JPH0631278B2 - チタノセン類およびこれらのチタノセン類を含有する照射重合開始剤 - Google Patents

チタノセン類およびこれらのチタノセン類を含有する照射重合開始剤

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JPH0631278B2 JP60283171A JP28317185A JPH0631278B2 JP H0631278 B2 JPH0631278 B2 JP H0631278B2 JP 60283171 A JP60283171 A JP 60283171A JP 28317185 A JP28317185 A JP 28317185A JP H0631278 B2 JPH0631278 B2 JP H0631278B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、一個のフルオロアルキル基を有する芳香族
基の少なくとも一種を有するメタロセン類、およびこれ
らのチタノセン類からなる少なくとも一つのエチレン性
不飽和二重結合を有する不発揮性のモノマー、オリゴマ
ーもしくはポリマーの照射重合開始剤に関する。
［従来の技術］ ふっ素で置換された芳香族基類を有するチタノセン類
が、ヨーロッパ特許公報EP-A-O,122,223に記載されてい
て、これ等はエチレン性不飽和化合物類の重合の為の光
開始剤として適当である。これ等のチタノセン類は、芳
香族基が、その金属と炭素の結合に対するオルト位置に
おいて少なくとも一つのふっ素原子で置換され、またそ
の効果と熱安定性のためには、この様な基を２個もたな
ければならない。
［発明の開示］ この発明の対象は、式Ｉ ［式Ｉにおいて、両R1は互に独立に非置換または置換シ
クロペンタジエニル基もしくは4,5,6,7-テトラヒドロ
インデニル基であり、R2は炭素の６員またはヘテロの
５もしくは６員の芳香族環であり、この芳香族環は金属
と炭素の結合に対する両オルト位置の少なくとも一つが
-CF2Z基（ＺはＦまたは非置換もしくは置換アルキル基
である。）で置換され、かつこれら芳香族環が他の置換
基類を有することも可能であり、R3が上記R2と同一の意
味の基、ハロゲン、シアナート基、チオシアナート基、
アジド基、シアニド基もしくはアシルオキシ基であ
る。］で表わされるチタノセン類である。
両方のR1は好ましくは同一の基である。R1のための置換
基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−ブチル基、第３級ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基のよ
うな直鎖もしくは分枝鎖状の炭素数１〜18、特に１〜６
のアルキル基が好ましい。
R1は３個までの、好ましくは１個の置換基で置換し得
る。両方のR1基は、好ましくはシクロペンタジエニル
基もしくはC1〜C4 -アルキルシクロペンタジエニル
基、特に好ましくはメチルシクロペンタジエニル基で
ある。
CF2Z-基により置換された炭素６員の芳香族環としてのR
2では、インデン環、インダン環、フルオレン環、ナフ
タレン環、特にフェニール環が重要である。例として
は、4-（トリフルオロメチル）インデン-5-イル基、5,7
-ジ（トリフルオロメチル）インダン-6-イル基、2-（ト
リフルオロメチル）フルオレン-3-イル基、3-（トリフ
ルオロメチル）ナフト-2-イル基および好ましいものと
して2-（トリフルオロメチル）フェン-1-イル基等があ
る。
５員のヘテロ芳香族環としてのR2は、一個のヘテロ原子
を有するものが好ましく、６員のヘテロ芳香族環として
のR2は、一個あるいは二個のヘテロ原子を有するものが
好ましい。CF2Z-基で置換されたこの様な環の例として
は、2-（トリフルオロメチル）ピル-3-イル基、2-（ト
リフルオロメチル）フル-3-イル基、2-（トリフルオロ
メチル）チオフェン-3-イル基、2-（トリフルオロメチ
ル）ピリド-3-イル基、3-（トリフルオロメチル）ピリ
ド-4-イル基、4-（トリフルオロメチル）ピリミド-5-イ
ル基等がある。
R2残基は部分的にあるいは完全に他の基で置換されてい
ることが出来る。
R3は、ハロゲン、シアナート基、チオシアナート基、ア
ジド基、シアニド基またはアシルオキシ基である。
ハロゲンとしてのR3は、好ましくは塩素、臭素もしくは
フッ素である。
アシルオキシ基としてのR3は、好ましくは炭素原子数１
〜１８、特に好ましくは１〜１２の脂肪族、脂環式もし
くは芳香族のカルボン酸残基、特に好ましくは一塩素性
カルボン酸残基である。このような酸の例としては、蟻
酸、酢酸、モノクロール酢酸、トリクロール酢酸、トリ
フルオル酢酸、プロピオン酸、酪酸、アクリル酸、メタ
クリル酸、安息香酸、クロール安息香酸およびフェニー
ル酢酸をあげることができる。
一つの好ましい実施態様では、R3はR2と同じ意味を有す
る基であり、また、いま一つの好ましい実施態様では、
R3はハロゲン、シアナート、チオシアナート、アジドも
しくはシアニドである。
一つの好ましいサブ−グループでは、R2は式IIIに対応
する基である。
式IIIにおける好ましいR5、R6およびR7は、水素原子であ
り、R8は水素原子もしくは自由結合に対してオルトの位
置に結合したフッ素である。
一つの特に好ましいサブ−グループでは、式ＩのR1は、
シクロペンタジエニル基あるいはメチルシクロペンタ
ジエニル基であり、R2は次式で表わされ、 この式のR8はＨあるいはＦであり、R3は上記の基、好ま
しくはハロゲン、N3、CN、NCOもしくはNCS、特に好ましく
はＦ、Cl、Br、N3、CN、NCOあるいはNCSである。
式Ｉのチタノセン類の製造は、既知の方法あるいはそれ
に類似の方法で行なわれる。例示的に言えば、式IVで表
示され、この式のＹがハロゲンであるのチタノセンジハ
ロゲン化物類が、 式Ｉａのチタノセン類を製造する為に、 (R1)2Ti(IV)(R2)2 （Ｉａ） ２モルのLiR2により複分解されるか、あるいは式Ｉｂの
チタノセン類を製造する為に、 (R1)2Ti(IV)R2Y （Ｉｂ） １モルのLiR2により複分解されるか、あるいは式Ｉｃで
表示され、 (R1)2Ti(IV)R2R9 （Ｉｃ） この式におけるR9が、CN基、N3基、NCO基、NCS基もしく
はアシルオキシ基であるチタノセン類を製造する為に、
式Ｉｂのチタノセン類がR9Qで表わされ、この式のＱがL
i、NaもしくはＫであるアルカリ化合物類によ複分解さ
れ、式Ｉａ、ＩｂおよびＩｃのチタノセン類が周知の方
法により分離される。
上記の周知法は、例えばJournal of Organometal.Chem.
