JP2000021169A - 同期型半導体記憶装置 - Google Patents

同期型半導体記憶装置

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JP2000021169A
JP2000021169A JP10206774A JP20677498A JP2000021169A JP 2000021169 A JP2000021169 A JP 2000021169A JP 10206774 A JP10206774 A JP 10206774A JP 20677498 A JP20677498 A JP 20677498A JP 2000021169 A JP2000021169 A JP 2000021169A
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circuit
memory cell
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Tsukasa Oishi
司 大石
Shigeki Tomishima
茂樹 冨嶋
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 制御回路の構成を簡略化し、かつ消費電力の
低減を図ることが可能な同期型半導体記憶装置を提供す
る。 【解決手段】 各バンクに対してのアドレス信号の伝達
は、共通なアドレスバス50a〜50cにより行なわれ
る。コラムプリデコーダ34およびロウプリデコーダ3
6は、アドレスバスにより伝達された信号により、対応
するバンクが選択されたことを検知してコマンドデータ
バス53bからのコマンド信号に応じてアドレス信号の
取込を行なう。取込まれたデータをラッチする回路より
もアドレスデータバスおよびコマンドデータバス側の回
路は階層電源構成となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、特に、外部クロック信号に同期して動作する半
導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年のマイクロプロセッサ(以下、MP
Uと称す)の動作速度の向上に伴い、主記憶装置として
用いられるダイナミックランダムアクセスメモリ(以
下、DRAMと称す)等の高速アクセスを実現するため
に、クロック信号に同期して動作する同期型DRAM
(シンクロナスDRAM:以下、SDRAMと称す)等
が用いられている。
【0003】このような、SDRAM等の内部動作の制
御は、ロウ系動作およびコラム系動作に分割して制御さ
れる。
【0004】一方、SDRAMにおいては、一層の高速
動作を可能とするために、メモリセルアレイを互いに独
立動作が可能なバンクに分割した、バンク構成が用いら
れている。すなわち、各バンクごとに、その動作は、ロ
ウ系動作およびコラム系動作について独立に制御されて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、SDRAM
は、高集積化のために、トランジスタサイズは一層減少
する傾向にあり、その信頼性確保のためには、動作電源
電圧を低下させる必要がある。このような低い動作電源
電圧においても、トランジスタを動作させるために、ト
ランジスタのしきい値を低下させることが一般に行なわ
れる。しかしながら、しきい値の低下は、同時に、トラ
ンジスタの遮断状態におけるリーク電流の増大を招いて
しまう。
【0006】さらに、上述したように、多バンク構成の
SDRAMにおいては、制御用回路の構成が複雑とな
り、チップ全体としての回路数が増加し、待機動作時お
よび活性動作時のリーク電流が増加する傾向にある。
【0007】しかしながら、このような待機動作時およ
び活性動作時におけるリーク電流の増加は、たとえば、
バッテリ動作を行なうような携帯機器においてSDRA
Mが用いられる場合には、その低減を図ることが必須の
課題である。
【0008】[バンク数を増加させる構成の問題点]一
般にSDRAMにおいては、高速動作を実現するため
に、2または4バンクの構成が用いられることが一般的
である。
【0009】さらに、ランバスSLDRAM等では、さ
らに、8または16バンクという多バンク化が要求され
ている。
【0010】また、同一チップ上にメモリ回路とロジッ
ク回路とを混載させる場合を考えると、チップ内のデー
タ伝達のバス幅の増加(多ビット化)も要求されてい
る。
【0011】マルチバンク構成のDRAMに関する技術
は、例えば、Yoo et al.“A 32-Bank 1 Gb Self-Storob
ing Synchronous DRAM with 1 GByte/s Bandwidth ”,
IEEEJournal of Solid-State Circuits, VOL.31, No.1
1, p.p.1635 〜1642 Nov. 1996に開示されている。(以
下、従来の技術1という)図35は、従来の技術1によ
るマルチバンク構成DRAM4000のメモリセルアレ
イ部の構成を概略的に示す図である。
【0012】図35を参照して、メモリセルアレイ部
は、メモリセルアレイ4500と行デコーダ4520と
列デコーダ4530とを備える。メモリセルアレイ45
00は、列方向に垂直な方向に沿って8個のバンクに分
割されており、各々のバンクはサブアレイ4510を含
む。また、各々のサブアレイにはデータ保持を行なうメ
モリセルが含まれる。
【0013】マルチバンク構成DRAM4000は、ア
ドレス信号を受けて選択されたメモリセルを含むバンク
を活性化し、行デコーダ4520および列デコーダ45
30によって選択されたメモリセルのデータの読出ある
いは書込動作を行なう。
【0014】ところで、メモリセル4500内で同一の
行アドレスを有するメモリセルは、同一のバンクに属し
ており、1本のメインワード線に接続されるている。こ
のため、1回の行選択動作に伴って、同一行に含まれる
全てのメモリセルに対応するセンスアンプを活性化させ
る必要があり、消費電力の低減を図ることが難しい。さ
らには、各バンク毎にローカルなコラムデコーダが必要
となるため、バンク数の増加に伴ない、ローカルコラム
デコード回路帯の面積が増大し、チップ面積のが増大し
てしまうという問題点がある。
【0015】〔従来の技術2〕このような問題点を解消
するために、各々のバンクを行方向に垂直な方向に分割
するマルチバンク構成DRAMの技術が、特開平9−7
3776に開示されている。(以下、従来の技術2とい
う)図36は、従来の技術2によるマルチバンク構成D
RAM5000のメモリセルアレイ部の構成を概略的に
示す図である。
【0016】図36を参照して、メモリセルアレイ部
は、メモリセルアレイ5500と行デコーダ5520と
ワード線ドライバ5525と列デコーダ5530とを備
える。
【0017】メモリセルアレイ5500は、列方向にお
互いに分割された4つのバンクを備える。さらに各々の
バンクは、サブアレイ5510に分割されている。サブ
アレイ5510には、データの記憶を行なう複数のメモ
リセルが含まれている。
【0018】マルチバンク構成DRAM5000におい
ては、同一の列アドレスを有するメモリセルは同一バン
クに含まれており、各々のバンクはサブカラムデコーダ
5531〜5534を備える。よって、コラム選択線5
700は各々の列に対して1本ずつ設ければよい。
【0019】図37は、マルチバンク構成DRAM50
00のワード選択線の構造を示すための図である。
【0020】図37を参照して、マルチバンク構成DR
AMは、指定された行アドレスのメモリセルを選択する
ために、全バンクに共通の信号線として各行に対応して
設けられるメインワード線5710と、同一バンク内に
おいて、対応する行の選択を行なうサブワード線572
0と、上記メインワード線5710とサブワード線57
20とを対応付ける論理ゲート5730とを備える。
【0021】メインワード線5710は、論理ゲート5
730を介して各バンクのサブワード線5720と接続
されている。論理ゲート5730は、各バンクにおいて
各行ごとに設けられており、メインワード線5710と
バンク選択信号B1〜B4を受ける。論理ゲート573
0は、両者の論理積を取ることにより、選択されたバン
クにおいて活性状態となっているメインワード線571
0に対応するサブワード線を選択状態し、データの読み
出し動作を開始する。
【0022】このような構成では、ローカルコラムデコ
ーダ帯の面積によるチップ面積の増大は最小限に抑えら
れ、かつ、センスアンプ帯がバンク分割され、分割して
動作するため、消費電力増大の問題もない。
【0023】ところが、分割するバンク数が多くなると
1つのバンクから一度に取り出せるデータの数が少なく
なり、多ビット化には不適当であるという問題が生じ
る。
【0024】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであって、その目的は、記憶容量の
大きなSDRAM等においても、その制御用回路構成を
簡略化し、チップ面積全体に占める制御用回路の占有面
積の小さい同期型半導体記憶装置を提供することであ
る。
【0025】この発明のさらに他の目的は、SDRAM
等において、記憶容量が増大した場合においても、待機
動作時および活性動作時におけるリーク電流を低減させ
ることが可能な同期型半導体記憶装置を提供することで
ある。
【0026】この発明のさらに他の目的は、バンク数を
増加させた場合でも、チップ面積の増大や消費電流の増
加を抑制しつつ、同時に多ビットのデータを入出力する
ことが可能な同期型半導体記憶装置を提供することであ
る。
【0027】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の同期型半
導体記憶装置は、外部クロック信号に同期して、アドレ
ス信号と制御信号とを受け、かつ記憶データを授受する
同期型半導体記憶装置であって、行列状に配置される複
数のメモリセルを有するメモリセルアレイを備え、メモ
リセルアレイは、複数のメモリセルブロックに分割さ
れ、外部クロック信号に同期した内部クロック信号を出
力する内部同期信号発生回路と、内部クロック信号に同
期して、外部からアドレス信号を取りこむアドレス信号
入力回路と、複数のメモリセルブロックに共通に設けら
れ、アドレス信号入力回路からのアドレス信号を伝達す
るアドレスバスと、メモリセルブロックに対応して設け
られ、アドレスバスからのアドレス信号に応じてメモリ
セルを選択する複数の選択回路とをさらに備え、選択回
路は、アドレス信号に基づいて、対応するメモリセルブ
ロックが選択されたことに応じて活性化される。
【0028】請求項2記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項1記載の同期型半導体記憶装置の構成において、
メモリセルブロックは、独立に読出動作および書込み動
作が可能なバンクである。
【0029】請求項3記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項2記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
制御信号に応じて、同期型半導体記憶装置の動作を制御
する内部制御信号を出力する中央制御回路と、複数のメ
モリセルブロックに共通に設けられ、内部制御信号を伝
達するコマンドデータバスとをさらに備え、選択回路
は、内部制御信号およびアドレス信号に基づいて、対応
するメモリセルブロックが選択されたことに応じて活性
化される。
