JPS6084304A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、特
に紫外領域の光源に対し高感度を示す安定な光重合性組
成物に関するものである。
に紫外領域の光源に対し高感度を示す安定な光重合性組
成物に関するものである。
従来、光重合系利用の画像形成法は多数知られており、
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤、着色剤、可塑剤等からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物のR
aを設けた感光材料全作成し所望画gRt像露光して露
光部分を重合硬化させ未露光部分全溶解除去することに
より硬化レリーフ画像を形成する方法がある。また、上
述感光材料が。
例えば付加重合可能なエチレン性二重結合を含む化合物
と光重合開始剤、さらに所望により用いられる有機高分
子結合剤、熱重合禁止剤、着色剤、可塑剤等からなる光
重合性組成物を調製し、この光重合性組成物を無溶媒ま
たは溶液となし支持体上に塗布して光重合性組成物のR
aを設けた感光材料全作成し所望画gRt像露光して露
光部分を重合硬化させ未露光部分全溶解除去することに
より硬化レリーフ画像を形成する方法がある。また、上
述感光材料が。
少なくとも一方が透明でちる一枚の支持体間に光重合性
組成物の層を設けたものであり、透明支持体側よシ像露
光し光による接着強度の変化を惹起させた後支持体を剥
離することにより画像を形成する方法その細光重合性組
成物層の光によるトナー耐着性の変化を利用した画像作
成方法等がある。このような方法に応用される光重合性
組成物の光重合開始剤としては従来、ベンゾイン、ベン
ゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキ
ノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンなどが用いら
れてきた。しかしながら、これらの光重合開始剤は感ル
:的に必ずしも充分とは言えず、更に高感ルー化の試み
がなされてきた。その後、一種以上の化合物を併用する
複合開始系に↓9ある程度満足すべき感応性が得られる
ようになった。例えばベンゾフェノンとミヒラー ケト
ンの組合せはその代表例である(英国特許第1.θ?
0./ R2号)。埃在、更に高感度を目指して様々な
検64が行なわれ、報告もなされているが、通常、感度
改善に伴ない保存安定性の減退を招来する場合が多く、
未だ充分な性能を有するものが無いのが実情である。
組成物の層を設けたものであり、透明支持体側よシ像露
光し光による接着強度の変化を惹起させた後支持体を剥
離することにより画像を形成する方法その細光重合性組
成物層の光によるトナー耐着性の変化を利用した画像作
成方法等がある。このような方法に応用される光重合性
組成物の光重合開始剤としては従来、ベンゾイン、ベン
ゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、アントラキ
ノン、ベンジル、あるいはミヒラーケトンなどが用いら
れてきた。しかしながら、これらの光重合開始剤は感ル
:的に必ずしも充分とは言えず、更に高感ルー化の試み
がなされてきた。その後、一種以上の化合物を併用する
複合開始系に↓9ある程度満足すべき感応性が得られる
ようになった。例えばベンゾフェノンとミヒラー ケト
ンの組合せはその代表例である(英国特許第1.θ?
0./ R2号)。埃在、更に高感度を目指して様々な
検64が行なわれ、報告もなされているが、通常、感度
改善に伴ない保存安定性の減退を招来する場合が多く、
未だ充分な性能を有するものが無いのが実情である。
以上の点゛に鑑み1本発明者は鋭意検討を重ねすなわち
、本発明の要旨は、エチレン性不飽和二重結合を少くと
も1個有する付加重合可能な化合物および光重合開始系
を含む光重合性組成物において、該光重合開始系が、 (a> 一般式 〔式中 R1およびR2はアルキル基を示し、nは1%
2または3を表わす。mAは含窒素芳香環を示す。〕で
表わされる化合物および(b) へキサアリールビイミ
ダゾールからなることを%徽とする光重合性組成物に存
する。
、本発明の要旨は、エチレン性不飽和二重結合を少くと
も1個有する付加重合可能な化合物および光重合開始系
を含む光重合性組成物において、該光重合開始系が、 (a> 一般式 〔式中 R1およびR2はアルキル基を示し、nは1%
2または3を表わす。mAは含窒素芳香環を示す。〕で
表わされる化合物および(b) へキサアリールビイミ
ダゾールからなることを%徽とする光重合性組成物に存
する。
以下本発明について詳細に匝明する。
本発明の光重合性組成物において第一の必須成分として
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物(以下「エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物」と略称する。)は、光重合性組成
物が活性光線の照射を受けた場合に第二の必勿成分であ
る光重合開始系の光分解生成物の作用によシ付加重合す
ることによシ硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体または側鎖もし
くは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体で
ある。
含まれるエチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物(以下「エチレン性不飽和二重
結合を有する化合物」と略称する。)は、光重合性組成
物が活性光線の照射を受けた場合に第二の必勿成分であ
る光重合開始系の光分解生成物の作用によシ付加重合す
ることによシ硬化し実質的に不溶化をもたらすようなエ
チレン性不飽和二重結合を有する単量体または側鎖もし
くは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体で
ある。
エチレン性不飽和結合を壱する単量体としては秒Uえば