2(1964),206-212および同誌、4(1965),446-445頁に記載
されている。
式IVの出発化合物で、Ｙが塩素であるものは既に知られ
ている。リチウム化合物LiR2およびLiR3も同様に知られ
ているか、あるいは類似の方法、例えばR2あるいはR3の
ハロゲン化物特に臭化物をブチルリチウムで複分解する
ことにより製造出来る。
式Ｉのチタノセン類の製造は、一般的に不活性溶媒、例
えば炭化水素類あるいはエーテル類、の存在下に、-30
℃以下の温度、例えば-30℃から-100℃迄、好ましくは-
60℃から-90℃迄の温度、において不活性ガス雰囲気中
で行なわれる。この方法の一つの実施態様にあっては、
LiR2もしくはLiR3が、先ず対応するハロゲン化物が、溶
媒としてのエーテル中-78℃において、ブチルリチウム
により複分解されることにより製造される。冷却された
この反応混合物中に、対応するチタノセンジハロゲン化
物が添加され、冷却が停止され、室温迄加温される。次
いで反応混合物は、必要に応じ溶媒の追加の後、ろ過さ
れ、ろ液から、沈澱あるいは溶媒の蒸発により、本発明
によるチタノセンが分離される。
この化合物類は、一般的に固い結晶状の、多くの場合着
色した化合物であり、高い熱安定性の点で卓越し、それ
らの溶融領域に近づいて始めて分解する。また空気並び
に水の作用による分解は観察されない。
この化合物類は貯蔵安定性がよく、保護ガスを使用する
ことなく取扱うことが出来る。この化合物類は、単独で
も、エチレン性不飽和化合物の光に誘発される重合に効
果的な光開始剤として卓越している。この化合物類は、
その際、200nm（紫外線）から約600nm迄の大きな波長範
囲に亙って、非常に高い感光性と作用効果を示す。この
感光性は、R2基の特別な構造を基づいている。これに対
し、R2が置換されたフェニール基とされる通常のチタノ
セン類は、感光性を全く示さない。R3基は広く変化させ
ることが出来る。その為に、異なる用途の為に、丁度よ
く調整された感光剤を製造することが出来る。更に分光
感度（色、吸収係数）および溶解度の点でも各種のもの
を製造することが出来る。
この発明は、また式Ｉのチタノセン類の少なくと１種を
含有することからなる、重合可能なエチレン性不飽和二
重結合の少なくとも１個を有する不揮発性モノマー、オ
リゴマーまたはポリマーの照射重合に用いる開始剤にも
関する。
この発明の重合開始剤は、(a)上記モノマー、オリゴマ
ーまたはポリマーと、(b)重合開始剤との組成物の形で
用いられる。
この発明によるメタロセン類の含有量は、基本的に、そ
の溶解度、所望される感光度および経済的な観点から調
整される。一般的には、成分(a)および場合により存在
する結合剤(c)に対し、0.01から25迄、好ましくは0.1か
ら20迄、特に好ましくは、１から10迄の各重量％が使用
される。
成分(a)としては、光重合により高分子の製品に迄反応
し、その際溶解度が変化する様な、エチレン性不飽和モ
ノマー、オリゴマーおよびポリマー化合物が重要であ
る。
特に適当しているのは、例えば、エチレン性不飽和カル
ボン酸類とポリオール類あるいはポリエポキシド類から
のエステル類およびアミド類、例えば不飽和ポリエステ
ル類、不飽和ポリアミド類、不飽和ポリウレタン、これ
等の共重合物類、ポリブタジエン、ポリブタジエン共重
合物類、ポリイソプレン、ポリイソプレン共重合物類、
側鎖に（メタ）アクリル基およびN-マレインイミジルア
ルキル基を有する重合物および共重合物類、ジあるいは
ポリエポキシドに対するアクリル酸あるいはメタクリル
酸の付加物類等の如き、主鎖あるいは側鎖に複数のエチ
レン性不飽和基を有するポリマー類並びにこれ等ポリマ
ー類の一種あるいは多種の混合物である。
不飽和カルボン酸類の例としては、アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、およびリノ
レイン酸あるいはオレイン酸の如き不飽和脂肪酸類があ
る。好ましいものは、アクリル酸およびメタクリル酸で
ある。
ポリオール類としては、芳香族および好ましいものとし
ての脂肪酸および脂環状ポリオール類が適当している。
芳香族ポリオール類の例としては、ハイドロキノン、4,
4′−ジヒドロキシジフェニレン、ビスフェノールＡの
如きビスフェノール類並びにノボラックおよびレゾール
等がある。ポリエポキシドの例としては、上記のポリオ
ール類好ましくは芳香族ポリオール類とエピクロールヒ
ドリンを基礎としたもの等がある。更にまた、例えばポ
リビニールアルコールおよびその共重合物類あるいはメ
タクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合物類およ
び共重合物類がアルコールとして適当している。他の適
当なアルコール類には、末端基としてヒドロキシル基を
有するオリゴエステル類がある。
ポリオール類の好ましい群として、式R15(OH)nで表示さ
れ、この式でR15が、ｎ価の、好ましくは２から８価
の、特に好ましくは２から６価の、炭素原子数が２から
30迄であって、窒素原子、硫黄原子、好ましくは酸素原
子並びにシクロアルキレン基を間に挟むことができる脂
肪族残基あるいは炭素の５あるいは６員環のシクロアル
キレン基である化合物群がある。
ポリオール類の例として、エチレングリコール、1,2-あ
るいは1,3-プロパンジオール、1,2-、1,3-あるいは1,4-
ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオー
ル、オクタンジオール、デカンジオール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、分子量が好ましく
は100から1500迄のポリエチレングリコール類、1,3-シ
クロペンタンジオール、1,2-、1,3-、あるいは1,4-シク
ロヘキサンジオール、1,4-ジヒドロキシメチルシクロヘ
キサンの如き炭素原子数２から12迄のアルキレンジオー
ル類、グリセリン、トリス−（β−ヒドロキシエチル）
アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリットール
