JPWO2010013843A1 - 積層インダクタ、その製造方法、及び積層チョークコイル - Google Patents
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Abstract
Description
積層パワーチョークコイル(積層チョークコイル)においては、磁束の集中する場所に非磁性層を磁性層との同時焼成によって形成することによって磁気飽和を抑制し、重畳特性を向上させる手法がとられている。
このような手法のひとつとして、特許文献1及び2には、非磁性層を、例えば、構成元素が磁性層を構成するNi−Zn−Cuフェライトに近いZn−Cuフェライトとすることが記載されている。
また、特許文献3には、ZnFe2O4、TiO2、WO2、Ta2O5、コージエライト系セラミックス、BaSnN系セラミックス、CaMgSiAlB系セラミックスのいずれかよりなるセラミックスを非磁性層として用いることが記載されている。
しかし、特許文献3には、磁性層としてNi−Zn−Cuフェライトを用いることについては記載がなく、また、非磁性層としてはZnFe2O4(亜鉛フェライト)が具体的に記載されているにすぎず、TiO2は具体的に記載されていない。
一方、特許文献4には、「TiO2に、ZrO2:0.1〜10wt%、CuO:1.5〜6.0wt%、Mn3O4:0.2〜20wt%、NiO:2.0〜15wt%を配合し、その合計が 100wt%となるようにした誘電体磁器組成物。」が記載され、特許文献5には、「CuO(1.0〜5.0wt%)、Mn3O4(0.2〜10wt%)、NiO(0.5〜14wt%)、Ag2O(0.1〜10wt%)および残部TiO2からなることを特徴とする誘電体磁器組成物。」が記載されているが、いずれも、インダクタ・コンデンサ複合部品のコンデンサ部の材料として用いることが示唆されているだけで、積層インダクタの非磁性層として用いることは示されていない。
しかしながら、特許文献1及び2に記載されているように、非磁性層をZn−Cuフェライトとした場合には、同時焼成において、Zn−CuフェライトのZn成分がNi−Zn−Cuフェライトに拡散し、また、Ni−Zn−CuフェライトのNi成分がZn−Cuフェライトに拡散して、Ni濃度が傾斜的に変化するNi−Zn−Cuフェライト層を形成してしまい、拡散層はNi濃度傾斜に伴いキュリー点の異なるNi−Zn−Cuフェライトとなっており、温度上昇に伴って、Ni濃度の低いところから、磁性体から非磁性体に変化する。したがって、温度によって見かけ上の非磁性層の厚みが変化するため、製品の温度特性を悪化させてしまうという問題があった。
また、積層チョークコイルは、コイルを構成する導体層と磁性体層とが交互に積層され間に非磁性層が少なくとも一つ挿入される導体層形成領域と、その積層方向の上下にそれぞれ配置されコイルの内側に形成される磁束とコイルの外側に形成される磁束とをつなぐヨークの働きをする磁性体層からなるヨーク領域とを有する。このため、積層チョークコイルの焼成の際に、コイルを構成する導体層形成領域においてはコイルを構成する導体層を構成する金属の焼結と磁性体層を構成する磁性材料の焼結とが相互に影響しあいながら焼結が進行する一方、ヨーク領域においては磁性材料を主体とする焼結が進行し、両者の間に潜在応力が生じやすい。このため、コイルを構成する導体層形成領域内に配置され、磁性体層やコイル導体層との親和性が低い非磁性層部分が潜在応力緩和のはけ口となり、非磁性層と、これに接する磁性体層もしくはコイルを構成する導体層との間に、層間剥離が生じやすい。
Zn−Cuフェライト以外の非磁性材料としてはガラス系の材料が一般的に知られているが、線膨張係数がフェライトと異なるため、同時焼成すると接合界面に層間剥離が発生する。
また、磁性層と同時焼成可能な非磁性材料としてTiO2の低温焼成材を適用したが、相互拡散界面の形成が十分ではなく、界面層での剥離を生じるものがあった。
(1)電源回路のチョークコイルとして用いられる積層インダクタであって、Ni−Zn−Cuフェライトからなる複数の磁性体層と、該磁性体層を介して積層されることによりコイルを構成する複数の導体層と、前記複数の磁性体層に接するように形成されTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる少なくとも一つの非磁性層と、を備える直方体形状の積層体チップ、および該積層体チップの端部に設けられ前記コイルの端部に導電接続された少なくとも一対の外部電極、を有する。
