JPWO2013180202A1 - 機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

樹脂基材３上に、アクリル層７、中間層８、保護層９を順に隣接させて、保護層９を最表面に設ける構成の機能性フィルムを製造する場合、保護層９に少なくともポリシロキサン化合物を含有させ、中間層８にポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有させるようにすることで、アクリル層７と中間層８の層間結合と、中間層８と保護層９の層間結合を強化することができ、アクリル層７、中間層８、保護層９の各層の剥離を低減して、耐傷性に優れた機能性フィルムを得るようにした。

Description

本発明は、機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法に関する。

機能性フィルムには、その用途別に様々な種類があり、例えば、反射フィルム、遮熱フィルム、防汚フィルム、保護フィルムなどが知られている。
近年、機能性フィルムには様々な高付加価値が要求されており、フィルム状の樹脂基材上に各種機能層を積層することで、用途に応じた機能が付与された機能性フィルムが作製されるようになっている。
そして、これら機能性フィルムは、物品の表面に張り付けられるなどして使用されることが多いため、特に、耐傷性に優れるものが望まれている。
また、機能性フィルムが屋外で使用される場合には、埃、砂、有機物などが表面に付着することにより機能性フィルムの光学機能が低下する問題がある。また、そのような付着物を除去するため、蒸留水を用いてプラスチック又は天然高分子繊維のブラシによるブラシ擦り洗浄を行うことにより、機能性フィルム表面に傷が付き、光学機能が低下するという問題がある。

例えば、機能層である銀反射層を、ポリエステルフィルム層やアクリルフィルム層で被覆した反射フィルムが知られている（特許文献１参照）。
また、フィルムの最表面に耐侯性に優れる保護層が設けられた機能性フィルムが知られている（特許文献２、特許文献３参照）。

特表２００９−５２０１７４号公報 米国特許第７，５０７，７７６号明細書 特開２０１０−１０６０６１号公報

しかしながら、上記特許文献１の場合、フィルム最表面がアクリルフィルム層であるため、その硬度が十分ではないアクリルフィルム層に傷が付くことで、反射フィルムの反射率が低下してしまうという問題があった。
また、上記特許文献２，３の場合、ポリエステル基材上にアクリル樹脂材料を塗布して保護層を形成しているため、保護層の硬度低下が進むとその損傷が顕著になるという問題があった。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、耐傷性に優れた機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
樹脂基材上に、アクリル層、中間層、保護層が順に隣接して、前記保護層が最表面に設けられている機能性フィルムであって、
前記保護層は、少なくともポリシロキサン化合物を含有しており、
前記中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることを特徴とする。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の機能性フィルムにおいて、
前記中間層が、ポリイソシアネートを含有していることを特徴とする。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の機能性フィルムにおいて、
前記中間層が、導電性微粒子を含有していることを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の機能性フィルムにおいて、
当該機能性フィルムは、厚さ３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラーであることを特徴とする。

請求項５に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の機能性フィルムにおいて、
当該機能性フィルムは、厚さ０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の反射層を有する遮熱フィルムであることを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、
樹脂基材上に、アクリル層と中間層と保護層とを備えた機能性フィルムの製造方法であって、
前記樹脂基材の上面側に、前記アクリル層を設ける工程と、
前記アクリル層の上面にコロナ処理を施す工程と、
前記アクリル層上に、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している中間層を形成する工程と、
前記中間層上に、少なくともポリシロキサン化合物を含有している保護層を形成する工程と、
を有することを特徴とする。

請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の機能性フィルムの製造方法において、
前記アクリル層と前記中間層および／または前記中間層と前記保護層が、層間結合するように加熱処理を施す工程を有することを特徴とする。

本発明によれば、耐傷性に優れた機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法を提供できる。

本発明のフィルムミラーの構成の一例を示す説明図である。

以下に、本発明を実施するための好ましい形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。

本発明者らが鋭意検討した結果、樹脂基材上に、アクリル層、中間層、保護層を順に隣接させて、保護層を最表面に設ける構成の機能性フィルムを実現する場合、保護層に少なくともポリシロキサン化合物を含有させ、中間層にポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有させるようにすることで、アクリル層と中間層の層間結合と、中間層と保護層の層間結合を強化することができ、アクリル層、中間層、保護層の各層の剥離を低減して、耐傷性に優れた機能性フィルムが得られることを見出した。なお、本発明において隣接とは、ある層が他の層の近傍に存在することをいい、それらの層が互いに接触するものであっても良いし、本発明の効果を阻害しない範囲でそれらの層の間に一以上の別の層が存在するものであっても良い。
機能性フィルムの機能層を保護するため、また機能性フィルム自体を保護するためにアクリル層を設けることは一般に行われているが、アクリル層の硬度が十分ではないため、擦傷耐性を向上させるようにアクリル層上にさらに保護層を設けることがある。しかしながら、アクリル層と保護層との密着力は弱く、機能性フィルムを長期に亘って使用する際に保護層がアクリル層から剥離してしまうことがあり、機能性フィルムの耐傷性を維持できないという問題があった。
そこで、アクリル層と中間層の層間結合と、中間層と保護層の層間結合を強化させることで、各層の密着力を向上させて各層が剥離することを抑えて、機能性フィルムの耐傷性を高い状態で維持することで、耐傷性に優れた機能性フィルムを実現することを可能にした。

（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明に係る機能性フィルムの一例として、太陽熱発電用フィルムミラーの概要を説明する。
フィルムミラー１０は、図１に示すように、樹脂基材３上に機能層である反射層（銀反射層）４を備えており、その反射層４を被覆するアクリル層７と中間層８と保護層９を備えている。保護層とは、フィルムミラーの最表面に設けられ、耐傷性を向上させるハードコート層である。
そして、このフィルムミラー１０においては、保護層９は少なくともポリシロキサン化合物を含有し、中間層８はポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることで、アクリル層７と中間層８の層間結合と、中間層８と保護層９の層間結合が強化されていることを特徴としている。
また、樹脂基材３と反射層４の間にアンカー層を設けてもよい。
また、反射層４の光入射側に紫外線吸収層を設けてもよい。
また、反射層４の光入射側に腐食防止層５を設けることも好ましい態様である。
また、腐食防止層５上に接着層６を設けることも好ましい態様である。
また、樹脂基材３における光入射側とは反対側の面に粘着層２を設けることも好ましい態様である。
フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜２５０μｍが好ましく、より好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。

