JPH0228262A - 置換ナフタセン―５，１２―ジオン類及びその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、有機チオ基によって置換されているナフタセ
ン−５，１２−ジオン類；ベンゾシクロブテンのＤｉｅ
ｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応によるその製造方法：光開始剤又
は増感剤としてかかるナフタセン−５，１２−ジオンを
含む、照射によって重合することのできる組成物：並び
に、塗料、印刷インク、印刷版、耐インク材料を製造す
るための、及び、画像記録材料及び被覆剤としてのこの
組成物の使用に関する。

特開昭４９−８１４４０号においては、プラスチック用
の蛍光染料としての、４位がフェニルチオ、ｐ−トルイ
ルチオ又はｐ−クロロフェニルチオによって置換されて
いる１−ヒドロキシナフタセン−５，１２−ジオンが記
載されている。米国特許第３．９４１．７５９号におイ
テは、ＵＶ光によって分解することのできるプラスチッ
ク用の増感剤成分としてのナフタセン−５，１２−ジオ
ン類が記載されている。

ここで、有機チオ基に、よって置換されているナフタセ
ン−５，１２−ジオン類が、光重合用の優れた光開始剤
であり、同時に、エチレン系不飽和化合物の光二量体化
用の優れた増感剤であることが見出された。

本発明は、次式ＣＩ）： ［式中、Ｈ＋、Ｈ＊、Ｒｓ、Ｒ４、Ｒ１、Ｒ＠、Ｒ？及
びＲ８は、互いに独立して、Ｈ，−ＯＨ，−ＣＮ、−Ｎ
　Ｏｌ。

へロゲ：／、−Ｎ　Ｒ１０Ｒ”、−ＣＯＯＲ・、−ＣＯ
Ｎ−ＲＩＯＲ１１，−８ｉ　ＲＩＩＲ１４ＲＩＩ、ある
いは、非置換又は−ＯＨ，−ＣＮ、−Ｎ　Ｒ”Ｒ”、ハ
ロゲン、ＣＩ”−’ＣＩ８アルキル、−アルコキシもし
くは一アルキルチオ、−ＧＯＯＲ”もしくは−〇〇ＮＲ
１ｏＲ１１によって置換されている、０１〜Ｃ，。アル
キル−（Ｘ）、−１Ｃ３〜Ｃ８゜アルケニル−ＴＸＩ、
−１Ｃ８〜Ｃ＋ａアルキニル−（ｘＬ−１Ｃ，〜Ｃ，シ
クロアルキルー（ｘＬ−１Ｃｓ〜Ｃ＋＊アリール−（ｘ
ｌ、−又はＣｙ　〜Ｃ１４７ラルキル−（Ｘ　１ｐ−１
あるいは−Ｙ−（Ｃ、Ｈ、、Ｏｌ、−Ｒ”１’あり；ｘ
は０、Ｓ、ＳＯ又はＳＯ３であり；ｐは０又はｌであり
：ＹはＯ又はＳであり：Ｒ９はＨ又はＣ８〜Ｃｓｏアル
コールのヒドロキシル水素原子を除いた基であり：１（
１０及びＲ１は、互いに独立して、Ｈ，Ｃ，〜Ｃ＋ａア
ルキル、フェニル、ベンジル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、Ｃ８〜Ｃ１ｍモノ−もしくは０３〜Ｃ１，ジ
ヒドロキシアルキル、−（Ｃ、Ｈ１，０１，−Ｒ”であ
るか、あるいはＲＩＧとＲ”とは−緒になって、テトラ
−もしくはペンタメチレン又は３−オキサ−１，５−ベ
ンチレンを形成しており；ｍは２〜６であり、ｎは２〜
２０であり：Ｒ１１は、Ｈ又はＣ＋−Ｃ＋＊アルキルで
あり；Ｒ”ＩＲ”及びＲ”は、互いに独立して、Ｃ，Ｎ
Ｃ，□アルキルであり：基Ｒ８、Ｒ８、Ｒ６、Ｒ６、Ｒ
７及びＲｓの少なくとも−はチオ基であるＪの化合物に
関する。

基Ｒ１〜Ｒ８は、モノ−又は多置換、好ましくはモノ−
ヘキサ置換、特にモノ−トリ置換、特にモノ又はジ置換
されていてもよい。

ハロゲン置換基は、好ましくは−Ｆ、−Ｃｇ及び−Ｂｒ
である。置換基が、アルキル、アルコキシ又はアルキル
チオである場合には、これらの基は直鎖であっても分岐
鎖であってもよく、好ましくは１〜１２個、特に好まし
くは１〜６個の炭素原子を有する。いくつかの例として
は、メチル、エチル：プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、テトラデシル、オクタデシルの異性体
、並びに対応するアルコキシ及びアルキルチオ基が挙げ
られる。

置換基は、式、　−Ｎ　ＲＩＯＲ＋１又は−〇〇ＮＲ”
−Ｒ”の基であってもよい、この式において、ＲＩＯ及
びＲ１１がアルキルである場合には、直鎖であっても分
岐鎖であってもよく、好ましくは１〜１２個、特に好ま
しくは１〜８個の炭素原子を有する。ＲＩＯ及びＲ”が
モノヒドロキシアルキルである場合には、好ましくは２
〜６個の炭素原子を有し、直鎖又は分岐鎖のヒドロキシ
アルキルであってよい、いくつかの例としては、２−ヒ
ドロキシエチル、２−又は３−ヒドロキシプロブ−１−
イル、２−１３−又は４−ヒドロキシブドー１−イル、
２−ヒドロキシブドー３−イル、ヒドロキシペンチル及
びヒドロキシヘキシルが挙げられる。

Ｒｔｏ及びＲ１がジヒドロキシアルキルである場合には
、直鎖であっても分岐鎖であってもよく、好ましくは３
〜６個の炭素原子を有する０例としては、１．２−ジヒ
ドロキシプロブ−３−イル。

１．２−ジヒドロキシブト−３−又は−４−イルが挙げ
られる＠Ｒ１０及びＲ”は、次式ニー（ＣａＨ＊＋＋ｔ
Ｏ１＠−Ｒ’″（ここで、ｍは好ましくは２〜４、特に
好ましくは２又は３の数であり、ｎは好ましくは２〜１
２、特に好ましくは２〜６の数であり、Ｒ”は、Ｈｌ又
は、好ましくは１〜６個の炭素原子を有する直鎖もしく
は分岐鎖のアルキルである）の基であってもよい。

置換基は、−ＣＯＯＲ・基（ここで、Ｒ９は、Ｈｌ又は
、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個の炭
素原子を有するアルコールのヒドロキシル水素原子を除
いた基である）であってもよい０例えば、Ｒ１は、直鎖
又は分岐鎖のＣ７〜Ｃ１゜、好ましくはＣ９〜Ｃ＋ａ、
特に好ましくはＣ３〜Ｃ８アルキル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、非置換であるか又は０１〜Ｃｌｔアル
キルによって置換されているフェニル又はベンジル、あ
るいは−（Ｃ、Ｈ工０）ｌｌ−Ｒ”（ここで、Ｒ１２ｍ
及びｎは上記に定義した通りである）であってよく、好
ましいものが包含される。

好ましい態様においては、Ｒ１，、Ｒａに関する置換基
は、−０Ｈ１−Ｆ、−ＣＩ２．−Ｂｒ、−ＮＲ”Ｒ”Ｃ
３〜Ｃ１，アルキル、Ｃ３〜Ｃｒｚアルコキシ、ＣＩ＃
Ｃ１１アルキルチオ又は−Ｇ　ＯＯＲ’　（ココで、Ｒ
＠はＨ又はＣＩ””　Ｃ＋ｓアルキルであり、ＲＩｏ及
びＲ１は、互いに独立して、Ｈ，Ｃｓ〜Ｃ１，アルキル
、−ＣＨ＊　ＣＨ＊　ＯＨ，−ＣＨ、ＣＨ−（ＯＨ）Ｃ
Ｈｓ、−ＣＨ、ＣＨＯＨＣＨ，ＯＨ又は−（Ｃ、Ｈ＊ｍ
Ｏｌｎ−Ｒ”であり、ｍは２又は３であり、ｎは２〜６
であり、Ｒ”はＨ又はＣ，〜Ｃ，。

アルキルである）である。

基Ｒ１は、好ましくはチオ基：Ｒ”−５−（ここで、Ｒ
１′は、非置換であるか又は上記記載のように置換され
ている０１〜Ｃ８゜アルキル、Ｃ３〜Ｃ１゜アルケニル
、Ｃ３〜Ｃ３゜アルキニル、Ｃ８〜Ｃ６シクロアルキル
、Ｃ６〜Ｃ１２アリール又はＣ？〜Ｃ１１アラルキル、
あるいは＝（Ｃ、Ｈ、、Ｏ）ｎ−Ｒ１！である。好まし
い態様においては、Ｒ３、又はＲ冨及びＲａ、又はＲ６
、又はＲ６及びＲ？、又はＲ２及びＲ６もしくはＲ７、
又はＲ８、Ｒ１及びＲ６もしくはＲ７、又はＲ３、Ｒ１
、Ｒ６及びＲ７は、チオ基又は−５−（Ｃ，Ｈｓ、Ｏ）
、−Ｒ”である、特に好ましくは、Ｒ１，Ｒ４、Ｒ８及
びＲ”はＨｔ’あ６゜Ｒ＋ｓがアルキルの意味を有する
場合には、好ましくは１〜１２個、より好ましくは１〜
８個、特に好ましくは１〜４個の炭素原子を有し、直鎖
であっても分岐鎖であってもよい６例は上記に記載した
ものである。Ｒ′″がアルケニルである場合には、直鎖
であっても分岐鎖であってもよく、好ましくは３〜１２
個、特に好ましくは３〜６個の炭素原子を有し、好まし
くは末端二重結合を有する０例としては、アリル、ブド
ー１−エン−４−イル、ブドー２−エン−４−イル、ベ
ント−１−エン−５−イル、ヘキス−１−エン−６−イ
ルが挙げられる　Ｒ１＠がアルキニルである場合には、
直鎖であっても分岐鎖であってもよく、好ましくは３〜
１２個、特に好ましくは３〜６個の炭素原子を有し、好
ましくは末端三重結合を有する。

