JPH05166396A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
半導体メモリ装置Info
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- JPH05166396A JPH05166396A JP3328867A JP32886791A JPH05166396A JP H05166396 A JPH05166396 A JP H05166396A JP 3328867 A JP3328867 A JP 3328867A JP 32886791 A JP32886791 A JP 32886791A JP H05166396 A JPH05166396 A JP H05166396A
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- JP
- Japan
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- memory cell
- circuit
- address
- column
- signal
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
- G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
- G11C29/80—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout
- G11C29/808—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout using a flexible replacement scheme
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/44—Indication or identification of errors, e.g. for repair
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 開示されたSRAMは、64個のメモリセル
アレイブロックと、1つの冗長メモリセルアレイブロッ
クとを備えている。冗長メモリセルアレイは、合計16
本の冗長メモリセル列を備えている。欠陥メモリセル列
の位置を示す欠陥アドレスはアドレスプログラム回路内
においてプログラムされ、欠陥アドレスにおける特定の
欠陥列はI/Oプログラム回路においてプログラムされ
る。 【効果】 各メモリセルアレイは冗長のためのスペアメ
モリセル列または行を備えていないが、欠陥は冗長メモ
リセルアレイを用いることによって救済され、SRAM
の高集積化が達成され得る。
アレイブロックと、1つの冗長メモリセルアレイブロッ
クとを備えている。冗長メモリセルアレイは、合計16
本の冗長メモリセル列を備えている。欠陥メモリセル列
の位置を示す欠陥アドレスはアドレスプログラム回路内
においてプログラムされ、欠陥アドレスにおける特定の
欠陥列はI/Oプログラム回路においてプログラムされ
る。 【効果】 各メモリセルアレイは冗長のためのスペアメ
モリセル列または行を備えていないが、欠陥は冗長メモ
リセルアレイを用いることによって救済され、SRAM
の高集積化が達成され得る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、一般に半導体メモリ
装置に関し、特に、欠陥を救済するための冗長メモリセ
ルアレイを備えた半導体メモリ装置に関する。
装置に関し、特に、欠陥を救済するための冗長メモリセ
ルアレイを備えた半導体メモリ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、スタティックランダムアクセ
スメモリ(以下「SRAM」という)およびダイナミッ
クランダムアクセスメモリ(以下「DRAM」という)
などのような半導体メモリは、製造における歩留まりを
向上させるため、冗長回路を備えている。製造された半
導体メモリ内に欠陥が存在するとき、その半導体メモリ
は冗長回路の機能により救済される。すなわち、従来の
半導体メモリでは、欠陥メモリセルを含む行または列
が、予め定められたスペア行または列と機能的に置換え
られる。この発明は、一般にSRAMおよびDRAMな
どのような半導体メモリに適用可能であるが、以下の記
載では、この発明が一例としてSRAMに適用される場
合について説明する。
スメモリ(以下「SRAM」という)およびダイナミッ
クランダムアクセスメモリ(以下「DRAM」という)
などのような半導体メモリは、製造における歩留まりを
向上させるため、冗長回路を備えている。製造された半
導体メモリ内に欠陥が存在するとき、その半導体メモリ
は冗長回路の機能により救済される。すなわち、従来の
半導体メモリでは、欠陥メモリセルを含む行または列
が、予め定められたスペア行または列と機能的に置換え
られる。この発明は、一般にSRAMおよびDRAMな
どのような半導体メモリに適用可能であるが、以下の記
載では、この発明が一例としてSRAMに適用される場
合について説明する。
【0003】図12は、冗長回路を有する従来のSRA
Mのブロック図である。図12を参照して、このSRA
M100は、データをストアするためのメモリセルアレ
イ80と、行アドレス信号RAに応答してメモリセルア
レイ80内のワード線WLを選択するための行デコーダ
82と、列アドレス信号CAに応答してメモリセルアレ
イ80内の列を選択する列デコーダ83と、ライトドラ
イバ回路84と、センスアンプ85とを含む。SRAM
100は、さらに、冗長回路として、スペアメモリセル
列81と、欠陥が存在する位置を示す欠陥アドレスをプ
ログラムするためのアドレスプログラム回路86と、I
/Oプログラム回路87とを備える。
Mのブロック図である。図12を参照して、このSRA
M100は、データをストアするためのメモリセルアレ
イ80と、行アドレス信号RAに応答してメモリセルア
レイ80内のワード線WLを選択するための行デコーダ
82と、列アドレス信号CAに応答してメモリセルアレ
イ80内の列を選択する列デコーダ83と、ライトドラ
イバ回路84と、センスアンプ85とを含む。SRAM
100は、さらに、冗長回路として、スペアメモリセル
列81と、欠陥が存在する位置を示す欠陥アドレスをプ
ログラムするためのアドレスプログラム回路86と、I
/Oプログラム回路87とを備える。
【0004】動作において、行デコーダ82は、外部か
ら与えられる行アドレス信号RAに応答して、メモリセ
ルアレイ80内の1本のワード線WLを活性化させる。
列デコーダ83は、外部から与えられる列アドレス信号
CAに応答して、アクセスされるべき1つの列を選択す
る。すなわち、列デコーダ83は、アクセスされるべき
列に接続されたトランスミッションゲートTG1を選択
的にオンさせ、そのビット線をライトドライバ回路84
またはセンスアンプ85に電気的に接続する。したがっ
て、書込動作において、外部から与えられた入力データ
Diが、行デコーダ82および列デコーダ83によって
選択されたメモリセルに書込まれる。一方、読出動作に
おいて、行デコーダ82および列デコーダ83によって
選択されたメモリセルから読出されたデータ信号をセン
スアンプ85が増幅し、増幅された信号が出力データD
oとして出力される。
ら与えられる行アドレス信号RAに応答して、メモリセ
ルアレイ80内の1本のワード線WLを活性化させる。
列デコーダ83は、外部から与えられる列アドレス信号
CAに応答して、アクセスされるべき1つの列を選択す
る。すなわち、列デコーダ83は、アクセスされるべき
列に接続されたトランスミッションゲートTG1を選択
的にオンさせ、そのビット線をライトドライバ回路84
またはセンスアンプ85に電気的に接続する。したがっ
て、書込動作において、外部から与えられた入力データ
Diが、行デコーダ82および列デコーダ83によって
選択されたメモリセルに書込まれる。一方、読出動作に
おいて、行デコーダ82および列デコーダ83によって
選択されたメモリセルから読出されたデータ信号をセン
スアンプ85が増幅し、増幅された信号が出力データD
oとして出力される。
【0005】もし、ある1つのメモリセル列内に何らか
の欠陥が存在することが発見されたとき、その欠陥メモ
リセル列は、次のようにスペアメモリセル列81と機能
的に置換えられる。欠陥メモリセル列の位置を示す欠陥
アドレスは、ヒューズ(図示せず)を選択的に切断する
ことにより、アドレスプログラム回路86内にプログラ
ムされる。アドレスプログラム回路86は、図示しない
一致検出回路を備えており、外部から与えられた列アド
レス信号CAとプログラムされたアドレス信号との一致
が検出される。一致検出信号COは、I/Oプログラム
回路87に与えられる。
の欠陥が存在することが発見されたとき、その欠陥メモ
リセル列は、次のようにスペアメモリセル列81と機能
的に置換えられる。欠陥メモリセル列の位置を示す欠陥
アドレスは、ヒューズ(図示せず)を選択的に切断する
ことにより、アドレスプログラム回路86内にプログラ
ムされる。アドレスプログラム回路86は、図示しない
一致検出回路を備えており、外部から与えられた列アド
レス信号CAとプログラムされたアドレス信号との一致
が検出される。一致検出信号COは、I/Oプログラム
回路87に与えられる。
【0006】I/Oプログラム回路87内のヒューズ
(図示せず)は、予め選択的に切断されており、それに
よって、スペアメモリセル列81内のビット線がトラン
スミッションゲート回路TG2を介してライトドライバ
回路84および/またはセンスアンプ85に接続され
る。その結果、列アドレス信号CAがプログラムされた
アドレス信号と一致するとき、通常のメモリセルアレイ
80へのアクセスに代えて、スペアメモリセル列81へ
のアクセスが行なわれる。一方、このときトランスミッ
ションゲート回路TG1はオフされている。
(図示せず)は、予め選択的に切断されており、それに
