JP2013243366A - チップインダクタおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】積層アライメントエラーが発生してもインダクタンス容量が変化が最小化されたチップインダクタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Cパターン電極が形成された磁性シートとIパターン電極が形成された磁性シートが交互に積層されてなる積層体と、前記磁性シートを貫通し、前記Cパターン電極とIパターン電極を連結するビアと、前記積層体の両側部に設けられた外部電極端子と、を含む、チップインダクタおよびその製造方法。
【選択図】図2

Description

本発明は、チップインダクタに関し、より詳細には、チップインダクタ内部のパターン電極に関する。
近年、電子機器および通信機器の飛躍的な発達に伴い、電子機器および通信機器の頻繁な使用による相互干渉のため通信障害などの問題が頻繁に発生している。このように、無線通信機器およびマルチメディアの使用に伴う電磁気的環境を改善するために電磁気障害規制が強化されている。
近年、このような傾向により、電磁波障害除去素子に関する開発が要求され、その部品の需要が急増するに伴い、機能の複雑化、高集積化および高効率化への技術が発展している。この中、積層型チップインダクタは、高周波のノイズを除去するフィルタとしてパーソナルコンピュータ、携帯電話および通信装置に主に用いられている。
韓国公開特許第10−2001−0005161号公報を参照すると、従来のチップインダクタは、内部電極が印刷された多数枚の磁性シートが積層されてなる積層体と、前記積層体の両側部に外部電極端子と、が基本構造として設けられている。
ここで、各層の内部電極は、製造の便宜上、通常同一形状のパターンに製作される。例えば、図11は先行技術文献に開示されたチップインダクタを示すものであり、最上層および最下層以外の各層の内部電極1はすべて∩状にパターニングされた電極を使用している。
しかし、このような構造では、数十枚または数百枚の磁性シートを積層する過程で、磁性シート間の積層アライメントエラー(alignment error)が発生した場合に、コイル内部の断面積が大幅に変動してインダクタンス容量が所定数値に制御されないという問題がある。
例えば、図12aのように上層または下層の磁性シートが内側に押された場合、上層の内部電極と下層の内部電極との間隔L1は正常に積層された場合より減少し、それだけコイル内部の断面積は減少する。また、図12bのように上層または下層の磁性シートが外側に押された場合、上層の内部電極と下層の内部電極との間隔L2は正常に積層された場合より増加し、それだけコイル内部の断面積は増加する。
近年、機能の複雑化および高集積化と、小型化の傾向に伴い、より精密に制御されたインダクタンス容量が要求されるが、このような積層アライメントエラーによってインダクタンス容量が変動すると製品の信頼性が低下し、特に、図12bのような場合、内部電極と外部電極端子がショート(short)する恐れがある。
韓国公開特許第10−2001−0005161号公報
本発明は、前記のような問題を解決するためのものであり、積層アライメントエラーが発生してもインダクタンス容量が変化しないチップインダクタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
前記のような目的を果たすために導き出された本発明は、Cパターン電極が形成された磁性シートとIパターン電極が形成された磁性シートが交互に積層されてなる積層体と、前記磁性シートを貫通し、前記Cパターン電極とIパターン電極を連結するビアと、前記積層体の両側部に設けられた外部電極端子と、を含む、チップインダクタを提供する。
ここで、前記ビアは、前記Cパターン電極が形成された磁性シートに形成されて前記Cパターン電極の一端とIパターン電極の一端を連結する第1ビアと、前記Iパターン電極が形成された磁性シートに形成されて前記Iパターン電極とCパターン電極の他端を連結する第2ビアと、からなることができる。
また、前記Cパターン電極のパターンラインは、円形、楕円形、四角形になることができる。
また、前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔は5μm〜100μmであることがある。
また、前記Iパターン電極の長さは、前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔より大きく形成されることができる。
また、前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔と、前記Iパターン電極の長さとの割合は1.1〜1.3であることがある。
また、前記磁性シートを仮想の4象限に分割したときに、前記Cパターン電極の両端部間のギャップはいずれか一つの象限に配置されるか連続する二つの象限にかけて配置されることができる。