(2)前記積層体チップは、前記磁性体層のNi−Zn−Cuフェライトと前記非磁性層のTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体が相互拡散して接合界面を形成している前記(1)の積層インダクタ。
(3)前記非磁性層が、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体からなる前記(1)又は(2)の積層インダクタ。
(4)前記誘電体が、酸化物換算で、TiO2、NiO:2.0〜15質量%、CuO:1.5〜6.0質量%、Mn3O4:0.2〜20質量%、ZrO2:0.1〜10質量%、及びAg2O:0.01〜10質量%を含み、その合計が100質量%となるように構成されたものである前記(3)の積層インダクタ。
(5)Fe2O3、NiO、ZnO、及びCuOを含有するフェライト粉末のペーストを準備する工程と、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体粉末のペーストを準備する工程と、前記フェライト粉末のペーストの塗布により形成された磁性体シート上に導電ペーストパターンを印刷し、これを上下に接する前記磁性体シート間の導電ペーストパターンがスルーホールを介して互いに接続され螺旋状のコイルが構成されるように、且つ前記誘電体粉末のペーストの塗布により形成される非磁性シートもしくは前記誘電体粉末のペーストの印刷により形成される非磁性パターンが間に少なくとも一つ挿入されるように、積層圧着して積層体とする工程と、この積層体を焼成して積層体チップを得る工程と、を有する積層インダクタの製造方法。
(6)Fe2O3、NiO、ZnO、及びCuOを含有するフェライト粉末のペーストを準備する工程と、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体粉末のペーストを準備する工程と、前記フェライト粉末のペーストの塗布により形成された磁性体シート上に、導電ペーストパターンの印刷と、磁性体ペーストパターンを得るための前記フェライト粉末のペーストの印刷とを、交互に、且つ前記誘電体粉末のペーストの印刷により形成される非磁性パターンが間に少なくとも一つ挿入されるように行なって積層体とする工程と、この積層体を焼成して積層体チップを得る工程と、を有する積層インダクタの製造方法。
(7)前記積層体を焼成して積層体チップを得る工程が、前記磁性体シートもしくは磁性体ペーストパターンから形成される磁性体層のNi−Zn−Cuフェライトと前記非磁性シート若しくは非磁性パターンから形成される非磁性層のTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体を相互拡散させて接合界面を形成させる前記(5)又は(6)の積層インダクタの製造方法。
(8)前記誘電体粉末として、TiO2に、NiO:2.0〜15質量%、CuO:1.5〜6.0質量%、Mn3O4:0.2〜20質量%、ZrO2:0.1〜10質量%、及びAg2O:0.01〜10質量%を配合し、その合計が100質量%となるように構成されたものを用いる前記(5)又は(6)の積層インダクタの製造方法。
(9)コイルを構成する導体層と磁性体層とが交互に積層され間に非磁性層が少なくとも一つ挿入される導体層形成領域と、その積層方向の上下にそれぞれ配置されコイルの内側に形成される磁束とコイルの外側に形成される磁束とをつなぐヨークの働きをする磁性体層からなるヨーク領域とを有する積層チョークコイルにおいて、前記磁性体層がNi−Zn−Cuフェライトからなり、前記非磁性層がTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる。
本発明の前記目的とそれ以外の目的と、構成特徴と、作用効果は、以下の説明と添付図面によって明らかとなる。
図2は本発明の積層インダクタの積層体チップの内部構造を示す分解斜視図である。
図3は本発明の積層インダクタの実施例と比較例の積層インダクタにおける磁性体層と非磁性層との積層界面の上記図1において破線で囲まれる領域Aの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した状態を示す図であり、図3(a)は実施例の積層インダクタを示し、図3(b)は比較例の積層インダクタを示す。