よって、スペアメモリセル列81内のビット線がトラン
スミッションゲート回路TG2を介してライトドライバ
回路84および/またはセンスアンプ85に接続され
る。その結果、列アドレス信号CAがプログラムされた
アドレス信号と一致するとき、通常のメモリセルアレイ
80へのアクセスに代えて、スペアメモリセル列81へ
のアクセスが行なわれる。一方、このときトランスミッ
ションゲート回路TG1はオフされている。
【0007】図12では、説明の簡単化のために一つの
メモリセルアレイ80とその周辺回路82,83,…な
どが示されているが、一般に、従来のSRAMは、複数
のメモリセルアレイおよびその周辺回路を備えている。
すなわち、図12では1つのブロックのメモリセルアレ
イおよびその周辺回路だけが示されているが、実際に
は、複数の、たとえば64個のブロックが設けられてい
る。
メモリセルアレイ80とその周辺回路82,83,…な
どが示されているが、一般に、従来のSRAMは、複数
のメモリセルアレイおよびその周辺回路を備えている。
すなわち、図12では1つのブロックのメモリセルアレ
イおよびその周辺回路だけが示されているが、実際に
は、複数の、たとえば64個のブロックが設けられてい
る。
【0008】図12からわかるように、1つのメモリセ
ルアレイ80ごとに1本または2本のスペアメモリセル
列(または行)が設けられるので、複数の(たとえば6
4個の)メモリセルアレイを備えたSRAMは、64本
または128本のスペアメモリセル列(または行)を備
えていることになる。
ルアレイ80ごとに1本または2本のスペアメモリセル
列(または行)が設けられるので、複数の(たとえば6
4個の)メモリセルアレイを備えたSRAMは、64本
または128本のスペアメモリセル列(または行)を備
えていることになる。
【0009】上記のように、スペアメモリセル列を用い
て欠陥を含むSRAMが救済された後、半導体メモリの
製造工場において、次のような出荷前テストが行なわれ
る。まず、外部からテストモード信号がSRAMに与え
られ、SRAMがテストモードにもたらされる。テスト
モードにおいて、SRAM内の2つのメモリセルアレイ
にテストデータが書込まれる。次に、書込まれたテスト
データ、すなわち2つのメモリセルアレイからストアさ
れた2つのデータが読出される。2つの読出されたデー
タは、比較回路に与えられ、比較回路は2つの読出され
たデータが一致するか否かを検出する。2つの読出され
たデータが一致するとき、SRAM内の欠陥が救済され
ていることがわかる。他方、一致が検出されないとき、
SRAM内にさらなる欠陥が含まれていることになる。
その場合、さらなる欠陥を救済するため、さらに対策が
施される。
て欠陥を含むSRAMが救済された後、半導体メモリの
製造工場において、次のような出荷前テストが行なわれ
る。まず、外部からテストモード信号がSRAMに与え
られ、SRAMがテストモードにもたらされる。テスト
モードにおいて、SRAM内の2つのメモリセルアレイ
にテストデータが書込まれる。次に、書込まれたテスト
データ、すなわち2つのメモリセルアレイからストアさ
れた2つのデータが読出される。2つの読出されたデー
タは、比較回路に与えられ、比較回路は2つの読出され
たデータが一致するか否かを検出する。2つの読出され
たデータが一致するとき、SRAM内の欠陥が救済され
ていることがわかる。他方、一致が検出されないとき、
SRAM内にさらなる欠陥が含まれていることになる。
その場合、さらなる欠陥を救済するため、さらに対策が
施される。
【0010】一般に、比較回路は、複数ビット(たとえ
ば8ビット)を有する2つのデータを比較することがで
きる。すなわち、比較回路は、2つの読出されたデータ
の対応するビット間での一致を検出することができる。
したがって、1回の一致検出動作で複数個のメモリセル
における欠陥の有無がわかるので、出荷前の確認テスト
を短時間で終了することができる。
ば8ビット)を有する2つのデータを比較することがで
きる。すなわち、比較回路は、2つの読出されたデータ
の対応するビット間での一致を検出することができる。
したがって、1回の一致検出動作で複数個のメモリセル
における欠陥の有無がわかるので、出荷前の確認テスト
を短時間で終了することができる。
【0011】図13は、図12に示したトランスミッシ
ョンゲート回路TG1およびTG2の回路図である。図
13を参照して、トランスミッションゲート回路TG1
は、通常のメモリセルアレイ内のビット線対BLa,B
Lbとデータ線対DLa,DLbとの間に接続される。
一方、トランスミッションゲート回路TG2は、スペア
メモリセル列内のビット線対RBLa,RBLbとデー
タ線対DLa,DLbとの間に接続される。トランスミ
ッションゲート回路TG1は、列デコーダ(図示せず)
から与えられる高レベルの列選択信号YL に応答してオ
ンするので、ビット線対BLa,BLbとデータ線対D
La,DLbとが電気的に接続される。NMOSトラン
ジスタ89のゲートに電源電位Vccが与えられるので
トランジスタ89がオンするが、トランジスタ89は高
いオン抵抗を有しているので、列選択信号YL の電位は
影響されない。したがって、高レベルの列選択信号YL
は、ヒューズ88を介して正しくトランスミッションゲ
ート回路TG1に与えられる。
ョンゲート回路TG1およびTG2の回路図である。図
13を参照して、トランスミッションゲート回路TG1
は、通常のメモリセルアレイ内のビット線対BLa,B
Lbとデータ線対DLa,DLbとの間に接続される。
一方、トランスミッションゲート回路TG2は、スペア
メモリセル列内のビット線対RBLa,RBLbとデー
タ線対DLa,DLbとの間に接続される。トランスミ
ッションゲート回路TG1は、列デコーダ(図示せず)
から与えられる高レベルの列選択信号YL に応答してオ
ンするので、ビット線対BLa,BLbとデータ線対D
La,DLbとが電気的に接続される。NMOSトラン
ジスタ89のゲートに電源電位Vccが与えられるので
トランジスタ89がオンするが、トランジスタ89は高
いオン抵抗を有しているので、列選択信号YL の電位は
影響されない。したがって、高レベルの列選択信号YL
は、ヒューズ88を介して正しくトランスミッションゲ
ート回路TG1に与えられる。
【0012】もし、メモリセルMC1に欠陥があると、
ヒューズ88が切断される。したがって、トランスミッ
ションゲート回路TG1に、トランジスタ89を介して
接地電位が与えられるので、トランスミッションゲート
回路TG1がオフする。一方、メモリセルMC1が存在
する列を選択する列アドレス信号が与えられたとき、I
/Oプログラム回路87を介して高レベルの信号RYが
トランスミッションゲート回路TG2に与えられる。し
たがって、トランスミッションゲート回路TG2がオン
するので、その結果、メモリセルMC1が存在する列と
スペアメモリセル列81とが機能的に置換えられたこと
になる。
ヒューズ88が切断される。したがって、トランスミッ
ションゲート回路TG1に、トランジスタ89を介して
接地電位が与えられるので、トランスミッションゲート
回路TG1がオフする。一方、メモリセルMC1が存在
する列を選択する列アドレス信号が与えられたとき、I
/Oプログラム回路87を介して高レベルの信号RYが
トランスミッションゲート回路TG2に与えられる。し
たがって、トランスミッションゲート回路TG2がオン
するので、その結果、メモリセルMC1が存在する列と
スペアメモリセル列81とが機能的に置換えられたこと
になる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
半導体メモリは、複数のメモリセルアレイと、各メモリ
セルアレイに対応して設けられた1本または2本のスペ
アメモリセル列とを備えている。したがって、たとえ
ば、64個のメモリセルアレイを備えたSRAMは、6
4本または128本の欠陥メモリセル列または行を救済
する能力を有しているのであるが、しかしながら、実際
には、それほど多くの救済能力が必要ではない。すなわ
ち、半導体メモリにおいて、経験的にそんなに多くの欠
陥が存在することは有り得ない。たとえば、上記のSR
AMでは、せいぜい10個以下の欠陥が存在し得ること
が経験上認められる。言い換えると、従来の半導体メモ
リは、実際には必要ではないにもかかわらず、過剰なス
ペアメモリ列または行を備えていたことになる。その結
果、半導体メモリの高集積化が妨げられていた。
半導体メモリは、複数のメモリセルアレイと、各メモリ
セルアレイに対応して設けられた1本または2本のスペ
アメモリセル列とを備えている。したがって、たとえ
ば、64個のメモリセルアレイを備えたSRAMは、6
4本または128本の欠陥メモリセル列または行を救済
する能力を有しているのであるが、しかしながら、実際
には、それほど多くの救済能力が必要ではない。すなわ
ち、半導体メモリにおいて、経験的にそんなに多くの欠
陥が存在することは有り得ない。たとえば、上記のSR
AMでは、せいぜい10個以下の欠陥が存在し得ること
が経験上認められる。言い換えると、従来の半導体メモ
リは、実際には必要ではないにもかかわらず、過剰なス
ペアメモリ列または行を備えていたことになる。その結
果、半導体メモリの高集積化が妨げられていた。
【0014】これに加えて、従来のスペアメモリ列また
は行は、1つのメモリセルアレイごとに設けられている
ので、他のメモリセルアレイにおける列または行の救済
に使用することができなかった。言い換えると、2本を
超えるメモリセル列または行において欠陥が存在すると
き、1本または2本のスペアメモリセル列または行を用
いて救済することができず、したがって、この場合にお
ける救済が不可能であった。
は行は、1つのメモリセルアレイごとに設けられている
ので、他のメモリセルアレイにおける列または行の救済
に使用することができなかった。言い換えると、2本を
超えるメモリセル列または行において欠陥が存在すると
き、1本または2本のスペアメモリセル列または行を用
いて救済することができず、したがって、この場合にお
ける救済が不可能であった。