以下、各層構成の詳細について記載する。

（２）樹脂基材
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。また樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。

樹脂基材は、反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、樹脂基材に紫外線は到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層に紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線吸収層を設けたりすることで、紫外線が樹脂基材により到達しにくくなる。その場合には、紫外線によって劣化しやすい樹脂であっても樹脂機材に用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍであり、より好ましくは３０〜１００μｍである。

（３）アンカー層
アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と反射層とを密着させるものである。従って、アンカー層は、樹脂基材と反射層とを密着する密着性、反射層（銀反射層）を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。

アンカー層に使用する樹脂材料は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。

アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。

アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。厚さが０．０１μｍより薄いと、密着性が悪くなりアンカー層を形成した効果がなく、また樹脂基材表面の凹凸を覆い隠し難くなり、平滑性が悪くなって結果的には反射層の反射率が低くなってしまうので好ましくない。また、厚さが３μｍより厚くても、密着性の向上は望めず、かえって塗りムラの発生により平滑性が悪くなり、アンカー層の硬化が不充分となる場合があるので好ましくない。

（４）反射層
反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。
本発明においては反射層として、銀を主成分とする銀反射層を好ましく用いている。
反射層（銀反射層）の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。

この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。

なお、上記したように反射層の厚さを、例えば３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすれば、その反射層を有する機能性フィルムを太陽熱発電用フィルムミラーとして使用することが可能になる。
また、反射層の厚さを、例えば０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすれば、その反射層を有する機能性フィルムを遮熱フィルムとして使用することが可能になる。

（５）アクリル層
アクリル層は、樹脂基材よりも光入射側に設けられており、紫外線の影響をより受けやすい位置となるため、紫外線に対して強いアクリル樹脂材料を用いることが好ましく、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。また、アクリル層は、反射層よりも光入射側にあるため、光透過性を有する材料からなることが好ましい。

アクリル層にアクリル樹脂フィルムを用いる場合、接着層を介して反射層の上面などに貼付するようにして、樹脂基材上にアクリル層を配設する。
また、アクリル層の形成方法としては、例えば塗布による方法を挙げることができる。塗布方式でアクリル層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。

このアクリル層は、メタクリル樹脂を主成分としていることが好ましい。メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主体とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、メタクリル酸エステル５０重量％以上とこれ以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。ここで、メタクリル酸エステルとしては、通常、メタクリル酸のアルキルエステルが用いられる。特に好ましく用いられるメタクリル樹脂は、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ；Poly(methyl methacrylate)）である。

アクリル層に用いるアクリル樹脂フィルムとしては、透過率８０％以上のフィルムを使用できる。例えば、Korad Transparent Films '05005（Polymer Extruded Products）、アクリプレン HBS006、アクリプレン HBXN47、アクリプレン HBS010（三菱レイヨン）、スミペックス テクノロイ S001G、スミペックス テクノロイS014G、テクノロイ S001GM（住友化学）、パンライトフィルム PC-2151（帝人化成）などを挙げることができる。特に透過率９０％以上のものが好ましい。また、耐光性を付与するために紫外線吸収剤、酸化防止剤などをさらに添加してもよい。これらアクリルフィルムは厚さ３０μｍ〜２００μｍのものが好ましく、厚さ５０〜１２５μｍのものがさらに好ましい。

ここで、高分子フィルムの表面改質法として、プラズマ放電処理、コロナ放電処理などの放電処理や、火炎処理などによって、表面に親水性を付与して塗布性・密着性を向上させる方法が挙げられる。この中でもプラズマ放電処理、コロナ放電処理は処理スピードが速く、効果が高いことから、工業的に有用で広く利用されている。
本発明においては、アクリル層表面をコロナ処理することが好ましい。コロナ放電の印加電圧／極間距離で表される平均電界強度を１〜５０ｋＶ／ｃｍに設定することが好ましく、１〜２０ｋＶ／ｃｍに設定することが更に好ましい。平均電界強度が１ｋＶ／ｃｍ未満では、有効なコロナ放電が発生し難く、表面処理効果が乏しくなる。一方、平均電界強度が５０ｋＶ／ｃｍを超えると、ブロッキングやスパークなどの静電気障害が発生しやすくなる。

（６）中間層
中間層は、アクリル層と保護層の密着力を向上させる構成層である。
この中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している。ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスは、反応性基として水酸基（ＯＨ基）を有している。
中間層の形成方法としては、例えば塗布による方法を挙げることができる。塗布方式で中間層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができ、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している溶液を、例えばアクリル層上に塗布・塗工することで、中間層を形成することができる。
中間層の膜厚は０．１〜５μｍが好ましく、特に好ましくは０．１〜１μｍである。

中間層が、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることで、それらとアクリル層表面の反応性基（ＯＨ基やＣＯＯＨ基など）とが化学結合し、また、それらと保護層中のポリシロキサン化合物とが化学結合することで、中間層とアクリル層の層間結合、中間層と保護層の層間結合がより強固な結合となる。その結果、中間層を介したアクリル層と保護層の密着力が向上する。中間層に含有させることができるセルロースとしては、水溶性セルロースが好ましく、２５℃の水１００ｇに０．１ｇ以上溶解し得るセルロースがより好ましい。

また、中間層がポリイソシアネートを含有することも好ましい。特にポリビニルアルコール樹脂および水溶性セルロースを用いた場合においては、水分散型ポリイソシアネートが好ましい。