また、前記積層体の最上層および最下層には引き出し電極が形成された磁性シートがさらに設けられ、前記最上層の磁性シートに形成された引き出し電極の一端は左側(または右側)の外部電極端子と連結され、他端は下層のCパターン電極またはIパターン電極と連結され、前記最下層の磁性シートに形成された引き出し電極の一端は右側(または左側)の外部電極端子と連結され、他端は上層のCパターン電極またはIパターン電極と連結されることができる。
また、前記引き出し電極と連結されるCパターン電極の両端部のうち右側の外部電極端子と近い端部は左側の外部電極端子に連結された引き出し電極と連結され、左側の外部電極端子と近い端部は右側の外部電極端子に連結された引き出し電極と連結されることができる。
また、前記引き出し電極と連結されるIパターン電極の両端部のうち右側の外部電極端子と近い端部が右側の外部電極端子に連結された引き出し電極と連結され、左側の外部電極端子に近い端部が左側の外部電極端子に連結された引き出し電極と連結されることができる。
このような本発明のチップインダクタを製造する方法は、Cパターン電極が形成された磁性シートとIパターン電極が形成された磁性シートを交互に積層する段階と、積層された磁性シートを加圧、焼成する段階と、前記加圧、焼成段階と、により得られた積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含むことができる。
また他の製造方法において、多数の領域に区画された磁性シートの各領域にCパターン電極またはIパターン電極を形成するにあたり、前記Cパターン電極とIパターン電極が交互に配置されるように形成する段階と、前記磁性シートを多数枚積層するにあたり、上層のCパターン電極(または上層のIパターン電極)と下層のIパターン電極(または下層のCパターン電極)が整列するように上層または下層の磁性シートを移動させて積層する段階と、前記積層された磁性シートを加圧、焼成した後に、切断工程により各領域の積層体を個別化する段階と、前記個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含むことができる。
ここで、前記磁性シートにCパターン電極またはIパターン電極を形成する前に、前記磁性シートの予め指定された位置にビアを形成する段階をさらに含むことができる。
また、前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がx軸方向に交互に配置されるように形成することができ、この際、前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをx軸方向に所定領域だけ移動させて積層することができる。
また、前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がy軸方向に交互に配置されるように形成することができ、この際、前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをy軸方向に所定領域だけ移動させて積層することができる。
また、前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がx軸およびy軸方向に交互に配置されるように形成することができ、この際、前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをx軸およびy軸方向にそれぞれ所定領域だけ移動させて積層することができる。
一方、本発明のチップインダクタを製造するまた他の方法において、多数の領域に区画された第1磁性シートの各領域にCパターン電極を形成し、多数の領域に区画された第2磁性シートの各領域にIパターン電極を形成する段階と、前記第1磁性シートと第2磁性シートを交互に積層する段階と、前記積層された磁性シートを加圧、焼成した後に、切断工程により各領域の積層体を個別化する段階と、前記個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含むことができる。
本発明によれば、磁性シートの積層過程で積層アライメントエラーが発生してもコイル内部の断面積はほとんど変化することなく、これにより、インダクタンス容量変化を最小化することができ、製品信頼性を大きく高めることができる。