【0015】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、複数のメモリセルアレイを備え
た半導体メモリ装置において、欠陥を含んでいるメモリ
セルアレイを高集積化の観点から効率よく救済すること
を目的とする。
ためになされたもので、複数のメモリセルアレイを備え
た半導体メモリ装置において、欠陥を含んでいるメモリ
セルアレイを高集積化の観点から効率よく救済すること
を目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体メ
モリ装置は、各々が行および列に配設されたメモリセル
を備えた複数のメモリセルアレイと、行および列に配設
された冗長メモリセルを備えた冗長メモリセルアレイ
と、複数のメモリセルアレイ内の欠陥箇所を示すための
欠陥アドレス信号を記憶する欠陥アドレス記憶手段と、
外部から与えられるアドレス信号と欠陥アドレス記憶手
段内に記憶された欠陥アドレス信号との一致を検出する
アドレス一致検出手段と、アドレス一致検出手段に応答
して、複数のメモリセルアレイの1つに代えて、冗長メ
モリセルアレイをアクセスする冗長アクセス手段と、外
部からテストモードが指定されたとき、複数のメモリセ
ルアレイおよび/または冗長メモリセルアレイから読出
された2つのデータを比較するデータ比較手段とを含
む。
モリ装置は、各々が行および列に配設されたメモリセル
を備えた複数のメモリセルアレイと、行および列に配設
された冗長メモリセルを備えた冗長メモリセルアレイ
と、複数のメモリセルアレイ内の欠陥箇所を示すための
欠陥アドレス信号を記憶する欠陥アドレス記憶手段と、
外部から与えられるアドレス信号と欠陥アドレス記憶手
段内に記憶された欠陥アドレス信号との一致を検出する
アドレス一致検出手段と、アドレス一致検出手段に応答
して、複数のメモリセルアレイの1つに代えて、冗長メ
モリセルアレイをアクセスする冗長アクセス手段と、外
部からテストモードが指定されたとき、複数のメモリセ
ルアレイおよび/または冗長メモリセルアレイから読出
された2つのデータを比較するデータ比較手段とを含
む。
【0017】
【作用】この発明における半導体メモリ装置では、冗長
メモリセルアレイが設けられており、外部から複数のメ
モリセルアレイ内の欠陥箇所へのアクセスが要求された
とき、冗長アクセス手段が冗長メモリセルアレイをアク
セスする。したがって、冗長メモリセルアレイを用い
て、欠陥を含んでいるメモリセルアレイを高集積化の観
点から効率よく救済することができる。これに加えて、
データ比較手段が設けられているので、上記の構成を備
えた半導体メモリ装置において、欠陥の存在の有無が短
時間で検出できる。
メモリセルアレイが設けられており、外部から複数のメ
モリセルアレイ内の欠陥箇所へのアクセスが要求された
とき、冗長アクセス手段が冗長メモリセルアレイをアク
セスする。したがって、冗長メモリセルアレイを用い
て、欠陥を含んでいるメモリセルアレイを高集積化の観
点から効率よく救済することができる。これに加えて、
データ比較手段が設けられているので、上記の構成を備
えた半導体メモリ装置において、欠陥の存在の有無が短
時間で検出できる。
【0018】
【実施例】図1は、この発明の一実施例を示すSRAM
のブロック図である。図1を参照して、SRAM200
は、各々がメモリセルアレイを含む合計64個のブロッ
クと、冗長メモリセルアレイ1を含む1つの冗長ブロッ
クRBとを含む。説明を簡単化するために、図1では、
4つのブロックBL1ないしBL4が示されている。
のブロック図である。図1を参照して、SRAM200
は、各々がメモリセルアレイを含む合計64個のブロッ
クと、冗長メモリセルアレイ1を含む1つの冗長ブロッ
クRBとを含む。説明を簡単化するために、図1では、
4つのブロックBL1ないしBL4が示されている。
【0019】64個のブロックのうちの1つ、たとえば
ブロックBL3は、8つのエリアに分割されたメモリセ
ルアレイと、行デコーダと、列デコーダと、8つのセン
スアンプ(図示せず)を備えたセンスアンプ回路と、ラ
イトドライバ回路(WD)とを備える。各ブロックにお
いて、メモリセルアレイとその周辺のアクセス回路の基
本的な回路構成は従来のSRAMと同様であるが、各ブ
ロック内にはスペアメモリセル列または行が設けられて
いない。
ブロックBL3は、8つのエリアに分割されたメモリセ
ルアレイと、行デコーダと、列デコーダと、8つのセン
スアンプ(図示せず)を備えたセンスアンプ回路と、ラ
イトドライバ回路(WD)とを備える。各ブロックにお
いて、メモリセルアレイとその周辺のアクセス回路の基
本的な回路構成は従来のSRAMと同様であるが、各ブ
ロック内にはスペアメモリセル列または行が設けられて
いない。
【0020】冗長ブロックRBは、合計16の冗長メモ
リセル列を備えた冗長メモリセルアレイ1と、行デコー
ダ(RD)2と、冗長メモリセル列に選択的にアクセス
するためのスイッチング回路13とを含む。行デコーダ
2は、アドレスバス11を介して与えられる行アドレス
信号RAに応答して、冗長メモリセルアレイ内のワード
線(図示せず)を選択的に活性化させる。スイッチング
回路13は、アドレスプログラム回路3から与えられる
信号CO1ないしCO16のうちの活性化された1つに
応答して、冗長メモリセル列のうちの対応する1つをセ
ンスアンプ回路および/またはライトドライバ回路に接
続する。
リセル列を備えた冗長メモリセルアレイ1と、行デコー
ダ(RD)2と、冗長メモリセル列に選択的にアクセス
するためのスイッチング回路13とを含む。行デコーダ
2は、アドレスバス11を介して与えられる行アドレス
信号RAに応答して、冗長メモリセルアレイ内のワード
線(図示せず)を選択的に活性化させる。スイッチング
回路13は、アドレスプログラム回路3から与えられる
信号CO1ないしCO16のうちの活性化された1つに
応答して、冗長メモリセル列のうちの対応する1つをセ
ンスアンプ回路および/またはライトドライバ回路に接
続する。
【0021】出荷前のテストを行なうことにより、合計
64個のメモリセルアレイのどこかに欠陥が存在するか
否かが調べられる。あるメモリセルアレイの1つの列に
おいて欠陥が存在するとき、その欠陥メモリセル列の位
置を示すアドレス(以下「欠陥アドレス」という)がア
ドレスプログラム回路3においてプログラムされる。ア
ドレスプログラム回路3は、合計16個の欠陥アドレス
をプログラムすることができる。
64個のメモリセルアレイのどこかに欠陥が存在するか
否かが調べられる。あるメモリセルアレイの1つの列に
おいて欠陥が存在するとき、その欠陥メモリセル列の位
置を示すアドレス(以下「欠陥アドレス」という)がア
ドレスプログラム回路3においてプログラムされる。ア
ドレスプログラム回路3は、合計16個の欠陥アドレス
をプログラムすることができる。
【0022】外部から欠陥メモリセル列へのアクセスの
要求が生じたとき、アドレスプログラム回路3は、プロ
グラムされたアドレスと外部から与えられる列アドレス
との一致を検出し、一致検出信号(信号CO1ないしC
O16のうちの1つ)およびグループ選択信号GS1,
GS2をI/Oプログラム回路4に与える。
要求が生じたとき、アドレスプログラム回路3は、プロ
グラムされたアドレスと外部から与えられる列アドレス
との一致を検出し、一致検出信号(信号CO1ないしC
O16のうちの1つ)およびグループ選択信号GS1,
GS2をI/Oプログラム回路4に与える。
【0023】I/Oプログラム回路4は、アドレスプロ
グラム回路3から与えられる一致検出信号およびグルー
プ選択信号GS1,GS2に応答して、スイッチング制
御信号S11ないしS18およびS21ないしS28を
セレクタ5aおよび5bにそれぞれ与える。各セレクタ
5aおよび5bは、図示されていない8つのスイッチン
グ回路を備えており、これらのスイッチング回路がスイ
ッチング制御信号S11ないしS18またはS21ない
しS28に応答して選択的にオンし、それによって欠陥
メモリセル列へのアクセスに代えて冗長メモリセル列へ
のアクセスが行なわれる。
グラム回路3から与えられる一致検出信号およびグルー
プ選択信号GS1,GS2に応答して、スイッチング制
御信号S11ないしS18およびS21ないしS28を
セレクタ5aおよび5bにそれぞれ与える。各セレクタ
5aおよび5bは、図示されていない8つのスイッチン
グ回路を備えており、これらのスイッチング回路がスイ
ッチング制御信号S11ないしS18またはS21ない
しS28に応答して選択的にオンし、それによって欠陥
メモリセル列へのアクセスに代えて冗長メモリセル列へ
のアクセスが行なわれる。
【0024】テストモード検出回路8は、外部から与え
られる「スーパーVCC」と呼ばれる高電圧(たとえば
電源電圧が5ボルトのとき、約7ボルト)HVの印加を
検出し、外部からのテストモードの指定を認識しかつテ
ストモード信号TMを出力する。セレクタ回路5aおよ
び5bは、テストモード信号TMが与えられないとき、
メモリセルアレイから読出されたデータを出力バッファ
10に与える。出力バッファ10は、与えられたデータ
を出力データDoとして出力する。他方、セレクタ回路
5aおよび5bは、テストモード信号TMが与えられた
とき、メモリセルアレイから読出されたデータを比較回
路6に与える。比較回路6は、テストモード信号TMに
応答して、セレクタ回路5aおよび5bから与えられる
2つのデータが一致するか否かを検出する。検出結果を
示す信号は、出力バッファ10を介して外部に出力され
る。比較回路6が一致検出信号を出力するとき、2つの
読出されたデータをストアしていたメモリセル列におい
て欠陥が存在しなかったことがわかる。比較回路6が不
一致を示す信号を出力したとき、2つの読出されたデー
タをストアしていたメモリセル列において欠陥が存在す
ることがわかる。
られる「スーパーVCC」と呼ばれる高電圧(たとえば
電源電圧が5ボルトのとき、約7ボルト)HVの印加を
検出し、外部からのテストモードの指定を認識しかつテ
ストモード信号TMを出力する。セレクタ回路5aおよ