不飽和カルボ/酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒド
ロキシ化合物とのエステル。
不飽和カルボ/酸、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒド
ロキシ化合物とのエステル。
不飽和カルボン酸き芳香族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述
の脂肪族ポリヒドロキジ化合物、芳香族ポリヒドロキシ
化合物等の多価ヒト四キシ化合物とのエステル化反応に
よシイ8られるエステル等が挙けられる。
ステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述
の脂肪族ポリヒドロキジ化合物、芳香族ポリヒドロキシ
化合物等の多価ヒト四キシ化合物とのエステル化反応に
よシイ8られるエステル等が挙けられる。
脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
エタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサ
アクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル
酸エステル;トリエチレングリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリ1/−)、)リ
メチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸エス
テル;その他、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のイタコン
酸エステル、クロトン酸エステルおよびマレイン酸エス
テル等が挙げられる。
ステルの具体例としては、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
エタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールへキサ
アクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル
酸エステル;トリエチレングリコールジメタクリレート
、トリメチロールプロパントリメタクリ1/−)、)リ
メチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート等のメタクリル酸エス
テル;その他、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のイタコン
酸エステル、クロトン酸エステルおよびマレイン酸エス
テル等が挙げられる。
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
ステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイ
ドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリア
クリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙けれ
は、アクリル酸、7タル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸
、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等がある。
化合物とのエステル化反応により得られるエステルとし
ては必ずしも単一物では無いが代表的な具体例を挙けれ
は、アクリル酸、7タル酸およびエチレングリコールの
縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリ
コールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペ
ンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸
、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等がある。
その他本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物
などが有用である。
有する化合物の例としてはエチレンビスアクリルアミド
等のアクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエ
ステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物
などが有用である。
主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は例えば不
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応によシ得られるポリアミド等
がある。
飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反
応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸
とジアミンとの重縮合反応によシ得られるポリアミド等
がある。
91+鎖に゛エチレン性不飽和結合を有する重合体は側
鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン酸
、ブロビリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒ
ドロキシまたはジアミン化合物との縮合重合体がある。
鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸例えばイタコン酸
、ブロビリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒ
ドロキシまたはジアミン化合物との縮合重合体がある。
また側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反