本発明に係るチップインダクタの外観斜視図である。 本発明に係るチップインダクタの分解斜視図である。 Cパターン電極の例示図である。 Cパターン電極の例示図である。 Cパターン電極の例示図である。 積層アライメントエラーが発生したときにCパターン電極とIパターン電極の連結構造を説明するための平面図である。 積層アライメントエラーが発生したときにCパターン電極とIパターン電極の連結構造を説明するための平面図である。 Cパターン電極の形成位置を示す平面図である。 Cパターン電極の形成位置を示す平面図である。 Cパターン電極の形成位置を示す平面図である。 本発明に含まれた引き出し電極の配置変形例を説明するための図である。 Cパターン電極とIパターン電極の配置順序を説明するための平面図である。 Cパターン電極とIパターン電極の配置順序を説明するための平面図である。 Cパターン電極とIパターン電極の配置順序を説明するための平面図である。 一面に多数のCパターン電極とIパターン電極が形成された磁性シートが積層された状態を示す平面図である。 一面に多数のCパターン電極とIパターン電極が形成された磁性シートが積層された状態を示す平面図である。 Cパターン電極が形成された第1磁性シートの平面図である。 Iパターン電極が形成された第2磁性シートの平面図である。 第1磁性シートと第2磁性シートが積層された状態を示す平面図である。 先行技術文献に開示されたチップインダクタを示す図である。 積層アライメントエラーが発生したときの従来のチップインダクタの内部平面図である。 積層アライメントエラーが発生したときの従来のチップインダクタの内部平面図である。
本発明の利点および特徴、またそれらを果たす方法は、添付図面とともに詳細に後述される実施形態を参照すると明確になるであろう。しかし、本発明は以下で開示される実施形態に限定されず、相異なる多様な形態で具現されることができる。本実施形態は、本発明の開示が完全になるようにするとともに、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に伝達するために提供されることができる。
本明細書で用いられる用語は、実施形態を説明するためのものであり、本発明を限定しようとするものではない。本明細書で、単数型は文句で特別に言及しない限り複数型も含む。また、本明細書で言及された構成要素、段階、動作および/または素子は一つ以上の他の構成要素、段階、動作および/または素子の存在または追加を排除しない。
以下、添付の図面を参照して本発明の構成および作用効果についてより詳細に説明する。
図1は本発明に係るチップインダクタの外観斜視図であり、図2は本発明に係るチップインダクタの分解斜視図である。
図1および図2を参照すると、本発明に係るチップインダクタは、Cパターン電極141が形成された磁性シート140とIパターン電極151が形成された磁性シート150が交互に積層されてなる積層体100と、前記積層体100の両側部に設けられた外部電極端子200と、を含むことができる。前記積層体100は、多数枚の磁性シート140、150が積層された後に加圧、焼結工程により完成されるものであり、隣接する磁性シート同士はその境界を区別できないほどに一体化している。
前記Cパターン電極141はC形状にパターニングされた電極を意味し、Iパターン電極151はI形状にパターニングされた電極を意味する。より広い概念で前記Cパターン電極141は閉ループで一部が開口されたすべての形状を含むことができ、Iパターン電極151はその開口されたギャップを継ぐすべての形状を含むことができる。例えば、前記Cパターン電極141は、図3aのように[ 形状にパターニングされた電極であってもよく、図3bまたは図3cのように開口されたギャップ以外のパターンラインが円形や四角形などであってもよい。
前記Cパターン電極141のパターンラインが図2や図3bのように円形や楕円形の曲線をなす場合、電流の流れが良好になり直流抵抗特性(Rdc)を改善することができる。一方、図3aの[ 形状や図3cの四角形状のように角部が角ばっている場合には内部断面積を高めることができ、これによりインダクタンス容量を最大化することができる。
一方、前記Cパターン電極141は、より高いインダクタンス容量を実現するために磁性シート140、150の周縁に配置されることが最も有利であるため、前記Cパターン電極141は、直方体のチップ形状に合わせて、円形よりは楕円形、正四角形よりは直四角形に形成することが好ましい。
また、図2に関する説明に戻り、前記Cパターン電極141とIパターン電極151は、前記磁性シート140、150を貫通するビア142、152を介して互いに電気的に連結されることができる。より具体的には、前記ビア142、152は、前記Cパターン電極141が形成された磁性シート140に形成されて前記Cパターン電極141の一端141aとIパターン電極151の一端151aを連結する第1ビア142と、前記Iパターン電極151が形成された磁性シート150に形成されて前記Iパターン電極151の他端151bとCパターン電極141の他端141bを連結する第2ビア152と、からなることができる。
すなわち、前記Cパターン電極141の一端141aは前記第1ビア142を介してその下部のIパターン電極151の一端151aと連結され、Iパターン電極151の他端151bは前記第2ビア152を介してその下部のCパターン電極141の他端141bと連結される。このような連結構造により、多数のCパターン電極141とIパターン電極151は互いに電気的に連結されて一つのコイルとして動作する。
