II):−(SiR1R2−NR3)n−(SiR4R5−NR6)p−
式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、n及びpは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
式(III):−(SiR1R2−NR3)n−(SiR4R5−NR6)p−(SiR7R8−NR9)q−
式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または(トリアルコキシシリル)アルキル基を表し、この際、n、p及びqは整数であり、そしてnは、当該ポリシラザンが150〜150,000g/モルの数平均分子量を有するように定められる。
本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、75〜250μmが好ましく、さらに好ましくは90〜230μm、さらに好ましくは100〜220μmである。固形分濃度10%となるようにトルエン中に混合。
本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフイルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート)とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの下部隣接層を形成した。さらに、前記ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームUR6530(三菱レイヨン社)15部、光重合開始剤としてダロキュア1700(BASHジャpン社)1部、酢酸エチル25部、酢酸ブチル35部、シクロヘキサノン10部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、5μmの表面コート層を形成し、比較例1のサンプルを作製した。
表面コート層を形成する際に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームUR6530(三菱レイヨン社)15部、光重合開始剤としてダロキュア1700(BASHジャパン社)1部、酢酸エチル25部、酢酸ブチル35部、シクロヘキサノン10部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、TINUVIN 928(BASHジャパン社)1部からなる液を用いた以外は、比較例1と同様にサンプルを作製した。
樹脂基材層として、ポリエチレンテレフタレートにフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010(BASHジャパン社)を1質量%添加することによって得られた2軸延伸フィルム(厚さ100μm)を用いた以外は、比較例1と同様の方法により、比較例3のサンプルを作製した。
樹脂基材層として、ポリエチレンテレフタレートにフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010(BASHジャパン社)を1質量%添加することによって得られた2軸延伸フィルム(厚さ100μm)を用い、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエチレンテレフタレートと2,4−トリレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの下部部隣接層を形成した。さらに、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームUR6530(三菱レイヨン社)15部、光重合開始剤としてダロキュア1700(BASHジャパン社)1部、酢酸エチル25部、酢酸ブチル35部、シクロヘキサノン10部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、Tinuvin 928(BASHジャパン社)1部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、5μmの表面コート層(紫外線吸収層)を形成し、実施例1のサンプルを作製した。
実施例1の紫外線吸収層に含まれるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代わりにベンゾフェノン系紫外線吸収剤CHIMASSORB 81(BASHジャパン社)1部を使用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例2のサンプルを作製した。
実施例1の紫外線吸収層に含まれるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代わりにトリアジン系紫外線吸収剤TINUVIN 1577FF(BASHジャパン社)1部を使用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例3のサンプルを作製した。
実施例1の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤の代わりにHALS(ヒンダードアミン系光安定剤)としてCHIMASSORB 944FDL(BASHジャパン社)1質量%を使用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例4のサンプルを作製した。
実施例1の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、ホスファイト系酸化防止剤として、IRGAFOS12(BASHジャパン社)をそれぞれ1質量%ずつとなるように併用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例5のサンプルを作製した。
実施例1の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、チオール系酸化防止剤として、IRGANOX PS800FL(BASHジャパン社)をそれぞれ1質量%ずつとなるように併用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例6のサンプルを作製した。
実施例1の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、HALSとしてCHIMASSORB 944FDL(BASHジャパン社)をそれぞれ1質量%ずつとなるように併用した以外は、実施例1と同様の方法により実施例7のサンプルを作製した。
実施例1のサンプルの表面コート層の隣接した外側に、ジブチルエーテル中(クラリアント社製 NL120)の3%パーヒドロポリシラザン液を用いて、乾燥後の膜の厚さが100nmとなるようにバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、90℃のオーブンで30分間アニールし、ガスバリア層を設けることにより、実施例8のサンプルを作製した。
実施例8のサンプルのガスバリア層の隣接した外側に、市販のハードコート剤(JSR製 オプスター(登録商標)Z7534)をメチルエチルケトンで固形分濃度が50質量%になるように希釈し、さらに平均粒子径が1.5μmのアクリル系微粒子(綜研化学製 ケミスノー(登録商標)MXシリーズ)を上記ハードコート剤の固形分に対して1質量%添加して、傷防止層用の塗料を調製した。上記の塗料を塗工後、80℃で乾燥、さらに紫外線1.0J/cm2を照射して硬化させ、厚さ6μmの傷防止層を最外層に設けた。
実施例1の下部隣接層中に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを0.3g/m2となるように含有させたこと以外は、実施例1と同様の方法により実施例10のサンプルを作製した。
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ−820 DIC(株)製)、TDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)、HDMI系イソシアネート(1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10%となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエチレンテレフタレートと2,4−トリレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmの下部隣接層を形成した。続いて、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームUR6530(三菱レイヨン社)15部、光重合開始剤としてダロキュア1700(BASHジャパン社)1部、酢酸エチル25部、酢酸ブチル35部、シクロヘキサノン10部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、Tinuvin 928(BASHジャパン社)1部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、5μmの表面コート層を形成し、比較例4のサンプルを得た。