Ｒ”がシクロアルキルである場合には、好ましくは４〜
７個、特に好ましくは５又は６個の環炭素原子を有する
。シクロアルキルの例としては、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへ
ブチル及びシクロオクチルが挙げられる＊Ｒ”がアリー
ルである場合には、例えば、ナフチル、及び特に好まし
くはフェニルであり、アルカリールである場合には、フ
ェニル−〇−Ｈａ−（ここで、Ｘは１〜６、特に好まし
くは１又は２の数である）が特に好ましい。

Ｒ１６は、また、式ニー（Ｃ，Ｈ，，０１ｎ−Ｒ”（こ
こで、Ｒ”＋ｍ及びｎは上記に定義したとおりである）
の基であってもよぐ、好ましいものを包含する。

好ましい態様は、ＲＩｌｌが非置換であるか又は置換さ
れている、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、フェニル又はベンジルあるいは−（Ｃ，
Ｈｌ、０１ｆｉ−Ｒ”　（ここで、ｍは２〜４の数であ
り、ｎは２〜１２の数であり、Ｒ”はＨ又はＣ１〜Ｃ１
，アルキルである）である式（１）の化合物を含む。

他の好ましい態様は、Ｒ′６が、非置換であるか又は−
ＯＨ，−Ｎ　Ｒ”Ｒ”、　Ｃ、〜Ｃ＋ａアルコキシ、−
ＣＯＯＲ”もしくは−ＣＯＮＲ”Ｒ”によって置換され
ているＣ３〜Ｃ＋ａアルキルあるいは−（Ｃ，Ｈｌ、０
１＋、−ＲＩｆｆｉ（ここで、ｍは２又は３であり、ｎ
は２〜６の数であり、Ｒ”ｌｉＨ又はＣ３〜Ｃ６アルキ
ルである）である式（Ｉ）の化合物を含む。

好ましい態様は、またＩＲ”が、非置換のＣＩ−Ｃｔｓ
デアルル又はＣ３〜Ｃ１１アルコキシ、あるいは−ＧＯ
ＯＲ”によって置換されているＣ３〜Ｃ６アルキル（こ
こで、Ｒ１はＣ，−Ｃ，。

アルキルである）であるか、あるいは、−ＯＨ又は−Ｎ
　ＲＩ　Ｏ）（Ｉ　１によって置換されている０２〜Ｃ
６アルキル（ここで、Ｒ”及びＲ１１はＨ又はＣ１〜Ｃ
１□アルキルである）である式（Ｉ）の化合物を含む。

特に好ましいものは、Ｒ”ｔＪ５ＣＩ〜ＣＩ□アルキル
、０６〜ＣＩ１１アリール、Ｃ９〜Ｃ１，アルカリール
、　−ＣＨｍ　ＣＨｚ　ＯＨ、−Ｃ）１　ｔ　ＣＨＯＨ
ＣＨａ　−ｏＨ，−ｃＨ＊　Ｃ０ＯＲ”又は−ＣＨ，Ｃ
Ｈ，−ＣＯＯＲ”であり、Ｒ″が上記記載の通りである
ものによって与えられる。この場合においては、Ｒ１及
びＲ３−Ｒ８は特に好ましくはＨである。

Ｒ’及ＵＲ”〜Ｒ８がハロゲンである場合には、好まし
くは−Ｆ、−Ｃｆｆ又は−Ｂｒである。

Ｒ１及びＲ３−Ｒ６は、独立して、式−〇〇ＯＲ−−Ｎ
　ＲＩ　ＯＲｌ　１又は−〇〇ＮＲ”Ｒ”　（この場合
においても、これらの基に関して上記に与えられている
好ましい定義が、独立して、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１に適
用される）の基であってよい。

ＲＩ及びＲｌ〜Ｒａは１式ニーＳｉ　Ｒ１ｌＲ１４Ｒｌ
＠（ここで、Ｒ”Ｉ　ＲＩ４及びＲ１“は、直鎖又は分
岐鎖のアルキルであり、好ましくは１〜８個、特に好ま
しくは１〜４個の炭素原子を有する。い（つかの例とし
ては、トリメチル−、エチルジメチル−、トリエチル−
、トリーｎ−もしくはトリーｉ−プロピルー１ｎ−プロ
ピルジメチル−、トリーｎ−ブチル−１ｎ−ブチルジメ
チル−１ｔ−ブチルジメチル−及び（１，１，２，２−
テトラメチルエチル）ジメチルシリルが挙げられる。

Ｒ１及びＲ３−Ｒ６は、非置換であるか又は置換されて
いる、直鎖又は分岐鎖のＣ１〜Ｃ２゜、好ましくは０１
〜Ｃ１，、より好ましくはＣ１〜Ｃ＋ｓ、特に好ましく
はＣ７〜Ｃ６アルキルー（ＸＬ−（ここで、ｐは０又は
１であり、ＸはＯｌＳ、ＳＯ又はＳＯ３、特に好ましく
はＯ又はＳである）であってよい、いくつかの例として
は、メチル、エチル、及び、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、
オクタデシル、エイコシルの異性体、並びに対応するア
ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及びア
ルキルスルホニル基、２−ヒドロキシエチルオキシもし
くは−チオ、１．２−ジヒドロキシプロピルオキシ、２
−アミノエチルオキシもしくは一チオ、４−ヒドロキシ
ブチルオキシ、６−ヒドロキシへキシルオキシ、２−ヒ
ドロキシデシルオキシ、ジ（メトキシカルボニル）−メ
チル、１．１−ジ（メトキシカルボニル）エチル、シア
ノ（メトキシカルボニル）メチル、カルボキシメチル、
トリフルオロメチル、カルバモイルメチル、（エトキシ
カルボニル）メトキシが挙げられる。

Ｒ１及びＲ３−Ｒａは、非置換であるか又は置換されて
いるＣ３〜Ｃ＋ａ、好ましくはＣ２〜Ｃ１３、特に好ま
しくは直鎖であっても分岐鎖であってもよいＣ８〜Ｃ，
アルケニル−（Ｘ）、−もしくは−アルキニルー（Ｘｌ
＃−（ここで、ｐは０又は１であり、Ｘはｏ、ｓ、ｓｏ
又はＳＯ□、好ましくはＳ又はＯである）であってもよ
い、ｐが１である場合には、アルケニル又はアルキニル
基は、好ましくは、少なくとも一つのＣＨ２基によって
式（Ｉ）の化合物におけるベンゼン環から離隔している
。いくつかの例としては、ビニル、エチニル及びアリル
、プロパルギル、クロトニル、１−ブテン−３−又は４
−イル、１−又は２−ペンテン−５−イル、１−１２−
又は３−ヘキセン−６−イル、１−へブテン−７−イル
、１−才クテン−８−イル、ｌ−ノネン−９−イル、１
−デセン−１Ｏ−イル、ｌ−ウンデセン−１１−イル、
ｌ−ドデセン−１２−イル並びに対応するアルケン−及
びアルキンオキシ、−チオ、−スルフィニル及び−スル
ホニル基が挙げられる。

Ｒ１及びＲ８−Ｒ６は、非置換であるか又は置換されて
いるｃ、−Ｃ，、好ましくはＣ４〜Ｃｙ、特に好ましく
はＣ，又はＣ６シクロアルキル−（Ｘ）、−（ここで、
ｐは０又は１であり、ＸはＳ、０、ＳＯ又はＳＯ２であ
る）であってよい。

Ｘは好ましくは０又はＳである０例としては、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シク
ロへキシルオキシ及びシクロへキシルチオが挙げられる
。

Ｒ１及びＲ８、、Ｒ６は、非置換であるか又は置換され
ているＣ６〜Ｃ１，アリール−（Ｘ）、−又は０６〜Ｃ
１□アラルキ）Ｌｔ−（Ｘ　１ｐ−（＋：　コテ、Ｘは
ＯｌＳ、ＳＯ又はＳＯ，、特に好ましくは０又はＳであ
り、ｐは０又はｌであり、アリールは好ましくはナフチ
ル及び特に好ましくはフェニルである）であってもよい
、アラルキルは、好ましくはフェニル−（ｃ　、　Ｈ、
、ｌにこで、Ｚは１〜６、特に好ましくは１〜４の数で
ある）に相当し、特に好ましくはベンジルである０例と
しては、フェニル、ベンジル、メチルフェニル、エチル
フェニル、ドデシルフェニル、メチルベンジル、フェニ
ルチオ、フェノキシ、クロロフェノキシ、メトキシフェ
ノキシ、メチルチオフェノキシ、メトキシフェニルチオ
、ベンジルチオ、メトキシベンジルチオ及びメチルベン
ジルチオが挙げられる。

Ｒ１及びＲ１−Ｒａは、式ニーｙ−（ｃ　、　Ｈ、、Ｏ
）ｎ−Ｒ１１（ここで、Ｙは０又はＳであり、ｍ、ｎ及
びＲｌｍは−（Ｃ，Ｈ＠、０　）ｎ−Ｒ”に関して上記
に定義した通りである）の基であってよく、好ましいも
のを含む＠　Ｃ＠　８２ｍ基は、特に好ましくは、−Ｃ
Ｈ＊ＣＨ！−１−ＣＨ，ＣＨＩ　ＣＨＩ−又は−ＣＨ、
ＣＨＣＨＩ−である、いくつかの例としては、−０−Ｔ
ＣＨＩ　ＣＨＩ　０１．−Ｒ”、−５−（ＣＨ＊−ＣＨ
＊　０）ｎ−Ｒ”、−０−（ＣＨＩ　ＣＨＣＨ１０１１
１−Ｒｌｍ及び−５−（ＣＨＩ　ＣＨＣＨ、Ｏ）、−Ｒ
”　（ここで、ｎは２．３．４．５．６．７，８．９゜
１０．１１又は１２であり、Ｒｌｍは、Ｈ、メチル、エ
チル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−１ｉ−もしくは
ｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシルである）が挙げられ
る。