応活性を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビニル
アルコール、ボ17 (J−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)、ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリ
ル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反
応によj 4Mられるポリマーも好適に使用し得る。
応活性を有する官能基をもつ重合体、例えばポリビニル
アルコール、ボ17 (J−ヒドロキシエチルメタクリ
レート)、ポリエピクロルヒドリン等と(メタ)アクリ
ル酸、クロトン酸の様な不飽和カルボン酸との高分子反
応によj 4Mられるポリマーも好適に使用し得る。
以上記載したエチレン性不飽和二重結合を有する化合物
の内、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステ
ル類の単量体が特に好適に使用できる。
の内、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステ
ル類の単量体が特に好適に使用できる。
次に本発明の光重合性組成物の第コの必須成分である光
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本兄明の光重合開始系は少なくとも、2釉類の成分
の組合せからなシ、その第1の成分(α)はjjfJ
l;e2一般式(1)で示される化合物である。本化合
物は康Aで示される含窒素芳香環、例えば、オキサゾー
ル、チアゾール、イミタゾール、ピリジン、ピリミジン
、またはそれらにベンゼン環、ナフタレン環等の炭化水
素芳香環が縮合した縮合域、オキサジアゾール、チアジ
アゾール、トリアゾールおよびθ−トリアジン等にp−
ジアルキルアミノフェニル基が7%コまたは3信置接結
合した構造を有している。アルキル基R1、R1はメチ
ルまたはエチル基が好ましい。化合物(、)を具体的に
例示するに、コー(p−ジメチルアミノフェニル)ベン
ゾオキサゾール(以下「α−7」と略記する。)、2−
(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール(
以下r a −,2Jと略記する。)、−一(p−ジメ
チルアミノフェニル)ベンゾ[+、j )ベンゾオキサ
ゾール(以下「α−3」と略記する。)、コー(p−ジ
メチルアミノフェニル)ベンゾC’r’ )ベンゾオキ
サゾール(以下「α−ダ」と略記する。)、コ、S−ビ
ス−(p−ジメチルアミノフェニル)/、、7.41−
オキサジアゾール(以下「α−3」と略記する。)、−
一(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール(
以下「a −A Jと略記スる。)、コー(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ペンシナアゾール(以下「tL−7
」と略記する。)、−一(p−ジメチルアミノフェニル
)ベンズイミダゾール(以下[α−gJと略記する。)
、X、t−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−’+
’+ダーチアジアゾール、コー(p−ジメチルアミノフ
ェニル)ピリジン%2−(p−ジメチルアミノフェニル
)キノリン、−一(p−ジメチルアミンフェニル)ピリ
ミジン1.2,41.A−) !7ス(p−ジメチルア
ミノフェニル)−6−トリアジンおよび−2−(p−ジ
メチルアミノフェニル) ’ + 3+ダートリアソー
ル翳が挙げられる。
重合開始系について説明する。光重合開始系は活性光線
の照射によりラジカルを発生し前述のエチレン性不飽和
結合を有する化合物の付加重合反応をもたらすものであ
る。本兄明の光重合開始系は少なくとも、2釉類の成分
の組合せからなシ、その第1の成分(α)はjjfJ
l;e2一般式(1)で示される化合物である。本化合
物は康Aで示される含窒素芳香環、例えば、オキサゾー
ル、チアゾール、イミタゾール、ピリジン、ピリミジン
、またはそれらにベンゼン環、ナフタレン環等の炭化水
素芳香環が縮合した縮合域、オキサジアゾール、チアジ
アゾール、トリアゾールおよびθ−トリアジン等にp−
ジアルキルアミノフェニル基が7%コまたは3信置接結
合した構造を有している。アルキル基R1、R1はメチ
ルまたはエチル基が好ましい。化合物(、)を具体的に
例示するに、コー(p−ジメチルアミノフェニル)ベン
ゾオキサゾール(以下「α−7」と略記する。)、2−
(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール(
以下r a −,2Jと略記する。)、−一(p−ジメ
チルアミノフェニル)ベンゾ[+、j )ベンゾオキサ
ゾール(以下「α−3」と略記する。)、コー(p−ジ
メチルアミノフェニル)ベンゾC’r’ )ベンゾオキ
サゾール(以下「α−ダ」と略記する。)、コ、S−ビ
ス−(p−ジメチルアミノフェニル)/、、7.41−
オキサジアゾール(以下「α−3」と略記する。)、−
一(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール(
以下「a −A Jと略記スる。)、コー(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ペンシナアゾール(以下「tL−7
」と略記する。)、−一(p−ジメチルアミノフェニル
)ベンズイミダゾール(以下[α−gJと略記する。)
、X、t−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−’+
’+ダーチアジアゾール、コー(p−ジメチルアミノフ
ェニル)ピリジン%2−(p−ジメチルアミノフェニル
)キノリン、−一(p−ジメチルアミンフェニル)ピリ
ミジン1.2,41.A−) !7ス(p−ジメチルア
ミノフェニル)−6−トリアジンおよび−2−(p−ジ
メチルアミノフェニル) ’ + 3+ダートリアソー
ル翳が挙げられる。