中間層に含有させることができるポリイソシアネートとしては、例えば、芳香族ジイソシアネート、芳香脂肪族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、及び、これらジイソシアネートの誘導体や変性体などが挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート、４，４′−トルイジンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルエーテルジイソシアネートなどが挙げられる。
芳香脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、１，３−若しくは１，４−キシリレンジイソシアネート又はその混合物などが挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、１，２−プロピレンジイソシアネート、１，２−ブチレンジイソシアネート、２，３−ブチレンジイソシアネート、１，３−ブチレンジイソシアネート、２，４，４−又は２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエートなどが挙げられる。
脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、１，３−シクロペンテンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、１，３−シクロヘキサンジイソシアネート、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート（イソホロンジイソシアネート）、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチル−２，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−２，６−シクロヘキサンジイソシアネート、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，５（２，６）−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタンなどが挙げられる。

また、ジイソシアネートの誘導体としては、例えば、上記したジイソシアネートのダイマー、トリマー、ビウレット、アロファネート、カルボジイミド、ウレットジオン、オキサジアジントリオン、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（クルードＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ）及びクルードＴＤＩなどが挙げられる。また、例えば、上記したジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソシアヌレート体などが挙げられる。
更に、ジイソシアネートの変性体としては、例えば、上記したポリイソシアネートやポリイソシアネートの誘導体と、ポリオールとを、イソシアネート基が、ポリオールの水酸基よりも過剰となる当量比で反応させることによって得られる、ポリオール変性体などが挙げられる。

これらポリイソシアネートは、単独で用いても良いし、２種以上併用しても良い。
また、これらポリイソシアネートのうち、水との副反応や樹脂の耐候性の観点から、ヘキサメチレンジイソシアネートなど脂肪族ジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）などの脂環族ジイソシアネートが用いられることが好ましい。

また、上記ポリイソシアネートに親水性ポリエーテルを部分的に反応させた親水化ポリイソシアネートや、更にアニオン性基を含有する化合物が用いられることが好ましい。

中間層に含有されるポリイソシアネートとしては、より好ましくは、例えば、水分散型ポリイソシアネート又は水分散型ブロックポリイソシアネートなどが挙げられる。

水分散型ポリイソシアネートとしては、例えば、ポリエチレンオキシド鎖によって親水性が付与されたポリイソシアネートをアニオン性分散剤又はノニオン性分散剤で水に分散させたものなどが挙げられる。

水分散型ポリイソシアネートは、例えば、日本ポリウレタン工業（株）製、商品名：アクアネート１００、アクアネート１１０、アクアネート２００、アクアネート２１０など；住化バイエルウレタン（株）製、商品名：バイヒジュールＴＰＬＳ−２０３２、ＳＵＢ−イソシアネートＬ８０１など；三井化学（株）製、商品名：タケネートＷＤ−７２０、タケネートＷＤ−７２５、タケネートＷＤ−２２０など；大日精化工業（株）製、商品名：レザミンＤ−５６など；ＤＩＣ（株）製、商品名：バーノックＤＮＷ−５５００、ＤＮＷ−６０００などとして商業的に容易に入手することができる。

水分散型ブロックポリイソシアネートは、水分散型ポリイソシアネートのイソシアネート基をブロック化剤でブロックさせたものである。ブロック化剤としては、例えば、マロン酸ジエチル、アセト酢酸エチル、ε−カプロラクタム、ブタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、１，２，４−トリアゾール、ジメチル−１，２，４−トリアゾール、３，５−ジメチルピラゾール、イミダゾールなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのブロック化剤は、それぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。これらのブロック化剤の中では、１６０℃以下の温度、好ましくは１５０℃以下の温度で開裂するものが望ましい。好適なブロック化剤としては、例えば、ブタノンオキシム、シクロへキサノンオキシム、３，５−ジメチルピラゾールなどが挙げられる。これらの中では、ブタノンオキシムがより好ましい。

水分散型ブロックポリイソシアネートは、例えば、三井武田ケミカル（株）製、商品名：タケネートＷＢ−７２０、タケネートＷＢ−７３０、タケネートＷＢ−９２０など；住化バイエルウレタン（株）製、商品名：バイヒジュールＢＬ１１６、バイヒジュールＢＬ５１４０、バイヒジュールＢＬ５２３５、バイヒジュールＴＰＬＳ２１８６、デスモジュールＶＰＬＳ２３１０などとして商業的に容易に入手することができる。

中間層が、ポリイソシアネートを含有することで、中間層とアクリル層の層間結合や、中間層と保護層の層間結合がより一層強化される。

また、中間層が、導電性微粒子を含有することも好ましい。
中間層が、導電性微粒子を含有した場合、中間層が帯電防止層の機能を兼ねることができる。
導電性微粒子としては、１０^７Ω・ｃｍ以下の導電性を有する物質が用いられる。そのような導電性微粒子としては、例えば、金属系粉末（例えば、銅粉末、銀粉末、銅銀合金粉末、銅及び銀を除く他の金属類粉末等）、金属酸化物（例えば、ＡＴＯ、ＩＴＯ、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ_２、Ｃｅ_２Ｏ_３、アンチモン酸亜鉛、アルミドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等）、炭素系化合物（例えば、カーボンブラック、黒鉛、炭素繊維等）、導電性高分子（例えば、ポリオレフィン、ポリアニリン、ポリチオフェン等）が挙げられる。
導電性微粒子の添加量としては、中間層に対して１０〜８０ｗｔ％の範囲内であり、好ましくは１０〜３０ｗｔ％の範囲内である。
また、導電性微粒子の粒径としては、１０〜３００ｎｍの範囲内であり、好ましくは３０〜２００ｎｍの範囲内であり、更に好ましくは３０〜１００ｎｍの範囲内である。

また、中間層は、単層として設けられていても良いし、複数層設けられていても良い。

（７）保護層
保護層は、フィルムミラーの最表層に設けられる構成層（ハードコート層）である。
保護層の膜厚は、厚すぎれば応力によって割れる危険性があり、また、保護層の膜厚が薄すぎれば硬度を維持できない。そのため、膜厚は０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは、１μｍ以上５μｍ以下である。
特に、本発明での保護層は、耐侯性、耐傷性、防汚性を有することが好ましい。耐傷性に関しては、保護層表面の鉛筆硬度はＨ以上６Ｈ未満、加重５００ｇ／ｃｍ^２のスチールウール試験における傷が３０本以下であることが好ましい。防汚性に関しては、保護層の転落角が０°より大きく３０°以下であれば水滴が落ちやすく防汚性に優れるため好ましい。