図4は非磁性層の材料組織(図中dはAgがメタルとして材料中に分離して析出している様子)を示す図である。
図5は実施例と比較例の積層インダクタにおけるインダクタンスの温度特性変化を示す図である。
図2に示されるように、積層体チップ1はコイルを構成する複数の導体層2,2が磁性体層3を介して積層された構造を有しており、積層体チップ1の積層方向中央には磁性体層3の少なくとも一つと置換する形態で非磁性層4が介装されている。
本発明において、積層体チップ1は、Ni−Zn−Cuフェライトからなる複数の磁性体層3,3とTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる非磁性層4とを含む。上記Ni−Zn−Cuフェライトとしては、Fe2O3とNiOとZnOとCuOとを含有するフェライトである。また、上記Ti−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる非磁性層4は、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O(Ag2Oの代わりにAgを用いても良い)を含有する誘電体であり、TiO2に、NiO:2.0〜15質量%、CuO:1.5〜6.0質量%、Mn3O4:0.2〜20質量%、ZrO2:0.1〜10質量%、及びAg2O:0.01〜10質量%を配合し、その合計が100質量%となるようにしたものであることが好ましい。
非磁性層4に助剤としてCuO、Mn3O4を加えることにより、焼成の際に、これらがTiO2の一部と反応してCu−Mn−Ti−O系の液相を生成し、この液相生成によりTiO2が低温で緻密化し、粒子の成長が急速に進行する。一方、ZrO2は、TiO2、CuO、Mn3O4と比べて融点が高いため、前記Cu−Mn−Ti−O系の液相にZrが加わることにより、液相の融点並びに粘度が高くなり、その結果、TiO2粒子の液相焼結による粒成長の速度が調整され、酸素欠陥の少ないTiO2低温焼成材が得られる。
本発明においては、上記のようなTiO2低温焼成材に、さらにAg2O(若しくはAg)を添加して非磁性層4を構成することにより、界面における材料成分の相互拡散を促進し、界面強度を改善した。すなわち、磁性体層3のNi−Zn−Cuフェライトと非磁性層4のTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体は、同時焼成により相互拡散して接合界面を形成している。図3に示されるように、Agを添加した非磁性層を備えることによりAg未添加の非磁性層を備える場合よりも、相互拡散が促進される。接合界面にFe2TiO5を生成し、磁気ギャップ層を形成していると推定される。
また、上記のようなTiO2低温焼成材に、さらにAg2O(もしくはAg)を添加して非磁性層4を構成することにより、積層チョークコイルの焼成工程における冷却過程で、図4に示されるように、Agがメタル成分として非磁性層4内に材料から分離して析出する。このため、磁性体層3のフェライトと非磁性層4のTiO2低温焼成材との間に発生する応力を緩和し、層間剥離の発生を抑制するとともに、インダクタンスの低下を抑制し、また、TiO2を主成分とするTiO2低温焼成材の特性悪化を生じない。
主成分であるTiO2は、50質量%以上が好ましく、70〜98質量%がより好ましい。
Ag2Oの含有量は、0.01質量%より少ないと、層間剥離、インダクタンス低下の抑制の効果が充分でなく、10質量%を超えると、効果が飽和すると共に、Ag粒子同士が相互接続されたネットワーク構造が形成されて絶縁体としての特性が急激に低下するので、0.01〜10質量%が好ましい。
磁性体層3の上側それぞれには、Ag等の金属材料からなりコイルを構成するコ字形の導体層2が配されている。また、磁性体層3のそれぞれには、上側と下側の導体層2,2を磁性体層3,3をそれぞれ介して接続するためのスルーホール5,5がコイルを構成する導体層2,2の端部と重なるように形成されている。ここでのスルーホール5,5とは、磁性体層に予め形成した孔にコイルを構成する導体層と同一材料を充填したものを指す。