【0030】請求項4記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項2記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
制御信号に応じて、同期型半導体記憶装置の動作を制御
する内部制御信号を出力する中央制御回路と、複数のメ
モリセルブロックに共通に設けられ、内部制御信号を伝
達するコマンドデータバスとをさらに備え、内部制御信
号は、行系回路の活性化を指示する行活性化信号と、列
系回路の活性化を指示する列活性化信号とを含み、各選
択回路は、対応するメモリセルブロックの行を選択する
行選択回路と、対応するメモリセルブロックの列を選択
する列選択回路とを含み、行選択回路は、行選択活性化
信号の活性化と、アドレス信号に応じて対応するメモリ
セルブロックが選択されたことに応じて、アドレスバス
から行アドレスを取りこみ、列選択回路は、列選択活性
化信号の活性化と、アドレス信号に応じて対応するメモ
リセルブロックが選択されたことに応じて、アドレスバ
スから列アドレスを取りこむ。
【0031】請求項5記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項3記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
メモリセルブロックに対応して設けられ、コマンドデー
タバスからの内部制御信号に応じて対応するメモリセル
ブロックの動作を制御する複数のローカル制御回路をさ
らに備え、ローカル制御回路は、アドレス信号に基づい
て、対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
じて、内部制御信号を取りこむ。
【0032】請求項6記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項3記載の同期型半導体記憶装置の構成に加えて、
メモリセルブロックに対応して設けられ、コマンドデー
タバスからの内部制御信号に応じて対応するメモリセル
ブロックの動作を制御する複数のローカル制御回路をさ
らに備え、ローカル制御回路は、内部制御信号およびア
ドレス信号に基づいて、対応するメモリセルブロックが
選択されたことに応じて、内部制御信号を取りこむ制御
信号取込回路と、制御信号取込回路からの信号レベルを
保持する第1のレベル保持回路とを含み、中央制御回路
からの内部制御信号は、第1のレベル保持回路における
信号レベルの保持動作が完了後に非活性化される。
【0033】請求項7記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項6記載の同期型半導体記憶装置の構成において、
制御信号取込回路は、第1のレベル保持回路における信
号レベルの保持動作が完了後にリセットされる。
【0034】請求項8記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項7記載の同期型半導体記憶装置の構成において、
制御信号取込回路は、中央制御回路により制御され、待
機動作モード時のリーク電流を低減する階層電源回路
と、階層電源回路を介して電源電位が供給され、コマン
ドデータバスからの内部制御信号を第1のレベル保持回
路に伝達する駆動回路とをさらに含み、階層電源回路
は、第1のレベル保持回路における信号レベルの保持動
作が完了後に待機動作モードとなる。
【0035】請求項9記載の同期型半導体記憶装置は、
請求項3記載の同期型半導体記憶装置の構成において、
選択回路は、内部制御信号およびアドレス信号に基づい
て、対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
じて、アドレス信号を取りこむアドレス信号取込回路
と、アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持する
第2のレベル保持回路とを含む。
【0036】請求項10記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項9記載の同期型半導体記憶装置の構成におい
て、アドレス信号取込回路は、第2のレベル保持回路に
おける信号レベルの保持動作が完了後にリセットされ
る。
【0037】請求項11記載の同期型半導体記憶装置
は、外部クロック信号に同期して、アドレス信号と制御
信号とを受け、かつ記憶データを授受する同期型半導体
記憶装置であって、行列状に配置される複数のメモリセ
ルを有するメモリセルアレイを備え、メモリセルアレイ
は、複数のメモリセルブロックに分割され、外部クロッ
ク信号に同期した内部クロック信号を出力する内部同期
信号発生回路と、内部クロック信号に同期して外部から
制御信号を取りこみ、同期型半導体記憶装置の動作を制
御する内部制御信号を出力する中央制御回路と、複数の
メモリセルブロックに共通に設けられ、内部制御信号を
伝達するコマンドデータバスと、メモリセルブロックに
対応して設けられ、コマンドデータバスからの内部制御
信号に応じて対応するメモリセルブロックの動作を制御
する複数のローカル制御回路とをさらに備え、ローカル
制御回路は、対応するメモリセルブロックが選択された
ことに応じて、内部制御信号を取りこむ。
【0038】請求項12記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項11記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、メモリセルブロックは、独立に読出動作および書
込み動作が可能なバンクである。
【0039】請求項13記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項12記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、内部クロック信号に同期して、外部からアドレス
信号を取りこむアドレス信号入力回路と、複数のメモリ
セルブロックに共通に設けられ、アドレス信号入力回路
からのアドレス信号を伝達するアドレスバスとをさらに
備え、ローカル制御回路は、アドレス信号に基づいて、
対応するメモリセルブロックが選択されたことに応じて
内部制御信号を取りこむ。
【0040】請求項14記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項13記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、ローカル制御回路は、内部制御信号およびアドレ
ス信号に基づいて、対応するメモリセルブロックが選択
されたことに応じて、内部制御信号を取りこむ制御信号
取込回路と、制御信号取込回路からの信号レベルを保持
する第1のレベル保持回路とを含む。
【0041】請求項15記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項13記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、ローカル制御信号が、対応するメモリセルブロッ
クが選択されたことに応じて取りこむ内部制御信号は、
対応するメモリセルブロックの行系の動作に対する制御
信号である。
【0042】請求項16記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項14記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、中央制御回路からの内部制御信号は、第1のレベ
ル保持回路における信号レベルの保持動作が完了後に非
活性化される。
【0043】請求項17記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項14記載の同期型半導体記憶装置の構成にお
いて、制御信号取込回路は、第1のレベル保持回路にお
ける信号レベルの保持動作が完了後にリセットされる。
【0044】請求項18記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項14記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、メモリセルブロックに対応して設けられ、アドレ
スバスからのアドレス信号に応じてメモリセルの行を選
択する複数の行選択回路と、メモリセルブロックの行に
対応して設けられ、行選択回路により選択的に活性化さ
れる複数のワード線とをさらに備え、行選択回路は、内
部制御信号およびアドレス信号に基づいて、対応するメ
モリセルブロックが選択されたことに応じて、アドレス
信号を取りこむアドレス信号取込回路と、アドレス信号
取込回路からの信号レベルを保持する第2のレベル保持
回路とを含み、第2のレベル保持回路は、ワード線ごと
に設けられるラッチ回路を含む。
【0045】請求項19記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項14記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、メモリセルブロックは、複数のサブメモリセルブ
ロックに分割され、メモリセルブロックに対応して設け
られ、アドレスバスからのアドレス信号に応じてメモリ
セルの行を選択する複数の行選択回路と、メモリセルブ
ロックの行に対応して、複数のサブメモリセルブロック
に共通に設けられ、行選択回路により選択的に活性化さ
れる複数のメインワード線と、サブメモリセルブロック
の行に対応して設けられ、対応するメインワード線が選
択的に活性化されるのに応じて行選択回路により活性化
される複数のサブワード線とをさらに備え、行選択回路
は、内部制御信号およびアドレス信号に基づいて、対応
するメモリセルブロックが選択されたことに応じて、ア
ドレス信号を取りこむアドレス信号取込回路と、アドレ
ス信号取込回路からの信号レベルを保持する第2のレベ
ル保持回路とを含み、第2のレベル保持回路は、サブワ
ード線ごとに設けられるラッチ回路を含む。
【0046】請求項20記載の同期型半導体記憶装置
は、外部クロック信号に同期して、アドレス信号と制御
信号とを受け、かつ記憶データを授受する同期型半導体
記憶装置であって、行列状に配置される複数のメモリセ
ルを有するメモリセルアレイを備え、メモリセルアレイ
は、第1複数個の列および第2複数個の行に配置される
複数のメモリセルブロックに分割され、外部クロック信
号に同期した内部クロック信号を出力する内部同期信号
発生回路と、内部クロック信号に同期して、外部からア
ドレス信号を取りこむアドレス信号入力回路と、複数の
メモリセルブロックに共通に設けられ、アドレス信号入
力回路からのアドレス信号を伝達するアドレスバスと、
メモリセルブロックに対応して設けられ、アドレスバス
からのアドレス信号に応じてメモリセルを選択する複数
の選択回路とをさらに備え、選択回路は、アドレス信号
に基づいて、対応するメモリセルブロックが選択された
ことに応じて活性化される。
【0047】請求項21記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項20記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、メモリセルブロックは、独立に読出動作および書
込み動作が可能なバンクである。