以下にα−7〜α−8の化合物の前走式を示す。
これらの内、含窒素芳香環がベンゾオキサゾール、ベン
ゾ[F、、t )ベンゾオキサゾールおよびオキサジア
ゾールであるものが特に好ましい。
ゾ[F、、t )ベンゾオキサゾールおよびオキサジア
ゾールであるものが特に好ましい。
以上の化合物は、例えば、Zh、0bsbch、Kim
、 JJコロ1り(/94コ)、英国特許第クダ6,0
4(7号等の方法によシ合成することができる。
、 JJコロ1り(/94コ)、英国特許第クダ6,0
4(7号等の方法によシ合成することができる。
第一の成分(1,)はへキサアリールビイミダゾールで
ある。これはコ、lI、!r −)リアリールイミダゾ
リルニ量体とも呼ばれ一個のイミダゾールが1個の共有
結合で結ばれた下記式の構造を有する化合物である。
ある。これはコ、lI、!r −)リアリールイミダゾ
リルニ量体とも呼ばれ一個のイミダゾールが1個の共有
結合で結ばれた下記式の構造を有する化合物である。
本発明においては上記化合物の種々の異性体を使用する
ことができる。
ことができる。
前記アリール基としてはフェニル基か好ましい。かかる
フェニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び一′位のフェニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
または臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、メチル基
で置換されたヘキサフェニルビイミダゾールが熱安定性
、光反応速度の特性面から有利である。
フェニル基は置換基を有していてもよく、特に2位およ
び一′位のフェニル基のオルト位が弗素原子、塩素原子
または臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、メチル基
で置換されたヘキサフェニルビイミダゾールが熱安定性
、光反応速度の特性面から有利である。
ヘキサアリールビイミダゾールの具体例としては、2,
2′−ビス(O−クロロフェニル)−ダ。
2′−ビス(O−クロロフェニル)−ダ。
+’、 t 、 t’−テトラフェニルビイミダゾール
(以下「b−/Jと略記する。)、コ1.2′−ビス(
o−ブロモフェニル)−ダ、グ’、 !; 、!r’−
テトラフェニルビイミダゾール(以下「b−コ」と略記
する。)、λ、コ′−ビス(o、p−ジクロロフェニル
) ”+ダ′。
(以下「b−/Jと略記する。)、コ1.2′−ビス(
o−ブロモフェニル)−ダ、グ’、 !; 、!r’−
テトラフェニルビイミダゾール(以下「b−コ」と略記
する。)、λ、コ′−ビス(o、p−ジクロロフェニル
) ”+ダ′。
左、、t’−テトラフェニルビイミダゾール、コ、コ′
−ビス(0−クロロフェニル)−グ、t′9g 、61
−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、コ
、−′−ビス(o、o’−ジクロロフェニル)−1I+
ダ′、タ、5′−テトラフェニルビイミダゾール、コ9
.2′−ビス(0−ニトロフェニル)−ダ、4”、j−
、j−’−テトラフェニルビイミダゾール、−5−′−
ビス(0−メチルフェニル) −” + ”Z ’ +
”−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
−ビス(0−クロロフェニル)−グ、t′9g 、61
−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、コ
、−′−ビス(o、o’−ジクロロフェニル)−1I+
ダ′、タ、5′−テトラフェニルビイミダゾール、コ9
.2′−ビス(0−ニトロフェニル)−ダ、4”、j−
、j−’−テトラフェニルビイミダゾール、−5−′−
ビス(0−メチルフェニル) −” + ”Z ’ +
”−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
これらのヘキサアリールビイミダゾール類は例えばBu
ll、Chem、 Boa、 Japan、 3J 、
kl、!r(/qgo)およびJ、org、Chem
、、 3J/A)226コ(/タフl)に開示されてい
る方法によシ谷易に合成することができる。
ll、Chem、 Boa、 Japan、 3J 、
kl、!r(/qgo)およびJ、org、Chem
、、 3J/A)226コ(/タフl)に開示されてい
る方法によシ谷易に合成することができる。
本発明の光重合性組成物に用いられる光重合開始系は以
上の(α) l (6) 、2種化合物の組合せを基本
としたものであって紫外線領域を主体とする光線に対し
優れた感応性を有する。
上の(α) l (6) 、2種化合物の組合せを基本
としたものであって紫外線領域を主体とする光線に対し
優れた感応性を有する。
前記光重合開始系には更に第3成分として、(1) 一
般式 %式% 〔式中、Zは−o−、−s−セ↓−B=nn−士立道−
−〕で示 されるチオール化合物を含有させるのが好ましい。本発
明の光重合開始系にこのチオール化合物を添加併用する
と史に感度を向上させることができる。このチオール化
合物の具体例を示せばコーメルカブトペンゾチアゾール
(以下Uc/」と略記する。)、コーメルカプト収ンゾ
オキサゾール(以下[c−aJと略記する。)およびλ
−メルカプトベンズイミダゾール(以下「、−34と略
記する。)を挙げることができる。
般式 %式% 〔式中、Zは−o−、−s−セ↓−B=nn−士立道−
−〕で示 されるチオール化合物を含有させるのが好ましい。本発
明の光重合開始系にこのチオール化合物を添加併用する
と史に感度を向上させることができる。このチオール化
合物の具体例を示せばコーメルカブトペンゾチアゾール
(以下Uc/」と略記する。)、コーメルカプト収ンゾ
オキサゾール(以下[c−aJと略記する。)およびλ
−メルカプトベンズイミダゾール(以下「、−34と略
記する。)を挙げることができる。
以上述べてきた各成分は相互に効果的に作用し合い、優
れた光重合開始系を形成する。これら各構成成分の好適
な使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物に