最上部及び最下部の磁性体層はヨーク領域7、7であり、コイルの内側に形成される磁束とコイルの外側に形成される磁束とをつなぐヨークの働きをするとともに上下部のマージンを確保するためのもので、該磁性体層にはコイルを構成する導体層及びスルーホールは形成されていない。
非磁性層4の上側には、Ag等の金属材料からなりコイルを構成するコ字形の導体層2が配されている。また、非磁性層4には、上側と下側の導体層2,2同士を非磁性層4を介して接続するためのスルーホール5がコイルを構成する導体層2,2の端部と重なるように形成されている。
コイルを構成する導体層2,2・・・・・はスルーホール5,5・・・・・を介し接続されて螺旋状のコイルを構成する。コイルを構成する最上位の導体層2と最下位の導体層2にはそれぞれ引出し部6,6が設けられていて、引出し部6,6のうちの一方は外部電極8,8の一方に接続され、引出し部6,6のうちの他方は外部電極8,8の他方に接続されている。
次に、本発明の積層インダクタの製造方法の第1の実施形態について説明する。
まず、積層インダクタの製造に際しては、Ni−Zn−Cuフェライトからなる高透磁率の磁性体層3を構成するための磁性体シート(フェライトシート)を作製する。具体的には、Fe2O3、NiO、CuO、ZnOを主材料とする仮焼粉砕後のフェライト微粉末に、エタノール等の溶剤とPVA等のバインダを添加、混合してフェライト粉末のペーストを得た後、このフェライト粉末のペーストをPET等のフィルム上にドクターブレード法等の手法によって面状に塗布して磁性体シート(フェライトシート)を得る。
また、Ti−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる非磁性層(4)を構成するための非磁性シート(誘電体シート)もしくは非磁性パターンを作製する。具体的には、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O(若しくはAg)を含有する誘電体粉末に、上記と同様に、溶剤とバインダを添加、混合して誘電体粉末のペーストを得た後、この誘電体粉末のペーストをPET等のフィルム上にドクターブレード法やスラリービルド法等の手法によって面状に塗布して非磁性シート(誘電体シート)を、もしくはパターン状に印刷して非磁性パターンを得る。
そして、磁性体シートと非磁性シートにスルーホール5を形成するための孔を金型による打ち抜きやレーザ加工による穿孔等の手法によって所定配列で形成する。そして、スルーホールを形成するための孔を形成した後の磁性体シート上と非磁性シート上にスクリーン印刷等の手法によって、コイルを構成する導体層2を形成するための導電ペーストを所定パターンで印刷する。ここでの導電ペーストには例えばAgを主成分とした金属ペーストが用いられる。
次に、導電ペースト印刷後の磁性体シート及び非磁性シートを、上下のシートの導電ペーストパターン2がスルーホール5を介して互いに接続され螺旋状のコイルが構成されるように積層圧着して積層体を得る。ここでは磁性体シート3と非磁性シート4を図2のような層構造が得られる順序で積層する。
そして、積層体を単位寸法に切断してチップ状の積層体を得る。このチップ状の積層体を空気中にて約400〜500℃で1〜3時間加熱してバインダ成分を除去し、バインダ成分除去後のチップ状の積層体を空気中にて850〜920℃で1〜3時間焼成する。
外部電極を形成するため、焼成後の積層体チップの両端部にディップ法等の手法によって導電ペーストを塗布する。ここでの導電ペーストには例えばAgを主成分とした前記同様の金属ペーストが用いられる。導電ペースト塗布後の積層体チップを空気中にて約500〜800℃で0.2〜2時間焼成して外部電極とする。最後に、各外部電極にNi,Sn等のメッキ処理を施して、積層インダクタ10を得る。
次に、本発明の積層インダクタの製造方法の第2の実施形態について説明する。(図示省略)
まず、積層インダクタの製造に際しては、Ni−Zn−Cuフェライトからなる高透磁率の磁性体層を構成するための磁性体シート(フェライトシート)を作製する。具体的には、Fe2O3、NiO、CuO、ZnOを主材料とする仮焼粉砕後のフェライト微粉末に、エタノール等の溶剤とPVA等のバインダを添加、混合してフェライト粉末のペーストを得た後、このフェライト粉末のペーストをPET等のフィルム上にドクターブレード法等の手法によって面状に塗布して磁性体シート(フェライトシート)を得る。