およびソルビトール等がある。
これ等のポリオール類は、部分的にあるいは完全に、一
種のあるいは各種の不飽和カルボン酸によりエステル化
されていることも出来、部分エステル化の場合には、自
由なヒドロオキシル基が、例えばエーテル化されたりあ
るいは他のカルボン酸類によりエステル化されることも
出来る。
エステル類の例としては、トルメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ト
リメチロールエタントリメタアクリレート、テトラメチ
レングリコールジメタアクリート、トリエチレングリコ
ールジメタアクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテイラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリ
トールオクタアクリレート、ペンタエリスリトールジメ
タアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリ
レート、ジペンタエリスリトールジメタアクリレート、
ジペンタエリスリトールテトラメタアクリレート、トリ
ペンタエリスリトールオクタメタアクリレート、ペンタ
エリスリトールジイタコネート、ジペンタエリスリトー
ルトリスイタコネート、ジペンタエリスリトールペンタ
イタコネート、ジペンタエリスリトールヘキサイタコネ
ート、エチレングリコールジメタアクリレート、1,3-ブ
タンジオールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジメ
タアクリレート、1,4-ブタジオールジイタコネート、ソ
ルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアク
リレート、ソルビトールペンタクリレート、ソルビトー
ルヘキサクリレート、改質ペンタリスリトールトリアク
リレート、オリゴエステルアクリレート、オリゴエステ
ルメタクリレート、グリセロールジアクリレートおよび
トリアクリレート、1,4-ヘキサンジオールジアクリレー
ト、分子量100-1,500のポリエチレングリコールのビス
アクリレートおよびビスアクリレート類、あるいはこれ
らの混合物がある。
成分(a)としてはまた、炭素原子数が２から30迄、好ま
しくは２から18迄であって、２から６迄好ましくは２か
ら４迄のアミノ基数を有する芳香族、脂環式および脂肪
族のポリアミン類による、同一あるいは異なった不飽和
カルボン酸のアミド類も適当している。アミン類の例と
して、エチレンジアミン、1,2-あるいは1,3-プロピレン
ジアミン、1,2-、1,3-あるいは1,4-ブチレンジアミン、
1,5-ペンチレンジアミン、1,6-ヘキシレンジアミン、オ
クチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4-ジアミノ
シクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジア
ミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチル
エーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、ジ−（β−アミノプロポオキシ）エタンの如き、
好ましくは炭素原子数２から22迄のアルキレンジアミン
類がある。他方の適当なポリアミン類には、側鎖に複数
のアミノ基を有する重合物類および共重合物類および末
端基にアミノ基を有するオリゴアミド類がある。
例としては、メチレン−ビス−アクリルアミド、1,6-ヘ
キサメチレン−ビス−アクリルアミド、ジエチレントリ
アミン−トリス−メタクリルアミド、ビス（メタクリル
アミドプロポキシ）−エタン、β−メタクリル−アミド
エチルメタクリレート、N[（β−ヒドロオキシエチルオ
キシ）−エチル]-アクリルアミド等がある。
適当な不飽和のポリエステル類およびポリアミド類は、
例えばマレイン酸とジオール類あるいはジアミン類から
誘導される。マレイン酸は、部分的に他のジカルボン酸
により置代えることも出来る。これ等の不飽和のポリエ
ステル類およびポリアミド類には、例えばスチレンの如
きエチレン性不飽和共重合用モノマー類を添加すること
も出来る。これ等のポリエステル類およびポリアミド類
はまた、飽和のジカルボン酸とエチレン性不飽和ジオー
ル類あるいはジアミン類、好ましくは例えば炭素原子数
６から20迄の長鎖のジオール類あるいはジアミン類から
誘導することも出来る。ポリウレタンの例としては、飽
和あるいは不飽和のジイソシアネート類と不飽和あるい
は飽和のジオール類とから製造されるものがある。
ポリブタジエンおよびポリイソプレンとそれぞれの共重
合物は知られている。この場合の適当な共重合用モノマ
ーは、例えば、エチレン、プロペン、ブテン、ヘキセ
ン、アクリレート、メタクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンあるいは塩化ビニール等の如きオレフィン
類である。側鎖にメタクリレート基あるいはアクリレー
ト基を有するポリマー類も、同様に知られている。この
様なポリマー類では、例えば、ビスフェノールＡあるい
はノボラックを基礎にしたエポキシ樹脂とアクリル酸お
よび／またはメタクリル酸との複分解生成物、ポリビニ
ールアルコールあるいはそのヒドロキシアルキル誘導体
がメタクリル酸あるいはアクリル酸でエステル化された
ものあるいはメタクリレートあるいはアクリレートの重
合物あるいは共重合物がヒドロキシアルキルアクリレー
トあるいはヒドロキシアルキルメタクリレートによりエ
ステル交換されたもの等が重要である。
この発明において、光重合可能な化合物類は、単独にあ
るいは任意の混合物類として使用される。好都合なもの
は、不飽和カルボン酸類のエステル類、好ましくはポリ
オール類のアクリル酸あるいはメタクリル酸エステル、
の混合物である。他の一つの実施態様においては、ポリ
オール類のアクリレートおよび／またはメタクリレート