この保護層は、少なくともポリシロキサン化合物を含有しており、そのポリシロキサン化合物が、アルキルトリアルコキシシラン加水分解物であることが好ましく、またポリシロキサン化合物が、メチルトリアルコキシシラン加水分解物及びポリメチルシロキサンオリゴマーの混合物であることが好ましい。
ポリシロキサン化合物は、熱、紫外線、湿度に対して強く、耐候性が非常に高いため、特に屋外で用いる機能性フィルム（フィルムミラー）においては理想的な保護材料となる。特に、メチルトリアルコキシシラン加水分解物及びポリメチルシロキサンオリゴマーの混合物を用いると防汚性を付与することができ、保護層の防汚性が向上する。

保護層に用いられるポリシロキサン化合物である、ポリオルガノシロキサン系の樹脂材料は、下記の一般式（１）で表される基本骨格を有している。
Ｒ_ｍＳｉ（ＯＲ’）_ｎ ・・・（１）
上記の式（１）において、ＲおよびＲ’は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
具体的には、ポリオルガノシロキサン系の樹脂材料として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートといわれている。

（７−１）保護層の形成
上記した樹脂材料を、樹脂基材上に設けた中間層上に塗工し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで保護層が製膜される。
この保護層となる塗膜の形成方法として、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどによる塗布・塗工方式で形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも製膜することが可能である。
なお、中間層上に塗工される保護層用塗工液の付量は１ｇ／ｍ^２以上１７ｇ／ｍ^２以下であることが好ましい。

保護層用塗工液を中間層上に塗布して製膜した塗膜から溶媒を除去して、塗膜を乾燥させた後に、保護層の硬化・架橋を促進するため加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件としては、３０℃以上１５０℃以下の温度で３０分〜数日間、フィルムロール又はカットシートの状態で熱を加える。樹脂基材の耐熱性の観点から、４０℃以上８０℃以下で４時間以上の条件で加熱処理を行うことが好ましい。
また、このような加熱処理を行うことにより、アクリル層と中間層との層間結合性、及び、中間層と保護層との層間結合性を高めることができる。

そして、本発明では、アクリル層と保護層の両方に層間結合する中間層を介装させるように、アクリル層と中間層と保護層を順に積層することによって、アクリル層に対する保護層の密着性が向上する。
これまで、ポリシロキサン化合物由来の保護層とアクリル層の密着力は弱く、機能性フィルム（フィルムミラー）を長期に亘って使用する際には、保護層がアクリル層から剥離してしまうという問題があった。
そこで、本発明のように、保護層とアクリル層の間に中間層を介装させることで、保護層とアクリル層の密着力を強化することができ、保護層がアクリル層から剥離しにくくなる。その結果、機能性フィルム（フィルムミラー）の耐候性、耐傷性を向上させることが可能となる。

（７−２）紫外線吸収剤
保護層は、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。
有機系の紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる（後述の紫外線吸収層参照）。
また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等の金属酸化物粒子が挙げられる。
特に、保護層は、２５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長を有する紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。このような紫外線吸収剤を含有している保護層は、中間層との界面の劣化が抑制されて、保護層と中間層の密着力を長期に亘って維持でき、保護層の耐久性を向上させることができる。

（８）腐食防止層
腐食防止層は、例えば銀の腐食を防止する層である。従って、腐食防止層は、銀反射層に隣接して設けられることが好ましい。特に、腐食防止層が銀反射層の光入射側に隣接していることがより好ましい。また、銀反射層の両側に腐食防止層を隣接させてもよい。
腐食防止層は、腐食防止剤を含有しており、特に銀反射層に含まれる銀に対する腐食防止剤を含有している。腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。
腐食防止層はバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。セルロースエステル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。腐食防止層は、厚さが３０ｎｍ以上、１μｍ以下であることが好ましい。
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。

（８−１）腐食防止剤
次に腐食防止剤の詳細について説明する。
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。また、シリコン変性樹脂を用いることも可能である。シリコン変性樹脂として特に限定されない。
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２‐エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。

（９）紫外線吸収層
紫外線吸収層は、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層である。紫外線吸収層は、樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましく、腐食防止層を有する場合は腐食防止層よりも光入射側に設けることが好ましい。
紫外線吸収層はバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。セルロースエステル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル系樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル系樹脂が好ましい。紫外線吸収層の厚さは、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。
また、フィルムミラーに紫外線吸収層を設ける以外に、樹脂基材よりも光入射側に設けられた構成層のうちの何れか一層に紫外線吸収剤を添加し、紫外線吸収層を兼ねるようにしてもよい。例えば、保護層に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。

紫外線吸収剤には大別して、有機系と無機系がある。
有機系の紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
また、紫外線吸収剤としては上記以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、より好ましくは３〜１０質量％である。これらの範囲内にすることで、他の構成層の密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させることが可能となる。

（１０）接着層
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。図１に示す例においては、アクリル層と腐食防止層との接着性を高め、アクリル層を樹脂基材側に接着するために接着層が設けられている。従って、接着層は、層同士を密着する密着性及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍである。
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。

（１１）粘着層
粘着層は、フィルムミラーを金属基材に接着し、固定するための構成層である。
この粘着層としては、フィルムミラーを金属基材に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
樹脂基材の裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
粘着層に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
なお、フィルムミラーを金属基材に接着するまで、粘着層は剥離シートで覆われており、粘着層の粘着力を保つようになっている。

（１２）太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置２０は、図１に示すように、フィルムミラー１０と、支持部材としての金属基材１とから構成されている。具体的には、フィルムミラー１０の粘着層２を金属基材１に接着させて、太陽熱発電用反射装置２０が形成されている。