Ｒ２、Ｒ１及ＵＲ”　〜Ｒ”、特！、：Ｒ”、Ｒ”、Ｒ
’及び／又はＲ７がチオ基である場合には、好ましくは
、Ｃ３〜Ｃ１１アルキルチオ、フェニルチオ、ベンジル
チオ、ＣＩ〜Ｃ４アルキルフェニルチオもしくは−ベン
ジルチオ、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシフエニルチオもしくは
−ペンジルチオ、ハロゲン−１特にフルオロ−、クロロ
−もしくはブロモフェニルチオもしくは一ベンジルチオ
、−Ｓ　ＣＨ！−ＣＨ＊　ＯＨ、−Ｓ　ＣＨ＊　ＣＨＯ
ＨＣＨ＊　ＯＨｌ−ＳＣＨｓ　Ｃ０ＯＲ＠及び−５ＣＨ
＠ＣＨ＊−ＣＯＯＲ＠（ここで、Ｒ９は、上記に定義し
た通りである）であるか、あるいは、−５−（Ｃ、Ｈｔ
＋＋ｔｏ　１ｎ−Ｒ”（ここで、ｍは２又は３であり、
ｎは２〜２０であり、Ｆ（ＩＩはＨ又はＣ３〜Ｃ１，ア
ルキルである）である。

好ましい態様は、Ｒ’及びＲ８〜Ｒ”が、互いに独立し
て、Ｈｌ−ＣＮ、−Ｎ　Ｏｌ、−Ｆ、−Ｃ１，−Ｂｒ、
−ＧＯＯＲ”、−ＮＲ１０Ｒ”、−ＣＯＮＲｌｏＲ”　
（ここで、ＲｏはＨ又はＣＩ−Ｃ＋＊アルキルであり、
Ｒ”及びＲｌｍは、互いに独立して、Ｈ，Ｃ，〜Ｃ＋ｍ
ＣＩキル、−ＣＨＩ　ＣＨ！ＯＨ，−ＣＨＩＣＨ−（Ｏ
Ｈ）ＣＨＩ、−ＣＨ＊　ＣＨＯＨＣＨｍ　ＯＨ又は−（
Ｃ，Ｈｌ、Ｏｌ、−Ｒ”であり、ｍは２又は３であり、
ｎは２〜１２の数であり、ＲｌｍはＨ又はＣ３〜Ｃ＋ｉ
アルキルである）であるか、あるいは−Ｓ　ｉ　Ｒ”Ｒ
ｏ４Ｒ”　（ここで、Ｒ”、Ｒ１４及びＲｌｍは、Ｃｌ
−０４アルキル、あるいは、非置換であるか又は置換さ
れているＣ６〜Ｃ＋Ｓアルキル−（Ｘｌ、−１Ｃ，Ｈ，
−（Ｘｌ、−もＬ＜　はＣａ　Ｈ＠−ＣＨＩ−（ｘｌ、
−（、：、＝で、ｘはＯ又はＳであり、ｐは０又はｌで
ある）であるか、あるいは−Ｙ−（Ｃ，Ｈ工０１，１−
Ｒ”（ここで、ＹはＯ又はＳであり、ｍは２又は３であ
り、ｎは２〜１２の数であり、ＲｒｍはＨ又はＣ＋４Ｇ
＋＊アルキルである）である式（Ｉ）の化合物を含む。

他の好ましい態様においては、Ｒｏは、Ｈｌ−ＣＦ　ｓ
、−０８，Ｃ１〜ＣＩ！アルキル、非置換であるか又は
−ＯＨによって置換されている０１〜ＣＩｓアルコキシ
、非置換であるか又はハロゲン−ＣＩ−０６アルキルも
しくは一アルコキシによって置換されているＣ、〜Ｃ１
０アリールオキシ、Ｃ２〜ＣＩ０アラルキルオキシ又は
−ＣＯＯＲ’（ここで、Ｒ１はＣ１〜Ｃ１゜アルコール
からヒドロキシル水素原子を除いた基である）である、
Ｒ゛は特に好ましくはＨである。

更なる好ましい態様においては、Ｒ４、Ｒ６及びＲ’は
Ｈ１’ある、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ１１及びＲ’は特に好まし
くはＨである。

また、Ｒ３、又はＲ３及びＲ６もしくはＲ？、又はＲ３
、Ｒ８及びＲ７がＲ”Ｓ−であるか：あるいはＲ１、Ｒ
４、Ｒ＃ｔＵＲ”がＨであ”）、Ｒ２、Ｒ３又は両方が
一５ＲＩ１１であり、Ｒ６及びＲ７がＨであるか、又は
Ｒ２、Ｒ６もしくはＲ７が−ＳＲ”であり、Ｒ１及びＲ
７もしくはＲ３及びＲ６がＨであるか：あるいはＲ１及
びｌ（ｌ、　ＲＩがＨであり、Ｒ１６が上記に定義した
通りである式（Ｉ）の化合物も好ましい。

本発明は、更に、Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応で１次式
（）： （式中、Ｒ８、Ｒ６、Ｒ７及びＲ”は上記に定義した通
りであり、ｘｌ及びＸ２は、互いに独立して、−ＣＩｌ
、−Ｂｒ又は−Ｉである）の化合物を、次式（■）： （式中、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ１及びＲ４は上記に定義した通
りである） の化合物と反応させて、ＨＸ’及びＨＸ２を解離させる
ことを特徴とする式（１）の化合物の製造方法に関する
。

反応は、有利には、５０〜２５０℃、好ましくは８０〜
２００℃の温度で行なわれる。有利には、不活性溶媒１
例えば極性の中性溶媒が用いられる。いくつかの例は、
芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ロベンゼン及びジクロロベンゼン）、ニトリル（アセト
ニトリル）、エーテル（ジブチルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル又はジエチレングリコールジメチルエーテル）で
ある、単離及び精製は１通常の方法、例えば晶出、蒸留
又はクロマトグラフィーによって行なうことができる。

式（ＩＩ）の化合物は、部分的に公知であるか（例えば
、Ｈ，Ｐ、　ＣａｖａらのＪ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｗ、　
Ｓｏｃ、。

ｐ、１７０１　（１９５７）及びＪ、Ｗ、　Ｂａｒｔｏ
ｎらのＪ、　ＣｈｅｍＳｏｃ、　Ｐｅｒｋｉｎ　Ｔｒａ
ｎｓ、　１．　ｐ、９６７−９７１（１９８６１参照）
、あるいは、類似の方法によって製造することができる
。製造に必要な置換１．２−ビス（ジクロロ又はジブロ
モメチル）ベンゼン類も同様に部分的に公知であるか、
あるいは、対応する０−ジメチルベンゼン類を通常の求
電子もしくは求核置換反応にかけ、続いて、例えばＮ−
クロロもしくはＮ−ブロモスクシンイミドによって塩素
化もしくは臭素化することによって得ることができる。

式（ＩＩＩ）のｐ−ナフトキノン類は、新規物質であり
、例えば、保護されているか又は未保護であり、置換さ
れているか又は非置換の６−ハローもしくは６−ニトロ
−１，４−ナフトキノン類を。

アルカリ金属化合物（Ｋ、ＣＯｓ、Ｃｓａ　Ｃ（１、Ｋ
　ＯＨ、Ｎ　ａ　ＯＨ、Ｎ　ａ　Ｎ　Ｈｘ、Ｎａ０ＣＨ
ｓもしく　ａ−Ｎ　ａ　ＯＣ禽Ｈｓｌの存在下でＲ”　
ＳＨによって、あルイは、Ｒ”ＳＸ’　　（、＝、＝ｔ
’、ｘｌは、例えばＬｉ、に、Ｎａ、ＲｈもしくはＣｓ
である）によって求核置換することによって得ることが
できる。ハロー及びにニトロナフトキノン類は、例えば
、Ｈｏｕｂｅｒ−Ｗｅｙｌ、　Ｑｕｉｎｏｎｅｓ’　Ｉ
、　ｖｏｌ、７／３ｂ（１９７７）において記載されて
いる６式（ＩＩＩ　）のナフトキノン類は、また、公知
の方法で、非置換もしくは置換ナフタレン類又はジヒド
ロもしくはテトラヒドロナフタレン類を求電子又は求核
置換し、次に置換１．４−ナフトキノン類に転化させる
ことによって製造することもできる。

式（１）の化合物は、また、有機溶媒中、ＮａＩの存在
下において、次式： （式中、ＹｌはＣＩ２、Ｂｒ又は■である）の１．２−
ビス（ジハロメチル）ベンゼン類を、式（ＩＩＩ）の化
合物と反応させることによって製造することもできる。

この方法は、Ｊ、　Ｗ、　ＭｃＯｍｉｅの５ｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ、　ｐ、４１６−４１７　ｆ１９７３）において
記載されている。

また、式（１）の化合物は、次式： （式中、Ｒ’−Ｒ”は上記記載の意味を有する）の１．
４−アントラキノン類を、次式（ＩＶ）（式中、 Ｒ２及びＲ９ は上記記載の意味を有す る） のα−ピロン類、又は、次式（Ｖ）： ｐ黛 （式中、ＲＩＴはＣ３〜Ｃ６アルキルであり、Ｒ２及び
Ｒ９は上記記載の意味を有し、好ましくはＲ９は０１〜
Ｃ６アルキルである） のブタジェン類と反応させることによって得ることもで
きる。この方法及びα−ピロン類の製造は、米国特許筒
４．６１７．１５１号及びヨーロッパ特許筒０．１９５
，７４３号に記載されている。