が単独あるいは混合物として使用される。
光重合可能な化合物類が液状のあるいは粘稠な物質とし
て取扱われる際に、好ましくは目的に適合した結合剤
(c)を、この発明に適合する組成物に添加することが出
来る。結合剤(c)の添加量は、成分(b)および結合剤(c)
の存在量に対し、例えば5-95、好ましくは10-90、特に
好ましくは50-90各重量％とされる。
結合剤の選択は、用途範囲および例えば水性系あるいは
有機溶媒系のシステムにおける現像の容易さ、基材に対
する接着性、酸素に対する敏感姓等の如き用途範囲から
要求される性質に従って行なわれる。
適当な結合剤は、例えば、分子量が約5000-2000000の、
好ましくは10000から1000000迄のポリマー類である。例
としては、例えば、メチルメタクリレート／エチルアク
リレート／メタクリル酸共重合物類、アルキル基がC1-C
20のものとされるポリ（メタクリル酸アルキルエステ
ル）類、ポリ（アクリル酸アルキルエステル）類等の如
きアクリレートおよびメタクリートの単独重合物類およ
び共重合物類、酢酸セルローズ、セルローズアセテート
ブチレート、メチルセルローズ、エチルセルローズの如
きセルローズエステル類およびセルーズエーテル類、ポ
リビニールブチラール、ポリビニールホルマール、環化
ゴム等、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキ
サイド、ポリテトラヒドロフランの如きポリエーテル
類、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニール等、塩化ビニール／塩化ビニ
リデン共重合物、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、
メチルアメタクリレートおよび酢酸ビニール等との共重
合物、ポリ酢酸ビニール、エチレン／酢酸ビニール共重
合物、ポリカプロラクタムおよびポリ（ヘキサメチレン
アジポアミド）の如きポリアミド類およびポリカプロラ
クタム類、ポリ（エチレングリコールテレフタレート）
およびポリ（ヘキサメチレングリコールサクシネート）
の如きポリエステル類等がある。
この発明による重合開始剤と前記ポリマーとの組成物
は、他の通常の添加剤類、例えば、熱重合の禁止剤類、
顔料類、染料類、充填剤類、密着改善剤、湿潤剤、軟化
剤の如きもの、を含むことが出来る。更にこの組成物類
は、使用する為に適当な溶媒に溶解されることも出来
る。
この組成物の感光度は、増感剤類の添加により更に高め
ることが出来る。増感剤の量は、式Ｉの化合物類の量に
対応する量とされる。適当な増感剤は、例示的に言え
ば、芳香族炭化水素環あるいはヘテロ芳香族環を一個あ
るいは多数個有する化合物類、好ましくはアセトフェノ
ンあるいはベンゾフェノンとされるフェノン類、ベンジ
ル類、スチルベン類、ポリアセチレン類、キサントン
類、チオキサントン類、アントラセン類、好ましくはフ
タールイミドチオエーテルとされるフタールイミド類お
よび隣接するCO基を有するジオン類等である。他の例
は、ムロフ著「光化学ハンドブック」の27頁以下(1973)
[S.L.Murov,Handbook of Photochemistry,M.Dekker In
c.,New York,page 27(1973)]に記載されている。好まし
いものは置換されたチオキサントン類である。
上記の組成物類は、例えば木材、紙、セラミック、ポリ
エステルおよび酢酸セルローズフィルム類等の合成樹脂
類および銅およびアルミニウム等の金属類の如き多種の
基材の為の被覆剤として卓越し、これ等の基剤上で光重
合により保護層あるいは写真的複写像が形成される。
基材への被覆は、例えば、この組成物の溶液あるいは懸
濁液を作ることにより行なわれる。溶媒の選択および濃
度は、主として組成物の性質と塗布方法に従って調整さ
れる。溶液あるいは懸濁液は、周知の塗装方法、例えば
浸漬法、掻き取り法、懸垂注液法、刷毛塗り法、噴霧
法、逆回転ロール塗装法等により、基材の上に均一に塗
装される。塗装量（被覆層の厚み）および基材（被覆層
の担体）の種類は、所望の応用分野に依存している。写
真的情報記録の為には、例えばポリエステル、酢酸セル
ローズあるいは合成樹脂で塗装された紙類等の薄膜類
が、オフセット印刷版には特別に加工されたアルミニウ
ムが、印刷回路類の製造の為には銅の張り付けられた積
層板がそれぞれ使用される。写真的な材料およびオフセ
ット印刷版の為の被覆層の厚みは、約0.5から約10μｍ
迄、印刷回路の為の層の厚みは１から約100μｍ迄であ
る。
アクリレートおよびメタクリレートの光重合は、周知の
通り、空気中の酸素により、特に層の厚みが薄い場合
に、妨害される。この様な効果は、周知の通常法、例え
ばポリビニールアルコールによる表面被覆の実施あるい
は不活性ガス中における前露光あるいは事前の条件調整
により軽減される。更に酸素の流入を抑制する様な化合
物類の添加も出来る。この様な化合物類は、米国特許3,
479,185および同4,414,312に記載されている。
塗装の後、溶媒が乾燥により除去され、担体の上に、感
光性ポリマーの層が形成される。通常の方法によるホト
マスクを通したこの発明材料の適度な露光の後に、現像
剤中における溶出で除去されるポリマーの光の当らなか
った部分と網状化された本発明のポリマーを実質成分と
する露出したポリマーの浮彫像とが生じる。現像剤の種
類は、光重合層の性質と組成に従って、水性あるいは有
機性のものとされる。カルボオキシル基を含有する化合
物類および結合剤類に対しては、例えば炭酸塩水溶液が
適当している。適当な有機性の現像剤は、例えば、1,1,
1-トリクロールエタンの如き塩素化炭化水素類、シキロ
ヘキサノンの如きケトン類、酢酸ブチルおよびアセトキ
シメトキシエタンの如きエステル類およびエチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブおよびブタノールの如きアルコ
ール類等である。
この発明による重合開始剤を含む材料の感光性は、紫外
線領域（200μｍ）から約600μｍに迄達し、非常に広い