このように、コイルをなす電極パターンがCパターン電極141とIパターン電極151とからなる場合、製造過程中に磁性シート間の積層アライメントエラー(alignment error)が発生してもコイル内部の断面積はほとんど変動せず、これにより、インダクタンス容量変化を最小化することができる。
図4aおよび図4bは積層アライメントエラーが発生した場合のCパターン電極141とIパターン電極151の連結構造を示す平面図であり、これを参照すると、本発明のようにCパターン電極141とIパターン電極151の連結構造では、積層アライメントエラーが発生してもコイル内部の断面積がほとんど変化しないことが分かる。すなわち、図4aのように、y軸方向にアライメントエラーが発生して前記Iパターン電極151が上側方向に押される場合、Cパターン電極141とIパターン電極151の連結位置が変化するだけであって、コイル内部の断面積は変化しないことが分かる。
また、図4bのように、x軸方向にアライメントエラーが発生して前記Iパターン電極151が外側方向に押される場合、変動するコイル内部の断面積は前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔×Iパターン電極151の押された長さにすぎないため、コイル内部の断面積はほとんど変化しないことが分かる。
ここで、アライメントエラーがx軸方向に発生した場合、変動するコイル内部の断面積は前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔に比例するため、前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔が狭いほど有利である。ただし、ギャップ△G間隔が狭すぎるとスクリーン印刷などによる前記Cパターン電極141の形成過程でCパターン電極141の両端部間が互いにショートする可能性が高くなる。また、前記Cパターン電極141とIパターン電極151を連結するビアが密集するため周辺との段差が発生し、これはクラックや剥離などの不良を誘発する要因となる。そのため、前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔としては5μm〜100μmの範囲内で適切な値を選択することが好ましい。
また、前記Cパターン電極141とIパターン電極151との連結性を確保するために、前記Iパターン電極151の長さ△Lは前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔より大きく形成することが好ましい。ここで、前記Iパターン電極151の長さ△Lはビアが接触する端部まで含む概念である。
前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔に対する前記Iパターン電極151の長さ△Lが長いほどCパターン電極141とIパターン電極151の連結可能性は高くなるが、長すぎると積層アライメントエラーが発生したときにIパターン電極151の一端が外部電極端子200とショートする恐れがある。そのため、前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△G間隔と前記Iパターン電極151の長さ△Lとの割合としては1.1〜1.3の範囲内で適切な値を選択することが好ましい。
また、前記Cパターン電極の両端部間のギャップ△Gは前記Cパターン電極の長軸に位置するか短軸に位置してもよく、前記磁性シートを仮想の4象限、即ち、第一象限、第二象限、第三象限および第四象限に分割したときに4象限のいずれか一つの象限に配置することができる。
例えば、図5aに示されたように両端部間のギャップ△Gが第二象限に配置するか、図5bに示されたように第四象限に配置してもよい。または、図5cに示されたように連続する二つの象限(第一象限、第二象限)にかけて配置してもよい。このように、本発明において前記Cパターン電極141の両端部間のギャップ△Gはその形成位置が特に制限されない。
また、図2に関する説明に戻り、本発明のチップインダクタは、前記積層体100の最上層および最下層に引き出し電極161、171が形成された磁性シート160、170をさらに含むことができる。
前記引き出し電極161、171は、Cパターン電極141またはIパターン電極151と前記外部電極端子200とを連結するための電極であり、例えば、前記最上層の磁性シート160に形成された引き出し電極161の一端161aは左側(または右側)の外部電極端子200と連結され、他端161bは磁性シート160を貫通するビア162を介して下層のCパターン電極141と連結されることができる。