式（ＩＶ）及び（Ｖ）の化合物は、例えば、下式のよう
に得ることができる。

（上記式において、Ｘ３はアルカリ金属である）式（Ｉ
）の化合物は、また、公知の方法で、次式： （式中、Ｒ６−Ｒａは上記に定義した通りである） の置換又は非置換のナックレンジカルボン酸無水物を、
Ｌｅｗｉｓ酸の存在下において、Ｆｒ１ｅｄｅｌ−Ｃｒ
ａｆｔｓ反応によって、次式： （式中、Ｒ’−Ｒ’は上記に定義した通りである） のベンゼン類を用いて環化させることによっても得るこ
とができる。

上記の方法によって、求核置換可能な基（例えば−Ｎｏ
、、Ｆ、ＣＪ２、Ｂｒ）を１−１２−１３−１４−１７
−１８−５９−及び／又は１０位に有するナフタセン−
５，１２−ジオンを製造し、他の求核性基Ｒ１〜Ｒａ及
びＲ”Ｓ−を求核置換によって導入することもできる。

Ｒ＋ｓがポリオキサアルキレン基である場合には、この
タイプの化合物は、また、１１（＋６がヒドロキシアル
キルである式（Ｉ）の化合物とエポキシドとの反応によ
って得ることもできる。更に、通常の反応、例えば加水
分解、エステル化又はエステル交換、アミド化、酸化又
は還元によって基Ｒ１〜Ｒａを変性することもできる。

式（Ｉ）の化合物は、概して結晶質のものであり、高い
熱安定性を有することを特徴とする。かかる化合物は、
所望の場合には溶媒と共に用いると、硬化性組成物中に
おける高い溶解性を示す。

これら自身、又はこれらを水素供与体、例えば第３級ア
ミン又はアルコールあるいはフェニル酢酸誘導体と共に
用いると、これらは、エチレン系不飽和化合物を光誘発
重合又は二量体化するための非常に有効な光開始剤又は
増感剤として極めて好適である。この反応においては、
これらは、約２００ｎｎ＋（ＵＶ光）〜約６００ｎｍの
波長範囲にわたる高い感光性及び活性を有することを特
徴とする０本発明による化合物の特性、例えば溶解性、
融点及び吸収範囲（ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ｒａｎｇｅ
ｌは、置換基を選択することによって選択して調節する
ことができる。

本発明は、更に、照射によって重合することができ、（
ａ）少なくとも一つの重合又は二量体化可能なエチレン
系不飽和二重結合を有する、少な（とも一つの、非揮発
性の、モノマー、オリゴマー又はポリマー化合物、並び
に（ｂｌ光開始剤又は増感剤として、少なくとも一つの
式（Ｉ）の化合物を含む組成物に関する。

かかる組成物は、（ｂｌ以外の更なる光開始剤又は増感
剤を含んでいてもよい。

本発明による化合物の添加量は、たいていは、経済的な
見地、その溶解性及び必要な感度に依存する。概して、
成分（ａ）に対して、０．Ｏ１〜２０、好ましくは０．
０６〜ＩＯ１特に好ましくは０．１〜５重量％が用いら
れる。

成分（ａｌ　として好適なものは、光重合によって反応
して高分子量の生成物を与え、それによってその溶解度
が変化する、エチレン系不飽和モノマー、オリゴマー及
びポリマー化合物である。

特に好適な化合物は、例えば、エチレン系不飽和カルボ
ン酸のエステル及びポリオール又はポリエポキシド、並
びに連鎖又は側基中にエチレン系不飽和基を有するポリ
マー、例えば不飽和ポリエステル、ポリアミド及びポリ
ウレタン並びにこれらのコポリマー、ポリブタジェン及
びブタジェンコポリマー、ポリイソプレン及びイソプレ
ンコポリマー、側鎖中にメタ（アクリル）基を有するポ
リマー及びコポリマー、並びに１以上のかかるポリマー
の混合物である。

不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、
クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、及び、リノール酸又
はオレイン酸のような不飽和脂肪酸である、アクリル酸
及びメタクリル酸が好ましい。

好適なポリオールは、芳香族、並びに特に脂肪族及び脂
環式ポリオールである。芳香族ポリオールの例は、ヒド
ロキノン、４．４’−ジヒドロキシジフェニル、２．２
−ジ（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン及びノボラ
ック類並びにクレゾール類である。ポリエポキシドの例
は、上記記載のポリオール、特に芳香族ポリオール及び
エビクロロヒドリンをベースとするものである。更に、
ポリマー鎖中又は側基中にヒドロキシル基を有するポリ
マー又はコポリマー、例＾ばポリビニルアルコール及び
これらのコポリマー又はポリメタクリル酸ヒドロキシア
ルキルもしくはこれらのコポリマーもまたポリオールと
して好適である。更なる好適なポリオールは、末端ヒド
ロキシル基を有するオリゴエステルである。

脂肪族及び脂環式ポリオールの例は、好ましくは２〜１
２個の炭素原子を有するアルキレンジオール、例えば、
エチレングリコール、ｌ、２−又は１．３−プロパンジ
オール、１．２−１ｌ、３−又は１，４−ブタンジオー
ル、ベンタンジオール、ヘキサンジオール、オフクンジ
オール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、好ましくは２００〜１５００の
分子量を有するポリエチレングリコール、１．３−シク
ロベンクンジオール、１．２−１．３−又は１．４−シ
クロヘキサンジオール、１．４−ジヒドロキシメチルシ
クロヘキサン、グリセロール、トリス−（β−ヒドロキ
シエチル）アミン、トリメチロールエタン、トリメチロ
ールプロパン、ペンタエリトリトール、ジベンクエリト
リトール及びソルビトールである。

ポリオールは、１つの又は異なる複数の不飽和カルボン
酸によって部分的又は完全にエステル化することができ
、部分エステル中の遊離ヒドロキシル基を変性、例えば
エーテル化又は他のカルボン酸でエステル化することが
できる。

エステルの例は、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、トリメチロール
エタントリメタクリレート、テトラメチレングリコール
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリト
ールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレート、
ジベンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリト
ールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールへキ
サアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタアク
リレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、ペ
ンタエリトリトールトリメタクリレート。

ジペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエ
リトリトールテトラメタクリレート、トリメ ペンタエリトリトールオクタメタクリレート、ペンタエ
リトリトールシイタコネート、ジペンタエリトリトール
トリイタコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタ
コネート、ジペンタエリトリトールへキサイタコネート
、エチレングリコールジメタクリレート、１．３−ブタ
ンジオールジアクリレート、１．３−ブタンジオールジ
メタクリレート、１．４−ブタンジオールシイタコネト
、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラ
アクリレート、ペンタエリトリトール（変性）トリアク
リレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビ
トールペンタアクリレート、ソルビトールへキサアクリ
レート、オリゴエステルアクリレート及びオリゴエステ
ルアクリレート、グリセロールジアクリレート及びトリ
アクリレート、１．４−シクロヘキサンジアクリレート
、２００〜１５００の分子量を有するポリエチレングリ
コールのビスアクリレート及びビスメタクリレート、並
びにこれらの混合物である。

好ましくは２〜６、特に好ましくは２〜４個のアミノ基
を有する芳香族、脂環式及び脂肪族ポリアミンの、同一
の又は異なる不飽和カルボン酸のアミドも、また、成分
（ａｌ　として好適である。

これらポリアミンの例は、エチレンジアミン、１．２−
又は１．３−プロとレンジアミン、１．２−１１．３−
又は１．４−ブチレンジアミン、１．５−ペンチレンジ
アミン、１．６−へキシレンジアミン、オクチレンジア
ミン、ドデシレンジアミン、１．４−ジアミンシクロヘ
キサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビ
スフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル
、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジ
ー（β−アミノエトキシ）エタン又はジ（β−アミノプ
ロポキシ）エタンである。更なる好適なポリアミンは、
側鎖中にアミノ基を有するポリマー及びコポリマー、並
びに末端アミノ基を有するオリゴアミドである。

これら不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミ
ド、１．６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエ
チレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス（メタ
クリルアミドプロポキシ）−エタン、β−メタクリルア
ミドエチルメタクリレート、ＮＥ（Ｂ−ヒドロキシエト
キシ）エチル１−アクリルアミドである。

好適な不飽和ポリエステル及びポリアミドは、例えば、
マレイン酸とジオール又はジアミンとから誘導すること
ができる０部分的にはマレイン酸を他のジカルボン酸と
置き換えることができる。

これらを、エチレン系不飽和コモノマー、例えばスチレ
ンと共に用いることができる。ポリエステル及びポリア
ミドは、また、ジカルボン酸とエチレン系不飽和ジオー
ル又はジアミンとから、特に例えば６〜２０個の炭素原
子を有するより長い鎖を有するものから誘導することも
できる。ポリウレタンの例は、飽和又は不飽和ジイソシ
アネート及び不飽和又は飽和ジオールから製造されるも
のである。

ポリブタジェン及びポリイソプレン並びにこれらのコポ
リマーは公知である。好適なコモノマーの例は、ポリオ
レフィン、例えば、・エチレン、プロペン、ブテン、ヘ
キセン、（メタ）アクリレート、アクリロニトリル、ス
チレン又は塩化ビニルである。側鎖中に（メタ）アクリ
レート基を有するポリマーも同様に公知であるにれらは
５例えば、ノボラックをベースとしたエポキシ樹脂と（
メタ）アクリル酸との反応生成物、ポリビニルアルコー
ル又は（メタ）アクリル酸でエステル化したそのヒドロ
キシアルキル誘導体のホモポリマーもしくはコポリマー
であっても、あるいは、（メタ）アクリル酸のヒドロキ
シアルキルエステルのホモポリマーもしくはコポリマー
であってもよい。