範囲を包括している。従って光源として、広く異なる型
式の多種類のものが使用出来る。点光源も面光源（ラン
プ製のカーペット）も共に適している。例としては、炭
素電極アーク灯、キセノン電弧放電灯、水銀蒸気灯、場
合によっては金属ハロゲン化物を添加される水銀蒸気灯
（金属ハロゲンランプ）、蛍光灯、アルゴン白熱電灯、
電子フラッシュランプおよび写真用溢光ランプ等があ
る。ランプとこの発明の材料との間の距離は、使用目的
およびランプの型式並びにランプの強さに従って、例え
ば２cmから150cm迄の間に調整される。特に適当なもの
は、例えば、457,476,488,514,528μｍに強力な発射光
線を有するアルゴンイオンレーザーあるいはクリプトン
イオンレーザーである。この種の光線による露光に際し
ては、光ポリマーの層に接触するホトマスクは、もはや
必要でなく、振り動かされるレーザー光線が層の上に直
接像を書くことになる。この点で、この発明に適合する
材料の高い感光性は、相対的に低い強さの光で高い画像
書きの早さを許すことになる故、非常に有利である。こ
の様な方法により、電子工業における印刷回路、石版印
刷式のオフセット印刷版あるいは浮彫像の印刷版並びに
写真的な像の記録材料等が製造される。
最も重要な応用は、印刷回路および印刷版の製造の際の
腐蝕レジスト、電気腐蝕レジスト、はんだ止めの塗膜と
しての使用、オフセット印刷、書籍印刷（凸版印刷）の
為の光ポリマー印刷版の製造用として並びにフレキソ印
刷およびスクリーン印刷におけるステイジングインクと
して、また例えば西独特許DE-A-26 51 864あるいは同DE
-A-22 02 360に該当する写真的な像の記録材料の製造用
として等である。
実施例 以下の実施例がこの発明を詳細に説明する。
実施例1-11 500ｍの三口フラスコに、アルゴン雰囲気下、50ｍ
のブチルリチゥム（1.6モルのヘキサン溶液で80ｍモル
相当）および150ｍのジエチルエーテルが、先に仕込
まれ、-70℃に冷却された。次いで150ｍのジエチルエ
ーテル中に16.9ｇのo-ブロム−トリ−フルオルメチルベ
ンゼン（75ｍモル）を含む液が、１時間の間に滴下さ
れ、-70℃において更に１時間攪拌された。次に17.5ｇ
のCp2 TiCl2（70.5ｍモル）が添加され、反応混合物
は、光を遮断されて、３時間の間に徐々に室温に迄加温
され、この間にオレンジ色の懸濁液が生成した。次の処
理の為に、回転蒸発機中で、乾燥する迄蒸発され、高い
粘度の残留物が150ｍのCH2Cl2に収容され、ハイフロ
(Hyflo)でろ過され、再び蒸発された。製品を沈澱させ
る為に、300ｍのn-ヘキサンが添加され、攪拌され
た。22.2ｇのオレンジ色の結晶製品（理論値の88％）が
得られた。
実施例2-8においては、類似の方法により実施された。
反応条件および結果が第１表および第２表に記載されて
いる。これ等の実施例において、Cpとあるのは、シクロ
ペンタジエニルである。
実施例12〜20 250ｍの丸底フラスコ中において、9.7ｇ（0.025モ
ル）の実施例３の製品および125ｍのアセトン中に5.5
ｇのロダンカリを含む液が、光を遮断され、18時間の間
室温において攪拌された。その後、沈澱した塩がろ別さ
れ、溶媒が蒸発され（回転蒸発機）、暗赤色の残留物
が、100ｍのn-ヘキサンから結晶化された。7.3ｇ（71
％）の結晶製品が得られた。
実施例10〜15においては、類似の方法により実施され
た。反応条件および結果は、第１表および第２表に記載
されている。
応用実施例 全て操作は赤色光の下で実施された。
次の組成の被覆用溶液が製造された。
6.96ｇの1-アセトキシ-2-エトキシ−エタン 1.37ｇのスチレン／無水マレイン酸共重合物、平均分子
量10000（酸価190） 1.47ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート 0.20ｇのポリエチレングリコール-200-ジアクリレート 0.05ｇの開始剤 各成分の混合の後、溶液となる迄攪拌された。溶液は、
ワイヤー・ドローバーを使用して、前処理されたアルミ
ニウムの担体フォイル（オフセット印刷版の基材）の上
に、湿潤膜厚24μｍに塗装され、100℃で２分間乾燥さ
れた。乾燥された感光層の上に、下記の組成のポリビニ
ールアルコールの溶液が、 30ｇのポリビニールアルコール（モビオール4-88） 15ｇのポリオキシエチレン−ラウリルエーテル（ブリジ
35） 250ｍの脱イオン水 湿潤膜厚12μｍに塗装され、100℃で５分間乾燥され
て、ポリビニールアルコールの保護層が形成された。
この感光性材料が、OD＝0.15の濃度増分(density incre
ment)をもった灰色くさび（ストウファーのくさび）を
示す試験用陰画と密着されて露光された。露光装置とし
ては、１KWのHg/Xeの光源（365nmにおいて43mJ/cm2）を
有するホトレジスト用照明器（オリエル）が、使用され
た。
次の組成の現像液に、 15.0ｇのナトリウムメタシリケート・9H2O 0.3ｇの水酸化ストロンチウム・8H2O 3.0ｇのポリエチレングリコール6000 0.5ｇのレブリン酸 1000.0ｇの脱イオン水 室温で１分間浸漬されることにより、浮彫増が現像さ
れ、水で短時間洗浄され、空気乾燥された。感光度の測
定は、複写されたくさびの段階数により行なわれた。結
果は次の第３表にまとめられた。
実施例41〜50 被覆溶液の組成 6.96ｇの1-アセトキン-2-エトキシエタン 1.37ｇのスチレン／無水マレイン酸共重合物 平均分子量10000（酸価190） 1.47ｇのトリメチロールプロパントリアクリレート 0.20ｇのポリエチレングリコール-200-ジアクリレート 0.05ｇの開始剤 0.05ｇの増感剤 製造法は実施例21と同様にした。結果は第４表に記載さ
れた。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式Ｉ ［式Ｉにおいて、両R1は互に独立に非置換または置換シ
    クロペンタジエニル基もしくは４，５，６，７−テト
    ラヒドロインデニル基であり、R2は炭素の６員または