対し、重址比率で成分(α)0.1〜/S%、好ましく
は7〜10%、成分(b)o、z〜30%、好ましくは
λ〜/j’チであり、更に場合によシ用いられる成分(
1)の使用量は同じくθ、/〜λθ饅、好壕しくは/〜
/!チでおる。
れた光重合開始系を形成する。これら各構成成分の好適
な使用量はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物に
対し、重址比率で成分(α)0.1〜/S%、好ましく
は7〜10%、成分(b)o、z〜30%、好ましくは
λ〜/j’チであり、更に場合によシ用いられる成分(
1)の使用量は同じくθ、/〜λθ饅、好壕しくは/〜
/!チでおる。
本発明の光重合性組成物は前記の各構成成分の他に本組
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
hJ ’t%分子物質を更に添加することができる。結
合剤は相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的
に応じて適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現
像性改善には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖に
カルボキシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエ
チレンオキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜
強度、接着性の改善にはエビクーロヒドリンとビスフェ
ノールAとのポリエーテル、可溶性ナイロ/、ポリメチ
ルメタクリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポ
リアクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリ
ロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニ
トリルと環化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩
化ビニリデン、塩素化ポリオレフィン、塩化ビニルと酢
酸ビニルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニト
リルとスチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタ
ジェン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアル中ルエ
ーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリスチレン、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート
イソフタレート、アセチルセルロースおよびポリビニル
ブチラール等を挙けることができる。これらの結合剤は
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物に対し、重量
比率でSOO%以下、好ましくは200%以下の範囲で
添加混合することができる。
成物の改質、光硬化後の物性改善の為に結合剤として有
hJ ’t%分子物質を更に添加することができる。結
合剤は相溶性、皮膜形成性、現像性、接着性等改善目的
に応じて適宜選択すればよい。具体的には例えば水系現
像性改善には(メタ)アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、側鎖に
カルボキシル基を有する酸性セルロース変性物、ポリエ
チレンオキシド、ポリビニルピロリドン等があり、皮膜
強度、接着性の改善にはエビクーロヒドリンとビスフェ
ノールAとのポリエーテル、可溶性ナイロ/、ポリメチ
ルメタクリレートの様なポリメタクリル酸アルキルやポ
リアクリル酸アルキル、メタクリル酸アルキルとアクリ
ロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体、アクリロニ
トリルと環化ビニル、塩化ビニリデンとの共重合体、塩
化ビニリデン、塩素化ポリオレフィン、塩化ビニルと酢
酸ビニルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、アクリロニト
リルとスチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタ
ジェン、スチレンとの共重合体、ポリビニルアル中ルエ
ーテル、ポリビニルアルキルケトン、ポリスチレン、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート
イソフタレート、アセチルセルロースおよびポリビニル
ブチラール等を挙けることができる。これらの結合剤は
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物に対し、重量
比率でSOO%以下、好ましくは200%以下の範囲で
添加混合することができる。
本発明の光重合性組成物は必要に応じ更に熱重合防止剤
、渣色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等を
含有していてもよい。
、渣色剤、可塑剤、表面保護剤、平滑剤、塗布助剤等を
含有していてもよい。
熱重合防止剤としては例えはハイドロキノン、p−メト
キシフェノール、ピロガロール、カテコール、コツルー
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトールなど
があり着色剤としては例えばフタロシアニン系顔料、ア
ゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、
エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系
染料、アントラキノン糸染料、シアニン系染料がある。