【0048】請求項22記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項21記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、制御信号に応じて、同期型半導体記憶装置の動作
を制御する内部制御信号を出力する中央制御回路と、複
数のメモリセルブロックに共通に設けられ、内部制御信
号を伝達するコマンドデータバスとをさらに備え、内部
制御信号は、行系回路の活性化を指示する行活性化信号
と、列系回路の活性化を指示する列活性化信号とを含
み、各選択回路は、対応するメモリセルブロックの行を
選択する行選択回路と、対応するメモリセルブロックの
列を選択する列選択回路とを含み、行選択回路は、行選
択活性化信号の活性化と、アドレス信号に応じて対応す
るメモリセルブロックが選択されたことに応じて、アド
レスバスから行アドレスを取込んで保持し、列選択回路
は、列選択活性化信号の活性化と、アドレス信号に応じ
て対応するメモリセルブロックが選択されたことに応じ
て、アドレスバスから列アドレスを取込んで保持する。
【0049】請求項23記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項22記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、複数のメモリセルブロックは、複数のバンクグル
ープに分割され、行選択回路は、バンクグループに対応
してそれぞれ設けられ、アドレスバスおよびコマンドデ
ータバスからの信号を受け、行選択活性化信号の活性化
と、アドレス信号に応じて対応するメモリセルブロック
が選択されたことに応じて、アドレスバスから行アドレ
スを取込んで保持する複数のメイン行選択回路と、メモ
リセルブロックにそれぞれ対応して設けられ、メイン行
選択回路に保持された行アドレス信号を受けて保持し、
対応するメモリセル行を選択するための信号を生成する
複数のサブ行選択回路とを含む。
【0050】請求項24記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項21記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、選択回路は、内部制御信号およびアドレス信号に
基づいて、対応するメモリセルブロックが選択されたこ
とに応じて、アドレス信号を取りこむアドレス信号取込
回路と、アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持
するレベル保持回路とを含む。
【0051】請求項25記載の同期型半導体記憶装置
は、請求項24記載の同期型半導体記憶装置の構成に加
えて、アドレス信号取込回路は、レベル保持回路におけ
る信号レベルの保持動作が完了後にリセットされる。
【0052】
【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、本発明
の実施の形態の同期型半導体記憶装置1000の構成を
示す概略ブロック図である。
【0053】図1を参照して、同期型半導体記憶装置1
000は、外部制御信号入力端子群10を介して与えら
れる外部制御信号/RAS、/CAS、/W、/CS等
を受けて、これをデコードし、内部制御信号を発生する
コントロール回路20と、コントロール回路20から出
力される内部制御信号を伝達するコマンドデータバス5
3aおよび53bと、メモリセルが行列状に配列される
メモリセルアレイ100とを備える。
【0054】メモリセルアレイ100は、図1に示すと
おり、全部で16個のメモリセルブロック100a〜1
00bに分割配置されている。たとえば、同期型半導体
記憶装置1000の記憶容量が1Gビットである場合、
各メモリセルブロックは64Mビットの容量を有する。
各ブロックは、独立にバンクとして動作し得る構成とな
っている。
【0055】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、クロック信号入力端子16に与えられる外部クロッ
ク信号Ext.CLKを受け、コントロール回路20に
より制御されて同期動作を開始し、内部クロック信号i
nt.CLKを出力する内部同期信号発生回路18を含
む。
【0056】内部同期信号発生回路18は、たとえば、
ディレロックドループ回路(以下、DLL回路と称す)
等により、外部クロック信号Ext.CLKに対して、
同期した内部クロック信号int.CLKを生成する。
【0057】アドレス信号入力端子群12を介して与え
られる外部アドレス信号A0〜Ai(i:自然数)は、
コントロール回路20の制御の下に、内部クロック信号
int.CLKに同期して、同期型半導体記憶装置10
00内に取込まれる。
【0058】外部アドレス信号A0〜Aiのうち、所定
数のビット数のデータは、アドレスバス51aを介し
て、バンクデコーダ22に与えられる。バンクデコーダ
22からは、アドレスバス51bおよび51cを介し
て、デコードされたバンクアドレスB0〜B7が、各バ
ンクに伝達される。
【0059】一方、アドレス信号入力端子群12に与え
られるその他の外部アドレス信号は、アドレスバス50
aおよび50bを介して、アドレスドライバ52に伝達
される。アドレスドライバ52からさらに、アドレスバ
ス50cを介して、アドレス信号は各バンク(メモリセ
ルブロック)に伝達される。
【0060】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、メモリセルブロックの対ごとに設けられ、コントロ
ール回路20の制御の下に、アドレスバス50cにより
伝達されたロウアドレスをラッチし、プリデコードする
ロウプリデコーダ36と、ロウプリデコーダ36からの
出力をもとに選択されたメモリセルブロックの対応する
行(ワード線)を選択するロウデコーダ44と、メモリ
セルブロックごとに設けられ、コントロール回路20の
制御の下に、アドレスバス50cにより伝達された列ア
ドレスをラッチし、プリデコードするコラムプリデコー
ダ34と、プリデコーダ34からの出力を伝達するコラ
ムプリデコーダ線40と、コラムプリデコーダ線40か
らの出力をもとに選択されたメモリセルブロックの対応
する列(ビット線対)を選択するコラムデコーダ42と
を含む。
【0061】同期型半導体記憶装置1000は、さら
に、チップ中央部の長辺方向に沿う領域であって、外部
制御信号入力端子群10およびアドレス信号入力端子群
12が設けられる領域の外側に、それぞれ配置されるデ
ータ入力端子DQ0〜DQ15およびDQ16〜DQ3
1と、データ入出力端子DQ0〜DQ31にそれぞれ対
応して設けられる入出力バッファ回路14a〜14f
と、入出力バッファと対応するメモリセルブロックとの
間でデータの伝達を行なうデータバス54と、メモリセ
ルブロック100a〜100bにそれぞれ対応して設け
られ、データバス54と選択されたメモリセル列との間
でデータの授受を行なうリード/ライトアンプ38とを
含む。
【0062】外部制御信号入力端子群10へ与えられる
信号/RASは、同期型半導体記憶装置1000の内部
動作を開始させ、かつ内部動作の活性期間を決定するロ
ウアドレスストローブ信号である。この信号/RASの
活性化に応じて、ロウデコーダ44等のメモリセルアレ
イ100の行を選択する動作と関連する回路は活性状態
とされる。
【0063】外部制御信号入力端子群10へ与えられる
信号/CASは、コラムアドレスストローブ信号であ
り、メモリセルアレイ100における列を選択する回路
を活性状態とする。
【0064】外部制御信号入力端子群10へ与えられる
信号/CASは、この同期型半導体記憶装置1000が
選択されることを示すチップセレクト信号であり、信号
/Wは、同期型半導体記憶装置1000の書込動作を指
示する信号である。
【0065】信号/CS、信号/RAS、信号/CAS
および信号/Wの取込動作は、内部クロック信号in
t.CLKに同期して行なわれる。
【0066】また、アドレス信号入力端子群12に与え
られるアドレス信号の取込動作や、データ入出力端子D
Q0〜DQ31を介してのデータの授受も内部クロック
信号int.CLKに同期して行なわれる。
【0067】図2は、図1に示した同期型半導体記憶装
置1000における内部クロック信号int.CLKを
外部制御信号入力端子群10中の入力端子およびデータ
入力端子DQ0〜DQ15に、それぞれ分配する構成を
示す概念図である。
【0068】図2を参照して、クロック信号入力端子1
6に与えられた外部クロック信号Ext.CLKは、バ
ッファ回路60を介して、内部同期信号発生回路18に
与えられる。
【0069】内部同期信号発生回路18から出力される
内部クロック信号int.CLKは、まず、バッファ回
路68に与えられる。バッファ回路68の出力は2分割
され、その一方はバッファ回路70に、他方はバッファ
回路80にそれぞれ与えられる。
【0070】バッファ回路70の出力は、さらに2分割
されて、それぞれバッファ回路72a、72bに与えら
れる。
【0071】バッファ回路72aの出力は、さらに2分
割されて、それぞれバッファ回路74a、74bに与え
られる。
【0072】一方、バッファ回路72bの出力も、さら
に2分割されて、それぞれバッファ回路74c、74d
に与えられる。
【0073】バッファ回路74a、74b、74cおよ
び74dの出力は、さらに、それぞれ2分割された上
で、それぞれ、バッファ回路76aおよび76b、バッ
ファ回路76cおよび76d、バッファ回路76eおよ
び76f、バッファ回路76gおよび76hに与えられ
る。
【0074】すなわち、バッファ回路70の出力は、順
次、2分割され最終的に8つのクロック信号に分割され
る。この8つのクロック信号は、それぞれ、配線78a
〜78hに与えられる。配線78a〜78hのそれぞれ
の端部から供給されるクロック信号に同期して、外部制
御信号入力端子群10から外部制御信号の取込が行なわ
れる。
【0075】配線78hの端部からのクロック信号は、
レプリカバッファ回路62および遅延調整回路64を介
して、内部同期信号発生回路18に与えられる。内部同
期信号発生回路18は、遅延調整回路64からの出力と
バッファ回路60から与えられる外部クロック信号Ex
t.CLKの位相を同期させて、内部クロック信号in
t.CLKを生成する。
【0076】ここで、遅延調整回路64が存在しない場
合を想定すると、バッファ回路60とレプリカバッファ
回路62とは同様の構成を有するので、バッファ回路6
0に与えられる外部クロック信号Ext.CLKと、レ
プリカバッファ回路62に与えられる配線78h上のク
ロック信号との位相が等しくなるように調整されること
になる。ここで、配線78h上のクロック信号と、他の
配線78a〜78g上のクロック信号の位相も等しくな
っている。
【0077】すなわち、外部制御信号の取込動作は、外
部クロック信号Ext.CLKに同期して行なわれるこ
とになる。
【0078】ここで、遅延調整回路64が設けられてい
るのは、外部クロック信号Ext.CLKの振幅レベル
やその周期に対するクロック信号の活性期間の比など
が、内部クロック信号int.CLKの対応量と異なる
ために、その調整を行なう必要があるためである。
【0079】なお、以上の説明では、外部制御信号入力
端子群10に対する内部クロック信号int.CLKの
分配の構成について説明したが、図2にも示すとおり、
同様の構成が、データ入出力端子群DQ0〜DQ15に
対応しても設けられている。
【0080】すなわち、バッファ回路68の出力のうち
の他方は、バッファ回路80に与えられ、順次2分割さ
れた結果、最終的にはバッファ回路86a〜86hの出