    ヘテロの５もしくは６員の芳香族環であり、この芳香族
    環は金属と炭素の結合に対する両オルト位置の少なくと
    も一つが-CF2Z基（ＺはＦまたは非置換もしくは置換ア
    ルキル基である。）で置換され、かつこれら芳香族環が
    さらに置換基を有することも可能であり、R3は上記R2と
    同一の意味の基、ハロゲン、シアナート基、チオシアナ
    ート基、アジド基、シアニド基もしくはアシルオキシ基
    である。］で表わされるチタノセン類。
  2. 【請求項２】R1がアルキル基で置換されている特許請求
    の範囲第１項記載のチタノセン類。
  3. 【請求項３】R1がシクロペンタジエニル基またはメチ
    ルシクロペンタジエニル基である特許請求の範囲第１
    項記載のチタノセン類。
  4. 【請求項４】R2が式III ［式IIIにおいて、R5、R6、R7およびR8は水素原子もしく
    はフッ素である。］で表わされる基である特許請求の範
    囲第１項記載のチタノセン類。
  5. 【請求項５】R5、R6およびR7が水素原子であり、R8が自
    由結合に対してオルトの位置に結合され、フッ素あるい
    は水素原子である特許請求の範囲第４項記載のチタノセ
    ン類。
  6. 【請求項６】式ＩのR1がシクロペンタジエニル基もし
    くはメチルシクロペンタジエニル基であり、R2が式 で表わされる基であり、R3が特許請求の範囲第１項に定
    義された基である特許請求の範囲第１項記載のチタノセ
    ン類。
  7. 【請求項７】R3が、F、Cl、Br、N3基、CN基、NCO基もしく
    はNCS基である特許請求の範囲第６項記載のチタノセン
    類。
  8. 【請求項８】式Ｉ ［式Ｉにおいて、両R1は互に独立に非置換または置換シ
    クロペンタジエニル基もしくは４，５，６，７−テト
    ラヒドロインデニル基であり、R2は炭素の６員または
    ヘテロの５もしくは６員の芳香族環であり、この芳香族
    環は金属と炭素の結合に対する両オルト位置の少なくと
    も一つが-CF2Z基（ＺはＦまたは非置換もしくは置換ア
    ルキル基である。）で置換され、かつこれら芳香族環が
    他の置換基を有することも可能であり、R3は上記R2と同
    一の意味の基、ハロゲン、シアナート基、チオシアナー
    ト基、アジド基、シアニド基もしくはアシルオキシ基で
    ある。］で表わされるチタノセン類の少なくとも一種を
    含むことを特徴とする少なくとも一つの重合可能なエチ
    レン性不飽和二重結合を有する不揮発性のモノマー、オ
    リゴマーもしくはポリマーの照射重合のための開始剤。
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Families Citing this family (218)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8515475D0 (en) * 1985-06-19 1985-07-24 Ciba Geigy Ag Forming images
US4857654A (en) * 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
EP0256981B1 (de) * 1986-08-01 1993-02-17 Ciba-Geigy Ag Titanocene und deren Verwendung
AU8155887A (en) * 1986-10-14 1988-05-06 Loctite Corporation Visible light curable free radical compositions containing pi-arene metal complexes
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
DE3864530D1 (de) * 1987-02-02 1991-10-10 Ciba Geigy Ag Photoinitiatorengemische enthaltend ein titanocen und ein 3-ketocoumarin.
US5008302A (en) * 1987-12-01 1991-04-16 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and N-substituted pyrroles
US5026625A (en) * 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
IL89525A0 (en) * 1988-03-21 1989-09-10 Exxon Chemical Patents Inc Silicon-bridged transition metal compounds
US4987056A (en) * 1988-06-02 1991-01-22 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photopolymerizable composition
DE3832032A1 (de) * 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5102775A (en) * 1988-09-30 1992-04-07 Kansai Paint Co., Ltd. Visible light sensitive electrodeposition coating composition and image-forming method using the same
DE59008501D1 (de) * 1989-06-01 1995-03-30 Ciba Geigy Ag Neue, stickstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung.