かかる光重合可能な化合物は、それ自体、又は任意の所
望の混合物中で用いることができる。好ましくは、ポリ
オール（メタ）アクリレートの混合物が用いられる。好
適な二量体化可能な化合物るものである。これらの基は
、概して、例えばポリマー鎖中に、又は側基としてオリ
ゴマー又はポリマーに結合する。マレイミジル基を有す
るポリマーは、例えば、西独国特許第２．６２６゜７９
５号に記載されている。マレイミジル基は、次式： （式中　Ｒ＋＠及びＲ１″は、Ｃ１〜Ｃ１１アルキル、
Ｃ，シクロアルキルもしくはＣ−シクロアルキル、Ｃ６
〜Ｃ１，アリール、ハロゲン（例えばＣＩ２もしくはＢ
ｒ）であるか、あるいはＲ＋ａとＲ”とが−緒になって
トリメチレンもしくはテトラメチレンを形成しており、
Ｒｔｏは橋架基、例えば０２〜ＣＩ！アルキレンもしく
はフェニレンである） で示すことができる。基ニーＣＨ＝Ｃ）Ｉ−Ｃ−あるい
は−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ−Ｃｌ自ＣＨ−基を有するエポキシ
樹脂は、例えば西独国特許第２．３４２，４０７号に記
載されている。

また、本発明による組成物にバインダーを加えることが
でき、光重合又は光二量体化可能な化合物が液体又は粘
稠性の物質である場合には特に有利である。バインダー
の量は、全組成物に対して、例えば５〜９５、好ましく
は１０〜９０．特に５０〜９０重量％であってよい。バ
インダーは、使用分野、及び、必要な特性、例えば水性
及び有機溶媒系中における展開性（ｄｅｖｅｌｏｐａｂ
ｉｌｉｔｙｌ　。

基材に対する粘着性及び酸素に対する感度によって選択
される。

好適なバインダーの例は、約５．０００〜２．０００．
０００、好ましくは１０．０００〜１．０００．０００
の分子量を有するポリマーである０例としては、アクリ
レート及びメタクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、例えばメチルメタクリレート／エチルアクリレート
／メタクリル酸のコポリマー、ポリ（メタクリル酸アル
キル）及びポリ（アクリル酸アルキル）：セルロースエ
ステル及びセルロースエーテル、例えばセルロースアセ
テート、セルロースアセトブチレートメチルセルロース
及びエチルセルロース：ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル、例えばポリ
エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド及びポリテ
トラヒドロフラン；並びにポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル／塩化ビニリデンのコポリマー、塩
化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト及び酢酸ビニルとのコポリマー、ポリ酢酸ビニル、コ
ポリ（エチレン／酢酸ビニル）、ポリアミド、例えばポ
リカプロラクタム及びポリ（ヘキサメチレンアジパミド
）、並びにポリエステル、例えばポリ（エチレングリコ
ールテレフタレート）及びポリ（ヘキサメチレングリコ
ールスクシネート）が挙げられる。

本発明による組成物は、その上に光重合によって保護フ
ィルム又は写真画像を施す多くのクイブの基材、例えば
木、紙、セラミック、ポリエステル及びセルロースアセ
テートフィルムのようなプラスチック、並びに銅及びア
ルミニウムのような金属用の被覆剤として好適である０
本発明は、また、かかる被覆基材、及び基材に写真画像
を施す方法に関する。被覆基材は、また、ホログラム（
体積相ダイアグラム）用の記録材料として用いることも
でき、この目的に関して湿潤現像を必要としないので有
利である。

基材の被覆は、液体組成物又は溶液あるいは懸濁液を基
材に施すことによって行なうことができる。溶媒を含ま
ない液体組成物が好ましい。

溶媒及びその濃度の選択は、主として組成物のタイプ及
び被覆方法に依存する１組成物は、公知の被覆方法、例
えば、漬は塗、ナイフ塗、流し塗、電気泳動、はけ塗、
噴霧又はリバースロール塗布によって基材に均一に施す
、施す量（フィルム厚）及び基材（フィルム支持材）の
タイプは、所望の使用分野に依存する。写真情報を記録
するために用いられるフィルム支持材の例は、ポリエス
テル又はセルロースアセテートフィルムあるいはプラス
チックを被覆した紙であり：オフセット印刷版を形成す
るためには特殊処理されたアルミニウム、印刷回路の製
造用には銅積層物である。

写真材料及びオフセット印刷版のためのフィルム厚は、
概して、約０．５〜約１０Ｆであり、印刷回路用には、
概して１〜約１００Ｆである。用いた溶媒は全て被覆工
程の後に除去する。

種々の目的のために用いられているような光硬化性組成
物は、はとんどの場合において、光重合性化合物及び光
開始剤に加えて、多数の他の添加剤を含んでいる。特に
１通常は、成分を混合することによって行なわれる組成
物の製造中の早期重合を防止するための熱抑制剤を加え
ることがしばしば行なわれる。この目的のために１例え
ば、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシ
フェニル、β−ナフトール類、又は、例えば２．６−ジ
（ｔａｒｔ−ブチル）−ｐ−クレゾールのような立体障
害フェノール類が用いられる。更に、少量のＵＶ吸収剤
、例えばベンズトリアゾール、ベンゾフェノン又はオキ
サラニリドタイプのものを加えることができる。また、
立体障害アミンタイプ（ＨＡＬＳ）の光安定剤を加える
こともできる。

暗所における保存安定性を向上させるために、ナフテン
酸銅、ステアリン酸銅又はオクタン酸銅のような銅化合
物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、
トリエチルホスファイト、トリフェニルホスファイト又
はトリベンジルホスファイトのようなリン化合物、テト
ラメチルアンモニウムクロリド又はトリメチルベンジル
アンモニウムクロリドのような第４級アンモニウム化合
物、あるいはヒドロキシルアミン誘導体、例えばＮ−ジ
エチルヒドロキシルアミンを加えることができる。

大気中の酸素の抑制作用を排除するために、光硬化性混
合物に、パラフィン又は同様のワックス状物質がしばし
ば加えられる０重合を開始する際には、これらは、溶解
性が不十分であるためｌミ浮遊分離し、空気の接触を防
ぐ透明な表面層を形成する。

更なる通常用いられる添加剤は、ある波長の光を吸収し
、吸収したエネルギーを開始剤に放出するか、それ自体
が更なる開始剤として機能する光増感剤である。これら
の例は、特に、チオキサントン、アントラセン、アント
ラキノン及びクマリン誘導体である。

更なる通常用いられる添加剤は、連鎖移動剤として作用
するので、着色配合物において特に重要なアミンタイプ
の促進剤である。これらの例は、Ｎ−メチルジェタノー
ルアミン、トリエチルアミン、エチル−ｐ−ジメチルア
ミノベンゾエート又はＭｉｃｈｌｅｒ’ｓケトンである
。かかるアミンの作用は、ベンゾフェノンタイプの芳香
族ケトンを加えることによって増強することができる。

更なる通常用いられる添加剤の例は、充填剤、顔料、染
料、接着促進剤、湿潤剤及び流れ改良剤である。

光硬化は、バインダーの乾燥時間が画像生成物の製造速
度の決定因子であり、何分の一秒のオーダーのものでな
ければならないので、印刷インクに特に重要である。Ｕ
Ｖ硬化性印刷インクは、スクリーン印刷に特に重要であ
る。

本発明による光硬化性組成物は、また、印刷版、特にフ
レキソ印刷版の製造に特に好適である。この目的で、例
えば、可溶性線状ポリアミド、又はスチレン／ブタジェ
ンラバーと光重合性モノマー、例えばアクリルアミドも
しくはアクリレートとの混合物並びに光開始剤が用いら
れる。

これらの系から製造されるフィルム及びプレートを、原
版の陰画（又は陽画）を通して露光し、次に未硬化部分
を溶媒で溶出させる。

光硬化の他の使用分野は、例えば管材、缶材又は題材用
の金属シートの被覆における金属の被覆、プラスチック
被覆、例えばＰｖＣを基材とした床及び壁被覆の光硬化
である。

紙被覆の光硬化の例は、ラベル、レコードカバー又はブ
ックカバーの無色被覆である。

画像処理及び情報キャリアの光学的製造のための光硬化
性組成物の使用もまた重要である。この工程においては
、フォトマスクを通して、キャリア（湿潤又は乾燥状態
）に施したフィルムに短波長の光を照射し、フィルムの
未露光領域を溶媒（＝現像剤）で処理することによって
除去する。露光された領域は架橋ポリマーとなり、した
がって不溶性でありキャリア上に残留する。適当な着色
を行なうと視認画像が形成される。金属蒸着フィルムか
ら構成されるキャリアにおいては、露光及び現像の後に
、金属を未露光領域においてエツチング除去するか、又
は電気めっきによって強化することができる。印刷回路
はこの方法で製造することができる。

露光するために好適な光源は、高濃度の短波長光を有す
るものである。この目的のために、今日においては、適
当な工業器具及び種々のタイプのランプを利用すること
ができる１例としては、カーボンアークランプ、キセノ
ンアークランプ、水銀蒸気ランプ、金属ハロゲンランプ
、蛍光灯、アルゴンランプ又は写真用溢光灯が挙げられ
る。

また、最近においてはレーザー光源も用いられている。

これらは、フォトマスクを必要とせず、配向されたレー
ザービームによって光硬化フィルム上に直接、画像が描
かれるという有利性を有している。

したがって、本発明は、更に、 （ａ）少なくとも１つの表面上に本発明による組成物が
被覆されている被覆基材： （ｂｌ被覆基材を、像様又は均一露光し、その後、未露
光部分を溶媒で除去することを特徴とする、レリーフ画
像又は被覆の写真的製造方法：（ｃｌ少なくとも一つの
重合又は二量体化可能なエチレン系不飽和二重結合を有
する、非揮発性の、モノマー、オリゴマー又はポリマー
化合物を光重合又は光二量体化するための開始剤又は増
感剤としての、上記式（Ｉ）の化合物の使用；及び、 Ｃｄ）被覆、印刷インク、印刷版及び耐インク材料を製
造するための、並びに１画像記録材料及び被覆剤として
の本発明の組成物の使用に関する。