び5bは、テストモード信号TMが与えられないとき、
メモリセルアレイから読出されたデータを出力バッファ
10に与える。出力バッファ10は、与えられたデータ
を出力データDoとして出力する。他方、セレクタ回路
5aおよび5bは、テストモード信号TMが与えられた
とき、メモリセルアレイから読出されたデータを比較回
路6に与える。比較回路6は、テストモード信号TMに
応答して、セレクタ回路5aおよび5bから与えられる
2つのデータが一致するか否かを検出する。検出結果を
示す信号は、出力バッファ10を介して外部に出力され
る。比較回路6が一致検出信号を出力するとき、2つの
読出されたデータをストアしていたメモリセル列におい
て欠陥が存在しなかったことがわかる。比較回路6が不
一致を示す信号を出力したとき、2つの読出されたデー
タをストアしていたメモリセル列において欠陥が存在す
ることがわかる。
【0025】入力バッファ9は、書込まれるべき入力デ
ータDiを外部から受け、その入力データDiをライト
ドライバ回路(WD)に与える。したがって、入力デー
タDiは、行デコーダおよび列デコーダにより指定され
たメモリセルに書込まれる。
ータDiを外部から受け、その入力データDiをライト
ドライバ回路(WD)に与える。したがって、入力デー
タDiは、行デコーダおよび列デコーダにより指定され
たメモリセルに書込まれる。
【0026】以下の記載では、図1に示したSRAM2
00のより詳細を説明する。図2は、図1に示したアド
レスプログラム回路3のブロック図である。アドレスプ
ログラム回路3は、合計16個の回路ブロックを備えて
いるので、図2ではi番目の1つのブロック3iが示さ
れる。図2を参照して、アドレスプログラム回路ブロッ
ク3iは、欠陥アドレスをプログラムするためのヒュー
ズ回路31ないし39と、外部から与えられる列アドレ
スCA0ないしCA9とプログラムされた欠陥アドレス
との一致を検出するためのANDゲート301ないし3
05と、グループ選択信号GS1およびGS2を発生す
るためのグループ選択回路30iとを含む。各ヒューズ
回路31ないし39は、合計10ビットの列アドレス信
号CA0ないしCA9のうちの対応する2つを受ける。
00のより詳細を説明する。図2は、図1に示したアド
レスプログラム回路3のブロック図である。アドレスプ
ログラム回路3は、合計16個の回路ブロックを備えて
いるので、図2ではi番目の1つのブロック3iが示さ
れる。図2を参照して、アドレスプログラム回路ブロッ
ク3iは、欠陥アドレスをプログラムするためのヒュー
ズ回路31ないし39と、外部から与えられる列アドレ
スCA0ないしCA9とプログラムされた欠陥アドレス
との一致を検出するためのANDゲート301ないし3
05と、グループ選択信号GS1およびGS2を発生す
るためのグループ選択回路30iとを含む。各ヒューズ
回路31ないし39は、合計10ビットの列アドレス信
号CA0ないしCA9のうちの対応する2つを受ける。
【0027】図3を参照して、たとえばヒューズ回路3
1は、列アドレス信号CA0およびCA1をプリデコー
ドするためのANDゲート311ないし314と、プロ
グラミングのためのヒューズ315および316とを含
む。2つのヒューズ315および316を選択的に切断
することにより、2ビットの欠陥アドレス信号をプログ
ラムすることができる。ヒューズ315および316が
接続されているとき、インバータ317および318は
高レベルの電圧をそれぞれ出力する。他方、ヒューズ3
15および316が切断されているとき、インバータ3
17および318は低レベルの電圧を出力する。AND
ゲート311は、高レベルの列アドレス信号CA0およ
びCA1が与えられたとき、高レベルの電圧を出力す
る。ANDゲート312は、高レベルの信号CA0と低
レベルの信号CA1が与えられたとき、高レベルの電圧
を出力する。
1は、列アドレス信号CA0およびCA1をプリデコー
ドするためのANDゲート311ないし314と、プロ
グラミングのためのヒューズ315および316とを含
む。2つのヒューズ315および316を選択的に切断
することにより、2ビットの欠陥アドレス信号をプログ
ラムすることができる。ヒューズ315および316が
接続されているとき、インバータ317および318は
高レベルの電圧をそれぞれ出力する。他方、ヒューズ3
15および316が切断されているとき、インバータ3
17および318は低レベルの電圧を出力する。AND
ゲート311は、高レベルの列アドレス信号CA0およ
びCA1が与えられたとき、高レベルの電圧を出力す
る。ANDゲート312は、高レベルの信号CA0と低
レベルの信号CA1が与えられたとき、高レベルの電圧
を出力する。
【0028】ANDゲート313は、低レベルの信号C
A0と高レベルの信号CA1とが与えられたとき、高レ
ベルの電圧を出力する。ANDゲート314は、高レベ
ルの信号CA0およびCA1が与えられたとき、高レベ
ルの電圧を出力する。
A0と高レベルの信号CA1とが与えられたとき、高レ
ベルの電圧を出力する。ANDゲート314は、高レベ
ルの信号CA0およびCA1が与えられたとき、高レベ
ルの電圧を出力する。
【0029】したがって、たとえばヒューズ315およ
び316が接続されている場合では、トランスミッショ
ンゲート319および318がオンする。この場合に、
高レベルの列アドレス信号CA0およびCA1が与えら
れたとき、ANDゲート311がトランスミッションゲ
ート319および318を介して高レベルの信号C01を
出力する。言い換えると、ヒューズ315および316
の“接続”によってプログラムされた2ビットの欠陥ア
ドレスと列アドレスCA0およびCA1とが一致したと
きのみ、ヒューズ回路31は高レベルの信号C01を出力
する。信号C01は図2に示したANDゲート301に与
えられる。
び316が接続されている場合では、トランスミッショ
ンゲート319および318がオンする。この場合に、
高レベルの列アドレス信号CA0およびCA1が与えら
れたとき、ANDゲート311がトランスミッションゲ
ート319および318を介して高レベルの信号C01を
出力する。言い換えると、ヒューズ315および316
の“接続”によってプログラムされた2ビットの欠陥ア
ドレスと列アドレスCA0およびCA1とが一致したと
きのみ、ヒューズ回路31は高レベルの信号C01を出力
する。信号C01は図2に示したANDゲート301に与
えられる。
【0030】その結果、図2に示したi番目のアドレス
プログラム回路ブロック3iは、プログラムされた10
ビットの欠陥アドレスと外部から与えられた列アドレス
CA0ないしCA9とが一致したときのみ、高レベルの
アドレス一致検出信号COiを出力する。一方、グルー
プ選択回路30iは図4において示される。
プログラム回路ブロック3iは、プログラムされた10
ビットの欠陥アドレスと外部から与えられた列アドレス
CA0ないしCA9とが一致したときのみ、高レベルの
アドレス一致検出信号COiを出力する。一方、グルー
プ選択回路30iは図4において示される。
【0031】図4を参照して、グループ選択回路30i
は、プログラミングのためのヒューズ320と、NAN
Dゲート321および322と、トランスミッションゲ
ート323および324と、NORゲート325および
326とを含む。NORゲート325は、他のアドレス
プログラム回路(図示せず)から出力されるアドレス一
致検出信号CO1ないしCO16を受ける。NORゲー
ト326は、NORゲート325の出力信号と信号CO
iとを受ける。
は、プログラミングのためのヒューズ320と、NAN
Dゲート321および322と、トランスミッションゲ
ート323および324と、NORゲート325および
326とを含む。NORゲート325は、他のアドレス
プログラム回路(図示せず)から出力されるアドレス一
致検出信号CO1ないしCO16を受ける。NORゲー
ト326は、NORゲート325の出力信号と信号CO
iとを受ける。
【0032】動作において、ヒューズ320が切断され
ているとき、NANDゲート321および322は低レ
ベルの電圧および高レベルの電圧をそれぞれ受ける。し
たがって、NANDゲート321は高レベルの電圧を出
力する。一方、NANDゲート322はインバータとし
て働く。これとは逆に、ヒューズ320が接続されてい
るとき、NANDゲート321はインバータとして働
き、一方、NANDゲート322は高レベルの電圧を出
力する。
ているとき、NANDゲート321および322は低レ
ベルの電圧および高レベルの電圧をそれぞれ受ける。し
たがって、NANDゲート321は高レベルの電圧を出
力する。一方、NANDゲート322はインバータとし
て働く。これとは逆に、ヒューズ320が接続されてい
るとき、NANDゲート321はインバータとして働
き、一方、NANDゲート322は高レベルの電圧を出
力する。
【0033】プログラムされた欠陥アドレスのいずれか
について一致が検出されたとき、NORゲート325は
低レベルの電圧を出力する。他方、すべてのプログラム
された欠陥アドレスについて一致が検出されないとき、
NORゲート325は高レベルの電圧を出力する。NO
Rゲート326は、すべてのプログラムされた欠陥アド
レスについて一致が検出されないとき、低レベルの電圧
を出力する。したがって、トランスミッションゲート3
23および324はオンするので、NANDゲート32
1および322の出力電圧がグループ選択信号GS1お
よびGS2として出力される。
について一致が検出されたとき、NORゲート325は
低レベルの電圧を出力する。他方、すべてのプログラム
された欠陥アドレスについて一致が検出されないとき、
NORゲート325は高レベルの電圧を出力する。NO
Rゲート326は、すべてのプログラムされた欠陥アド
レスについて一致が検出されないとき、低レベルの電圧
を出力する。したがって、トランスミッションゲート3
23および324はオンするので、NANDゲート32
1および322の出力電圧がグループ選択信号GS1お
よびGS2として出力される。
【0034】すべてのプログラムされた欠陥アドレスの