力に分割される。バッファ回路86a〜86hから出力
される内部クロック信号に同期して、データ入出力端子
群DQ0〜DQ15と外部との間でデータの授受が行な
われる。
【0081】さらに、図2においては、外部制御信号入
力端子群10およびデータ入出力端子群DQ0〜DQ1
5に対する内部クロック信号int.CLKの分配の構
成について説明したが、同様の構成が、アドレス信号入
力端子群12、データ入出力端子群DQ16〜DQ31
に対応して設けられている。このような構成とすること
で、アドレス信号の取込や、データ信号の授受も外部ク
ロック信号Ext.CLKに同期して行なわれることに
なる。
【0082】図3は、図1に示した同期型半導体記憶装
置1000の構成のうち、アドレス信号入力端子群12
およびアドレスバス50a、50b、50c、51a、
51bおよび51c、コマンドデータバス53aおよび
53bの構成を示す概略ブロック図である。
【0083】アドレス信号入力端子群12のうち、アド
レス信号入力端子群12aに与えられるアドレス信号の
上位ビットのデータは、それぞれ内部クロック信号in
t.CLKに同期して動作する入力バッファ13a〜1
3cにより、バンクアドレスバス51aに出力される。
バンクアドレスバス51aからのデータを受けて、バン
クデコーダ22は、デコードした信号を、バンクアドレ
スバス51bおよび51cを介して、それぞれのメモリ
セルブロック(バンク)に伝達する。
【0084】アドレス信号入力端子群12のうち、アド
レス信号入力端子群12bに与えられるアドレス信号の
下位のビットのデータは、それぞれ内部クロック信号i
nt.CLKに同期して動作する入力バッファ13d〜
13gにより、アドレスデータバス50aおよび50b
を介して、アドレスドライバ52に与えられる。アドレ
スドライバ52は、アドレス信号をアドレスデータバス
50cを介して、各バンク(メモリセルブロック)に伝
達する。
【0085】コントロール回路20は、制御信号入力端
子群10に与えられたコマンドデータを受けて、デコー
ドし、デコードしたコマンドデータをコマンドデータバ
ス53aおよび53bを介して、各メモリセルブロック
(バンク)に伝達する。
【0086】各バンクのうち、たとえばメモリセルブロ
ック100eは、さらにメモリセルサブブロック100
eaおよび100ebに分割されている。
【0087】ロウプリデコーダ36のうち、メモリセル
サブブロック100eaに対してはロウプリデコーダ3
6aが、メモリセルサブブロック100ebに対しては
ロウプリデコーダ36bが対応している。ロウプリデコ
ーダ36aは、バンクアドレスバス51cにより伝達さ
れるバンクアドレスに応じて、バンク100eが選択さ
れたことを検知し、かつコマンドデータバス53bによ
り、行系の動作が指示されていることを検知すると活性
化し、アドレスバス50cからアドレスデータを、コマ
ンドデータバス53bからコマンドデータをそれぞれ取
込む。これに応じて、ロウプリデコーダ36aは、プリ
デコードしたアドレス信号をロウデコーダ44に出力す
る。
【0088】ロウプリデコーダ36b〜36dについて
も、同様の動作をする。コラムプリデコーダ34のう
ち、メモリセルブロック100eaに対応して設けられ
るコラムプリデコーダ34aは、バンクアドレスバス5
1cを介して伝達されたバンクアドレスに応じて、メモ
リセルブロック100eが選択され、かつコマンドデー
タバス53bにより、列系の動作が活性化されているこ
とを検知すると、それに応じて、アドレスバス50cか
ら対応するアドレスデータを取込む。
【0089】コラムプリデコーダ34aは、取込んだ列
アドレスデータをプリデコードし、対応するコラムプリ
デコーダ線40に対してプリデコードされた列アドレス
信号を出力する。
【0090】図4は、図3に示した構成のうち、ロウプ
リデコーダ36の構成を説明する概略ブロック図であ
る。
【0091】コマンドアドレスバス53bは、ロウ系の
回路動作を活性化することを指示する信号Row、コラ
ム系の回路動作を活性化することを指示する信号Cl
m、内部回路の回路動作の活性化を指示する信号AC
T、バンクのリセット(プリチャージ)を指示する信号
PC、すべてのバンクのプリチャージを指示する信号A
PC、ビット線等のイコライズが解除されることや、不
使用ビット線をセンスアンプより切り離す作業を行なう
ことを指示する信号EQ、ワード線の活性化を指示する
信号RXT、センスアンプの活性化を指示する信号SE
等の伝達を行なう。
【0092】バンクアドレスバス51cは、バンクデコ
ーダ22によりデコードされたバンクアドレス信号B0
〜B7を伝達する。アドレスバス50cは、アドレスド
ライバ52からのアドレス信号の伝達を行なう。
【0093】バンクアドレス信号のうち、たとえばビッ
トデータB7が活性状態となり、かつ信号Rowが活性
状態となると、AND回路203からは活性状態の信号
が出力され、これに応じてワンショットパルス発生回路
204から活性なワンショットパルスが出力される。
【0094】これに応じて、ドライバ回路206が活性
化され、信号ACTのレベルが取込まれて、レベル保持
回路208にそのレベルが保持される。
【0095】同様にワンショットパルス発生回路204
からの信号に応じて、ドライバ回路210が活性化し、
信号PCのレベルを受けて、レベル保持回路212がそ
のレベルを保持する。一方、ドライバ回路210からの
出力を受けて、ワンショットパルス発生回路214は、
レベル保持回路208に対してリセット信号を出力す
る。インバータ220は、レベル保持回路208からの
出力信号に応じて、活性化され、信号EQを受けて出力
する。一方、NOR回路222は、信号APCおよびワ
ンショットパルス発生回路214からの信号を受けて、
否定論理和演算結果を出力する。フリップフロップ回路
224は、インバータ220からの出力に応じてセット
され、NOR回路222からの出力に応じてリセットさ
れる。後に説明する階層電源制御信号SCRCにより活
性化されるドライバ回路226は、フリップフロップ回
路224の出力を受けて、出力し、このドライバ回路2
26の出力レベルを、レベル保持回路228が保持す
る。このレベル保持回路228の出力レベルは、信号
l.EQとして、対応するメモリセルブロックに対して
与えられる。
【0096】同様にして、フリップフロップ回路234
は、レベル保持回路208からの信号に応じて活性化さ
れ、コマンドデータバス53bを介して伝達される信号
RXTのレベルを入力として受けるインバータ230の
出力によりセットされ、ワンショットパルス発生回路2
14およびコマンドデータバス53bを介して伝達され
る信号APCのレベルを受けるNOR回路232の出力
によりリセットされる。
【0097】ドライバ回路236は、フリップフロップ
回路234の出力を受けて、階層電源制御信号SCRC
により活性化される。ドライバ回路236の出力レベル
は、レベル保持回路238により保持され、このレベル
保持回路238の出力レベルが、信号l.RXTとし
て、対応するメモリセルブロックに出力される。
【0098】フリップフロップ回路244は、コマンド
データバス53bを介して伝達される信号SEを受け
て、レベル保持回路208の出力レベルに応じて活性化
されるインバータ240の出力によりセットされ、ワン
ショットパルス発生回路214の出力信号およびコマン
ドデータバス53bを介して伝達される信号APCのレ
ベルを受けるNOR回路242の出力に応じてリセット
される。ドライバ回路246は、フリップフロップ回路
244の出力を受け、階層電源制御信号SCRCにより
活性化される。ドライバ回路246の出力レベルは、レ
ベル保持回路244により保持され、このレベル保持回
路244の出力レベルが信号l.SEとして、対応する
メモリセルブロックに与えられる。
【0099】一方、ラッチ回路250は、階層電源制御
信号SCRCの活性化に応じてリセットされ、ワンショ
ットパルス発生回路204の活性化に応じて活性化し、
アドレスデータバス50cを介して伝達されたアドレス
信号を保持する。ラッチ回路250からの出力は、冗長
アドレスデコーダ(図示せず)に伝達されるとともに、
プリデコーダ252に与えられ、プリデコードされた結
果が、階層電源制御信号SCRCに応じて活性化される
ドライバ回路254に与えられる。
【0100】ドライバ回路254からの出力は、それぞ
れレベル保持回路256により保持され、レベル保持回
路256が、それぞれ対応するロウプリデコーダ線に出
力される。
【0101】図4に示したロウプリデコーダ36の構成
のうち、レベル保持回路208、212、228、23
8および248ならびにレベル保持回路256と、対応
するメモリセルブロックを含む領域201は、階層電源
制御信号により制御されない領域であって、活性状態中
においても、待機状態中においても、常に電源電位Vc
cと接地電位Vssとを電源電位として動作する領域で
ある。
【0102】これに対して、ロウプリデコーダ36のう
ち領域202は、階層電源制御信号により制御されて、
信号SCRCが活性状態である期間中は、電源電位Vc
cおよび接地電位Vssとを受けて動作し、階層電源制
御信号SCRCが不活性状態(“L”レベル)である期
間中は、電源電位Vccよりも低い電位および接地電位
Vssよりも高い電位をそれぞれ電源電位として動作す
る領域である。
【0103】[階層電源構成の概念]以下では、まず、
図4において領域202中の回路に対して用いられてい
る階層電源構成の概念について説明しておく。
【0104】図5は、階層電源構成の回路構成およびそ
の動作を説明するための図であり、図5(a)は、階層
電源構成により駆動されるインバータ列の構成を示す回
路図であり、図5(b)は、図5(a)に示したインバ
ータ列の待機動作時における状態を示す図であり、図5
(c)は、図5(a)に示したインバータ列の活性時に
おける状態を示す図である。
【0105】まず、図5(a)を参照して、インバータ
302、304、306および308は、互いにカスケ
ード接続されている。配線314は、電源電位Vccを
伝達する。配線316は、配線314とpチャネルMO
Sトランジスタ310を介して接続されている。pチャ
ネルMOSトランジスタ310は、そのゲートに階層電
源制御信号SCRCの反転信号である信号/SCRCを
受ける。
【0106】配線320は、接地電位Vssを伝達す
る。配線318は、配線320と、nチャネルMOSト
ランジスタ312を介して接続されている。nチャネル
MOSトランジスタ312のゲートは、階層電源制御信
号SCRCを受ける。
【0107】インバータ302および306は、配線3
14および配線318から電源電位の供給を受ける。イ
ンバータ304および308は、それぞれ配線316お
よび配線320から電源電位の供給を受ける。
【0108】続いて、図5(b)を参照して、待機動作
時においては、信号SCRCのレベルは“L”レベルで
あり、信号/SCRCのレベルは“H”レベルである。
このため、nチャネルMOSトランジスタ310および
nチャネルMOSトランジスタ312はともにオフ状態
となっている。ところで、上述したとおり、低電源電圧
動作においても、トランジスタが高速に動作することが
可能であるように、しきい値電圧が低下された状態であ
る場合、トランジスタ310および312ならびにイン
バータ302〜308に含まれるトランジスタのそれぞ
れが遮断状態となっている場合においても、無視できな
いリーク電流が発生する。
【0109】図5(b)においては、待機時において、
インバータ302への入力レベルが“L”レベルとなっ