EP0401165B1 (de) * 1989-06-01 1994-11-30 Ciba-Geigy Ag Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung
BR9104067A (pt) * 1990-09-20 1992-05-26 Dow Chemical Co Composto,processo para preparacao de compostos cataliticos e processo para polimerizacao de um ou mais monomeros
US5194532A (en) * 1990-09-20 1993-03-16 The Dow Chemical Company Homogeneous catalysts and olefin polymerization process
US5312938A (en) * 1990-09-20 1994-05-17 The Dow Chemical Company Homogeneous catalysts and olefin polymerization process
JP2551232B2 (ja) * 1990-11-22 1996-11-06 日立化成工業株式会社 新規な光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物
TW237456B (ja) * 1992-04-09 1995-01-01 Ciba Geigy
DE4418645C1 (de) 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
US5597935A (en) * 1994-06-01 1997-01-28 University Of Iowa Research Foundation Synthesis of ansa-metallocene catalysts
US5495035A (en) * 1994-06-01 1996-02-27 University Of Iowa Research Foundation Synthesis of ANSA-metallocene catalysts
US5738974A (en) 1994-09-05 1998-04-14 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US6431440B1 (en) * 1998-03-17 2002-08-13 Konica Corporation Radiation image reading method and radiation image reading apparatus
DE69620723T2 (de) 1995-12-22 2002-12-05 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Fotopolymerisierbare Zusammensetzung für einen Farbfilter, Farbfilter und Flüssigkristallanzeigevorrichtung
JP3470253B2 (ja) * 1996-07-24 2003-11-25 コニカミノルタホールディングス株式会社 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法
US6207608B1 (en) 1996-08-09 2001-03-27 University Of Iowa Research Foundation Olefin polymerization with direct use of ansa-metallocene amide complexes as catalysts
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
DE19961355A1 (de) 1999-12-17 2001-06-21 S & C Polymer Silicon & Compos Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren
JP4105371B2 (ja) * 2000-07-28 2008-06-25 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
US6664025B2 (en) 2002-02-12 2003-12-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Visible radiation sensitive composition
US6936384B2 (en) 2002-08-01 2005-08-30 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive composition containing a metallocene derivative
US7771915B2 (en) 2003-06-27 2010-08-10 Fujifilm Corporation Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP2005309359A (ja) 2004-03-25 2005-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、３次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。
KR101010880B1 (ko) 2004-04-26 2011-01-25 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 컬러 필터용 청색 조성물, 컬러 필터 및 컬러 화상 표시장치
EP2246741A1 (en) 2004-05-19 2010-11-03 Fujifilm Corporation Image recording method
EP2618215B1 (en) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US20060032390A1 (en) 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4396443B2 (ja) 2004-08-18 2010-01-13 コニカミノルタエムジー株式会社 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法
DE602005005403T2 (de) 2004-08-24 2009-04-23 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
EP2347904B1 (en) 2004-12-09 2013-04-03 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Ink set and ink-jet recording method utilizing uv-curable ink
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2007055224A (ja) 2005-01-26 2007-03-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体
EP3086176A1 (en) 2005-02-28 2016-10-26 Fujifilm Corporation A lithographic printing method
JP4406617B2 (ja) 2005-03-18 2010-02-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
JP4368323B2 (ja) 2005-03-25 2009-11-18 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4457034B2 (ja) 2005-03-28 2010-04-28 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
US20070031746A1 (en) * 2005-08-08 2007-02-08 Tetsuya Toshine Electrophotographic photoconductor, process cartridge, and image forming method
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4701042B2 (ja) 2005-08-22 2011-06-15 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP4694324B2 (ja) 2005-09-09 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
WO2007052470A1 (ja) 2005-11-01 2007-05-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版材料、平版印刷版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版の印刷方法
JP2007241144A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4698470B2 (ja) 2006-03-31 2011-06-08 富士フイルム株式会社 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
US8451401B2 (en) 2006-04-19 2013-05-28 Mitsubishi Chemical Corporation Color image display device
EP1862858A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-05 Ricoh Company, Ltd. Image bearing member, and process cartridge and image forming apparatus using the same
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP2063324B1 (en) 2006-09-05 2012-03-21 Mitsubishi Chemical Corporation Volume hologram optical recording medium, composition for forming volume hologram recording layer, volume hologram recording material, and volume hologram optical recording method
US8815472B2 (en) * 2006-10-25 2014-08-26 Mitsubishi Chemical Corporation Volume hologram optical recording medium, composition for volume hologram recording layer formation, and volume hologram recording material
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2008163081A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Fujifilm Corp レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
JP4945432B2 (ja) 2006-12-28 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
EP2447779A1 (en) 2007-01-17 2012-05-02 Fujifilm Corporation Method for preparation of lithographic printing plate
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
EP1955850B1 (en) 2007-02-07 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device having ink-jet head maintenance device and ink-jet head maintenance method
WO2008096618A1 (ja) 2007-02-09 2008-08-14 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP2008233660A (ja) 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法
JP5238292B2 (ja) 2007-03-23 2013-07-17 三菱製紙株式会社 水現像可能な感光性平版印刷版材料
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
EP1974914B1 (en) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP1975702B1 (en) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975706A3 (en) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
EP1975710B1 (en) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
JP5075450B2 (ja) 2007-03-30 2012-11-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP4874854B2 (ja) 2007-04-10 2012-02-15 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用組成物およびホログラフィック記録媒体
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JPWO2008146685A1 (ja) 2007-05-23 2010-08-19 昭和電工株式会社 エーテル結合を有する反応性ウレタン化合物、硬化性組成物および硬化物
JP2008304807A (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Fujifilm Corp 光記録用組成物、ホログラフィック記録媒体および情報記録再生方法
JP5376844B2 (ja) 2007-06-21 2013-12-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
EP2006091B1 (en) 2007-06-22 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method