いずれかについて一致が検出され、かつその一致がi番
目のアドレスプログラム回路ブロック3i内で生じてい
ないとき、NORゲート326が高レベルの電圧を出力
する。したがって、2つのトランスミッションゲート3
23および324はオフするので、グループ選択信号G
S1およびGS2は出力されない。
いずれかについて一致が検出され、かつその一致がi番
目のアドレスプログラム回路ブロック3i内で生じてい
ないとき、NORゲート326が高レベルの電圧を出力
する。したがって、2つのトランスミッションゲート3
23および324はオフするので、グループ選択信号G
S1およびGS2は出力されない。
【0035】i番目のアドレスプログラム回路ブロック
3iにおいて一致が検出されたとき、NORゲート32
6は低レベルの電圧を出力する。したがって、トランス
ミッションゲート323および324がオンする。高レ
ベルのアドレス一致検出信号COiは、NANDゲート
321および322に与えられるので、NANDゲート
321および322のうちのインバータとして働く一方
が低レベルの電圧を出力する。その結果、ヒューズ32
0の接続状態に従って、互いに反転された電圧レベルの
グループ選択信号GS1およびGS2が出力される。
3iにおいて一致が検出されたとき、NORゲート32
6は低レベルの電圧を出力する。したがって、トランス
ミッションゲート323および324がオンする。高レ
ベルのアドレス一致検出信号COiは、NANDゲート
321および322に与えられるので、NANDゲート
321および322のうちのインバータとして働く一方
が低レベルの電圧を出力する。その結果、ヒューズ32
0の接続状態に従って、互いに反転された電圧レベルの
グループ選択信号GS1およびGS2が出力される。
【0036】図5は、図1に示した冗長メモリセルアレ
イ1およびスイッチング回路13の回路図である。図5
を参照して、冗長メモリセルアレイ1は、行および列に
配設されたメモリセルMCを含む。冗長メモリセルアレ
イ1は、合計16本の冗長メモリセル列RCL1ないし
RCL16を備えている。ワード線WL1およびWL2
は、図1に示した行デコーダ2により選択的に活性化さ
れる。
イ1およびスイッチング回路13の回路図である。図5
を参照して、冗長メモリセルアレイ1は、行および列に
配設されたメモリセルMCを含む。冗長メモリセルアレ
イ1は、合計16本の冗長メモリセル列RCL1ないし
RCL16を備えている。ワード線WL1およびWL2
は、図1に示した行デコーダ2により選択的に活性化さ
れる。
【0037】スイッチング回路13は、各々が対応する
1つの冗長メモリセル列に接続されたトランスミッショ
ンゲート回路701ないし716を備える。各トランス
ミッションゲート回路701ないし716は、アドレス
プログラム回路3から与えられるアドレス一致検出信号
CO1ないしCO16のうちの対応する1つに応答して
オンする。たとえば、トランスミッションゲート回路7
01は、高レベルのアドレス一致検出信号CO1に応答
してオンするので、冗長メモリセル列RCL1内のビッ
ト線対BLa,BLbがデータ線対DLa,DLbに接
続される。すなわち、アドレスプログラム回路3におい
てプログラムされた欠陥アドレスと一致する列アドレス
信号が外部から与えられたとき、トランスミッションゲ
ート回路701ないし716のうちの1つがアドレス一
致検出信号CO1ないしCO16に応答してオンするの
で、冗長メモリセル列RCL1ないしRCL16のうち
の1本がアクセスされることになる。
1つの冗長メモリセル列に接続されたトランスミッショ
ンゲート回路701ないし716を備える。各トランス
ミッションゲート回路701ないし716は、アドレス
プログラム回路3から与えられるアドレス一致検出信号
CO1ないしCO16のうちの対応する1つに応答して
オンする。たとえば、トランスミッションゲート回路7
01は、高レベルのアドレス一致検出信号CO1に応答
してオンするので、冗長メモリセル列RCL1内のビッ
ト線対BLa,BLbがデータ線対DLa,DLbに接
続される。すなわち、アドレスプログラム回路3におい
てプログラムされた欠陥アドレスと一致する列アドレス
信号が外部から与えられたとき、トランスミッションゲ
ート回路701ないし716のうちの1つがアドレス一
致検出信号CO1ないしCO16に応答してオンするの
で、冗長メモリセル列RCL1ないしRCL16のうち
の1本がアクセスされることになる。
【0038】以下の記載では、図1に示したI/Oプロ
グラム回路4について説明する。I/Oプログラム回路
4は、16個のアドレスプログラム回路ブロックに対応
して設けられた16個の欠陥列指定回路4a1 ないし4
a16と、欠陥列コードのためのデコード回路4bと、ス
イッチング制御信号分配回路4cおよび4dとを含む。
外部から与えられる1つの列アドレス信号により、1つ
のメモリセルアレイ内の8つの列が同時にアクセスされ
得るので、I/Oプログラム回路4により、アクセスさ
れるべきでない欠陥メモリセル列をプログラムする必要
がある。言い換えると、欠陥メモリセル列から誤ったデ
ータが読出されるかもしれないので、欠陥メモリセル列
から読出されたデータの代わりに冗長メモリセル列から
読出されたデータを出力する必要がある。1つの欠陥ア
ドレスにおいてアクセスされ得る8つの列のうち、欠陥
が存在する列の指定またはプログラムが欠陥列指定回路
4a1 ないし4a16内のヒューズを選択的に切断するこ
とにより行なわれる。
グラム回路4について説明する。I/Oプログラム回路
4は、16個のアドレスプログラム回路ブロックに対応
して設けられた16個の欠陥列指定回路4a1 ないし4
a16と、欠陥列コードのためのデコード回路4bと、ス
イッチング制御信号分配回路4cおよび4dとを含む。
外部から与えられる1つの列アドレス信号により、1つ
のメモリセルアレイ内の8つの列が同時にアクセスされ
得るので、I/Oプログラム回路4により、アクセスさ
れるべきでない欠陥メモリセル列をプログラムする必要
がある。言い換えると、欠陥メモリセル列から誤ったデ
ータが読出されるかもしれないので、欠陥メモリセル列
から読出されたデータの代わりに冗長メモリセル列から
読出されたデータを出力する必要がある。1つの欠陥ア
ドレスにおいてアクセスされ得る8つの列のうち、欠陥
が存在する列の指定またはプログラムが欠陥列指定回路
4a1 ないし4a16内のヒューズを選択的に切断するこ
とにより行なわれる。
【0039】図6を参照して、欠陥列指定回路4a1 な
いし4a16のうちのi番目の回路4aiが示される。欠
陥列指定回路4aiは、プログラミングのためのヒュー
ズ421ないし423と、NANDゲート424ないし
426と、トランスミッションゲート427ないし42
9と、NORゲート430および431とを含む。
いし4a16のうちのi番目の回路4aiが示される。欠
陥列指定回路4aiは、プログラミングのためのヒュー
ズ421ないし423と、NANDゲート424ないし
426と、トランスミッションゲート427ないし42
9と、NORゲート430および431とを含む。
【0040】動作において、アドレス一致検出信号CO
iが低レベルであるとき、NANDゲート424ないし
426はヒューズ421ないし423の接続状態に依存
することなく、常に高レベルの電圧を出力する。したが
って、トランスミッションゲート427ないし429が
オンしたとき、低レベルの欠陥列指定信号(または欠陥
列指定コード)DCL1ないしDCL3が出力される。
iが低レベルであるとき、NANDゲート424ないし
426はヒューズ421ないし423の接続状態に依存
することなく、常に高レベルの電圧を出力する。したが
って、トランスミッションゲート427ないし429が
オンしたとき、低レベルの欠陥列指定信号(または欠陥
列指定コード)DCL1ないしDCL3が出力される。
【0041】高レベルのアドレス一致検出信号COiが
与えられたとき、NANDゲート424ないし426は
ヒューズ421ないし423の接続状態に依存して信号
を出力する。たとえば、ヒューズ421が接続されてい
るとき、NANDゲート424が高レベルの電圧を受け
る。したがって、NANDゲート424は低レベルの信
号を出力するので、欠陥列指定信号DCL1は高レベル
を示す。他方、ヒューズ421が切断されているとき、
NANDゲート424は低レベルの信号を受ける。した
がって、NANDゲート424は高レベルの信号を出力
するので、信号DCL1は低レベルを示す。
与えられたとき、NANDゲート424ないし426は
ヒューズ421ないし423の接続状態に依存して信号
を出力する。たとえば、ヒューズ421が接続されてい
るとき、NANDゲート424が高レベルの電圧を受け
る。したがって、NANDゲート424は低レベルの信
号を出力するので、欠陥列指定信号DCL1は高レベル
を示す。他方、ヒューズ421が切断されているとき、
NANDゲート424は低レベルの信号を受ける。した
がって、NANDゲート424は高レベルの信号を出力
するので、信号DCL1は低レベルを示す。
【0042】以上をまとめると、対応するアドレスプロ
グラム回路ブロック3iにおいて一致が検出される場
合、すなわち高レベルの信号COiが与えられる場合で
は、各欠陥列指定信号DCL1ないしDCL3は、対応
するヒューズの接続または切断に応じて、高レベルまた
は低レベルをそれぞれ示す。一方、低レベルのアドレス
一致検出信号COiが与えられる場合では、すべて低レ
ベルの欠陥列指定信号DCL1ないしDCL3が出力さ
れる。言い換えると、3つのヒューズ421ないし42
3を選択的に切断することにより、1つの列アドレス信
号により指定され得る8つのメモリセル列のうちの1つ
を指定またはプログラムすることができる。
グラム回路ブロック3iにおいて一致が検出される場
合、すなわち高レベルの信号COiが与えられる場合で
は、各欠陥列指定信号DCL1ないしDCL3は、対応
するヒューズの接続または切断に応じて、高レベルまた
は低レベルをそれぞれ示す。一方、低レベルのアドレス
一致検出信号COiが与えられる場合では、すべて低レ