次に、前記磁性体シート上にスクリーン印刷等の手法によって、コイル用導体層を構成するための導電ペーストを所定パターンで印刷する。ここでの導電ペーストには例えばAgを主成分とした金属ペーストが用いられる。
次に、Ni−Zn−Cuフェライトからなる高透磁率の磁性体層を構成するための磁性体パターン(フェライトパターン)を作製する。具体的には、Fe2O3、NiO、CuO、ZnOを主材料とする仮焼粉砕後のフェライト微粉末に、エタノール等の溶剤とPVA等のバインダを添加、混合して磁性体ペースト(フェライト粉末のペースト)を得た後、このフェライト粉末のペーストを前記で形成された導体パターン上にその一端を露出するように印刷して磁性体パターン(フェライトパターン)を得る。
前記と同様に前記磁性体パターン上にスクリーン印刷等の手法によって、コイルを構成する導体層を形成するための導電ペーストを前記で形成した導電ペーストパターンの一端に接続するように所定パターンで印刷する。
前記と同様に、磁性体パターンと導電ペーストパターンとをスクリーン印刷等の手段により交互に印刷する。
次に、Ti−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる非磁性層を構成するための非磁性パターン(誘電体パターン)を作製する。具体的には、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O(若しくはAg)を含有する誘電体粉末に、上記と同様に、溶剤とバインダを添加、混合して誘電体粉末のペーストを得た後、この誘電体粉末のペーストを前記で得られた積層体上にパターン状に印刷して非磁性パターンを得る。
前記と同様に、磁性体パターンと導電ペーストパターンとをスクリーン印刷等の手段により交互に印刷する。
そして、得られた積層体を単位寸法に切断してチップ状の積層体を得る。この積層体を空気中にて約400〜500℃で1〜3時間加熱してバインダ成分を除去し、バインダ成分除去後のチップ状の積層体を空気中にて850〜920℃で1〜3時間焼成する。
外部電極を形成するため、焼成後の積層体チップの両端部にディップ法等の手法によって導電ペーストを塗布する。ここでの導電ペーストには例えばAgを主成分とした前記同様の金属ペーストが用いられる。導電ペースト塗布後の積層体チップを空気中にて約500〜800℃で0.2〜2時間焼成して外部電極とする。最後に、各外部電極にNi,Sn等のメッキ処理を施して、積層インダクタを得る。
また、積層チョークコイルを製造する場合には、コイル導体とNi−Zn−Cuフェライトからなる磁性体層とを交互に積層し、間にTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる非磁性層を少なくとも一つ挿入してコイルを構成する導体層形成領域を形成し、その積層方向の上下に、コイルの内側に形成される磁束とコイルの外側に形成される磁束とをつなぐヨークの働きをするように、磁性体層からなるヨーク領域7,7をそれぞれ配置し、上記と同様の条件で焼成する。焼成する際に、コイルを構成する導体層形成領域においてはコイルを構成する導体層を構成する金属の焼結と磁性体層を構成する磁性材料の焼結とが相互に影響しあいながら焼結が進行し、ヨーク領域7,7においては磁性材料を主体とする焼結が進行するため、両者の間に潜在応力が生じるが、本発明においては、非磁性層が、Ag添加TiO2低温焼成材(TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2Oを含有する誘電体粉末)からなるので、磁性体層と非磁性層との間に発生する応力が緩和され、層間剥離が抑制される。
表1に示された組成のNi−Zn−Cuフェライトの粉末に対して、エタノール(溶剤)とPVA系バインダを添加、混合して、フェライト粉末のペーストを準備し、これをPETフィルム上に塗布し、磁性体シート(磁性体層)3を得た。また、表1に示されるようにTiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2およびAg2Oを含有する誘電体(Ag添加TiO2低温焼成材)の粉末に対して、同様に溶剤とバインダを添加、混合して誘電体粉末のペーストを準備し、これをPETフィルム上に塗布し、非磁性シート(非磁性層)4を得た。