ているものとする。これに応じて、インバータ304の
入力レベルは“H”レベルに、インバータ306の入力
レベルは“L”レベルに、インバータ308の入力レベ
ルは“H”レベルにそれぞれなっているものとする。
【0110】まず、nチャネルMOSトランジスタ31
2はオフ状態ではあるものの、一定のリーク電流が存在
するため、配線318の電位レベルは、配線320の電
位レベル、すなわち接地電位Vssよりも高い電位レベ
ルとなっている。このため、インバータ302を構成す
るトランジスタのうち、nチャネルMOSトランジスタ
322のゲートの電位レベルは“L”レベルであり、す
なわち、そのソースの電位レベルは、電位Vssよりも
高い電位レベルとなっている。このため、nチャネルM
OSトランジスタ3022はより強くオフ状態となるこ
とになり、インバータ302を介して流れるリーク電流
が減少する。
【0111】同様にして、pチャネルMOSトランジス
タ310は遮断状態となっているものの、そのリーク電
流により、配線316の電位レベルは電源電位Vccよ
りも低い値となっている。これに応じて、インバータ3
04を構成するトランジスタのうちpチャネルMOSト
ランジスタ3044のソース電位は電源電位Vccより
も低い電位レベルに、そのゲート電位はインバータ30
2からの出力レベル、すなわち電源電位Vccとなって
いる。このため、pチャネルMOSトランジスタ304
4は、より強くオフ状態となることになり、インバータ
304を介してのリーク電流が減少する。
【0112】インバータ306および308において
も、同様にして、リーク電流が減少する。
【0113】すなわち、階層電源構成をとることによ
り、待機動作時におけるインバータ列302〜308の
消費電力が低減されることになる。
【0114】一方、図5(c)を参照して、活性動作時
においては、信号SCRCのレベルは“H”レベルに、
信号/SCRCのレベルは“L”レベルとなって、pチ
ャネルMOSトランジスタ310およびnチャネルMO
Sトランジスタ312はともにオン状態となる。
【0115】これに応じて、インバータ302〜308
は、いずれも電源電位Vccおよび接地電位Vssを受
けて動作することになる。
【0116】ただし、図5(c)においては、インバー
タ302〜308は、いずれも電源電位Vccおよび接
地電位Vssにより動作するため、インバータの入力レ
ベルが“H”レベルまたは“L”レベルのいずれである
場合においても、一定量のリーク電流が発生することに
なる。
【0117】以上説明したような階層電源構成は、図5
(b)に示したように、待機動作時における各論理ゲー
ト回路(図5(b)においてはインバータ)の入力レベ
ルが固定された値となっている場合には、リーク電流を
有効に減少させることが可能である。ただし、待機動作
時における入力レベルが“L”レベルまたは“H”レベ
ルのいずれであるかが確定していない論理ゲート回路に
おいては、有効に動作することはできない。
【0118】このことを、図4に示したプリデコーダ回
路36について見てみると、プリデコーダ回路36のう
ち、領域202中に含まれる回路は、階層電源構成で動
作するため、バンクが活性化されない通常の待機時にお
いては、MOSトランジスタのサブスレッショルド電流
によるリーク電流を減少させることが可能である。
【0119】これに対して、プリデコーダ回路36のう
ち、領域201中に含まれる回路、すなわちレベル保持
回路208、212、228、238、248および2
56は、待機動作中においても、その保持するレベルが
動作状態によって変化するため、これらの回路について
は、階層電源構成をとっていない。
【0120】つまり、図4に示したプリデコーダ回路の
構成においては、チップが活性期間中であっても、メモ
リセルからのデータを読出す等の動作を行なうために、
外部からのデータを取込むための十分な期間が終了した
後には、必要部分以外の回路については階層電源構成を
とることで、サブスレッショルド電流を低減させる構成
となっている。
【0121】このようにして、領域202中に含まれる
回路について、階層電源構成をとった場合も、ラッチ回
路224、234、244の出力レベルに応じて動作す
るドライバ回路226、236、246は、そのコマン
ドレベルを伝達する最初の期間だけ動作する。コマンド
レベルがレベル保持回路228〜248に保持された後
は、ドライバ回路226〜246は、トライステート構
成をとっているため、その出力レベルはフローティング
状態となる。すなわち、このドライバ回路226〜24
6よりも手前の回路系は、階層電源構成によりサブスレ
ッショルド電流を低減させる状態となっても、対応する
メモリセルブロック(バンク)に対して出力されている
動作のコマンドは、レベル保持回路228〜248によ
りその状態が保持されている。
【0122】ここで、領域202中に含まれる回路のう
ち、フリップフロップ回路224、234および244
を構成するMOSトランジスタについては、階層電源構
成をとらず、リーク電流が十分小さくなるしきい値(以
下、MVthで表わす)のトランジスタで構成されてい
るものとする。
【0123】アドレスバス50cから取込まれたアドレ
スデータも、同様にして、ラッチ回路250に取込まれ
た後、プリデコーダ252において、対応するメモリセ
ルブロックに伝搬するための処理を行なった後、ドライ
バ回路254において一定期間だけドライブされる。そ
の後、トライステート構成を有するドライバ回路254
が信号SCRCの不活性化に伴って電源電位Vccより
も低い電位または接地電位Vssよりも高い電位により
動作する状態となった場合でも、ドライバ回路254の
出力はフローティング状態となる。
【0124】ドライバ回路254によりドライブされた
プリデコード信号のレベルは、レベル保持回路256に
より保持される。以上の構成により、ドライバ回路25
4よりもコントロール回路20よりの回路系は、階層電
源構成により、それを構成するMOSトランジスタのサ
ブスレッショルド電流を低減させる方向にリセットされ
ている場合でも、メモリセルアレイに対して出力される
プリデコードアドレス信号はその状態を保持することに
なる。
【0125】図6は、図4に示したプリデコード回路3
6の動作を説明するためのタイミングチャートである。
【0126】図6において、信号B0〜B7はバンクア
ドレスを示す信号であり、信号Rowはロウ系(行系)
の回路動作の活性化を指示するロウ系アクセス識別信号
であり、信号Clmはコラム系(列系)の回路動作の活
性化を指示するコラム系アクセス識別信号であり、信号
ACTはコントロール回路20から伝達されるバンク活
性化信号である。
【0127】さらに、フラグ信号はバンクがアクセスさ
れた(バンクがヒットした)のを受けてレベル保持回路
208に保持された信号であり、信PCはコントロール
回路20から伝達され、選択されたバンクのプリチャー
ジ動作を指示するプリチャージ信号であり、信号APC
はコントロール回路20から伝達されすべてのバンクの
プリチャージ動作を指示するオールバンクプリチャージ
信号である。
【0128】信号l.EQはレベル保持回路228によ
り保持されるローカルビット線イコライズ信号であり、
信号l.RXTはレベル保持回路238により保持され
るローカルワード線活性化信号であり、信号l.SEは
レベル保持回路228により保持されるローカルセンス
アンプ活性化信号であり、電位MWLはメモリセルブロ
ック(バンク)内のメインワード線の電位レベルであ
る。
【0129】信号Add.ラッチは、レベル保持回路2
56に保持されるアドレス信号である。
【0130】つぎに、動作について説明する。時刻t1
における外部クロック信号Ext.CLKの立上がりの
エッジにおいて、デコードされたバンクアドレスのうち
ビットB7が活性状態であって、対応するバンクの選択
が行なわれる。このとき、信号Rowも活性状態である
ため、これに応じて、ワンショットパルス発生回路20
4から活性なワンショットパルスが出力される。これに
応じて、コマンドデータバス53bにより伝達されてい
る活性状態の信号ACTがドライバ回路206によりド
ライブされ、レベル保持回路208に、この活性な信号
ACTのレベルがフラグ信号として保持される。
【0131】フラグ信号の活性化に応じて、ラッチ回路
224には、コマンドデータバス53bにより伝達され
た信号EQのレベルが保持される。
【0132】時刻t1においては、階層電源制御信号S
CRCも活性状態(“H”レベル)となって、領域20
2中の回路は、すべて電源電位Vccと接地電位Vss
とを受けて動作している。
【0133】ラッチ回路224に取込まれた信号EQの
レベルは、ドライバ回路226によりドライブされ、レ
ベル保持回路228に内部イコライズ信号int.EQ
として保持される。
【0134】一方、時刻t2において、コマンドデータ
バス53bにより伝達される信号RXTが、活性状態と
なり、このレベルがラッチ回路234に取込まれる。こ
れに応じて、レベル保持回路238は、内部ワード線活
性化信号int.RXTのレベルを活性状態に保持す
る。
【0135】続いて、時刻t3において、コマンドデー
タバス53bにより伝達された信号SEのレベルが活性
状態となり、このレベルがラッチ回路244に取込まれ
る。
【0136】これに応じてレベル保持回路248は、内
部センスアンプ活性化信号int.SEのレベルを活性
状態に保持する。
【0137】内部ワード線活性化信号int.RXTの
活性化に応じて、選択された行の主ワード線の電位レベ
ルが活性状態(“H”レベル)へと変化する。
【0138】一方、アドレスバス50cを介して伝達さ
れたアドレス信号は、ラッチ回路250によりラッチさ
れ、プリデコーダ252によりプリデコードされた後、
ドライバ254によりドライブされ、ロウプリデコーダ
線PDLのレベルが、それぞれ対応するレベルへと駆動
される。ロウプリデコーダ線PDLのレベルによりプリ
デコーダ252により時刻t4において、SCRCが不
活性状態(“L”レベル)へと変化する。
【0139】すなわち、時刻t1から時刻t4までの期
間が、1個のバンクの合計の回路の動作に必要とされる
期間である。
【0140】信号SCRCが不活性状態となることによ
り、領域202中に含まれる回路は、リーク電流が小さ
くなる動作モードへと移行する。
【0141】これに対し、レベル保持回路228、23
8および248からそれぞれ出力される内部イコライズ
信号int.EQ、内部ワード線活性化信号int.R
XTおよび内部センスアンプ活性化信号int.SE
は、そのレベルを保持する。
【0142】時刻t5における外部クロック信号Ex
t.CLKの立上がりのエッジにおいて、バンク信号B
7および信号Rowが活性化状態となり、かつプリチャ
ージ信号PCが活性状態となることにより、ドライバ回
路210を介して入力された信号PCのレベルを受け
て、ワンショットパルス発生回路214から出力される
信号により、NOR回路222、232および242が
駆動され、フリップフロップ回路224、234および
244のレベルがリセットされる。
【0143】一方、信号SCRCも時刻t5において活
性状態となるので、これに応じて、信号int.EQ、
int.RXTおよびint.SEもそのレベルをリセ
ットする。また、ラッチ回路250の保持するレベルも
信号SCRCの活性化に応じてリセットされ、これに応
じて、ロウプリデコーダ線PDLのレベルもリセットさ
れる。
【0144】すなわち、時刻t4からt5の期間におい
ては、リーク電流を減少させるために、領域202中に
含まれる回路はリセットされてしまうが、信号int.