本発明による光開始剤は、また、例えば凝集剤用のポリ
マー、又は衛生製品用の物品の製造において用いること
もできる（例えばヨーロッパ特許筒０．０３１．００５
号及び西独国特許第２．５４５．２９０号参照）。

式（１）の化合物は、また、置換テトラチオテトラセン
及びテトラセレノテトラセン類の製造に有用な中間体で
ある（米国特許筒４．６１７゜１５１号参照）、カルコ
ゲン化（ｃｈａｌｃｏｇｅｎａｔｅｄ）テトラセンを電
子受容体と共に用いて、導電性電荷移動コンプレックス
（ＣＴコンプレックス）を製造することができる。これ
らは、その官能性置換基によってポリマーに結合させ、
例えばポリマー中に側基として導入することができる（
米国特許筒４．６１７．１５１号参照）、ＣＴコンプレ
ックスは１．また、例えば写真フィルム部材、磁気テー
プ、電子写真フィルム部材及び電子部品の帯電防止被覆
の製造に好適である（米国特許筒３．６３４．３３６号
参照）。更に、カルコゲン化テトラセン類は、エレクト
ロクロミック（ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｒｏｗａｉｃｌ特性
を有しており、これらをエレクトロクロミックデイスプ
レィに用いることができる。これらは、また、レーザー
・光学データ保存材料［Ｎａｃｈ、Ｃｈｅｍ、　Ｔｅｃ
ｈｎ、　Ｌａｂ、　３５．　ｐ、２５５−（１９８７１
］及び有有機固体油における陽極材料（ヨーロッパ特許
筒０．０９０．５９８号）としても好適である。また、
置換テトラチオテトラセン又はテトラセレノテトラセン
のＣＴコンプレックスを、熱可塑性、熱硬化性又は弾性
ポリマー中に導入して帯電防止特性を得ることができる
。これは、有利には、例えば、置換テトラチオテトラセ
ン又はテトラセレノテトラセンを、可溶性ポリマーもし
くはその前駆物質及び電子受容体、例えばハロゲン生成
剤（有機ハロゲン化化合物、例えばブロモホルム、トリ
クロロブロモメタン、テトラブロモメタン、ヘキサクロ
ロプロパン、ベルクロロブタジェン、１．３−もしくは
１．４−ジクロロ−２−ブテン、１．４−ビス（トリク
ロロメチル）−ベンゼン、ヨードアセトニトリル、ヨー
ドホルム、テトラクロロエチレン、ベルクロロシクロブ
タジェン及びＮ−クロロ−１Ｎ−ブロモ−もしくはＮ−
ヨードスクシンイミド）と共に、更に所望の場合には更
なる不活性溶媒と共に溶解し。

過剰のハロゲン生成剤及び溶媒を昇温下で蒸発除去する
ことによって行なわれる。生成した組成物は、カルコゲ
ン化テトラセンが非置換であるか又は小さな置換基（例
えばＦ、ＣＨＩもしくはＣＦＩＩを有する場合には、ポ
リマー中にＣＴコンプレックスの針状結晶の網状構造を
有する。このタイプの組成物は高い導電性を有している
。この導電性は、かかる網状構造を形成せず、ポリマー
マトリックス中に微細分布して存在している式（１）の
化合物から製造された置換テトラチオテトラセンもしく
はテトラセレノテトラセンを用いると、かかる置換テト
ラチオテトラセンもしくはテトラセレノテトラセンがポ
リマー中で晶出する傾向があったとしても低いものでし
かないので、更に向上させることができる。更に、ナフ
タセンキノン類をエレクトロクロミックデイスプレィ部
材において用いることもできる（特開昭６１−４３６８
０号）。

以下の実施例によって本発明を更に詳細に説明する。

２−フルオロナックセン−５，１２−ジオン（米国特許
第４．５２２．７５４号に記載の方法にしたがって製造
した）Ｉｇ　（３，６２ミリモル）、２−メルカプトエ
タノール０．３１ｇ（３，９８ミリモル）、炭酸カリウ
ム１．５０ｇ（１０，８６ミリモル）及びＤＭＳ０１０
ｍ／を、２５℃において３分間撹拌した。混合物を水中
に注いだ、結晶をｔ戸別し、テトラヒドロフラン／トル
エン中に溶解し、溶液を硫酸ナトリウ。

上で乾燥し蒸発させた。残査をＴＨＦ／トルエン／ペン
タンから再結晶させた。収量１ｇ（８３％）：融点：１
９５〜１９６℃。

下表１に記載の化合物を同様に製造した。

−Ｌニー この実施例においては、メルカプタンのがわりにＮａ５
ＣＨｓを用いた１３：２．８−　び２．９−ビス　２−
ヒエ２ ２．８−及び２．９−ジフルオロナフタセン−５，１２
−ジオン２ｇ（６，８ミリモル）を。

炭酸カリウム３．７６ｇ　（２７，２ミリモル）、２−
メルカプトエタノールＩｇ　（２０，４ミリモル）及び
アセトニトリル２５−と共に８０℃で６．５時間撹拌し
た。混合物を希釈塩酸中に注いだ、沈殿を炉取し、水で
３回洗浄した後、乾燥させ、０−ジクロロベンゼンから
再結晶させた。

融点１８０〜１９０℃の禮色の結晶２．６４ｇ（９５％
）が得られた。

２．８−／２．９−ジフルオロナフタセン−５，１２−
ジオン混合物は、以下のようにして調製した。６−フル
オロナフタレン−２，３−ジカルボン酸無水物１２．９
ｇ　（０，０６モル）、Ａｌ２Ｏβｓ２０．１ｇ及びフ
ルオロベンゼン４５０−の混合物を、攪拌しながら還流
下に１時間加熱した。冷却した後、反応混合物を、氷及
びｆｉ塩酸１５ＴＲ１の混合物上に注いだ、有機相を分
離し、減圧下で蒸発乾固させた。残査をＣＩ−ＩＣｊ２
゜とＮ　ａ　ＨＣＯｓ溶液の間に分配し、水相を炭素で
処理し、（：ｏｎｇｏレッドの酸性になるまで濃塩酸で
酸性化した。生成した沈殿を？戸別し、乾燥させた。融
点２５１〜２５３℃の６−及び７−フルオロ−３−（４
−フルオロベンゾイル）−２−ナフタレンカルボン酸の
１：ｌ混合物１３．１ｇ　（７２％）が得られた。

この混合物の一部を、ＡβＣｊ２＊１２４．３ｇ及びＮ
ａＣ４２２８ｇの溶融体に、１４５℃において撹拌しな
がら３０分かけて加えた。溶融体を３．５時間撹拌した
後、氷上に注いだ、生成した沈殿を炉別し乾燥した。得
られた粗生成物（２２ｇ）を５ｏｘｈｌｅｔ装置中にお
いて、ＣＨＣ！！、、で２０時間抽出した。冷却すると
生成物４ｇが晶出した。母液をｌＮ−ＮａＯＨ及びＨｔ
　Ｏで洗浄した後、溶媒を蒸発させた。これによって生
成物が更に３ｇ得られ、これを高減圧下、２３０℃にお
いて昇華させることによって精製した。収量：６．３ｇ
　（４７％）、融点：２７５〜２７７℃、マススペクト
ル＝Ｍ′″２９４７１００　。

同様の手順及びナフタセン−２，３−ジカルボン酸無水
物並びに１．２−ジフルオロベンゼンを用いて２．３−
ジフルオロナフタセン−５，１２−ジオンを得た。

２．３−ジフルオロナフタセン−５，１２−ジオンＩｇ
（３，４ミリモル）、炭酸カリウム０．９４ｇ　（６，
８ミリモル）、ナトリウムメタンチオレート０．４７ｇ
　（６，８ミリモル）及びテトラヒドロフラン２０−を
２５℃で２．５時間攪拌した。混合物を希釈塩酸中に注
ぎ、ＴＨＦ／トルエンで抽出した。有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、蒸発させた。残査をシリカゲル上でト
ルエンを用いてクロマトグラフィーにかけた。収量０．
５５ｇ　（５０％）、融点：２３０〜２３５℃。

１５：２．３−ビス　メチルチオ　ナフタセン−５，１
２−ジオン ２．３−ジフルオロナフタセン−５，１２−ジオンＩｇ
（３，４ミリモル）、炭酸カリウム０．９４ｇ　（６，
８ミリモル）、ナトリウムメタンチオレート０．７２ｇ
　（ｔｏ、２ミリモル）及びＴＨＦ　　２０ｄを還流下
で４時間撹拌した。混合物を希釈塩酸中に注いだ、沈殿
を？戸別し、水で洗浄し、減圧下、１４０℃で乾燥した
。ジオキサンから再結晶させると、純粋な生成物１ｇ（
８４％）が得られた。融点２６０℃以上。

２工２ ２．３−ジフルオロナフタセン−５，１２−ジオンＩｇ
（３，４ミリモル）、炭酸カリウム０．９４ｇ　（６，
８ミリモル）、２−エチルへキシルチオグリコレート２
．０ｇ　（ｔｏ、２ミリモル）及びＴＨＦ　　１０−を
６５℃で２０時間攪拌した。混合物を水／ＴＨＦ／トル
エン中に溶解した。有機相を希釈塩酸１次に水で２回洗
浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させた。ジエチ
ルエーテル／ペンタンから再結晶させると、生成物２．
０４ｇ　（９１％）が得られた。融点７５〜８０℃。