同様に、前記最下層の磁性シート170に形成された引き出し電極171の一端171aは右側(または左側)の外部電極端子200と連結され、他端171bはその上層の磁性シート140を貫通するビア142を介して上層のCパターン電極141と連結されることができる。図2には前記引き出し電極161、171がCパターン電極141と連結されたことを示しているが、前記Cパターン電極141とIパターン電極151の積層手順に応じて前記引き出し電極161、171はIパターン電極151とも連結されることができることは自明である。
この際、電流の流れを考慮して、前記引き出し電極161、171は、引き出し電極161、171とその下層または上層のCパターン電極(またはIパターン電極)の接触点で電流の流れが順方向になるように配置することができる。
例えば、前記引き出し電極161、171が前記Cパターン電極141と連結された場合、前記Cパターン電極141の両端部141a、141bのうち右側の外部電極端子200と近い端部(例えば、141b)が左側の外部電極端子200に連結された引き出し電極161と連結されることができ、左側の外部電極端子200と近い端部141aが右側の外部電極端子200に連結された引き出し電極171と連結されることができる。万が一、前記引き出し電極161、171がIパターン電極151と連結された場合には、Iパターン電極151の両端部151a、151bのうち右側の外部電極端子200と近い端部が右側の外部電極端子200に連結された引き出し電極と連結されることができ、左側の外部電極端子200に近い端部が左側の外部電極端子200に連結された引き出し電極と連結されることができる。
このような連結構造により、前記外部電極端子200を介して入力される電流は前記引き出し電極161、171と前記Cパターン電極141(またはIパターン電極151)の接触点で方向が変化することなく流れることができる。
勿論、これとは反対に、図6のように前記引き出し電極161、171は、引き出し電極161、171とその下層または上層のCパターン電極(またはIパターン電極)の接触点で電流の流れが逆方向になるように配置してもよい。
本発明のような構造を有するチップインダクタは、先ず、Cパターン電極141が形成された磁性シート140とIパターン電極151が形成された磁性シート150を交互に積層した後、積層された磁性シート140、150を加圧、焼成し、これにより得られた積層体100の両側部に外部電極端子200を形成することで完成することができる。
前記製造過程中に、x軸方向やy軸方向に磁性シート間の積層アライメントエラーが発生しても、本発明のチップインダクタは、図4aおよび図4bから分かるように、コイル内部の断面積がほとんど変化しないためインダクタンス容量変化を最小化することができる。
一方、このような積層アライメントエラーは、一面にCパターン電極141とIパターン電極151が多数印刷された磁性シートを利用した製造過程でよく発生しうるが、本発明のチップインダクタは、このような場合にも積層アライメントエラーによるコイル内部の断面積変化を最小化することができる。
Cパターン電極141とIパターン電極151が一面に多数印刷された磁性シート110を利用した本発明のチップインダクタの製造方法について説明すると、先ず、多数の領域に区画された磁性シートの各領域にCパターン電極141またはIパターン電極151を形成する段階を行う。その前に、前記磁性シート110の予め指定された位置にビアホール(via hall)を加工し、加工したビアホール内部に導電性ペーストを充填してビア(図2の142、152)を形成することができる。
前記Cパターン電極141またはIパターン電極151は、スクリーン印刷など公知の技術を利用して形成することができ、この際、前記Cパターン電極141とIパターン電極151が交互に配置されるように形成する。すなわち、前記Cパターン電極141とIパターン電極151を図7aのようにx軸方向に交互に配置されるように形成するか、図7bのようにy軸方向に交互に配置されるように形成してもよい。または、図7cのように、x軸およびy軸方向に前記Cパターン電極141とIパターン電極151が交互に配置されるように形成してもよい。
次に、Cパターン電極141とIパターン電極151が印刷された磁性シート110を多数枚積層する段階を行う。この際、上層または下層の磁性シートを所定領域だけ移動させて積層する。
図8aおよび図8bは、例えば、二枚の磁性シートが積層された状態を示す平面図である。ここで、陰影で表された磁性シート110aは上層に位置し、無色で表された磁性シート110bは下層に位置する。
図8aを参照して前記積層過程について説明すると、例えば、図7cのようにCパターン電極141とIパターン電極151がx軸およびy軸方向に交互に配置された磁性シートを使用する場合、図8aのように上層または下層の磁性シート110a、110bをx軸方向に所定領域だけ移動させるか、図8bのようにy軸方向に所定領域だけ移動させて積層する。これにより、上層のCパターン電極141(または上層のIパターン電極151)と下層のIパターン電極151(または下層のCパターン電極141)が互いに整列してビアを介して連結される。