キシフェノール、ピロガロール、カテコール、コツルー
ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β−ナフトールなど
があり着色剤としては例えばフタロシアニン系顔料、ア
ゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、
エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系
染料、アントラキノン糸染料、シアニン系染料がある。
これら熱重合防止剤や着色剤の硝加童はエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物と結合剤との合計重量に対し
熱重合防止剤が0.0 /%ないし3%、着色剤θ、l
φないし20チが好ましい。可塑剤としては例えばジオ
クチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレ
ングリコールシカプリレート、ジメチルグリコールフタ
レート、トリクレジオホスフェート、ジオクチルアジペ
ート、ジブチルセバクート、グリセロールトリアセテー
ト等がありエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物
と結合剤との合計重量に対し3%以下添加することがで
きる。
和二重結合を有する化合物と結合剤との合計重量に対し
熱重合防止剤が0.0 /%ないし3%、着色剤θ、l
φないし20チが好ましい。可塑剤としては例えばジオ
クチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレ
ングリコールシカプリレート、ジメチルグリコールフタ
レート、トリクレジオホスフェート、ジオクチルアジペ
ート、ジブチルセバクート、グリセロールトリアセテー
ト等がありエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物
と結合剤との合計重量に対し3%以下添加することがで
きる。
本発明の光重合性組成物は無溶剤にて感光相料を形成す
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光拐料を調製する。溶剤として
は例えはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルム7ミド
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトンヒドロ
7ラン、ペントキンン(p−メチルーダーメトキシーコ
ーベンタノン)等がある。
るかまたは適当な溶剤に溶解して溶液となしこれを支持
体上に塗布、乾燥して感光拐料を調製する。溶剤として
は例えはメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸
ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、トルエン、
キシレン、モノクロロベンゼン、四塩化炭素、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、ジメチルホルム7ミド
、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトンヒドロ
7ラン、ペントキンン(p−メチルーダーメトキシーコ
ーベンタノン)等がある。
本発明の光重合性組成物を用いて感光材料を調製する際
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−
ナイロン、セルローストリアセテート、セルロースアセ
テートブチレートの様なポリマーシートなどがある。
に適用される支持体としては例えばアルミニウム、マグ
ネシウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属ま
たはそれらを主成分とした合金のシート、上質紙、アー
ト紙、剥離紙の様な紙類、ガラス、セラミックスの如き
無機シート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、6−
ナイロン、セルローストリアセテート、セルロースアセ
テートブチレートの様なポリマーシートなどがある。
また本発明の光重合性組成物はさらに酸素による感度低
下や保存安定性の労化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシーIf
設けたりV木造過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー寺による被覆層を設けることもできる。
下や保存安定性の労化等の悪影響を防止する為の公知技
術、例えば、感光層上に剥離可能な透明カバーシーIf
設けたりV木造過性の小さいロウ状物質、水溶性ポリマ
ー寺による被覆層を設けることもできる。
本発明の組成物に適用し得る熱光光源としてはカーボン
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、紫外線アルゴンイオンレーザ−寺
tgonrc以」二の紫外線を含む汎用の光源を好適に
使用し得る。
アーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光ランプ、紫外線アルゴンイオンレーザ−寺
tgonrc以」二の紫外線を含む汎用の光源を好適に
使用し得る。
本発明の光重合性組成物は広範囲な応用分野に有用であ
って例えば平版、凸版用印刷版の作成、プリント配線や
IC,L611作敢の為のフォトレジスト、ドライフィ
ルム、レリーフ掟や画像複製などの画像形成、光fif
fi化性のインク、塗料、接着剤等に利用できる。
って例えば平版、凸版用印刷版の作成、プリント配線や
IC,L611作敢の為のフォトレジスト、ドライフィ
ルム、レリーフ掟や画像複製などの画像形成、光fif
fi化性のインク、塗料、接着剤等に利用できる。
以下本発明を実施例ならひに比較例により具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。
実施例7〜/7および比較レリ/〜ダ