比較例4において、接着剤層にフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010(BASHジャパン社)を接着剤層中1質量%となるように含有させる他は比較例4と同様にして、実施例11のサンプルを得た。
比較例4において、ポリエチレンテレフタレートフィルム基材層にフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010(BASHジャパン社)を1質量%となるように含有させる他は比較例4と同様にして、実施例12のサンプルを得た。
比較例4において、接着剤層にフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010(BASHジャパン社)を接着剤層中1質量%となるように含有させること、及びポリエチレンフィルム基材層にフェノール系酸化防止剤として、IRGANOX 1010を1質量%となるように含有させる他は比較例4と同様にして、実施例13のサンプルを得た。
厚さ0.1mmで、たて4cm×よこ5cmのステンレス(SUS304)板上に、上記サンプルを、厚さ3μmの粘着層を介して貼り付け、太陽光集光ミラーを作製した。
上記で得た太陽光集光ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。
島津製作所社製の分光光度計「UV265」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を5°となるように調整し、反射角5°の正反射率を測定した。評価は、350nmから700nmまでの平均反射率として測定した。
温度65℃、湿度90%RHの条件で30日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率の比から、耐候性試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
5:正反射率の低下率が5%未満
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上
<正反射率の耐光性試験>
得られたサンプルを岩崎電気製アイスーパーUVテスターを用いて、85℃の環境下で7日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐光性試験の評価基準を記す。
5:正反射率の低下率が5%未満
4:正反射率の低下率が5%以上10%未満
3:正反射率の低下率が10%以上15%未満
2:正反射率の低下率が15%以上20%未満
1:正反射率の低下率が20%以上
<鉛筆硬度試験>
JIS−K5400に基づいて、各サンプルの45°傾斜、1kg荷重における鉛筆硬度を測定した。
安定剤
IRG1010 :IRGANOX 1010
IRG12 :IRGAFOS 12
IRG800 :IRGANOX PS800FL
CHIM944 :CHIMASSORB 944FDL
紫外線吸収剤
TIN928 :TINUVIN 928
CHIM81 :CHIMASSORB 81
TIN1577 :TINUVIN 1577FF
腐食防止剤
GDMA :グリコールジメルカプトアセテート
Claims (9)
- 構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とするフィルムミラー。
- 前記紫外線吸収層に含有される紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項1に記載のフィルムミラー。
- 前記安定剤がフェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤の中の少なくとも1種からなることを特徴とする請求項1または2に記載のフィルムミラー。
- 前記下部隣接層が、腐食防止剤を含有した樹脂層であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記樹脂基材層より外側に、ガスバリア層を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 前記樹脂基材層を含めた層全体の厚さが、75〜250μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のフィルムミラー。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載のフィルムミラーを用いたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009288777 | 2009-12-21 | ||
JP2009288777 | 2009-12-21 | ||
PCT/JP2010/072979 WO2011078156A1 (ja) | 2009-12-21 | 2010-12-21 | フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011078156A1 true JPWO2011078156A1 (ja) | 2013-05-09 |
Family
ID=44195683
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011547557A Pending JPWO2011078156A1 (ja) | 2009-12-21 | 2010-12-21 | フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120268811A1 (ja) |
EP (1) | EP2518538B1 (ja) |
JP (1) | JPWO2011078156A1 (ja) |
WO (1) | WO2011078156A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5424091B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | 紫外反射膜を有するフィルムミラー |
WO2013015112A1 (ja) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | 太陽光反射用ミラー、太陽熱発電用反射装置、機能性フィルム及び屋外用の帯電防止組成物 |
JP6094577B2 (ja) * | 2012-04-26 | 2017-03-15 | コニカミノルタ株式会社 | 透明ガスバリアーフィルム、その製造方法及び電子デバイス |
JP2014154589A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Fujifilm Corp | 太陽光集光用反射鏡 |
JP6029486B2 (ja) * | 2013-02-21 | 2016-11-24 | 富士フイルム株式会社 | 太陽光集光用反射鏡 |
CN103941318B (zh) * | 2014-04-10 | 2018-03-20 | 武汉圣普太阳能科技有限公司 | 太阳能热发电聚光银镜的制镜方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154942A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-14 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニー | 耐腐食性反射鏡 |
JP2002154179A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-05-28 | Kobe Steel Ltd | アルミニウム合金薄板材及びそれを用いたヘリオスタット用凹面反射鏡並びにその製造方法 |
JP2004009591A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Mitsui Chemicals Inc | 反射体 |
JP2004286943A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Ricoh Co Ltd | 樹脂反射鏡およびその製造方法 |