ベルの欠陥列指定信号DCL1ないしDCL3が出力さ
れる。言い換えると、3つのヒューズ421ないし42
3を選択的に切断することにより、1つの列アドレス信
号により指定され得る8つのメモリセル列のうちの1つ
を指定またはプログラムすることができる。
【0043】図6に示した3つのトランスミッションゲ
ート427ないし429は、次のように動作する。ま
ず、すべてのアドレス一致検出信号CO1ないしCO1
6が低レベルである場合では、NORゲート430は高
レベルの信号をNORゲート431に与える。したがっ
て、NORゲート431は低レベルの信号を出力するの
で、トランスミッションゲート427ないし429はオ
ンする。この場合では、アドレス一致検出信号COiが
低レベルであるので、トランスミッションゲート427
ないし429を介してすべて高レベルの欠陥列指定信号
DCL1ないしDCL3が出力される。
ート427ないし429は、次のように動作する。ま
ず、すべてのアドレス一致検出信号CO1ないしCO1
6が低レベルである場合では、NORゲート430は高
レベルの信号をNORゲート431に与える。したがっ
て、NORゲート431は低レベルの信号を出力するの
で、トランスミッションゲート427ないし429はオ
ンする。この場合では、アドレス一致検出信号COiが
低レベルであるので、トランスミッションゲート427
ないし429を介してすべて高レベルの欠陥列指定信号
DCL1ないしDCL3が出力される。
【0044】次に、信号COiが低レベルであるが、他
のアドレス一致検出信号CO1ないしCO16(ただし
COiを除く)の1つが高レベルである場合では、NO
Rゲート430が低レベルの信号をNORゲート431
に与える。したがって、NORゲート431は、2つの
低レベルの信号を受けるので、高レベルの信号を出力す
る。その結果、トランスミッションゲート427ないし
429はオフする。これにより、1つを超える欠陥列指
定回路から出力される欠陥列指定信号の衝突が防がれ
る。
のアドレス一致検出信号CO1ないしCO16(ただし
COiを除く)の1つが高レベルである場合では、NO
Rゲート430が低レベルの信号をNORゲート431
に与える。したがって、NORゲート431は、2つの
低レベルの信号を受けるので、高レベルの信号を出力す
る。その結果、トランスミッションゲート427ないし
429はオフする。これにより、1つを超える欠陥列指
定回路から出力される欠陥列指定信号の衝突が防がれ
る。
【0045】高レベルのアドレス一致検出信号COiが
与えられたとき、NORゲート431は低レベルの信号
を出力する。したがって、トランスミッションゲート4
27ないし429がオンするので、ヒューズ421ない
し423の接続状態によって決定される欠陥列指定信号
DCL1ないしDCL3が出力される。
与えられたとき、NORゲート431は低レベルの信号
を出力する。したがって、トランスミッションゲート4
27ないし429がオンするので、ヒューズ421ない
し423の接続状態によって決定される欠陥列指定信号
DCL1ないしDCL3が出力される。
【0046】図7は、図1に示したI/Oプログラム回
路4内に設けられた欠陥列指定コード用デコード回路4
bの回路図である。図7を参照して、デコード回路4b
は、16個の欠陥列指定回路4a1 ないし4a16の出力
に接続される。欠陥列指定回路4a1 ないし4a16のい
ずれか1つが、アドレス一致検出信号CO1ないしCO
16に応答して欠陥列指定コードDCL1ないしDCL
3を出力する。
路4内に設けられた欠陥列指定コード用デコード回路4
bの回路図である。図7を参照して、デコード回路4b
は、16個の欠陥列指定回路4a1 ないし4a16の出力
に接続される。欠陥列指定回路4a1 ないし4a16のい
ずれか1つが、アドレス一致検出信号CO1ないしCO
16に応答して欠陥列指定コードDCL1ないしDCL
3を出力する。
【0047】デコード回路4bは、デコードのためのN
ANDゲート441ないし448と、NORゲート44
9および450とを含む。すべてのアドレス一致検出信
号CO1ないしCO16が低レベルであるとき、欠陥列
指定信号DCL1ないしDCL3は低レベルである。し
たがって、デコード回路4bはすべて低レベルのスイッ
チング制御信号S1ないしS8を出力する。
ANDゲート441ないし448と、NORゲート44
9および450とを含む。すべてのアドレス一致検出信
号CO1ないしCO16が低レベルであるとき、欠陥列
指定信号DCL1ないしDCL3は低レベルである。し
たがって、デコード回路4bはすべて低レベルのスイッ
チング制御信号S1ないしS8を出力する。
【0048】アドレス一致検出信号CO1ないしCO1
6のうちの1つが高レベルであるとき、欠陥列指定回路
4a1 ないし4a16のうちの1つが欠陥列指定コードD
CL1ないしDCL3を出力する。欠陥列指定コードD
CL1ないしDCL3は、NANDゲート441ないし
448によりデコードされ、スイッチング制御信号S1
ないしS8のうちの1つが低レベルになる。スイッチン
グ制御信号S1ないしS8は、図8に示した分配回路4
cおよび4dに与えられる。
6のうちの1つが高レベルであるとき、欠陥列指定回路
4a1 ないし4a16のうちの1つが欠陥列指定コードD
CL1ないしDCL3を出力する。欠陥列指定コードD
CL1ないしDCL3は、NANDゲート441ないし
448によりデコードされ、スイッチング制御信号S1
ないしS8のうちの1つが低レベルになる。スイッチン
グ制御信号S1ないしS8は、図8に示した分配回路4
cおよび4dに与えられる。
【0049】図8を参照して、スイッチング制御信号分
配回路4cは、各々が2入力を有するNORゲート45
1ないし458を含む。各NORゲート451ないし4
58の一方入力は、アドレスプログラム回路3から与え
られるグループ選択信号GS1を受ける。各NORゲー
ト451ないし458の他方入力は、対応するスイッチ
ング制御信号S1ないしS8を受ける。スイッチング制
御信号分配回路4dも、回路4cと同じ回路構成を有す
る。分配回路4dは、グループ選択信号GS2に応答し
て制御される。
配回路4cは、各々が2入力を有するNORゲート45
1ないし458を含む。各NORゲート451ないし4
58の一方入力は、アドレスプログラム回路3から与え
られるグループ選択信号GS1を受ける。各NORゲー
ト451ないし458の他方入力は、対応するスイッチ
ング制御信号S1ないしS8を受ける。スイッチング制
御信号分配回路4dも、回路4cと同じ回路構成を有す
る。分配回路4dは、グループ選択信号GS2に応答し
て制御される。
【0050】グループ1が選択されるとき、すなわち低
レベルの信号GS1が与えられたとき、NORゲート4
51ないし458は入力信号S1ないしS8の反転信号
S11ないしS18をセレクタ回路5aに与える。すな
わち、分配回路4cは、1つの高レベル信号を含むスイ
ッチング制御信号S11ないしS18をセレクタ回路5
aに与える。このとき、分配回路4dは、高レベルのグ
ループ選択信号GS2に応答して、すべて低レベルの信
号S21ないしS28をセレクタ回路5bに与える。し
たがって、上記の例では、セレクタ回路5aにおいての
み欠陥メモリセル列を救済するためのスイッチングが行
なわれる。
レベルの信号GS1が与えられたとき、NORゲート4
51ないし458は入力信号S1ないしS8の反転信号
S11ないしS18をセレクタ回路5aに与える。すな
わち、分配回路4cは、1つの高レベル信号を含むスイ
ッチング制御信号S11ないしS18をセレクタ回路5
aに与える。このとき、分配回路4dは、高レベルのグ
ループ選択信号GS2に応答して、すべて低レベルの信
号S21ないしS28をセレクタ回路5bに与える。し
たがって、上記の例では、セレクタ回路5aにおいての
み欠陥メモリセル列を救済するためのスイッチングが行
なわれる。
【0051】図9は、図1に示したセレクタ回路5aの
回路ブロック図である。セレクタ回路5bもセレクタ回
路5aと同様の回路構成を有する。図9を参照して、セ
レクタ回路5aは、各々が2つのスイッチング素子を有
するスイッチング回路SL1ないしSL8を備える。た
とえば、1つのスイッチング回路SL1は、スイッチン
グ制御信号S11に応答して制御されるスイッチング素
子SW11と、テストモード信号TMに応答して制御さ
れるスイッチング素子SW21とを含む。スイッチング
回路SL1ないしSL8内に設けられた各スイッチング
素子SW11ないしSW18は、スイッチング制御信号
S11ないしS18のうちの対応する信号に応答して個
々に制御される。スイッチング回路SL1ないしSL8
内に設けられたスイッチング素子SW21ないしSW2
8は、テストモード信号TMに応答して制御される。
回路ブロック図である。セレクタ回路5bもセレクタ回
路5aと同様の回路構成を有する。図9を参照して、セ
レクタ回路5aは、各々が2つのスイッチング素子を有
するスイッチング回路SL1ないしSL8を備える。た
とえば、1つのスイッチング回路SL1は、スイッチン
グ制御信号S11に応答して制御されるスイッチング素
子SW11と、テストモード信号TMに応答して制御さ
れるスイッチング素子SW21とを含む。スイッチング
回路SL1ないしSL8内に設けられた各スイッチング
素子SW11ないしSW18は、スイッチング制御信号
S11ないしS18のうちの対応する信号に応答して個
々に制御される。スイッチング回路SL1ないしSL8
内に設けられたスイッチング素子SW21ないしSW2
8は、テストモード信号TMに応答して制御される。
【0052】スイッチング素子SW11ないしSW18
の第1端子は、通常のメモリセルアレイから読出された
データ信号D1ないしD8をそれぞれ受ける。スイッチ
ング素子SW11ないしSW18の第2端子は、冗長メ
モリセルアレイから読出されたデータDRを受ける。ス
イッチング素子SW21ないしSW28の第1端子は出
力バッファ10に接続される。スイッチング素子SW2
1ないしSW28の第2端子は比較回路6に接続され
る。