（１２−１）金属基材
金属基材は、貼付されたフィルムミラーを支持し、フィルムミラーの反射面を好適に維持するための支持部材である。
太陽熱発電用反射装置の金属基材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。
これらの金属基材の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。

（１３）フィルムミラーの製造方法
フィルムミラーの製造方法の一例を説明する。
まず、樹脂基材３の上面に、銀を真空蒸着して反射層４を形成する。
次いで、反射層４の上面に腐食防止剤を含有したバインダーを塗工し、乾燥させて腐食防止層５を形成し、その腐食防止層５上に接着層６を形成する。
次いで、接着層６の上面にアクリル樹脂を塗工してアクリル層７を形成する。更に、形成したアクリル層７の上面にコロナ処理を施して表面改質する。コロナ処理によって表面改質されたアクリル層７の上面は、反応性基（ＯＨ基やＣＯＯＨ基など）に富んだ状態になっている。
次いで、そのアクリル層７の上面に、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している溶液を塗工し乾燥させて中間層８を形成する。次いで、中間層８の上面に、ポリシロキサン化合物を含有している溶液を塗工し乾燥させて保護層９を形成する。さらに、アクリル層７と中間層８と保護層９に加熱処理を施すことが好ましく、保護層の硬化・架橋を促進することができるとともに、アクリル層７と中間層８の層間結合および中間層８と保護層９の層間結合を強化することができる。
そして、樹脂基材３の裏面に粘着層２を設けることで、フィルムミラー１０が得られる。
また、このフィルムミラー１０の粘着層２を金属基材１に接着させれば、太陽熱発電用反射装置２０を製造できる。

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

［フィルムミラーの作製方法］
［フィルムミラー１；ＦＭ１の作製］
樹脂基材３として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ１００ｎｍのアンカー層（腐食防止層）を形成した。
続いて、アンカー層上に、真空蒸着法によって銀膜を８０ｎｍになるように製膜し、反射層４を形成した。
次に、上記アンカー層のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、反射層４上に腐食防止層５を形成した。その腐食防止層５上に、紫外線吸収ポリマー「ニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ」（新中村化学製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして、紫外線吸収層を形成した。
次に、紫外線吸収層上に、接着剤ＴＢＳ−７３０（大日本インキ社製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして接着層６を作製し、その上から紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルム、スミペックス テクノロイ Ｓ００１Ｇ ７５μｍ（住友化学株式会社製）を貼り合わせて、アクリル層７を形成した。
続いて、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に５質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した。中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
続いて、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＮＰ−７２０（動研社製：３０質量％のメタノール／１−プロパノールの混合溶液）を中間層８上に塗布し、８０℃で９０秒乾燥した後に、４５℃で４８時間加熱処理を行い、保護層９を設けることでフィルムミラー１（ＦＭ１）を作製した。この保護層９の乾燥膜厚は３μｍであった。

［フィルムミラー２；ＦＭ２の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ＥＭ３２（セメダイン株式会社製）を水に分散し、５質量％とした中間層塗工液Ｎｏ．２をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー２（ＦＭ２）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラー３；ＦＭ３の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ダイセルＣＭＣ １１２０（ダイセルファインケム社製）を水に溶解し、５質量％とした中間層塗工液Ｎｏ．３をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー３（ＦＭ３）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラー４；ＦＭ４の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ダイセルＨＥＣ ＳＰ２００（ダイセルファインケム社製）を水に溶解し、５質量％とした中間層塗工液Ｎｏ．４をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー４（ＦＭ４）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラー５；ＦＭ５の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、Ｊ珪酸ソーダ１号（日本化学工業株式会社製）を水に溶解し、５質量％とした中間層塗工液Ｎｏ．５をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー５（ＦＭ５）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラー６；ＦＭ６の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ２）の作製において、中間層塗工液Ｎｏ．２を塗布して形成した中間層上に、更に前記中間層塗工液Ｎｏ．１を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー２（ＦＭ２）と同様にして、フィルムミラー６（ＦＭ６）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は１．０μｍであった。

［フィルムミラー７；ＦＭ７の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ５）の作製において、中間層塗工液Ｎｏ．５を塗布して形成した中間層上に、更に前記中間層塗工液Ｎｏ．１を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー５（ＦＭ５）と同様にして、フィルムミラー７（ＦＭ７）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は１．０μｍであった。

［フィルムミラー８；ＦＭ８の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、下記の中間層塗工液Ｎｏ．８をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー８（ＦＭ８）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
・中間層塗工液Ｎｏ．８
ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製） ４．５質量部
デュラネートＷＴ２０−１００（旭化成ケミカルズ株式会社製） ０．５質量部
水 ９５．０質量部

［フィルムミラー９；ＦＭ９の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、下記の中間層塗工液Ｎｏ．９をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー９（ＦＭ９）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
・中間層塗工液Ｎｏ．９
ダイセルＣＭＣ １１２０（ダイセルファインケム社製） ４．５質量部
デュラネートＷＴ２０−１００（旭化成ケミカルズ株式会社製） ０．５質量部
水 ９５．０質量部

［フィルムミラー１０；ＦＭ１０の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、下記の中間層塗工液Ｎｏ．１０をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１０（ＦＭ１０）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
・中間層塗工液Ｎｏ．１０
ＥＭ３２（セメダイン株式会社製） ４．５質量部
デュラネートＷＴ２０−１００（旭化成ケミカルズ株式会社製） ０．５質量部
水 ９５．０質量部

［フィルムミラー１１；ＦＭ１１の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に１質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１１をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１１（ＦＭ１１）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．１μｍであった。

［フィルムミラー１２；ＦＭ１２の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に１０質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１２をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１２（ＦＭ１２）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は１．０μｍであった。

［フィルムミラー１３；ＦＭ１３の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に１５質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１３をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１３（ＦＭ１３）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は５．０μｍであった。

［フィルムミラー１４；ＦＭ１４の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に１５質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１３をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１４（ＦＭ１４）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は５．５μｍであった。