得られた各グリーンシートに導電ペーストパターン(コイルを構成するコ字形の導体層)2を印刷、積層して積層体を作成し、得られた積層体を単位寸法に切断してチップ状の積層体を得た。得られたチップ状の積層体を500℃で1時間加熱してバインダ成分を除去し、900℃で1h焼成した。上記で得られた図2に分解斜視図で示す構造の積層体チップ1の両端部にAg外部電極8,8を付け、Ni,Snのメッキ処理を実施して実施例の積層インダクタ10を得た。
[比較例]
表1に示された組成のNi−Zn−Cuフェライトの粉末に対して、エタノール(溶剤)とPVA系バインダを添加、混合して、これをPETフィルム上に塗布し、磁性体シート(磁性体層)を得た。また、表1に示されるようにTiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4およびZrO2を含有する誘電体(Ag未添加TiO2低温焼成材)の粉末に対して、同様に溶剤とバインダを添加、混合して誘電体粉末のペーストを準備し、これをPETフィルム上に塗布し、非磁性シート(非磁性層)を得た。
得られた各グリーンシートに導電ペーストパターン(コイルを構成するコ字形の導体層)を印刷、積層して積層体を作成し、得られた積層体を単位寸法に切断してチップ状の積層体を得た。得られたチップ状の積層体を500℃で1時間加熱してバインダ成分を除去し、900℃で1h焼成した。上記で得られた積層体チップにAg外部電極を付け、Ni,Snのメッキ処理を実施して比較例の積層インダクタを得た。
上記で得られた実施例及び比較例の積層インダクタにおける磁性体層と非磁性層との積層界面の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した状態を図3に示す。図3(a)は実施例の積層インダクタ10を示し、Ni−Zn−Cuフェライトからなる磁性体層3,3とAgを添加したTiO2低温焼成材からなる非磁性層4とが相互拡散して接合界面を形成して、接合している。図3(b)は比較例の積層インダクタを示し、Ni−Zn−Cuフェライトからなる磁性体層3’,3’とAg未添加のTiO2低温焼成材からなる非磁性層4’とが相互拡散して接合界面を形成して、接合している。図3(b)に示すようにAg未添加の比較例の積層インダクタの場合には、相互拡散の距離(相互拡散層C’の厚さ)は1.1μmであるのに対して、図3(a)に示すようにAg添加の実施例の積層インダクタの場合には、相互拡散の距離(相互拡散層Cの厚さ)は3.2μmとなっており、TiO2低温焼成材にAgを添加することにより、相互拡散が促進されるのが分かる。
(材料組織)
上記と同様にして実施例の積層インダクタの非磁性層の材料組織を観察した状態を図4に示す。同図にdで示すように、Agがメタルとして非磁性層の材料中に分離して析出していることが確認された。Agは焼成中は拡散促進効果を持つ助剤として液相に溶解するが冷却段階で析出するため、材料耐薬品性を低下するといった悪影響がない。
(インダクタンス値)
得られた積層インダクタのインダクタンス値を表2に示す。表2より、非磁性層のTiO2低温焼成材のAgを添加した量が多くなるほど、インダクタンス値は大きくなることが分かる。
得られた積層インダクタのインダクタンスの温度特性変化を測定した。Zn−Cuフェライトを非磁性層として用いた積層インダクタの特性と合わせて図5に示す。TiO2低温焼成材を非磁性層に用いた積層インダクタは、Zn−Cuフェライトを非磁性層に用いた積層インダクタと比較すると、温度によるインダクタンスの変化率量が、10分の1以下となっている。Agを添加したTiO2低温焼成材を非磁性層に用いた本発明の実施例の積層インダクタは、さらに温度特性のばらつきが小さくなっている。
(層間剥離)
得られた積層インダクタ100個を中心部まで研磨し、Ni−Zn−CuフェライトとTiO2低温焼成材の界面をSEMにて観察し、剥離の有無を確認した。比較のためにTiO2を非磁性層に用いた積層インダクタについても同様に剥離の有無を確認した。その結果を表3に示す。TiO2低温焼成材を非磁性層に用いた積層インダクタの場合、TiO2のみを非磁性層に用いた積層インダクタの場合と比較して剥離率が顕著に小さくなり、特に、Agを添加した本発明の実施例の積層インダクタは剥離が認められなかった。