DE602008002963D1 (de) 2007-07-02 2010-11-25 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren damit
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
EP2042311A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing method
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
EP2042928B1 (en) 2007-09-28 2010-07-28 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
CN101430505B (zh) 2007-11-08 2013-04-17 富士胶片株式会社 激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用树脂印刷版原版、凸版印刷版以及制备凸版印刷版的方法
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5066452B2 (ja) 2008-01-09 2012-11-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理方法
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
JP5241252B2 (ja) 2008-01-29 2013-07-17 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5371449B2 (ja) 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
EP2242119A4 (en) 2008-02-07 2012-03-07 Mitsubishi Chem Corp SEMICONDUCTOR LIGHT ARRANGEMENT, BACKLIGHT ARRANGEMENT, PAINT DISPLAY ARRANGEMENT, AND FLUORATE USED FOR THESE ARRANGEMENTS
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5137618B2 (ja) 2008-02-28 2013-02-06 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
EP2095970A1 (en) 2008-02-29 2009-09-02 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP4940174B2 (ja) 2008-03-21 2012-05-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用自動現像装置
JP2009229771A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 平版印刷版用自動現像方法
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP2009258705A (ja) 2008-03-25 2009-11-05 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5322575B2 (ja) 2008-03-28 2013-10-23 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
EP2105298B1 (en) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
JP4914864B2 (ja) 2008-03-31 2012-04-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5305793B2 (ja) 2008-03-31 2013-10-02 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
EP2110261B1 (en) 2008-04-18 2018-03-28 FUJIFILM Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8454152B2 (en) 2008-06-23 2013-06-04 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink jet recording device and ink jet recording method
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5444933B2 (ja) 2008-08-29 2014-03-19 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
US8151705B2 (en) 2008-09-24 2012-04-10 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5127651B2 (ja) 2008-09-30 2013-01-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
EP2343346B1 (en) 2008-11-07 2015-01-21 Konica Minolta Holdings, Inc. Active-ray-curable inkjet ink and inkjet recording method
JP2010115791A (ja) 2008-11-11 2010-05-27 Konica Minolta Ij Technologies Inc 画像形成装置
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5692494B2 (ja) 2010-03-16 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 インク組成物および記録方法
WO2011122473A1 (ja) 2010-03-29 2011-10-06 三菱製紙株式会社 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
JP2012031388A (ja) 2010-05-19 2012-02-16 Fujifilm Corp 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物
EP2607433B1 (en) 2010-08-19 2020-11-11 Konica Minolta Holdings, Inc. Active ray-curable ink and active ray-curable inkjet recording method
EP2650132B1 (en) 2010-12-10 2019-10-16 Konica Minolta, Inc. Inkjet recording device
KR101546599B1 (ko) 2011-03-30 2015-08-21 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 오르가노폴리실록산, 그 제조 방법 및 오르가노폴리실록산을 함유하는 경화성 수지 조성물
CN103502015B (zh) 2011-04-27 2016-07-06 柯尼卡美能达株式会社 喷墨记录装置
CN102584904A (zh) * 2011-08-03 2012-07-18 湖北固润科技股份有限公司 光引发剂gr-fmt的生产方法
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
US9527310B2 (en) 2012-03-01 2016-12-27 Konica Minolta, Inc. Inkjet printing method
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
WO2013165003A1 (ja) 2012-05-01 2013-11-07 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置
SG11201505090UA (en) 2012-12-28 2015-08-28 Fujifilm Corp Curable Resin Composition, Infrared Ray CutOff Filter And Solid-State Imaging Device Using The Same
EP2940090A4 (en) 2012-12-28 2016-01-06 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION FOR PREPARING AN INFRARED REFLECTIVE FILM, INFRARED REFLECTIVE FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, INFRARED EDGEFILTER, AND SOLIDAGE IMAGING ELEMENT THEREWITH
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP6183455B2 (ja) 2013-03-29 2017-08-23 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
ES2859298T3 (es) 2017-01-31 2021-10-01 Flint Group Germany Gmbh Mezcla curable por radiación que contiene poli(acetato de vinilo) parcialmente saponificado escasamente funcionalizado
US11325368B2 (en) 2017-03-27 2022-05-10 Flint Group Germany Gmbh Method for producing pictorial relief structures
TWI766073B (zh) 2017-07-21 2022-06-01 台橡股份有限公司 用於製備發泡體的組合物、發泡體以及包含該發泡體的鞋體
CN111512231B (zh) * 2017-10-10 2024-03-15 恩熙思德国有限公司 具有低程度的杯形挤压和槽纹的凸纹前体
EP3710505B1 (en) 2017-11-15 2022-01-05 BYK-Chemie GmbH Block co-polymer
WO2019096893A1 (en) 2017-11-15 2019-05-23 Byk-Chemie Gmbh Block co-polymer
CN117031883A (zh) 2017-12-08 2023-11-10 恩熙思德国有限公司 识别用于制造凸版结构的凸版前体的方法
NL2020109B1 (en) 2017-12-18 2019-06-25 Xeikon Prepress Nv Method for fixing and treating a flexible plate on a drum, and flexible plate for use therein
EP3629089A1 (en) 2018-09-26 2020-04-01 Flint Group Germany GmbH Method for thermally developing relief precursors
CN114450635A (zh) 2019-09-27 2022-05-06 阿尔塔纳股份公司 用于制备彩色滤光片的组合物
CN114616228B (zh) 2019-11-19 2024-12-20 三菱化学株式会社 化合物、聚合性组合物、聚合物、全息记录介质、光学材料以及光学部件
NL2027002B1 (en) 2020-11-27 2022-07-04 Flint Group Germany Gmbh Photosensitive composition
NL2027003B1 (en) 2020-11-27 2022-07-04 Flint Group Germany Gmbh Photosensitive composition
CN117120486A (zh) 2021-03-23 2023-11-24 三菱化学株式会社 化合物及其制造方法、聚合性组合物、聚合物、全息摄影记录媒介、光学材料以及光学部件
TW202344568A (zh) * 2022-02-21 2023-11-16 日商富士軟片股份有限公司 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法、積層體的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件
WO2024005140A1 (ja) 2022-06-30 2024-01-04 三菱ケミカル株式会社 化合物、重合性組成物、重合物、ホログラム記録媒体、光学材料、並びに光学部品
NL2035286B1 (en) 2023-07-06 2025-01-13 Xsys Germany Gmbh Relief precursors with enhanced stability

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5089536A (en) * 1982-11-22 1992-02-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy polmerizable compositions containing organometallic initiators
US4590287A (en) * 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
US4548891A (en) * 1983-02-11 1985-10-22 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators
US4530879A (en) * 1983-03-04 1985-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiation activated addition reaction

Also Published As

Publication number Publication date
EP0186626B1 (de) 1988-09-14
CA1332952C (en) 1994-11-08
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DE3564944D1 (en) 1988-10-20
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EP0186626A2 (de) 1986-07-02
US4713401A (en) 1987-12-15
JPS61151197A (ja) 1986-07-09

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