［フィルムミラー１５；ＦＭ１５の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の作製において、中間層を塗工せずに、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＮＰ−７２０（動研社製：３０質量％のメタノール／１−プロパノールの混合溶液）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で９０秒乾燥した後に、４５℃で４８時間加熱処理を行い、保護層９を設けて、フィルムミラー１５（ＦＭ１５）を作製した。この保護層９の乾燥膜厚は３μｍであった。

［フィルムミラー１６；ＦＭ１６の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の作製において、保護層９を塗工せずに、中間層８を最表面としたフィルムミラー１６（ＦＭ１６）を作製した。

［フィルムミラーの評価］
上記のように作製したフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１６）について、下記の方法に従って、反射率の測定、サンドブラストによる耐傷性に関する評価、紫外線照射に対する耐候性に関する評価を行った。

〈初期反射率の測定〉
作製したフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１６）の反射率を測定した。
ここでは、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に積分球反射付属装置を取り付け改造し、反射面の法線に対して入射光の入射角を５°となるように調整した装置を用いて、各フィルムミラーの反射角５°での正反射率を２５０ｎｍから２５００ｎｍの範囲で測定し、平均反射率を反射率とした。フィルムミラー作製直後に測定した反射率を初期反射率とした。

〈サンドブラスト評価〉
所定の位置に傾斜角６０°となるように作製したフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１６）を取り付け、そのフィルムミラーの反射面に向けて、＃６０のガラスビーズ（ＪＩＳ Ｚ ８９０１準拠のＧＢＬ＃６０）を風速２０メートル毎秒で５分間吹き付けた後に（サンドブラスト試験）、エタノールにて表面に付着した砂を取り除いた試料（フィルムミラー）の反射率を測定した。サンドブラスト試験前後の２５０〜２５００ｎｍの反射率差を評価した。サンドブラスト試験前後の反射率差が小さいものほど耐傷性に優れている。

〈耐候性評価〉
作製したフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１６）に岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で２０００時間の紫外線照射処理を施した後に、反射率を測定し、紫外線照射前後の反射率差を求めた。紫外線照射前後の反射率差が小さいものほど耐候性に優れていることを示している。

これらフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１６）の評価結果を、表１に示す。

表１に示した結果から明らかなように、フィルムミラーの中間層８に、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有しているフィルムミラー（ＦＭ１〜ＦＭ１４）であれば、サンドブラスト評価における反射率低下幅が小さく耐傷性が良好であり、且つ耐光性も良好なことがわかる。
特に、中間層８が、ポリイソシアネート（ポリシロキサン化合物）を含有しているフィルムミラー（ＦＭ８〜ＦＭ１０）の耐傷性は良好である。

［フィルムミラー１７；ＦＭ１７の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、下記の中間層塗工液Ｎｏ．１７をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１７（ＦＭ１７）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
・中間層塗工液Ｎｏ．１７
ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製） ３．５質量部
セルナックスＣＸ−Ｚ３３０Ｈ（日産化学工業株式会社製） １．５質量部
水 ９５．０質量部
なお、セルナックスＣＸ−Ｚ３３０Ｈは、中間層８に帯電防止効果を付与すべく、導電性微粒子として中間層塗工液Ｎｏ．１７に含有させたものである。

［フィルムミラー１８；ＦＭ１８の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１）の中間層の代わりに、下記の中間層塗工液Ｎｏ．１８をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１（ＦＭ１）と同様にして、フィルムミラー１８（ＦＭ１８）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
・中間層塗工液Ｎｏ．１８
ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製） ３．０質量部
セルナックスＣＸ−Ｚ３３０Ｈ（日産化学工業株式会社製） １．５質量部
デュラネートＷＴ２０−１００（旭化成ケミカルズ株式会社製） ０．５質量部
水 ９５．０質量部
なお、セルナックスＣＸ−Ｚ３３０Ｈは、中間層８に帯電防止効果を付与すべく、導電性微粒子として中間層塗工液Ｎｏ．１８に含有させたものである。

［フィルムミラーの評価］
上記のように作製したフィルムミラー（ＦＭ１、ＦＭ８、ＦＭ１５〜ＦＭ１８）について、上記と同様にして、初期反射率の測定、サンドブラスト評価及び耐候性評価を行った。更に、下記の方法に従って、砂付着性に関する評価を行った。

〈砂付着性の測定〉
ＪＩＳ Ｚ ８９０１に規定されたＪＩＳ試験用粉体３種を、１５０℃オーブンで２時間加熱した後、デシケーターにて放冷した粒子１０００ｇを、６０°に傾けた試料の上方６０ｃｍより、１分間当たり１００ｇの粒子を振りかけ、砂が付着した状態で光沢計ＧＭ−２６８（コニカミノルタ製）を用いて８５°の反射率を測定し、砂付着前後の反射率差を求めた。砂付着前後の反射率差が小さいものほど、砂付着が抑制されており、優れていることを示している。

これらフィルムミラー（ＦＭ１、ＦＭ８、ＦＭ１５〜ＦＭ１８）の評価結果を、表２に示す。

表２に示した結果から明らかなように、フィルムミラーの中間層８に、導電性微粒子を含有しているフィルムミラー（ＦＭ１７、ＦＭ１８）であれば、砂付着性が大幅に改善され、砂付着による反射率低下が少なくなることがわかる。つまり、導電性微粒子を含有するフィルムミラーの表面は砂が付着しにくくなっている。このため、フィルムミラー洗浄時に、付着した砂がフィルムミラーの表面に擦り付けられることを抑制でき、結果として耐傷性に優れたフィルムミラーとすることができる。