相互拡散を促進する成分を表4に示す。表4に示される成分のものを非磁性層として、上記実施例の手順でチップ状の積層体を作製し、900℃で1h焼成して、相互拡散層の形成が同等の3mm角のサンプル(単板)を得た。この単板を量産に用いるメッキ液に浸漬し、材料成分の溶出量を測定した。Agを添加したTiO2低温焼成材を非磁性層に用いたサンプルの場合、材料の耐薬品性が低下しないため、メッキ液に溶出することがないことが確認された。
2 コイルを構成する導体層(導電ペーストパターン)
3 磁性体層(磁性体シート)
4 非磁性層(非磁性シート)
5 スルーホール
6 引出し部
7 ヨーク領域
8 外部電極
10 積層インダクタ
C 相互拡散層
d Ag析出部
Claims (9)
- 電源回路のチョークコイルとして用いられる積層インダクタであって、Ni−Zn−Cuフェライトからなる複数の磁性体層と、該磁性体層を介して積層されることによりコイルを構成する複数の導体層と、前記複数の磁性体層に接するように形成されTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなる少なくとも一つの非磁性層と、を備える直方体形状の積層体チップ、および該積層体チップの端部に設けられ前記コイルの端部に導電接続された少なくとも一対の外部電極、を有することを特徴とする積層インダクタ。
- 前記積層体チップは、前記磁性体層のNi−Zn−Cuフェライトと前記非磁性層のTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体が相互拡散して接合界面を形成していることを特徴とする請求項1に記載の積層インダクタ。
- 前記非磁性層が、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体からなることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層インダクタ。
- 前記誘電体が、酸化物換算で、TiO2と、NiO:2.0〜15質量%、CuO:1.5〜6.0質量%、Mn3O4:0.2〜20質量%、ZrO2:0.1〜10質量%、及びAg2O:0.01〜10質量%を含み、その合計が100質量%となるように構成されたものであることを特徴とする請求項3に記載の積層インダクタ。
- Fe2O3、NiO、ZnO、及びCuOを含有するフェライト粉末のペーストを準備する工程と、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体粉末のペーストを準備する工程と、前記フェライト粉末のペーストの塗布により形成された磁性体シート上に導電ペーストパターンを印刷し、これを上下に接する前記磁性体シートの導電ペーストパターンがスルーホールを介して互いに接続され螺旋状のコイルが構成されるように、且つ前記誘電体粉末のペーストの塗布により形成される非磁性シートもしくは前記誘電体粉末のペーストの印刷により形成される非磁性パターンが間に少なくとも一つ挿入されるように、積層圧着して積層体とする工程と、この積層体を焼成して積層体チップを得る工程と、を有することを特徴とする積層インダクタの製造方法。
- Fe2O3、NiO、ZnO、及びCuOを含有するフェライト粉末のペーストを準備する工程と、TiO2を主成分とし、NiO、CuO、Mn3O4、ZrO2、及びAg2O若しくはAgを含有する誘電体粉末のペーストを準備する工程と、前記フェライト粉末のペーストの塗布により形成された磁性体シート上に、導電ペーストパターンの印刷と、磁性体ペーストパターンを得るための前記フェライト粉末のペーストの印刷とを、交互に、且つ前記誘電体粉末のペーストの印刷により形成される非磁性パターンが間に少なくとも一つ挿入されるように行なって積層体とする工程と、この積層体を焼成して積層体チップを得る工程と、を有することを特徴とする積層インダクタの製造方法。
- 前記積層体を焼成して積層体チップを得る工程が、前記磁性体シートもしくは磁性体ペーストパターンから形成される磁性体層のNi−Zn−Cuフェライトと前記非磁性シート若しくは非磁性パターンから形成される非磁性層のTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体を相互拡散させて接合界面を形成させるものであることを特徴とする請求項5又は6に記載の積層インダクタの製造方法。