の第1端子は、通常のメモリセルアレイから読出された
データ信号D1ないしD8をそれぞれ受ける。スイッチ
ング素子SW11ないしSW18の第2端子は、冗長メ
モリセルアレイから読出されたデータDRを受ける。ス
イッチング素子SW21ないしSW28の第1端子は出
力バッファ10に接続される。スイッチング素子SW2
1ないしSW28の第2端子は比較回路6に接続され
る。
【0053】動作において、たとえば、スイッチング制
御信号S11ないしS18のうちの信号S11のみが高
レベルであるとき、スイッチング素子SW11は冗長メ
モリセルアレイ側に接続される。したがって、冗長メモ
リセルアレイから読出されたデータDRがデータD1に
代えてスイッチング素子SW11を介してスイッチング
素子SW21に与えられる。テストモードが指定されて
いるとき、与えられたデータはスイッチング素子SW2
1を介して比較回路6に与えられる。他方、テストモー
ドが指定されていないとき、与えられたデータは出力バ
ッファ10に与えられる。
御信号S11ないしS18のうちの信号S11のみが高
レベルであるとき、スイッチング素子SW11は冗長メ
モリセルアレイ側に接続される。したがって、冗長メモ
リセルアレイから読出されたデータDRがデータD1に
代えてスイッチング素子SW11を介してスイッチング
素子SW21に与えられる。テストモードが指定されて
いるとき、与えられたデータはスイッチング素子SW2
1を介して比較回路6に与えられる。他方、テストモー
ドが指定されていないとき、与えられたデータは出力バ
ッファ10に与えられる。
【0054】図10は、図9に示したスイッチング回路
SL1の回路図である。図10を参照して、このスイッ
チング回路SL1は、スイッチング制御信号S11に応
答して制御されるトランスミッションゲート51および
52と、テストモード信号TMに応答して制御されるト
ランスミッションゲート53および54と、NMOSト
ランジスタ55とを含む。動作において、たとえば信号
S11が高レベルであるとき、トランスミッションゲー
ト51がオンする。一方、テストモード信号TMが低レ
ベルであるとき、トランスミッションゲート53がオン
する。したがって、上記の例では、冗長メモリセルアレ
イから読出されたデータDRが、トランスミッションゲ
ート51および53を介して比較回路6に与えられる。
SL1の回路図である。図10を参照して、このスイッ
チング回路SL1は、スイッチング制御信号S11に応
答して制御されるトランスミッションゲート51および
52と、テストモード信号TMに応答して制御されるト
ランスミッションゲート53および54と、NMOSト
ランジスタ55とを含む。動作において、たとえば信号
S11が高レベルであるとき、トランスミッションゲー
ト51がオンする。一方、テストモード信号TMが低レ
ベルであるとき、トランスミッションゲート53がオン
する。したがって、上記の例では、冗長メモリセルアレ
イから読出されたデータDRが、トランスミッションゲ
ート51および53を介して比較回路6に与えられる。
【0055】図11は、図1に示した比較回路6の回路
図である。比較回路6は、各々が8ビットを有する2つ
のデータ間で一致を検出することができるのであるが、
図11では2つのデータの対応する1つのビット間での
比較を行なう回路部分だけが示されている。図11を参
照して、j番目のビットのための比較回路6jは、第1
のデータのビット信号DA1を受けるトランスミッショ
ンゲート60と、第2のデータのビット信号を受けるイ
ンバータ63と、PMOSトランジスタ61と、NMO
Sトランジスタ62とを含む。
図である。比較回路6は、各々が8ビットを有する2つ
のデータ間で一致を検出することができるのであるが、
図11では2つのデータの対応する1つのビット間での
比較を行なう回路部分だけが示されている。図11を参
照して、j番目のビットのための比較回路6jは、第1
のデータのビット信号DA1を受けるトランスミッショ
ンゲート60と、第2のデータのビット信号を受けるイ
ンバータ63と、PMOSトランジスタ61と、NMO
Sトランジスタ62とを含む。
【0056】両方の信号DA1およびDA2が高レベル
であるとき、インバータ63が低レベルの電圧を出力す
る。トランジスタ62だけがオンするので、低レベルの
電圧が比較結果信号CMPjとして出力される。両方の
信号DA1およびDA2が低レベルであるとき、トラン
スミッションゲート60およびトランジスタ61がオン
するので、低レベルの電圧が信号CMPjとして出力さ
れる。
であるとき、インバータ63が低レベルの電圧を出力す
る。トランジスタ62だけがオンするので、低レベルの
電圧が比較結果信号CMPjとして出力される。両方の
信号DA1およびDA2が低レベルであるとき、トラン
スミッションゲート60およびトランジスタ61がオン
するので、低レベルの電圧が信号CMPjとして出力さ
れる。
【0057】信号DA1が低レベルで、かつ信号DA2
が高レベルであるとき、トランジスタ61だけがオンす
るので、高レベルの信号CMPjが出力される。他方、
信号DA1が高レベルで、かつ信号DA2が低レベルで
あるとき、トランスミッションゲート60およびトラン
ジスタ62がオンするので、高レベルの信号CMPjが
出力される。
が高レベルであるとき、トランジスタ61だけがオンす
るので、高レベルの信号CMPjが出力される。他方、
信号DA1が高レベルで、かつ信号DA2が低レベルで
あるとき、トランスミッションゲート60およびトラン
ジスタ62がオンするので、高レベルの信号CMPjが
出力される。
【0058】その結果、比較回路6jは、入力ビット信
号DA1およびDA2の一致が検出されるとき低レベル
の信号CMPjを出力し、そうでないときは高レベルの
信号CMPjを出力する。図1に示した比較回路6は、
図11に示した回路6jを8個備えており、各々が8ビ
ットを有する2つの読出されたデータを比較する。比較
結果を示す信号CMP1ないしCMP8は出力バッファ
10を介して外部に出力され、SRAM200において
欠陥が残されているか否かを短時間で知ることができ
る。
号DA1およびDA2の一致が検出されるとき低レベル
の信号CMPjを出力し、そうでないときは高レベルの
信号CMPjを出力する。図1に示した比較回路6は、
図11に示した回路6jを8個備えており、各々が8ビ
ットを有する2つの読出されたデータを比較する。比較
結果を示す信号CMP1ないしCMP8は出力バッファ
10を介して外部に出力され、SRAM200において
欠陥が残されているか否かを短時間で知ることができ
る。
【0059】このように、図1に示したSRAM200
において、欠陥メモリセル列の位置を示す最大16個の
欠陥アドレスがアドレスプログラム回路3においてプロ
グラムされる。1つの欠陥アドレスによってアクセスさ
れ得るメモリセル列は、この実施例では8本あるので
(8個の図示されないセンスアンプが同時に動作す
る)、欠陥が存在する列の指定はI/Oプログラム回路
4におけるプログラミングにより行なわれる。
において、欠陥メモリセル列の位置を示す最大16個の
欠陥アドレスがアドレスプログラム回路3においてプロ
グラムされる。1つの欠陥アドレスによってアクセスさ
れ得るメモリセル列は、この実施例では8本あるので
(8個の図示されないセンスアンプが同時に動作す
る)、欠陥が存在する列の指定はI/Oプログラム回路
4におけるプログラミングにより行なわれる。
【0060】プログラムされた欠陥アドレスと一致する
列アドレスが外部から与えられたとき、アドレスプログ
ラム回路3はアドレス一致検出信号(信号CO1ないし
CO16のうちの1つ)をI/Oプログラム回路4およ
びスイッチング回路13に与える。スイッチング回路1
3は、冗長メモリセルアレイ1内のアドレス一致検出信
号によって指定された冗長メモリセル列から読出された
データをセンスアンプ回路に与える。したがって、冗長
メモリセルアレイから読出されたデータがセレクタ回路
5aおよび5bに与えられる。
列アドレスが外部から与えられたとき、アドレスプログ
ラム回路3はアドレス一致検出信号(信号CO1ないし
CO16のうちの1つ)をI/Oプログラム回路4およ
びスイッチング回路13に与える。スイッチング回路1
3は、冗長メモリセルアレイ1内のアドレス一致検出信
号によって指定された冗長メモリセル列から読出された
データをセンスアンプ回路に与える。したがって、冗長
メモリセルアレイから読出されたデータがセレクタ回路
5aおよび5bに与えられる。
【0061】一方、I/Oプログラム回路4は、アドレ
スプログラム回路3から与えられるアドレス一致検出信
号に応答して、それ自身におけるプログラムに従ってス
イッチング制御信号S11ないしS18およびS21な
いしS28を発生する。信号S11ないしS18および
S21ないしS28は、グループ選択信号GS1および
GS2に応答して、セレクタ回路5aおよび5bにそれ
ぞれ与えられる。セレクタ回路5aまたは5bでの選択
的なスイッチングにより、欠陥メモリセル列から読出さ
れたデータに代えて、指定された冗長メモリセル列から
読出されたデータが選択的に出力される。
スプログラム回路3から与えられるアドレス一致検出信
号に応答して、それ自身におけるプログラムに従ってス
イッチング制御信号S11ないしS18およびS21な
いしS28を発生する。信号S11ないしS18および
S21ないしS28は、グループ選択信号GS1および
GS2に応答して、セレクタ回路5aおよび5bにそれ
ぞれ与えられる。セレクタ回路5aまたは5bでの選択
的なスイッチングにより、欠陥メモリセル列から読出さ
れたデータに代えて、指定された冗長メモリセル列から
読出されたデータが選択的に出力される。
【0062】テストモードにおいて、比較回路6は、セ
レクタ回路5aおよび5bから与えられた各々が8ビッ
トを有する2つのデータ間の一致を検出する。したがっ
て、メモリセルアレイ内に欠陥が残されていることを短
時間で検出することができる。
レクタ回路5aおよび5bから与えられた各々が8ビッ
トを有する2つのデータ間の一致を検出する。したがっ