以上のように、本発明によれば、耐傷性に優れたフィルムミラー（機能性フィルム）を得ることができる。

［フィルムミラー１９；ＦＭ１９の作製］
樹脂基材３として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ１００ｎｍのアンカー層（腐食防止層）を形成した。
続いて、アンカー層上に、真空蒸着法によって銀膜を８０ｎｍになるように製膜し、反射層４を形成した。
次に、上記アンカー層のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、反射層４上に腐食防止層５を形成した。その腐食防止層５上に、紫外線吸収ポリマー「ニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ」（新中村化学製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして、紫外線吸収層を形成した。
次に、紫外線吸収層上に、接着剤ＴＢＳ−７３０（大日本インキ社製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして接着層６を作製し、その上から紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルム、スミペックス テクノロイ Ｓ００１Ｇ ７５μｍ（住友化学株式会社製）を貼り合わせて、アクリル層７を形成した。
アクリルフィルムの接着層６と接する反対面に、搬送速度２０ｍ／分、フィルム面とコロナ放電面との距離を２ｍｍとして、１０ｋＷのコロナ放電により表面処理を行った。
続いて、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に５質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した。中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
続いて、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＮＰ−７２０（動研社製：３０質量％のメタノール／１−プロパノールの混合溶液）を中間層８上に塗布し、８０℃で９０秒乾燥した後に、４５℃で４８時間加熱処理を行い、保護層９を設けることでフィルムミラー１９（ＦＭ１９）を作製した。この保護層９の乾燥膜厚は３μｍであった。

［フィルムミラー２０；ＦＭ２０の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１９）のコロナ放電による表面処理を行ったアクリル層７表面に、前記中間層塗工液Ｎｏ．８を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１９（ＦＭ１９）と同様にして、フィルムミラー２０（ＦＭ２０）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラー２１；ＦＭ２１の作製］
上記フィルムミラー（ＦＭ１９）のコロナ放電による表面処理を行ったアクリル層７表面に、前記中間層塗工液Ｎｏ．１８を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、フィルムミラー１９（ＦＭ１９）と同様にして、フィルムミラー２１（ＦＭ２１）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［フィルムミラーの評価］
上記のように作製したフィルムミラー（ＦＭ１、ＦＭ８、ＦＭ１５、ＦＭ１６、ＦＭ１８〜ＦＭ２１）について、上記と同様にして、初期反射率の測定及び耐候性評価を行った。更に、下記の方法に従って、密着性に関する評価を行った。

〈密着性評価〉
作製したフィルムミラーに旧ＪＩＳ Ｋ ５４００で規定された碁盤目テープ試験を模して、１００マスの切れ込みを作り、下記２条件にて密着性を評価した。１００マス中の残数が多いものほど密着性が優れていることを示す。
１．フィルム作製直後にテープ試験を行い、テープ剥離回数５回目を評価した（初期密着性）。
２．作製したフィルムミラーに岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で２０００時間の紫外線照射処理を施した後にテープ試験を行い、テープ剥離回数５回目を評価した（耐候性評価後密着性）。

これらフィルムミラー（ＦＭ１、ＦＭ８、ＦＭ１５、ＦＭ１６、ＦＭ１８〜ＦＭ２１）の評価結果を、表３に示す。

表３に示した結果から明らかなように、フィルムミラーのアクリル層７の表面に対し、コロナ放電による表面処理を行うことにより、耐候性評価後の密着性が大きく向上することがわかる。

［遮熱フィルムの作製方法］
［遮熱フィルム１；ＨＳ−１の作製］
樹脂基材３として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。このポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ１００ｎｍのアンカー層（腐食防止層）を形成した。
続いて、アンカー層上に、真空蒸着法によって銀膜を１０ｎｍになるように製膜し、反射層４を形成した。
次に、上記アンカー層のグリコールジメルカプトアセテートの代わりにＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を用いた以外は同様にして、反射層４上に腐食防止層５を形成した。その腐食防止層５上に、紫外線吸収ポリマー「ニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ」（新中村化学製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして、紫外線吸収層を形成した。
次に、紫外線吸収層上に、接着剤ＴＢＳ−７３０（大日本インキ社製）を厚さ５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして接着層６を作製し、その上から紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルム、スミペックス テクノロイ Ｓ００１Ｇ ７５μｍ（住友化学株式会社製）を貼り合わせて、アクリル層７を形成した。
アクリルフィルムの接着層６と接する反対面に、搬送速度２０ｍ／分、フィルム面とコロナ放電面との距離を２ｍｍとして、１０ｋＷのコロナ放電により表面処理を行った。
続いて、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に５質量％溶解した中間層塗工液Ｎｏ．１をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した。中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。
続いて、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＮＰ−７２０（動研社製：３０質量％のメタノール／１−プロパノールの混合溶液）を中間層８上に塗布し、８０℃で９０秒乾燥した後に、４５℃で４８時間加熱処理を行い、保護層９を設けることで遮熱フィルム１（ＨＳ−１）を作製した。この保護層９の乾燥膜厚は３μｍであった。

［遮熱フィルム２；ＨＳ−２の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−１）の中間層の代わりに、ＥＭ３２（セメダイン株式会社製）を水に分散し、５質量％とした中間層塗工液Ｎｏ．２（フィルムミラーＦＭ２で用いたもの）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、遮熱フィルム（ＨＳ−１）と同様にして、遮熱フィルム２（ＨＳ−２）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［遮熱フィルム３；ＨＳ−３の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−１）の中間層の代わりに、前述の中間層塗工液Ｎｏ．８（フィルムミラーＦＭ８で用いたもの）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、遮熱フィルム（ＨＳ−１）と同様にして、遮熱フィルム３（ＨＳ−３）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［遮熱フィルム４；ＨＳ−４の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−１）の中間層の代わりに、前述の中間層塗工液Ｎｏ．１７（フィルムミラーＦＭ１７で用いたもの）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、遮熱フィルム（ＨＳ−１）と同様にして、遮熱フィルム４（ＨＳ−４）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［遮熱フィルム５；ＨＳ−５の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−１）の中間層の代わりに、前述の中間層塗工液Ｎｏ．１８（フィルムミラーＦＭ１８で用いたもの）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、遮熱フィルム（ＨＳ−１）と同様にして、遮熱フィルム５（ＨＳ−５）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［遮熱フィルム６；ＨＳ−６の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−１）の作製において、アクリル層７に対してコロナ放電による表面処理を行わず、前述の中間層塗工液Ｎｏ．１（フィルムミラーＦＭ１で用いたもの）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層８を形成した以外は、遮熱フィルム（ＨＳ−１）と同様にして、遮熱フィルム６（ＨＳ−６）を作製した。この中間層８の乾燥膜厚は０．５μｍであった。