EQ、信号int.RXT、信号int.SEおよびロ
ウプリデコーダ線PDLのレベルは、すべてそのレベル
を保持していることになる。
【0145】以上のような構成とすることで、各々独立
して動作するバンクに対して、アドレスデータバスを共
通に設ける構成とし、アドレスバスの占有面積を減少さ
せることが可能である。
【0146】しかも、選択され、活性化されたバンクに
対するコマンド信号およびアドレス信号の取込を行なう
ための一定期間(時刻t1から時刻t4までの期間)が
終了した後は、領域202中に含まれる回路について
は、階層電源構成により、リーク電流を溶接することが
可能であるため、待機状態におけるリーク電流を減少さ
せるばかりでなく、バンクが活性状態となっている期間
中のリーク電流をも低減させることが可能となる。
【0147】[実施の形態2]図4に示したロウプリデ
コーダ回路36においては、フリップフロップ回路22
4、234および244は、そのリーク電流を低減する
ために、それらを構成するMOSトランジスタのしきい
値を、リーク電流が十分小さくなる値MVthとしてい
た。
【0148】しかしながら、このフリップフロップ回路
224、234および244についても、階層電源構成
により、待機状態時および活性期間のうち、図6に示し
た時刻t4から時刻t5の期間においては、階層電流構
成によりその消費電力を低減する構成とすることも可能
である。
【0149】図7は、このような階層電源構成とした場
合のフリップフロップ回路224、ドライバ回路226
およびレベル保持回路228の構成を示す概略ブロック
図である。
【0150】実施の形態2のフリップフロップ回路22
4以外の回路の構成は、実施の形態1の同期型半導体記
憶装置1000の構成と同様であるので、以下ではフリ
ップフロップ回路224の構成を中心に説明することに
する。
【0151】図7を参照して、フリップフロップ回路2
24は、互いに交差接続されたNAND回路2240お
よび2260と、この交差接続されたNAND回路22
40および2260に対する接地電位の供給状態を切換
える切換回路2274と、NAND回路2240および
2260に対する電源電位Vccの供給状態を切換える
切換回路2254とを含む。
【0152】すなわち、切換回路2254および227
4により階層電源が構成されている。
【0153】ドライバ回路226は、信号SCRCを一
方の入力ノードに受け他方にフリップフロップ回路22
4の一方の出力信号を受けるNAND回路2286と、
一方の入力ノードに信号SCRCを受け、他方の入力ノ
ードにフリップフロップ回路224の他方の出力を受け
るNAND回路2288と、NAND回路2286の出
力を受けるインバータ2289と、インバータ2289
の出力によりゲート電位が制御され、ソースに階層電源
電位S−GNDを受けるnチャネルMOSトランジスタ
2290と、ゲートに、NAND回路2288の出力を
受け、ソースに階層電源電位S−Vccを受けるpチャ
ネルMOSトランジスタ2292とを含む。このnチャ
ネルMOSトランジスタ2290のドレインと、pチャ
ネルMOSトランジスタ2292のドレインとが接続さ
れ、この接続ノードの電位レベルがドライバ回路226
の出力電位となっている。
【0154】レベル保持回路228は、信号SCRC2
により活性化されるラッチ回路である。信号SCRC2
は、信号SCRCと同時に活性化され、図6における時
刻t6において、信号SCRCが不活性化するのに応じ
て、不活性となる信号である。
【0155】図8は、図7に示したフリップフロップ回
路224の構成をより詳細に説明するためのブロック図
である。
【0156】切換回路2254は、電源電位VccとN
AND回路2240の電源ノードとの間に互いに並列に
接続されるpチャネルMOSトランジスタ2244およ
び2246と、電源電位Vccと、NAND回路226
0の電源ノードとの間に並列に接続されるpチャネルM
OSトランジスタ2264および2266とを含む。切
換回路2274は、NAND回路2240の接地電源ノ
ードと接地電位Vssとの間に互いに並列に接続される
nチャネルMOSトランジスタ2248および2250
と、NAND回路2260の接地電源ノードと接地電位
Vssとの間に互いに並列に接続されるnチャネルMO
Sトランジスタ2268および2270とを含む。
【0157】nチャネルMOSトランジスタ2250お
よび2270のゲートは、信号SCRCを受け、pチャ
ネルMOSトランジスタ2246および2266のゲー
トは、信号/SCRCを受ける。
【0158】NAND回路2240の一方の入力ノード
はインバータ220からの出力を受ける。インバータ2
240の他方の入力ノードと、nチャネルMOSトラン
ジスタ2244のゲートとnチャネルMOSトランジス
タ2248のゲートとは、NAND回路2260の出力
ノードに接続している。
【0159】NAND回路2260の一方の入力ノード
と、nチャネルMOSトランジスタ2268のゲート
と、pチャネルMOSトランジスタ2264のゲートと
は、NAND回路2240の出力ノードに接続してい
る。
【0160】フリップフロップ回路224は、さらに、
電源投入後の所定期間リセットされる(“L”レベルと
なる)信号PORとNOR回路222からの出力を受け
るNAND回路2280と、NAND回路2280の出
力を受けて反転して出力するインバータ2282とを含
む。インバータ2282の出力が、NAND回路226
0の他方の入力ノードに入力される。
【0161】NAND回路2260の出力ノードと、電
源電位Vccとの間にpチャネルMOSトランジスタ2
272が接続され、このpチャネルMOSトランジスタ
2272のゲートは信号PORを受ける。一方、NAN
D回路2240の出力ノードと接地電位Vssとの間に
nチャネルMOSトランジスタ2252が設けられ、こ
のnチャネルMOSトランジスタ2252の出力ゲート
は、信号PORを受けて反転して出力するインバータ2
284の出力を受ける。
【0162】すなわち、NAND回路2240の出力レ
ベルは、PORの活性化時において“L”レベルに、N
AND回路2260の出力ノードの電位レベルは、信号
PORの活性化時に“L”レベルに、“H”レベルへと
リセットされる構成となっている。
【0163】図8に示したような構成とすることによ
り、信号SCRCが活性状態においては、NAND回路
2240および2260は、電源電位Vccおよび接地
電位Vssを受けて動作し、信号SCRCが不活性化し
ている期間中は、そのリーク電流が減少するように自己
バイアスが発生する構成となっている。
【0164】このような構成とすることで、実施の形態
1と同様に、選択されたバンクが活性期間中において
も、その消費電力を低減することが可能となる。
【0165】[実施の形態3]図9は、本発明の実施の
形態3のロウプリデコーダ回路300の構成を示す概略
ブロック図である。
【0166】実施の形態2のプリデコーダ回路の構成と
異なる点は、ドライバ回路254が信号SCRCにより
活性化される構成ではなく、レベル保持回路208によ
り保持されるフラグの値および信号SCRCにより制御
されるドライバ制御回路302により活性化される構成
となっている点である。
【0167】ドライバ制御回路302は、一度活性化さ
れた後、不活性化すると、信号ACTが活性期間中は、
再び信号SCRCが活性状態となっても、ドライバ回路
254を不活性状態に維持するための回路である。
【0168】すなわち、このようなドライバ制御回路3
02によりドライバ回路254を制御することにより、
一旦行アドレスがレベル保持回路256に取込まれた
後、再び信号SCRCが活性化されるような動作が挿入
された場合に、ドライバ254が活性状態となって、レ
ベル保持回路256の保持されているプリデコーダアド
レス信号がリセットされてしまうことを防止する動作を
行なう。
【0169】つまり、一旦ドライバ回路254が活性状
態となった後、不活性化すると、アドレス信号の取込を
行なう回路系であるラッチ回路250、プリデコーダ2
52とはリセットされているため再びドライバ回路25
4が活性状態となると、レベル保持回路256に保持さ
れているプリデコードアドレス信号がリセットされてし
まうことを防止する構成となっている。
【0170】その他の点は、実施の形態2のロウプリデ
コーダ回路の構成と同様であるので同一部には同一符号
を付してその説明は繰返さない。
【0171】図10は、図9に示したドライバ制御回路
302の構成を説明するための概略ブロック図である。
【0172】プリチャージ時に信号PCが活性となり、
レベル保持回路208から出力されるプラグのレベルが
リセットされる際にレベル保持回路214から出力され
るパルス信号RSTに応じて所定期間”L”レベルとな
る信号RST1を受けるインバータ3022と、信号S
Eを受けて反転するインバータ3024、インバータ3
024の出力を受けて反転するインバータ3026と、
信号SCRCのレベルを受けて反転するインバータ30
28と、信号ACTとインバータ3026の出力信号と
信号PORとインバータ3028からの出力とを受け
て、出力信号LTおよびHBのレベルを制御するフリッ
プフロップ回路304と、インバータ3022の出力お
よび信号LTを受けるOR回路3030と、信号RST
および信号HBを受けるAND回路3034と、OR回
路3030の出力を受けてバッファ処理し、ドライバ駆
動信号RDDRVを出力するバッファ回路3032と、
AND回路3034の出力を受けて、信号RDDRVの
反転信号を出力するバッファ回路3036とを含む。
【0173】フリップフロップ回路304は、互いに交
差接続されたNAND回路3050および3052によ
り構成されるSRフリップフロップ回路を含む。SRフ
リップフロップ回路のレベルは、信号ACTを受けるイ
ンバータ3048からの出力によりセットされる。フリ
ップフロップ回路304は、さらに、信号PORおよび
インバータ3028の出力を受けるNOR回路3042
と、NOR回路3042の出力を受けるインバータ30
44と、インバータ3026の出力とインバータ304
4の出力を受けるNOR回路3046とを含む。NOR
回路3046の出力により、SRフリップフロップ回路
のレベルはリセットされる。
【0174】フリップフロップ回路304は、さらに、
NAND回路3050の出力を受けて反転し、HBを出
力するインバータ3054と、インバータ3054の出
力を受けて反転し、信号LTを出力するインバータ30
56とを含む。
【0175】このような構成とすることで、信号RDD
RVが一旦活性化した後そのレベルを維持している期間
中は信号SCRCを不活性化することによりリセットさ
れた後に再び信号SCRCが活性状態となっても、信号
RDDRVが活性状態となることはない。
【0176】図11は、図9に示したロウプリデコーダ
回路300の動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【0177】図11において、信号SCRC2はコント
ロール回路20により発生され、レベル保持回路22
8、238、248等のリセットを行う信号であり、信
号RDDRVは、ドライバ回路254の動作を制御する
信号である。
【0178】時刻t1において、バンクアドレス信号B