同様に、図7aのようにCパターン電極141とIパターン電極151がx軸方向に交互に配置された磁性シートを使用する場合には、上層または下層の磁性シートをx軸方向に所定領域だけ移動させて積層すればよく、図7bのようにCパターン電極141とIパターン電極151がy軸方向に交互に配置された磁性シートを使用する場合には、上層または磁性シートをy軸方向に所定領域だけ移動させて積層すればよい。
このように、一面に多数のCパターン電極141とIパターン電極151が交互に配置された磁性シート110を使用する場合、積層過程で上層または下層の磁性シートを移動させなければならず、その過程で積層アライメントエラーが発生する可能性が高い。しかし、本発明のチップインダクタは、このような積層アライメントエラーが発生しても、図4aおよび図4bから分かるようにコイル内部の断面積がほとんど変化せず、インダクタンス容量変化を最小化することができる。
多数の磁性シートが積層されるとこれを加圧、焼成した後、切断工程により各領域の積層体を個別化し、最後に、個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成することで本発明のチップインダクタを最終完成することができる。
一方、一面に同種のパターン電極が多数形成された磁性シートを使用して本発明のチップインダクタを製造することもできる。
これについて具体的に説明すると、先ず、図9aのように多数の領域に区画された第1磁性シート120の各領域にCパターン電極を形成し、図9bのように多数の領域に区画された第2磁性シート130の各領域にIパターン電極を形成する。
次に、図10のように、前記第1磁性シート120と第2磁性シート130を交互に積層する。この際、図8aおよび図8bとは異なり、別の移動作業が必要なく、そのため積層アライメントエラーの発生可能性は低い。しかし、可能性が低いだけであって積層過程でいつでも発生する可能性があり、本発明のチップインダクタは、このように低い確率でアライメントエラーが発生しても、図4aおよび図4bから分かるように、コイル内部の断面積がほとんど変化せず、これにより、インダクタンス容量変化を最小化することができる。
このように多数の第1磁性シート120と第2磁性シート130が積層されるとこれを加圧、焼成した後に、切断工程により各領域の積層体を個別化し、最後に、個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成することで本発明のチップインダクタを最終完成することができる。
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、上述の内容は本発明の好ましい実施形態を示して説明するものにすぎず、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で用いることができる。即ち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、述べた開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。上述の実施形態は本発明を実施するにおいて最善の状態を説明するためのものであり、本発明のような他の発明を用いるにおいて当業界に公知された他の状態での実施、そして発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。従って、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むと解釈されるべきであろう。
100 積層体
110、120、130、140、150、160、170 磁性シート
141 Cパターン電極
142、152 ビア
151 Iパターン電極
161、171 引き出し電極
200 外部電極端子

Claims (20)

  1. Cパターン電極が形成された磁性シートとIパターン電極が形成された磁性シートが交互に積層されてなる積層体と、
    前記磁性シートを貫通し、前記Cパターン電極とIパターン電極を連結するビアと、
    前記積層体の両側部に設けられた外部電極端子と、を含む、チップインダクタ。
  2. 前記ビアは、
    前記Cパターン電極が形成された磁性シートに形成されて前記Cパターン電極の一端とIパターン電極の一端を連結する第1ビアと、
    前記Iパターン電極が形成された磁性シートに形成されて前記Iパターン電極とCパターン電極の他端を連結する第2ビアと、からなる、請求項1に記載のチップインダクタ。
  3. 前記Cパターン電極のパターンラインは、円形、楕円形、四角形である、請求項1に記載のチップインダクタ。
  4. 前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔は5μm〜100μmである、請求項1に記載のチップインダクタ。