JP2006326971A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Toray Ind Inc | 耐候性樹脂フィルム |
JP2008194993A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 樹脂積層体及びその製造方法 |
JP2009038078A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Konica Minolta Holdings Inc | 電磁波シールドフィルム及びプラズマディスプレイパネル |
WO2009150992A1 (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 耐候性樹脂基材及び光学部材 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118540A (en) * | 1990-04-23 | 1992-06-02 | Solar Kinetics, Inc. | Corrosion resistant flexible reflective film for solar energy applications |
JP2002122717A (ja) * | 2000-10-18 | 2002-04-26 | Oike Ind Co Ltd | 耐久性反射フイルム |
US6974850B2 (en) * | 2003-05-30 | 2005-12-13 | 3M Innovative Properties Company | Outdoor weatherable photopolymerizable coatings |
-
2010
- 2010-12-21 WO PCT/JP2010/072979 patent/WO2011078156A1/ja active Application Filing
- 2010-12-21 US US13/516,826 patent/US20120268811A1/en not_active Abandoned
- 2010-12-21 EP EP10839386.9A patent/EP2518538B1/en not_active Not-in-force
- 2010-12-21 JP JP2011547557A patent/JPWO2011078156A1/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154942A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-14 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニー | 耐腐食性反射鏡 |
JP2002154179A (ja) * | 2000-11-21 | 2002-05-28 | Kobe Steel Ltd | アルミニウム合金薄板材及びそれを用いたヘリオスタット用凹面反射鏡並びにその製造方法 |
JP2004009591A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Mitsui Chemicals Inc | 反射体 |
JP2004286943A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Ricoh Co Ltd | 樹脂反射鏡およびその製造方法 |
JP2006326971A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Toray Ind Inc | 耐候性樹脂フィルム |
JP2008194993A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 樹脂積層体及びその製造方法 |
JP2009038078A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Konica Minolta Holdings Inc | 電磁波シールドフィルム及びプラズマディスプレイパネル |
WO2009150992A1 (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 耐候性樹脂基材及び光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2518538B1 (en) | 2015-02-25 |
US20120268811A1 (en) | 2012-10-25 |
EP2518538A1 (en) | 2012-10-31 |
WO2011078156A1 (ja) | 2011-06-30 |
EP2518538A4 (en) | 2013-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5742726B2 (ja) | フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー | |
JP5747823B2 (ja) | フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽光発電用反射装置 | |
WO2012057004A1 (ja) | フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 | |
EP2667226B1 (en) | Film mirror and reflecting apparatus for solar power generation | |
JP5516603B2 (ja) | フィルムミラー、その製造方法及び太陽熱発電用反射装置 | |
JPWO2011078156A1 (ja) | フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 | |
WO2011078024A1 (ja) | フィルムミラー及びその製造方法並びに太陽熱発電用反射装置 | |
JP5962014B2 (ja) | フィルムミラー及びその製造方法 | |
JP2015121806A (ja) | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー | |
JP5660051B2 (ja) | フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 | |
JP2012047861A (ja) | フィルムミラー、その製造方法、及び太陽光集光用フィルムミラー | |
JP2011203553A (ja) | フィルムミラー、その製造方法及び太陽光反射用ミラー | |
WO2011096284A1 (ja) | 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 | |
WO2011114861A1 (ja) | 太陽光集光用ミラー、それを用いたトラフ式太陽熱発電装置及びトラフ式太陽光発電装置 | |
WO2012057005A1 (ja) | 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法および太陽熱発電用反射装置 | |
WO2011096248A1 (ja) | 太陽熱発電用光反射フィルム、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置 | |
WO2013094577A1 (ja) | フィルムミラー、フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 | |
JP2015161826A (ja) | フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130415 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131217 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20140212 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140930 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150421 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150915 |