7および信号Rowが活性状態となっていることに応じ
て、活性状態となっている信号ACTのレベルがコマン
ドデータバス53bからレベル保持回路208に取込ま
れ、レベル保持回路208から出力されるフラグのレベ
ルが“H”レベルへと変化する。
【0179】これに応じて、ドライバ制御回路302か
ら出力されるドライバ制御信号RDDRVが活性状態
(“H”レベル)となる。
【0180】また、信号SCRCおよびSCRC2も活
性状態となる。
【0181】以後の動作は、時刻t4において、信号R
DDRVが不活性状態となることを除いては、図6に示
したロウプリデコーダ36の動作と同様であるので、そ
の説明は繰り返さない。
【0182】図12は、図9に示したロウプリデコーダ
の構成において、複数の異なるバンクへのアクセスが連
続して起こる場合の動作を説明するためのタイミングチ
ャートである。
【0183】図11と同様に、時刻t1において、バン
クアドレスB7が活性状態であって、信号Rowが活性
状態であることに応じて、コマンドデータバス53bか
ら活性状態となっている信号ACTのレベルが、レベル
保持回路208に取込まれる。これに応じて、レベル保
持回路208から出力されるフラグのレベルは“H”レ
ベルへと変化する。
【0184】以後は、図11に示したのと同様にして、
このバンクアドレスB7に対応するバンクの動作が行な
われる。
【0185】引続いて、時刻t5において、バンクアド
レスB2および信号Rowが活性状態となって、時刻t
1に選択されたのとは異なる他のバンクへのロウアクセ
スが行なわれる。このとき、信号RDDRVは、一度活
性化後、不活性となった後には、他のバンクへのアクセ
スがセットされても活性化されず、時刻t1において選
択されたバンクにおけるロウプリデコーダ線のレベル
は、もとのレベルを維持することになる。
【0186】なお、以上の説明では、フリップフロップ
回路224、234および244は、実施の形態2と同
様に、信号SCRCにより制御される階層電源構成で駆
動されるものとしたが、実施の形態1と同様に、リーク
電流を低減できるようにしきい値がMVthに設定され
たMOSトランジスタにより構成されていてもよい。
【0187】以上のような構成により、アドレスバスの
チップに対する占有面積を低減することが可能で、かつ
バンクが活性状態においてもその消費電力を低減するこ
が可能である。
【0188】さらに、一旦ロウアドレスが、対応するバ
ンクに取込まれた後には、プリチャージ信号が活性とな
るまでは、ロウプリデコーダラインPDLのレベルが一
定レベルに保持され、取込まれたロウプリデコード信号
がリセットされてしまうことを防止することが可能であ
る。
【0189】[実施の形態4]図13は、本発明の実施
の形態4のロウプリデコーダ回路400の構成を示す概
略ブロック図である。
【0190】図9に示したプリデコード回路300の構
成と異なるのは、以下の点である。すなわち、実施の形
態4のロウプリデコーダ回路400においては、ロウア
ドレス信号に対するラッチ回路250、プリデコーダ回
路252、ドライバ回路254およびレベル保持回路2
56のいずれも、階層電源構成をとらず、信号SCRC
が不活性状態となっても、電源電位Vccと接地電位V
ssにより動作する構成となっている点である。
【0191】さらには、ドライバ回路254は、信号S
CRCとレベル保持回路208から出力されるフラグ信
号を受けるOR回路410からの出力信号により活性化
される構成となっている点である。
【0192】その他の点は、図9に示したロウプリデコ
ーダ回路300の構成と同様であるので、同一部分には
同一符号を付してその説明は繰返さない。
【0193】図14は、図13に示したロウプリデコー
ダ回路400の動作を説明するためのタイミングチャー
トである。
【0194】時刻t1において、バンクアドレス信号B
7および信号Rowが活性状態となっていることに応じ
て、活性状態となっている信号ACTのレベルがコマン
ドデータバス53bからレベル保持回路208に取込ま
れ、レベル保持回路208から出力されるフラグのレベ
ルが“H”レベルへと変化する。
【0195】これに応じて、ドライバ制御回路302か
ら出力されるドライバ制御信号RDDRVが活性状態
(“H”レベル)となる。
【0196】また、信号SCRCおよびSCRC2も活
性状態となる。以後の動作は、時刻t6において、信号
RDDRVが信号SCRCおよびSCRC2とともに不
活性状態となることを除いては、図6に示したロウプリ
デコーダ36の動作と同様であるので、その説明は繰り
返さない。
【0197】図15は、コラムプリデコーダ34の構成
を示す概略ブロック図である。図15を参照して、コン
トロール回路20からは、コマンドデータバス53bを
介して、読出動作を指示するためのリード系アクセス識
別信号READと、書込動作を指示するためのライト系
アクセス識別信号WRITEと、オートプリチャージ動
作を指示するためのオートプリチャージ識別信号ATP
Cと、各バンク毎にバースト動作の終了を指示するため
のバースト終了識別信号BENDと、コラム選択動作中
に他のバンクが選択された場合、このコラム選択動作を
強制的に終了させることを指示するターミネーション識
別信号TERMと、プリチャージ動作の終了を指示する
ためのプリチャージ動作識別信号PCCMが伝達され
る。
【0198】また、信号BACTは、図13において説
明したとおり、バンクが選択されるのにともなって、レ
ベル保持回路208に保持されるフラグ信号である。
【0199】コラムプリデコーダ回路34は、コマンド
データバス53bにより伝達される信号Clmと対応す
るバンクアドレス信号B7を受けるAND回路510
と、AND回路510の出力が活性化するのに応じてワ
ンショットパルス信号を出力するワンショットパルス生
成回路512と、フラグ信号BACTの活性化に応じて
活性化され、ワンショットパルス生成回路512の出力
をドライブするドライブ回路514と、信号ATPC、
信号BENDおよび信号TERMを受けるOR回路51
6と、ドライブ回路514の出力によりセットされ、O
R回路516の出力によりリセットされ、コラム系の動
作が活性化されたことを示すコラムフラグ信号Col.
FLAGを出力するフリップフロップ回路518とを含
む。
【0200】コラムプリデコーダ回路34は、さらに、
コラムフラグ信号Col.FLAGの活性化に応じて活
性化され、コマンドデータバス53bにより伝達された
信号READをドライブするインバータ回路520と、
信号WRITE、信号ATPC、信号BENDおよび信
号TERMを受けるOR回路522と、インバータ回路
520の出力によりセットされ、OR回路522の出力
によりリセットされ、読出動作が活性化されたことを示
すリードフラグ信号READ.FLAGを出力するフリ
ップフロップ回路524とを含む。
【0201】コラムプリデコーダ回路34は、さらに、
コラムフラグ信号Col.FLAGの活性化に応じて活
性化され、コマンドデータバス53bにより伝達された
信号WRITEをドライブするインバータ回路530
と、信号READ、信号ATPC、信号BENDおよび
信号TERMを受けるOR回路532と、インバータ回
路530の出力によりセットされ、OR回路532の出
力によりリセットされ、書込動作が活性化されたことを
示すライトフラグ信号WRITE.FLAGを出力する
フリップフロップ回路524とを含む。
【0202】コラムプリデコーダ回路34は、さらに、
コラムフラグ信号Col.FLAGを受けて所定クロッ
ク時間遅延するシフト回路542と、フラグ信号BAC
Tおよびシフト回路542の出力を受けるOR回路54
0と、OR回路540の出力の活性化に応じて活性化さ
れ、コマンドデータバス53bにより伝達された信号A
TPCをドライブするインバータ回路544と、コマン
ドデータバス53bにより伝達された信号PCCMPを
受けるインバータ回路546と、インバータ回路544
の出力によりセットされ、インバータ回路546の出力
によりリセットされ、オートプリチャージ動作が活性化
されたことを示すオートプリチャージフラグ信号ATP
C.FLAGを出力するフリップフロップ回路548と
を含む。
【0203】コラムプリデコーダ回路34は、さらに、
ワンショットパルス発生回路512の出力信号に応じて
活性化され、アドレスバス50cにより伝達されたコラ
ム信号を取りこむラッチ回路550を含む。ラッチ回路
550は、信号SCRCの活性化に応じてリセットされ
る。
【0204】コラムプリデコーダ回路34は、さらに、
ラッチ回路550に保持されたコラムアドレスの下位ビ
ットに応じて、活性化する列選択線(図示せず)に対応
するアドレス信号の下位ビットを調整する偶数ビット調
整回路552および奇数ビット調整回路554と、ラッ
チ回路550からの上位ビットデータをプリデコードす
るプリデコーダ556と、偶数ビット調整回路552か
らの下位ビットデータをプリデコードするプリデコーダ
557と、奇数ビット調整回路554からの下位ビット
データをプリデコードするプリデコーダ558と、信号
READまたは信号WRITEにより活性化され、プリ
デコーダ556、557および558からのプリデコー
ド信号を所定数のクロック(たとえば、2クロック)だ
け遅延して出力するシフト回路560と、冗長デコーダ
(図示せず)からのアドレスが欠陥アドレスに相当しな
いことを示す信号Missに応じて活性化され、シフト
回路560からの出力を受けてコラムプリデコード線の
レベルをシフト回路560の出力信号に応じてドライブ
するドライブ回路562を含む。
【0205】図16は、図13および図15に示したロ
ウプリデコーダ回路400およびコラムプリデコーダ回
路34の読出動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【0206】図16を参照して、時刻t1において、選
択されたバンクが活性化し、イコライズ信号EQの不活
性化に応じて、ローカルイコライズ信号l.EQも不活
性化して、選択されたバンク中のビット線対等のイコラ
イズ状態が解除される。一方、信号SCRC、SCRC
2も活性状態となる。
【0207】時刻t2において、ワード線活性化信号R
XTが活性化し、ロウアドレス信号に応じてワード線の
選択動作が行われ、時刻t3においてセンスアンプ活性
化信号SEの活性化に応じて、ローカルセンスアンプ活
性化信号l.SEも活性化して選択された複数のメモリ
セルからのデータが対応するビット線電位として増幅さ
れる。
【0208】時刻t4において、信号READが活性化
し、読出動作が指定されると、フラグ信号Col.FL
AGおよびREAD.FLAGが活性化する。一方、コ
ラムアドレス信号が選択されたバンクに取りこまれ、時
刻t5およびt6において選択されたメモリセルからの
データのがバンクから読み出され、保持される。時刻t
6において、バースト長4分のデータの読出が完了する
のに応じて、信号BENDが活性化する。
【0209】時刻t6、t7の外部クロック信号Ex
t.CLKの立上がり、および立下りに応じて、時刻t
5においてバンクから読み出され、保持されているデー
タがパラレル・シリアル変換されて外部に出力される。
【0210】時刻t8、t9の外部クロック信号Ex