  5. 前記Iパターン電極の長さは、前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔より大きい、請求項4に記載のチップインダクタ。
  6. 前記Cパターン電極の両端部間のギャップ間隔と、前記Iパターン電極の長さとの割合は1.1〜1.3である、請求項5に記載のチップインダクタ。
  7. 前記磁性シートを仮想の4象限に分割したときに、前記Cパターン電極の両端部間のギャップはいずれか一つの象限に配置されるか連続する二つの象限にかけて配置される、請求項1に記載のチップインダクタ。
  8. 前記Cパターン電極の両端部間のギャップは前記Cパターン電極の長軸に位する、請求項1に記載のチップインダクタ。
  9. 前記積層体の最上層および最下層には引き出し電極が形成された磁性シートがさらに設けられ、前記最上層の磁性シートに形成された引き出し電極の一端は左側(または右側)の外部電極端子と連結され、他端は下層のCパターン電極またはIパターン電極と連結され、前記最下層の磁性シートに形成された引き出し電極の一端は右側(または左側)の外部電極端子と連結され、他端は上層のCパターン電極またはIパターン電極と連結される、請求項1に記載のチップインダクタ。
  10. 前記引き出し電極は、引き出し電極とその下層または上層のCパターン電極またはIパターン電極の接触点で電流の流れが順方向になるように配置される、請求項9に記載のチップインダクタ。
  11. Cパターン電極が形成された磁性シートとIパターン電極が形成された磁性シートを交互に積層する段階と、
    積層された磁性シートを加圧、焼成する段階と、
    前記加圧、焼成段階により得られた積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含む、チップインダクタの製造方法。
  12. 多数の領域に区画された磁性シートの各領域にCパターン電極またはIパターン電極を形成するにあたり、前記Cパターン電極とIパターン電極が交互に配置されるように形成する段階と、
    前記磁性シートを多数枚積層するにあたり、上層のCパターン電極(または上層のIパターン電極)と下層のIパターン電極(または下層のCパターン電極)が整列するように上層または下層の磁性シートを移動させて積層する段階と、
    前記積層された磁性シートを加圧、焼成した後に、切断工程により各領域の積層体を個別化する段階と、
    前記個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含む、チップインダクタの製造方法。
  13. 前記磁性シートにCパターン電極またはIパターン電極を形成する前に、前記磁性シートの予め指定された位置にビアを形成する段階をさらに含む、請求項12に記載のチップインダクタの製造方法。
  14. 前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がx軸方向に交互に配置されるように形成する、請求項12に記載のチップインダクタの製造方法。
  15. 前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをx軸方向に所定領域だけ移動させて積層する、請求項14に記載のチップインダクタの製造方法。
  16. 前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がy軸方向に交互に配置されるように形成する、請求項12に記載のチップインダクタの製造方法。
  17. 前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをy軸方向に所定領域だけ移動させて積層する、請求項16に記載のチップインダクタの製造方法。
  18. 前記磁性シートにCパターン電極とIパターン電極を形成する段階において、前記Cパターン電極とIパターン電極がx軸およびy軸方向に交互に配置されるように形成する、請求項12に記載のチップインダクタの製造方法。
  19. 前記磁性シートを積層する段階において、上層または下層の磁性シートをx軸およびy軸方向にそれぞれ所定領域だけ移動させて積層する、請求項18に記載のチップインダクタの製造方法。
  20. 多数の領域に区画された第1磁性シートの各領域にCパターン電極を形成し、多数の領域に区画された第2磁性シートの各領域にIパターン電極を形成する段階と、
    前記第1磁性シートと第2磁性シートを交互に積層する段階と、
    前記積層された磁性シートを加圧、焼成した後に、切断工程により各領域の積層体を個別化する段階と、
    前記個別化した積層体の両側部に外部電極端子を形成する段階と、を含む、チップインダクタの製造方法。
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