ポリメチルメタクリレート(ヨシしイヨン社#BR−1
3、商品名)を′帛法により15モル饅加水分解して得
られたメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体5
f1 トリメチロールプ日バントリアクリレート(大阪
有機化学社製)5f1 ビクトリアピュアブルー130
H(採土ケ谷化学工業社製、商品名)30■およびp−
メトキシフェノール3θりをメチルエチルケトン90f
に溶解し感光液原液とした。次に表1に示した光重合開
始系各成分を表/に示した量添加溶解し、その試料感光
液を砂目型ておよび陽極酸化を施したアルミニウムシー
ト上にホワラーを用いて、乾燥膜厚がコ、Oμmとなる
様塗布し、ざOCで3分間乾燥した。更にその上にポリ
ビニルアルコール(日本合成化平置、J!l!GL−0
5、商品名)の水溶液を乾燥膜厚1.θμmに塗布し、
オーバーコートノー全段けた。かくして得られた感光材
料試料を露光し、プチルセロソルブデ重量%、ケイ酸ソ
ーダIN量%を含む水溶液で現像を行ない、最小硬化画
像形成エネルギー値を迎]定し感度をめた。結果は表1
に示したが、表中、相対M度Aは高圧水銀燈(UMH−
3000、ウシオ電機社製→を露光光源とし、336、
ダ0!i%1I36各nmを含むマルチラインに対する
ものであシ、相対感度Bは分光照射装置(ナルミ社製R
M−コJ)を用い、JjAnmのモノクローム光線に対
する値を示したものである。共にベンゾフェノン/ミヒ
ラーケトンを組合せた光重合開始系(比較例/)全基準
とした相対値で示しである。また光重合開始系の各成分
の略号は本文中に記載したものを用いてあシ、添加量は
感光液原数の固形分化覧に対する割合で示した。
3、商品名)を′帛法により15モル饅加水分解して得
られたメチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体5
f1 トリメチロールプ日バントリアクリレート(大阪
有機化学社製)5f1 ビクトリアピュアブルー130
H(採土ケ谷化学工業社製、商品名)30■およびp−
メトキシフェノール3θりをメチルエチルケトン90f
に溶解し感光液原液とした。次に表1に示した光重合開
始系各成分を表/に示した量添加溶解し、その試料感光
液を砂目型ておよび陽極酸化を施したアルミニウムシー
ト上にホワラーを用いて、乾燥膜厚がコ、Oμmとなる
様塗布し、ざOCで3分間乾燥した。更にその上にポリ
ビニルアルコール(日本合成化平置、J!l!GL−0
5、商品名)の水溶液を乾燥膜厚1.θμmに塗布し、
オーバーコートノー全段けた。かくして得られた感光材
料試料を露光し、プチルセロソルブデ重量%、ケイ酸ソ
ーダIN量%を含む水溶液で現像を行ない、最小硬化画
像形成エネルギー値を迎]定し感度をめた。結果は表1
に示したが、表中、相対M度Aは高圧水銀燈(UMH−
3000、ウシオ電機社製→を露光光源とし、336、
ダ0!i%1I36各nmを含むマルチラインに対する
ものであシ、相対感度Bは分光照射装置(ナルミ社製R
M−コJ)を用い、JjAnmのモノクローム光線に対
する値を示したものである。共にベンゾフェノン/ミヒ
ラーケトンを組合せた光重合開始系(比較例/)全基準
とした相対値で示しである。また光重合開始系の各成分
の略号は本文中に記載したものを用いてあシ、添加量は
感光液原数の固形分化覧に対する割合で示した。
実施例/f−,2ダ及び比較例よ
下記表2に示す感光材料試料をSりCのオーブン中に7
30時間保持した後実施例1の相対感度Aの評価方法に
従って感度をめ、その初期感度からの変化量を測定した
。結果を表−に示す。
30時間保持した後実施例1の相対感度Aの評価方法に
従って感度をめ、その初期感度からの変化量を測定した
。結果を表−に示す。
表 コ
特許庁長官 若 杉 和 夫 殿
18件の表示 昭和5 F3(,1〜特許願第H)22
12月2 発明の名称 光重合性組成物 3 補正をする者 事件との関係 出願人 (!190) 三菱化成工業(λ、i(会ン14代理人 東京都千代田区丸の内二丁IAI :r 1′(Ii
+;5 補正の対象 明細Wの[発明の訂細なぴシ明Jの11.Y]6 補正
の内容 (1)明細円筒25頁の表1中、比較1j、す1の成力
−)の(1r]に1ベンゾフエノン」とあるのを1ミヒ
ラークI・ノ1ど訂正する。
12月2 発明の名称 光重合性組成物 3 補正をする者 事件との関係 出願人 (!190) 三菱化成工業(λ、i(会ン14代理人 東京都千代田区丸の内二丁IAI :r 1′(Ii
+;5 補正の対象 明細Wの[発明の訂細なぴシ明Jの11.Y]6 補正
の内容 (1)明細円筒25頁の表1中、比較1j、す1の成力
−)の(1r]に1ベンゾフエノン」とあるのを1ミヒ
ラークI・ノ1ど訂正する。
(2)同第25頁の表1中、比較例′1の成ブ)(1+
ンの+1.lJに手続補正書(自発) 昭和59年 7月27日 3 補正をする者 出願人 (J′94)三菱化成工業株式会社 4代理人〒100 5 補正の対象 明a書の@明の詳細な説明の欄6補正
の内容 (1) 明細書の第19頁下から第5行に「クリスタル
バイオレット」とある後に「などのトリンエニルメタン
糸染料」と加入する。
ンの+1.lJに手続補正書(自発) 昭和59年 7月27日 3 補正をする者 出願人 (J′94)三菱化成工業株式会社 4代理人〒100 5 補正の対象 明a書の@明の詳細な説明の欄6補正
の内容 (1) 明細書の第19頁下から第5行に「クリスタル
バイオレット」とある後に「などのトリンエニルメタン
糸染料」と加入する。
(2)同第−20頁負相〜6行に「トリクレジオホス;
7c −トJ トあるを「トリクレジルホスフェート」
と訂正する。
7c −トJ トあるを「トリクレジルホスフェート」
と訂正する。
(3) 同第23頁下から第2行および第一2り負相1
行に[jJtJとあるを「3に6」と訂正する。
行に[jJtJとあるを「3に6」と訂正する。
(4) 同第2j頁比1! F!/ilコ訃よび比較例
3の相対感度A訃よび相対感度Bの欄に 「 」 とあるを [ と訂正する。
3の相対感度A訃よび相対感度Bの欄に 「 」 とあるを [ と訂正する。
(5)ロ@26頁表2の次に法文を加入する。
「実施列−2!