- 前記誘電体粉末として、酸化物換算で、TiO2と、NiO:2.0〜15質量%、CuO:1.5〜6.0質量%、Mn3O4:0.2〜20質量%、ZrO2:0.1〜10質量%、及びAg2O:0.01〜10質量%を含み、その合計が100質量%となるように構成されたものを用いることを特徴とする請求項5又は6に記載の積層インダクタの製造方法。
- コイルを構成する導体層と磁性体層とが交互に積層され間に非磁性層が少なくとも一つ挿入されるコイル導体形成領域と、その積層方向の上下にそれぞれ配置されコイルの内側に形成される磁束とコイルの外側に形成される磁束とをつなぐヨークの働きをする磁性体層からなるヨーク領域とを有する積層チョークコイルにおいて、前記磁性体層がNi−Zn−Cuフェライトからなり、前記非磁性層がTi−Ni−Cu−Mn−Zr−Ag系誘電体からなることを特徴とする積層チョークコイル。
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JP6524980B2 (ja) * | 2016-07-15 | 2019-06-05 | 株式会社村田製作所 | 積層コイル部品およびその製造方法 |
US10984939B2 (en) * | 2017-01-30 | 2021-04-20 | Tdk Corporation | Multilayer coil component |
US10553354B2 (en) | 2017-03-10 | 2020-02-04 | International Business Machines Corporation | Method of manufacturing inductor with ferromagnetic cores |
US10593449B2 (en) | 2017-03-30 | 2020-03-17 | International Business Machines Corporation | Magnetic inductor with multiple magnetic layer thicknesses |
US10607759B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-03-31 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a laminated stack of magnetic inductor |
US10597769B2 (en) | 2017-04-05 | 2020-03-24 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a magnetic stack arrangement of a laminated magnetic inductor |
US10347411B2 (en) | 2017-05-19 | 2019-07-09 | International Business Machines Corporation | Stress management scheme for fabricating thick magnetic films of an inductor yoke arrangement |
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JP6686979B2 (ja) * | 2017-06-26 | 2020-04-22 | 株式会社村田製作所 | 積層インダクタ |
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JPH04284612A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-09 | Tdk Corp | 複合積層部品 |
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JP3114323B2 (ja) * | 1992-01-10 | 2000-12-04 | 株式会社村田製作所 | 積層チップコモンモードチョークコイル |
JP3275466B2 (ja) * | 1993-08-12 | 2002-04-15 | 日立金属株式会社 | 積層チップ部品 |
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