［遮熱フィルム７；ＨＳ−７の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−６）の作製において、中間層を塗工せずに、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＮＰ−７２０（動研社製：３０質量％のメタノール／１−プロパノールの混合溶液）をアクリル層７上に塗布し、８０℃で９０秒乾燥した後に、４５℃で４８時間加熱処理を行い、保護層９を設けて、遮熱フィルム７（ＨＳ−７）を作製した。この保護層９の乾燥膜厚は３μｍであった。

［遮熱フィルム８；ＨＳ−８の作製］
上記遮熱フィルム（ＨＳ−６）の作製において、保護層９を塗工せずに、中間層８を最表面とした遮熱フィルム８（ＨＳ−８）を作製した。

［遮熱フィルムの評価］
上記のように作製した遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−８）について、下記の方法に従って、透過率の測定、サンドブラストによる耐傷性に関する評価、紫外線照射に対する耐候性に関する評価、砂付着性に関する評価、紫外線照射後の密着性に関する評価を行った。

〈初期透過率の測定〉
作製した遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−８）の透過率を測定した。
ここでは、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５に積分球反射付属装置を取り付け改造した装置を用いて、その透過率を３８０〜７８０ｎｍの範囲で測定し、平均透過率を透過率とした。
また、作製した遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−７）に岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で３００時間の紫外線照射処理を施し、その遮熱フィルムの透過率をＵＶ後の透過率とした。フィルムミラー作製直後に測定した透過率を初期透過率とした。

〈耐候性評価〉
作製した遮熱フィルムに岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で１０００時間の紫外線照射処理を施した後に、透過率を測定し、紫外線照射前後の透過率差を求めた。紫外線照射前後の透過率差が小さいものほど耐候性に優れることを示している。

〈サンドブラストによる耐傷性評価〉
所定の位置に傾斜角６０°となるように作製した遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−７）を取り付け、その遮熱フィルムの保護層面（あるいは中間層面）に向けて、＃６０のガラスビーズ（ＪＩＳ Ｚ ８９０１準拠のＧＢＬ＃６０）を風速２０メートル毎秒で５分間吹き付けた後に（サンドブラスト試験）、エタノールにて表面に付着した砂を取り除いた試料（遮熱フィルム）の透過率を測定した。サンドブラスト試験前後の３８０〜７８０ｎｍの透過率差を評価した。サンドブラスト試験前後の透過率差が小さいものほど耐傷性に優れている。

〈砂付着性の測定〉
ＪＩＳ Ｚ ８９０１に規定されたＪＩＳ試験用粉体３種を、１５０℃オーブンで２時間加熱した後、デシケーターにて放冷した粒子１０００ｇを、６０°に傾けた試料の上方６０ｃｍより、１分間当たり１００ｇの粒子を振りかけ、砂が付着した状態で光沢計ＧＭ−２６８（コニカミノルタ製）を用いて８５°の透過率を測定し、砂付着前後の透過率差を求めた。砂付着前後の透過率が小さいものほど、砂付着が抑制されており、優れていることを示している。

〈密着性評価〉
作製した遮熱フィルムに旧ＪＩＳ Ｋ ５４００で規定された碁盤目テープ試験を模して、１００マスの切れ込みを作り、下記条件にて密着性を評価した。１００マス中の残数が多いものほど密着性が優れていることを示す。
作製したフィルムミラーに岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６３℃の環境下で１０００時間の紫外線照射処理を施した後にテープ試験を行い、テープ剥離回数５回目を評価した。

これら遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−８）の評価結果を、表４に示す。

表４に示した結果から明らかなように、遮熱フィルムの中間層８に、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している遮熱フィルム（ＨＳ−１〜ＨＳ−６）であれば、サンドブラスト評価における透過率低下幅が小さく耐傷性が良好であり、且つ耐光性も良好なことがわかる。
特に、中間層８が、ポリイソシアネート（ポリシロキサン化合物）を含有している遮熱フィルム（ＨＳ−３，ＨＳ−５）の耐傷性は良好である。

以上のように、本発明によれば、耐傷性に優れた遮熱フィルム（機能性フィルム）を得ることができる。

なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。

以上のように、本発明は、耐傷性に優れた機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法を提供することに適している。

１ 金属基材
２ 粘着層
３ 樹脂基材
４ 反射層
５ 腐食防止層
６ 接着層
７ アクリル層
８ 中間層
９ 保護層
１０ フィルムミラー
２０ 太陽熱発電用反射装置

Claims (7)

1. 樹脂基材上に、アクリル層、中間層、保護層が順に隣接して、前記保護層が最表面に設けられている機能性フィルムであって、
   前記保護層は、少なくともポリシロキサン化合物を含有しており、
   前記中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることを特徴とする機能性フィルム。
2. 前記中間層が、ポリイソシアネートを含有していることを特徴とする請求項１に記載の機能性フィルム。
3. 前記中間層が、導電性微粒子を含有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の機能性フィルム。
4. 当該機能性フィルムは、厚さ３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラーであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の機能性フィルム。
5. 当該機能性フィルムは、厚さ０．１ｎｍ以上５０ｎｍ以下の反射層を有する遮熱フィルムであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の機能性フィルム。
6. 樹脂基材上に、アクリル層と中間層と保護層とを備えた機能性フィルムの製造方法であって、
   前記樹脂基材の上面側に、前記アクリル層を設ける工程と、
   前記アクリル層の上面にコロナ処理を施す工程と、
   前記アクリル層上に、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している中間層を形成する工程と、
   前記中間層上に、少なくともポリシロキサン化合物を含有している保護層を形成する工程と、
   を有することを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
7. 前記アクリル層と前記中間層および／または前記中間層と前記保護層が、層間結合するように加熱処理を施す工程を有することを特徴とする請求項６に記載の機能性フィルムの製造方法。

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