て、メモリセルアレイ内に欠陥が残されていることを短
時間で検出することができる。
【0063】図1に示したSRAM200は、合計64
個のブロック、すなわち64個のメモリセルアレイを備
えている。各メモリセルアレイは、スペアメモリセル列
または行を備えていないが、16本の冗長メモリセル列
を備えた冗長メモリセルアレイ1が設けられているの
で、SRAM200内の欠陥を余裕をもって救済するこ
とができる。メモリセルアレイごとにスペアメモリセル
列または行が必要とされないので、高集積化が達成され
得ることが指摘される。
個のブロック、すなわち64個のメモリセルアレイを備
えている。各メモリセルアレイは、スペアメモリセル列
または行を備えていないが、16本の冗長メモリセル列
を備えた冗長メモリセルアレイ1が設けられているの
で、SRAM200内の欠陥を余裕をもって救済するこ
とができる。メモリセルアレイごとにスペアメモリセル
列または行が必要とされないので、高集積化が達成され
得ることが指摘される。
【0064】これに加えて、もし2個を越える欠陥が1
つのメモリセルアレイ内に存在しても、冗長メモリセル
アレイ1によってそれらが救済され得ることも指摘され
る。さらには、1つの列アドレスまたは行アドレスによ
ってアクセスされ得るメモリセル列または行が必要に応
じ増加された場合でも、冗長メモリセルアレイを拡大さ
せる必要はない。このことは設計変更が容易に行なわれ
得ることを意味する。これに加えて、スペアメモリセル
列または行がメモリセルアレイごとに設けられないの
で、データバスの長さが短縮され、したがって、高速ア
クセスが達成され得る。
つのメモリセルアレイ内に存在しても、冗長メモリセル
アレイ1によってそれらが救済され得ることも指摘され
る。さらには、1つの列アドレスまたは行アドレスによ
ってアクセスされ得るメモリセル列または行が必要に応
じ増加された場合でも、冗長メモリセルアレイを拡大さ
せる必要はない。このことは設計変更が容易に行なわれ
得ることを意味する。これに加えて、スペアメモリセル
列または行がメモリセルアレイごとに設けられないの
で、データバスの長さが短縮され、したがって、高速ア
クセスが達成され得る。
【0065】なお、上記の実施例ではこの発明がSRA
Mに適用される例について説明がなされたが、この発明
は一般に半導体メモリに適用され得ることが指摘され
る。
Mに適用される例について説明がなされたが、この発明
は一般に半導体メモリに適用され得ることが指摘され
る。
【0066】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、複数
のメモリセルアレイにおいて存在するかもしれない欠陥
を救済するための冗長メモリセルアレイを設けたので、
高集積化の観点から効率のよい半導体メモリ装置が得ら
れた。
のメモリセルアレイにおいて存在するかもしれない欠陥
を救済するための冗長メモリセルアレイを設けたので、
高集積化の観点から効率のよい半導体メモリ装置が得ら
れた。
【図1】この発明の一実施例を示すSRAMのブロック
図である。
図である。
【図2】図1に示したアドレスプログラム回路のブロッ
ク図である。
ク図である。
【図3】図2に示したヒューズ回路の回路図である。
【図4】図2に示したグループ選択回路の回路図であ
る。
る。
【図5】図1に示した冗長メモリセルアレイおよびスイ
ッチング回路の回路図である。
ッチング回路の回路図である。
【図6】図1に示したI/Oプログラム回路内の欠陥列
指定回路の回路図である。
指定回路の回路図である。
【図7】図1に示したI/Oプログラム回路内の欠陥列
指定コード用デコード回路の回路図である。
指定コード用デコード回路の回路図である。
【図8】図1に示したI/Oプログラム回路内のスイッ
チング制御信号分配回路の回路図である。
チング制御信号分配回路の回路図である。
【図9】図1に示したセレクタ回路の回路ブロック図で
ある。
ある。
【図10】図9に示したスイッチング回路の回路図であ
る。
る。
【図11】図1に示した比較回路の回路図である。
【図12】冗長回路を備えた従来のSRAMのブロック
図である。
図である。
【図13】図12に示したトランスミッションゲート回
路の回路図である。
路の回路図である。
1 冗長メモリセルアレイ 2 行デコーダ 3 アドレスプログラム回路 4 I/Oプログラム回路 5a セレクタ回路 6 比較回路 8 テストモード検出回路 13 スイッチング回路 200 SRAM
Claims (1)
- 【請求項1】 各々が行および列に配設されたメモリセ
ルを備えた複数のメモリセルアレイと、 行および列に配設された冗長メモリセルを備えた冗長メ
モリセルアレイと、 前記複数のメモリセルアレイ内の欠陥箇所を示すための
欠陥アドレス信号を記憶する欠陥アドレス記憶手段と、 外部から与えられるアドレス信号と前記欠陥アドレス記
憶手段内に記憶された欠陥アドレス信号との一致を検出
するアドレス一致検出手段と、 前記アドレス一致検出手段に応答して、前記複数のメモ
リセルアレイの1つに代えて、前記冗長メモリセルアレ
イをアクセスする冗長アクセス手段と、 外部からのテストモードの指定を検出するテストモード
検出手段と、 テストモード検出手段に応答して、前記複数のメモリセ
ルアレイおよび/または前記冗長メモリセルアレイから
読出された2つのデータを比較するデータ比較手段とを
含む、半導体メモリ装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3328867A JPH05166396A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 半導体メモリ装置 |
KR1019920016215A KR960002014B1 (ko) | 1991-12-12 | 1992-09-05 | 결점을 수리하는 용장메모리셀 어레이를 포함하는 반도체 기억장치 |
DE4241327A DE4241327C2 (de) | 1991-12-12 | 1992-12-08 | Halbleiterspeichervorrichtung |
US07/987,757 US5416740A (en) | 1991-12-12 | 1992-12-09 | Semiconductor memory device including redundant memory cell array for repairing defect |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3328867A JPH05166396A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 半導体メモリ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05166396A true JPH05166396A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18214985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3328867A Pending JPH05166396A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 半導体メモリ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5416740A (ja) |
JP (1) | JPH05166396A (ja) |
KR (1) | KR960002014B1 (ja) |
DE (1) | DE4241327C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2006019016A (ja) * | 1995-05-12 | 2006-01-19 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
Families Citing this family (80)
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JP2687852B2 (ja) * | 1993-10-13 | 1997-12-08 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JPH07182893A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
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WO1996015538A1 (en) * | 1994-11-15 | 1996-05-23 | Cirrus Logic, Inc. | Circuits, systems, and methods for accounting for defective cells in a memory device |
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KR0140178B1 (ko) * | 1994-12-29 | 1998-07-15 | 김광호 | 반도체 메모리장치의 결함 셀 구제회로 및 방법 |
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US6108237A (en) | 1997-07-17 | 2000-08-22 | Micron Technology, Inc. | Fast-sensing amplifier for flash memory |
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Date | Code | Title | Description |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980113 |