−１１７〜２０　： ９−フルオロナフタセン−５，１２−ジオン及び対応す
るメルカプタンを用いて、実施例１と同様に、９−メチ
ル−（実施例１７）、９−エチル−（実施例１８）、９
−フェニル−（実施例１９１及び９−（２’−ヒドロキ
シエチル）ナフタセン−５，１２−ジオン（実施例２０
）を得た。

ｍ　　び２２： 実施例１と同様に、２．３−ジ（トリフルオロメチルｌ
−８，９−ジブロモナフタセン−５，１２−ジオン及び
８．９−ジブロモナフタセン−５，１２−ジオンをチオ
フェノールと反応させた。これによって、２．３−ジ（
トリフルオロメチルｌ−８，９−ジ（フェニルチオ）ナ
フタセン（収率６５％、融点２６０℃以上）及び８゜９
−ジ（フェニルチオ）ナフタセン（収率８８％、融点２
６０℃以上） が得られた。

以下の成分を混合することによって光硬化性組成物を調
製した。

トリアクリレート ポリエチレングリコール　　　６．６　ｇ　　　　　６
．６ｇジアクリレート クリスタルバイオレット　　　０．０８ｇ２０５、２８
　ｇ　　　　１００．０　ｇＩｌ＋　ポリスチレン／マ
レイン酸モノエステルコポリマー（Ｍｏｎｓａｔｏｌ この組成物の一部を、以下の表に示す光開始剤０．２％
（組成物に対して）と混合した。操作は全て赤色又は黄
色光の下で行なった。

開始剤を加えた試料を、１５０１１＋１の線巻ドローバ
−を用いて２００Ｐのアルミニウムホイル（１０ｘ１５
ｃｍ）に施した。空気循環オゾン中において、６０℃で
１５分間加熱することによって溶媒を除去した。これに
よって厚３５Ｆの乾燥したフィルムが得られた。このフ
ィルム上に、厚７６Ｆのポリエステルシートを配置し、
この上に２１段階の異なる光学濃度を有する標準試験陰
画（Ｓｔｏｕｆｆｅｒウェッジ）をに配置した。第２の
ポリエステルシートをこの上面上に配置し、かくして得
られた積層物を減圧によって金属シート上に固定した０
次に、試料に、第１の一連の試験においては２０秒間、
第２の一連の試験においては４０秒間、５ＫＷの金属ハ
ロゲンランプ（タイプＭＯ２３）を用いて３０ｃｍの距
離で露光した。露光後、シート及びマスクを取り外し、
超音波洛中において、現像剤Ａを用いて露光されたフィ
ルムを２分間現像し、次に、空気循環オゾン中、６０℃
で１５分間乾燥させた。用いた開始剤系の感度は、粘着
性を有さずに再生された最低のウェッジ段階の番号によ
って特徴付けた１段階番号がより高くなると、系の感度
がより高くなる。２段階上昇することは、硬化速度がほ
ぼ２倍になることを意味している。結果を表２に示す、
現像剤Ａは、メタ珪酸ナトリウム９水和物１５ｇ、ＫＯ
Ｈｏ、１６ｇ、ポリエチレングリコール６０００　３ｇ
、レブリン酸０．５ｇ及び脱イオン水１０００ｇを含む
ものであった。

艮ｌ 叉」」シシ先二 以下の組成： °エチルセルロース　　　　　　　７１．００　ｇＳｃ
ｒｉｐｓｅｔ　５５０　”’　　　　　　　　１４．０
０　ｇトリメチロールプロパン　　　　１５．００　ｇ
トリアクリレート ｖ　−（Ｍｗｌｌｌｏｏｏｏ、酸価１９０．　Ｍｏｎ５
ａｔｏ製）の溶液を、それぞれ１０ｇの等量に分けた。

それぞれの場合において、この溶液中に、赤色光の下で
、ナフタセンジオン０．０５ｇ及びグリセロール０．５
ｇをこの溶液中に溶解した。

線巻ドローパーを用いて、透明なポリエステルシート上
に湿潤フィルム厚１２Ｆを有する被覆を施した。湿潤フ
ィルムを、空気循環オゾン中、８０℃で３０分間乾燥さ
せた。

このフィルムを、以下の組成： Ｂｒ１ｊ　３５（水中１０％０°’１　　　　１５．０
０　ｇ〔湿潤剤、　Ａｔ１ａｓ　Ｐｏｗｄｅｒ製）の溶
液中に浸漬し、空気循環オゾン中、８０℃で乾燥させる
ことことによって、厚０，５Ｐの酸素バリヤー層を施し
た。

増加度０　、　１５　（ｌｏｇ　Ｏ，Ｄ、ｌを有する段
階ウェッジを通して、乾燥したフィルムを５０００Ｗの
水銀ランプ（ＬＩＯ３３，５ｔａｕｂ、　Ｎｅｕ　Ｉｓ
ｅｎｂｕｒｇｌに曝露し、以下の組成： ポリグリコール６０００　　　　　　　３．００　ｇレ
ブリン酸　　　　　　　　　　　　０．５０ｇ脱イオン
水　　　　　　　　　１０００．０Ｏｇを有する溶液中
でレリーフ画像に現像した。

３６５　ｎｍのセンサーを具備する０ｒｉｅｌ製のＰｏ
ｗｅｒｍｅｔｅｒを用いて光強度を測定した０表３に、
段階ウェッジの段階７を得るのに必要な光エネルギーを
示す。

以下の組成： １−ｉジメチルマレイミジル）−６−メタクロイルオキ
シ−ｎ−ヘキサン８６重量部及びメタクリル酸１４重量
部のコポリマー：Ｍｗ；１２０，０００　（ＧＰＣ、ポ
リスチレン標準によって測定） の溶液を、遠心波１１１（５００ｒｐｍにおいて３０秒
）によって、オフセット版基材、即ち、電解質で粗面化
し、陽極酸化したアルミニウムシ一トニ施し、８０’Ｃ
で１５分間乾燥させた。これによって、被覆重量１．１
−１．３ｇ／ｍ２が得られた１次に、これを、５ｔｏｕ
ｆｆｅｒウエツジ（光学濃度０．Ｄ、の増加度＝Ｑ、１
５）を通して、２０００Ｗの金属ハロゲンランプ（減圧
室のフレームから７５ｃｍの距離に設置した）に１００
秒間曝露した。現像は、以下の組成： メタ珪酸ナトリウム５水和物　　　７５．０　ｇ脱イオ
ン水　　　　　　　　　　９２５．０　ｇの現像剤溶液
を浸漬したタンポンで、２０℃において４５秒間穏やか
に擦ることによって手作業で行なった。

表４に、用いたナフタセンジオン及び最低の視認段階を
示す。

艮Ａ す、多数のコピーを製造することができた。

２６：２＋２の ２−フェニルチオナフタセン−５，１２−ジオン５％Ｆ
Ｗ／ｗｌ　を１分子ｊｌ１４０．０００ダルトンを有し
くジオキサン中、２５℃における光散乱によって測定）
、エチルアクリレート２０モル％及びＮ−（５−メチル
−３−才キサー４−才キソヘキセンー５−イル）−ジメ
チルマレイミド（ＡｎｇｅｗＭａｋｒｏｍｏｌ、　Ｃｈ
ｅｗ　１１５　（１９８３１１３，１６３−及びＡｎｇ
ｅｗＭａｋｒｏｍｏｌ、　Ｃｈｅｗ　１２８　（１９８
４）　ｐ、７１−に記載の方法によって製造）８０モル
％からなるコポリマーの２０％［１／１１溶液中に溶解
した。この溶液を、線巻ドクターバーによって、銅被覆
ガラス繊維／エポキシド積層物上に湿潤フィルム厚１４
１７１１のフィルムとして施し、フィルムを８０’Ｃで
１時間乾燥した。乾燥したフィルムを、０．　１５　ｆ
ｌｏｇ　Ｏ，Ｄ、１の増加度を有する段階ウェッジを通
して。