スチレン/無水マレイン酸共重合体の部ライU
分アルコーリシス反応物(スチ≠=ht CM−2L
。
。
三頁【ヒ成社)に、更にペンタエリスリトールトリアク
リレートを付加反応させて得た重合体9θI%ポリメチ
ルメタクリレート部分加水分解物IO!1およびトリメ
チロールプロパントリアクリレート/θθIをエチル七
ロソルプノ、t!/’ tに溶解し、更に開始光成分a
−/をλgmb ’金/乙yおよびc −/ f t
pならびに色素ビクトリアピュアブルー八jg’を添加
溶解し感光液を調製した。これよシ実施り1/と同様な
方法にす よシ感元材試料を作成した。これにIスフイルム画像〉
よびスデツプタブレットヲ通して実施し11/と1i1
様の光源によシマルチラインの元をθ、j m J /
cId露元した。次すでケイ酸ソーダ1重量%を含む
水溶液で現像を行なった結果、硬1ヒ段数j段の優れた
画像を得た。得られた印刷版を用い−C印刷を行なった
所、10万枚問題なく印刷し得た。
リレートを付加反応させて得た重合体9θI%ポリメチ
ルメタクリレート部分加水分解物IO!1およびトリメ
チロールプロパントリアクリレート/θθIをエチル七
ロソルプノ、t!/’ tに溶解し、更に開始光成分a
−/をλgmb ’金/乙yおよびc −/ f t
pならびに色素ビクトリアピュアブルー八jg’を添加
溶解し感光液を調製した。これよシ実施り1/と同様な
方法にす よシ感元材試料を作成した。これにIスフイルム画像〉
よびスデツプタブレットヲ通して実施し11/と1i1
様の光源によシマルチラインの元をθ、j m J /
cId露元した。次すでケイ酸ソーダ1重量%を含む
水溶液で現像を行なった結果、硬1ヒ段数j段の優れた
画像を得た。得られた印刷版を用い−C印刷を行なった
所、10万枚問題なく印刷し得た。
その時点における印刷版上の画像には異状が認められな
かった。」 以上
かった。」 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) エチレン性不飽和二重結合を少くとも1個有す
る付加重合可能な化合物および光重合開始系を含む光重
合性組成物において、該光重合開始系が、 (、一般式 〔式中、R1およびR2はアルキル基金示し、nは/、
コ″1.たは3を表わす。猿Aは含窒素芳香環を示す。 〕で表わされる化合物および (b)ヘキサアリールビイミダゾール からなることとを特徴とする光重合性組成物。 (2)該光重合開始系が更に (6) 一般式 〔式中、2は一〇+、−8−または−NH−を示す。〕
で表わされるチオール化合物を含有してなる特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 (3) エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可
能な化合物が、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸
エステル化合物である特許請求の範囲第1項記載の組成
物。 (4)一般式(1)の化合物が2−(p−ジアルキルア
ミノフェニル)ベンゾオキサゾール、コー(p−ジアル
キルアミノフェニル)ベンゾ〔ダ、!〕ベンゾオキサゾ
ールまたはコ、j−ビ、x、 (p −ジアルキルアミ
ノフェニル) ’e’+ダーオキサジアゾールである特
許請求の範囲第1項記載の組成物。 (5) へキサアリールビイミダゾールがコ、2′−ビ
ス(0−クロロフェニル)−ダ、ダ’、 j 、 !f
’−テトラフェニルビイミダゾールまたはコ、−′−ビ
ス(O−ブロモフェニル)−ダ、41’、t、、t’−
テトラフェニルビイミダゾールである特許請求の範囲第
1項記載の組成物。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58192212A JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 光重合性組成物 |
AU34015/84A AU563655B2 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-08 | Initiators for photopolymerisable compositions |
EP84112103A EP0138187B1 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-09 | Photopolymerizable composition |
DE8484112103T DE3476068D1 (en) | 1983-10-14 | 1984-10-09 | Photopolymerizable composition |
CA000465081A CA1230004A (en) | 1983-10-14 | 1984-10-10 | Photopolymerizable composition |
US06/660,088 US4594310A (en) | 1983-10-14 | 1984-10-12 | Photopolymerizable composition comprising tertiary aromatic amine and hexaarylbiimazole initiators |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58192212A JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6084304A true JPS6084304A (ja) | 1985-05-13 |
JPH0629285B2 JPH0629285B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=16287525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58192212A Expired - Lifetime JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | 光重合性組成物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4594310A (ja) |
EP (1) | EP0138187B1 (ja) |
JP (1) | JPH0629285B2 (ja) |
AU (1) | AU563655B2 (ja) |
CA (1) | CA1230004A (ja) |
DE (1) | DE3476068D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005350551A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法 |
Families Citing this family (99)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6358440A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
US4894314A (en) * | 1986-11-12 | 1990-01-16 | Morton Thiokol, Inc. | Photoinitiator composition containing bis ketocoumarin dialkylamino benzoate, camphorquinone and/or a triphenylimidazolyl dimer |
DE3717038A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien |
DE3717034A1 (de) * | 1987-05-21 | 1988-12-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien, sowie neue chinazolon-4-verbindungen |
JPS6413144A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JP2538992B2 (ja) * | 1987-07-21 | 1996-10-02 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物 |
US4874685A (en) * | 1987-11-27 | 1989-10-17 | The Mead Corporation | Photocurable composition containing a photoreducible dye a thiol and an N,N'-dialkylaniline |
DE4009700A1 (de) * | 1990-03-27 | 1991-10-02 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
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