５０００Ｗの水銀ランプ（ＭＯ３３，５ｔａｕｂ、　Ｎ
ｅｕ−Ｉｓｅｎｂｕｒｇ）に曝露し、１，１．１−トリ
クロロエタン中でレリーフ画像に現像した。実施例１８
にしたがって測定した光強度ＷＰ、は１６５ｍＪＸｃｍ
−”であった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）次式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ
   ＾６、Ｒ＾７及びＲ＾８は、互いに独立して、Ｈ、−Ｏ
   Ｈ、−ＣＮ、−ＮＯ＿２ハロゲン、−ＮＲ＾１＾０Ｒ＾
   １＾１、−ＣＯＯＲ＾９、−ＣＯＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾
   １、−ＳｉＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４Ｒ＾１＾５、あるいは
   、非置換又は−ＯＨ、−ＣＮ、−ＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾
   １、ハロゲン、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿８アルキル、−アルコ
   キシもしくは−アルキルチオ、−ＣＯＯＲ＾９もしくは
   −ＣＯＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾１によって置換されている
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿２＿０アルキル−（Ｘ）＿ｐ−、Ｃ＿２
   〜Ｃ＿２＿０アルケニル−（Ｘ）＿ｐ−、Ｃ＿２〜Ｃ＿
   １＿８、アルキニル−（Ｘ）＿ｐ−、Ｃ＿３〜Ｃ＿８シ
   クロアルキル−（Ｘ）＿ｐ−、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿２アリ
   ール−（Ｘ）＿ｐ−又はＣ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル
   −（Ｘ）＿ｐ−、あるいは−Ｙ−（Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍＯ
   ）＿ｎ−Ｒ＾１＾２であり；ＸはＯ、Ｓ、ＳＯ又はＳＯ
   ＿２であり；ｐはＯ又はｌであり；ＹはＯ又はＳであり
   ；Ｒ＾９はＨ又はＣ＿１〜Ｃ＿２＿０アルコールのヒド
   ロキシル水素原子を除いた基であり；Ｒ＾１＾０及びＲ
   ＾１＾１は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿８
   アルキル、フェニル、ベンジル、シクロペンチル、シク
   ロヘキシル、Ｃ＿２〜Ｃ＿１＿２モノ−もしくはＣ＿３
   〜Ｃ＿１＿２ジヒドロキシアルキル、−（Ｃ＿ｍＨ＿２
   ＿ｍ−Ｏ）＿ｎ−Ｒ＾１＾２であるか、あるいはＲ＾１
   ＾０とＲ＾１＾１とは一緒になって、テトラ−もしくは
   ペンタメチレン又は３−オキサ−１．５−ペンチレンを
   形成しており；ｍは２〜６であり、ｎは２〜２０であり
   ；Ｒ＾１＾２は、Ｈ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルで
   あり；Ｒ＾１＾３、Ｒ＾１＾４及びＲ＾１＾５は、互い
   に独立して、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルであり；基Ｒ
   ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７及びＲ＾８の少
   なくとも一はチオ基である］ の化合物。 （２）Ｒ＾１が、Ｈ、−ＣＦ＿２−ＯＨ、Ｃ＿１−Ｃ＿
   ■アルキル、非置換又は−ＯＨによって置換されている
   Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿■アルコキシ、非置換又はハロゲン、
   Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキルもしくはＣ＿１〜Ｃ＿６アルコ
   キシによって置換されているＣ＿■〜Ｃ＿１＿０アリー
   ルオキシ、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿０アラルキルオキシあるい
   は−ＣＯＯＲ＾９（ここで、Ｒ＾９はＣ＿１〜Ｃ＿２＿
   ０アルコールからヒドロキシル水素原子を除いた基であ
   る）である請求項１記載の化合物。 （３）Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６Ｈである請求項１記載
   の化合物。 （４）Ｒ＾１、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６がＨである請
   求項１記載の化合物。 （５）Ｒ＾２がチオ基：Ｒ＾１＾６Ｓ−（ここで、Ｒ＾
   １＾６は、非置換であるか又は置換されている、Ｃ＿１
   〜Ｃ＿２＿０アルキル、シクロペンチル、シクロヘキシ
   ル、フェニル又はベンジルであるかあるいは−（Ｃ＿ｍ
   Ｈ＿２＿ｍ）＿ｎ−Ｒ＾１＾２であり；ｍは２〜４の数
   であり、ｎは２〜１２の数であり；Ｒ＾１＾２はＨ又は
   Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルである）である請求項１記
   載の化合物。 （６）Ｒ＾１＾６が、非置換又は−ＯＨ、−ＮＲ＾１＾
   ０Ｒ＾１＾１−、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿■アルコキシ、−Ｃ
   ＯＯＲ＾９もしくは−ＣＯＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾１によ
   って置換されているＣ＿１〜Ｃ＿１＿８アルキルである
   かあるいは−（Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍ）＿ｎ−Ｒ＾１＾２（
   ここで、ｍは２又は３であり、ｎは２〜６の数であり、
   Ｒ＾１＾２はＨ又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり、Ｒ
   ＾９、Ｒ＾１＾０及びＲ＾１＾１は請求項１において定
   義した通りである）である請求項５記載の化合物。 （７）Ｒ＾１＾６が、非置換のＣ＿１〜Ｃ＿１＿８アル
   キルであるか、又は、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルコキシ−
   もしくは−ＣＯＯＲ＾９によって置換されているＣ＿１
   〜Ｃ＿８アルキル（ここで、Ｒ＾９はＣ＿１〜Ｃ＿１＿
   ２アルキルである）であるか、あるいは、−ＯＨもしく
   は−ＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾１によって置換されているＣ
   ＿２〜Ｃ＿６アルキル（ここで、Ｒ＾１＾０及びＲ＾１
   ＾１はＨ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルである）であ
   る請求項５記載の化合物。 （８）Ｒ＾１〜Ｒ＾８が、−ＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂ
   ｒ、−ＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾１、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２ア
   ルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルコキシ、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   １＿２アルキルチオ又は−ＣＯＯＲ＾９（ここで、Ｒ＾
   ９は、Ｈ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿８アルキルであり、Ｒ＾
   １＾０及びＲ＾１＾１は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ＿１
   〜Ｃ＿１＿８アルキル、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ、−Ｃ
   Ｈ＿２ＣＨ（ＯＨ）ＣＦ＿３、−ＣＨ＿２ＣＨＯＨ−Ｃ
   Ｈ＿２ＯＨ、−（Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍＯ）＿ｎ−Ｒ＾１＾
   ２であり、ｍは２又は３であり、ｎは２〜６の数であり
   、Ｒ＾１＾２はＨ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルであ
   る）である請求項１記載の化合物。 （９）Ｒ＾１及びＲ＾３〜Ｒ＾９が、互いに独立して、
   Ｈ、−ＣＮ、−ＮＯ＿２、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｃ
   ＯＯＲ＾９、−ＮＲ＾１＾０Ｒ＾１＾１、−ＣＯＮＲ＾
   １＾０Ｒ＾１＾１（ここで、Ｒ＾９はＨ又はＣ＿１〜Ｃ
   ＿１＿２アルキルであり、Ｒ＾１＾０及びＲ＾１＾１は
   、互いに独立して、Ｈ、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキル、
   −ＣＨ＿２ＣＨ＿２ＯＨ、−ＣＨ＿２ＣＨ−（ＯＨ）Ｃ
   Ｈ＿３、−ＣＨ＿２ＣＨＯＨＣＨ＿２ＯＨ、−（Ｃ＿ｍ
   Ｈ＿２＿ｍＯ）＿ｎ−Ｒ＾１＾２であり、ｍは２又は３
   であり、ｎは２〜６の数であり、Ｒ＾１＾２はＨ又はＣ
   ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルである）であるか、あるいは
   、−ＳｉＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４Ｒ＾１＾５（ここで、Ｒ
   ＾１＾３、Ｒ＾１＾４及びＲ＾１＾５は、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ４アルキル、又は非置換もしくは置換されている、Ｃ＿
   １〜Ｃ＿１＿８アルキル−（Ｘ）＿ｐ−、Ｃ＿６Ｈ＿５
   −（Ｘ）＿ｐ−又はＣ＿６Ｈ＿５ＣＨ＿２−（Ｘ）＿ｐ
   −であり、ＸはＯ又はＳであり、ｐは０又は１である）
   であるか、あるいは、−Ｙ−（Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍＯ）＿
   ｎ−Ｒ＿１＿２（ここで、ＹはＯ又はＳであり、ｍは２
   又は３であり、ｎは２〜１２の数であり、Ｒ＾１＾２は
   Ｈ又はＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキルである）である請求
   項１記載の化合物。 （１０）Ｒ＾３、又は、Ｒ＾３及びＲ＾６もしくはＲ＾
   ７、又はＲ＾３、Ｒ＾６及びＲ＾７がＲ＾１＾６Ｓ−で
   ある請求項１記載の化合物。 （１１）Ｒ＾１、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６がＨであり
   、Ｒ＾２、Ｒ＾３又は両方が−ＳＲ＾１＾６であり、Ｒ
   ＾６及びＲ＾７がＨであるか、あるいは、Ｒ＾２、Ｒ＾
   ６又はＲ＾７が−ＳＲ＾１＾６であり、Ｒ＾３及びＲ＾
   ７又はＲ＾３及びＲ＾６がＨである請求項１記載の化合
   物。 （１２）Ｒ＾１及びＲ＾３〜Ｒ＾８がＨであり、Ｒ＾２
   が基Ｒ＾１＾６−Ｓ−である請求項１記載の化合物。 （１３）Ｒ＾１＾１がＣ＿１〜Ｃ＿１＿２アルキル、Ｃ
   ＿６〜Ｃ＿１＿２アリール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿８アルカ
   リール、−ＣＨ＿２ＣＨ＿２−ＯＨ、−ＣＨ＿２ＣＨＯ
   ＨＣＨ＿２ＯＨ、−ＣＨ＿２−ＣＯＯＲ＾９又は−ＣＨ
   ＿２ＣＨ＿２ＣＯＯＲ＾９である請求項１２記載の化合
   物。 （１４）Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応によって、次式（
   II）：▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７及びＲ＾８は請求項１
   において定義したとおりであり、Ｘ＾１及びＸ＾２は、
   互いに独立して、−Ｃｌ、−Ｂｒ又は−Ｉである）の化
   合物を、次式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は請求項１
   において定義したとおりである）の化合物と反応させて
   、ＨＸ＾１及びＨＸ＾２を脱離させることを特徴とする
   請求項１記載の式（ I ）の化合物の製造方法。 （１５）放射線によって重合させることができ、 （ａ）少なくとも一つの重合又は二量体化可能なエチレ
   ン系不飽和二重結合を有する、少なくとも一つの、非揮
   発性の、モノマー、オリゴマー又はポリマー化合物、及
   び （ｂ）光開始剤又は増感剤として、少なくとも一つの請
   求項１記載の式（ I ）の化合物を含む組成物。 （１６）式（ I ）の化合物が、光重合又は光二量体化
   可能な化合物に対して０．０１〜２０重量％の量含まれ
   ている請求項１５記載の組成物。 （１７）少なくとも１つの表面上に請求項１５記載の組
   成物が被覆されている被覆基材。（１８）請求項１７記
   載の被覆基材を、像様又は均一露光し、その後、未露光
   部分を溶媒で除去することを特徴とする、レリーフ画像
   又は被覆の写真的製造方法。 （１９）少なくとも一つの重合又は二量体化可能なエチ
   レン系不飽和二重結合を有する、非揮発性の、モノマー
   、オリゴマー又はポリマー化合物を光重合又は光二量体
   化するための開始剤又は増感剤としての、請求項１記載
   の式（ I ）の化合物の使用。 （２０）塗料、印刷インク、印刷版及び耐インク材料を
   製造するための、並びに、画像記録材料及び被覆剤とし
   ての請求項１５記載の組成物の使用。