t.CLKの立上がり、および立下りに応じて、時刻t
6においてバンクから読み出され、保持されているデー
タがパラレル・シリアル変換されて外部に出力される。
【0211】一方、時刻t8においては、信号PCの活
性化に応じて、選択さたバンクのプリチャージが行われ
る。
【0212】時刻t10において、バースト長4の場合
のデータ出力が完了する。時刻t11において、信号S
CRCは不活性状態となり、領域401以外の部分は、
階層電源により動作してリーク電流の小さな動作モード
に移行する。
【0213】図17は、図13および図15に示したロ
ウプリデコーダ回路400およびコラムプリデコーダ回
路34の書込動作を説明するためのタイミングチャート
である。
【0214】図17を参照して、時刻t1において、選
択されたバンクが活性化し、イコライズ信号EQの不活
性化に応じて、ローカルイコライズ信号l.EQも不活
性化して、選択されたバンク中のビット線対等のイコラ
イズ状態が解除される。
【0215】時刻t2において、ワード線活性化信号R
XTが活性化し、ロウアドレス信号に応じてワード線の
選択動作が行われ、時刻t3においてセンスアンプ活性
化信号SEの活性化に応じて、ローカルセンスアンプ活
性化信号l.SEも活性化して選択された複数のメモリ
セルからのデータが対応するビット線電位として増幅さ
れる。
【0216】時刻t4において、信号WRITEが活性
化し、読出動作が指定されると、フラグ信号Col.F
LAGおよびWRITE.FLAGが活性化する。一
方、コラムアドレス信号が選択されたバンクに取りこま
れ、時刻t5およびt6において外部から書込データが
取りこまれて、保持される。
【0217】続いて、時刻t7およびt8において外部
から書込データが取りこまれて、保持される。
【0218】時刻t8において、シフト回路560によ
り規定される内部レイテンシ2(クロック2周期分)だ
け、コラムアドレス取込から時間が経過し、メモリセル
へのデータの書込み動作が開始される。
【0219】時刻t9、t10の外部クロック信号Ex
t.CLKの立上がり、および立下りに応じて、時刻t
5およびt6において外部から書込まれ、保持されてい
るデータが選択されたメモリセルに書込まれる。
【0220】時刻t11、t12の外部クロック信号E
xt.CLKの立上がり、および立下りに応じて、時刻
t7およびt8において外部から書込まれ、保持されて
いるデータが選択されたメモリセルに書込まれる。
【0221】時刻t12において、バースト長4の場合
のデータ書込みが完了する。一方、時刻t13において
は、信号PCの活性化に応じて、選択さたバンクのプリ
チャージが行われる。
【0222】時刻t11において、信号SCRCは不活
性状態となり、領域401以外の部分は、階層電源によ
り動作してリーク電流の小さな動作モードに移行する。
【0223】以上のような構成により、チップ面積にし
める制御系回路の占有面積を抑制しつつ、待機動作中お
よび活性動作中の消費電力を低減することが可能であ
る。
【0224】なお、上記のようなコラムプリデコーダ3
4の構成および動作は、実施の形態1〜3の場合におい
ても、基本的に同様である。
【0225】[実施の形態5]実施の形態1から4にお
いては、各バンクに対応するメモリセルブロックは、図
1に示すような配置となっていた。
【0226】しかしながら、バンクの配置としては、行
および列方向に配置されたアレイ状の配置とすることも
可能である。
【0227】このようなアレイ状の配置の場合、従来の
ように、各バンク毎に、コントローラ、アドレス制御回
路、コラムデコーダ、ロウデコーダを配置して、独立動
作可能な構成とすると、図18あるいは図19に示すよ
うな配置となる。
【0228】すなわち、図18は、バンクがアレイ状に
配列された第1の同期型半導体記憶装置の構成を説明す
るための概略ブロック図である。
【0229】図18に示した構成では、バンク0〜バン
ク15の16個のバンクがアレイ状に配列されている。
バンク0〜3に対応して、アドレス制御回路602およ
びコントローラ604が設けられ、各バンクのロウデコ
ーダ606を制御する。また、アドレス制御回路600
およびコントローラ604は、各バンクのコラムデコー
ダ608も制御する。
【0230】同様の構成が、バンク4〜7、バンク8〜
11およびバンク12〜15のそれぞれに対応しても設
けられている。
【0231】図19は、バンクがアレイ状に配列された
第2の同期型半導体記憶装置の構成を説明するための概
略ブロック図である。
【0232】図19に示した構成でも、バンク0〜バン
ク15の16個のバンクがアレイ状に配列されている。
中央制御回路600からの制御信号に応じて動作するロ
ウコントローラ610およびコラムコントローラ612
が、バンク0〜15のそれぞれに対応して設けられ、各
バンクの行選択動作および列選択動作を制御する。
【0233】図18および図19のいずれに示した構成
も、従来の同期型半導体記憶装置のメモリマットを行方
向に分割して多バンクとする構成あるいは列方向に分割
して多バンクとする構成と比べると、センスアンプ動作
にともなう消費電流の増大を抑え、かつ、外部に取り出
せるI/O数(データビット数)を確保することが可能
となる。
【0234】しかしながら、この場合、チップ面積に占
める制御系回路の面積がバンク数の増大に伴い、格段に
大きくなってしまう。
【0235】図20は、このような問題点に対応しうる
多バンク構成の同期型半導体記憶装置2000の構成を
示す概略ブロック図である。
【0236】図19に示した構成とは異なり、中央制御
回路600からのコマンドデータをもとに、各バンクの
動作を制御するロウコントローラ620は、行方向の4
つのバンクにより共有され、コラムコントローラ630
は列方向の4つのバンクに共有される構成となってい
る。
【0237】これに対応して、各バンクには、ロウコン
トローラ620からのコマンドを対応するバンクが選択
されるのに応じて保持する行ローカル制御回路640
と、コラムコントローラ630からのコマンドを対応す
るバンクが選択されるのに応じて保持する列ローカル制
御回路650とが設けられている。
【0238】したがって、上記のようにバンクがアレイ
状に配置されている場合にも、実施の形態1〜4におい
て説明したように、アドレスバス、コマンドバスを複数
のバンクで共有化する構成とすることで、制御系回路の
占有面積を低減し、かつ、消費電力の低減を図ることが
可能である。
【0239】図21は、図20に示した同期型半導体記
憶装置2000において、バンクがアレイ状に配置され
ている場合にアドレスバスおよびコマンドデータバスを
共有化する構成を示す概略ブロック図である。
【0240】アレイ状に配置されたバンクのうち、メモ
リセルブロック100bをについてみると、コントロー
ラ回路(中央制御回路)600からのコマンド信号は、
コマンドデータバス(図示せず)を介して行メイン制御
回路620、列メイン制御回路630、行ローカル制御
回路640、列ローカル制御回路650に伝達される。
【0241】バンクアドレス信号、つまり、行方向のバ
ンクアドレスを示す水平バンクアドレス信号B0〜B3
ならびに列方向のバンクアドレスを示す垂直バンクアド
レス信号H0〜H3は、バンクアドレスバス51を介し
て、行メイン制御回路620、列メイン制御回路63
0、行ローカル制御回路640、列ローカル制御回路6
50に伝達される。行メイン制御回路620中のフラグ
生成回路6026および行ローカル制御回路640中の
フラグ生成回路6402は、対応する水平バンクアドレ
ス信号の活性化に応じて活性レベルを保持し、列メイン
制御回路630中のフラグ生成回路6204は、対応す
る垂直バンクアドレス信号の活性化に応じて活性レベル
を保持する。
【0242】一方、アドレス信号は、アドレスバス50
を介して、主ロウデコーダ6022、主コラムデコーダ
6202に伝達される。さらに、アドレスバス50によ
り、行ローカル制御回路610、列ローカル制御回路6
30にもアドレス信号が伝達される。
【0243】行メイン制御回路602、列メイン制御回
路620、行ローカル制御回路610、列ローカル制御
回路630は、それぞれ、バンクアドレス信号に応じ
て、自身が選択された場合に活性され、コマンドデータ
やアドレス信号の取込を行う。
【0244】主ロウデコーダ6022、主コラムデコー
ダ6202も、バンクアドレス信号に応じて、自身が選
択された場合に活性され、アドレス信号の取込を行う。
【0245】たとえば、行メイン制御回路620におい
ては、自身が選択されると、AND回路6024の出力
が活性化し、これに応じてコマンドがフラグ生成回路
(フリップフロップ回路)6026に取りこまれる。
【0246】一方で、行アドレスデータは、ラッチ回路
6028に取りこまれて保持される。
【0247】同様にして、行ローカル制御回路640
は、自身が選択されると、AND回路6404の出力が
活性化し、これに応じてコマンドがフラグ生成回路(フ
リップフロップ回路)6402に取りこまれる。
【0248】一方で、行アドレスデータは、ラッチ回路
6406に取りこまれて保持される。
【0249】主ロウデコーダ6022はメインワード線
MWLを選択し、行ローカル制御回路640は選択回路
6102によりサブワード線SWLを選択する。
【0250】主コラムデコーダ6202はメインコラム
選択線MYSを選択し、列ローカル制御回路630は選
択回路6302によりサブコラム選択線SYSを選択す
る。
【0251】以上の構成により、メモリセルMCが選択
される。図22は、メインワード線とサブワード線の構
成を説明するための図である。
【0252】図22を参照して、主ロウデコーダ602
2中に含まれるMWLデコーダ回路6100は、行アド
レス信号に応じて対応するメインワード線MWLを選択
し、活性化する。この選択動作中においては、スイッチ
SW1は、導通状態となって、メインワード線MWLと
MWLデコーダ回路6100とを結合する。
【0253】活性化されたメインワード線の電位レベル
は、非選択状態においてリセット信号RSTによりリセ
ットされていたラッチ回路6101に保持される。
【0254】ラッチ回路6101は、ラッチ回路602
8に含まれる回路である。サブワード線SWLの電位レ
ベルは、非選択状態では、リセット信号RSTの活性化
に応じて導通状態となるnチャネルMOSトランジスタ
6104により、接地電位にリセットされている。
【0255】選択動作中においては、サブワード線SW
Lの電位レベルは、ラッチ回路6110によりラッチさ
れる構成となっている。
【0256】一方、サブワード線SWLが選択される際
には、行ローカル制御回路610からの信号ROWBが
活性状態(" H" レベル)となり、pチャネルMOSト
ランジスタ6106を介して、nチャネルMOSトラン
ジスタ6108のゲート電位がドライブされ、このnチ
ャネルMOSトランジスタ6108が導通状態となる。
これに応じて、サブワード線SWLにメインワード線M
WLの電位レベルが伝達される。
【0257】この後、スイッチSW1は、遮断状態とな
り、MWLデコーダ回路6100等はリセットされる。
【0258】以上の動作により、選択されたメインワー
ド線MWLおよびサブワード線SWLの電位レベルを保
持したまま、MWLデコーダ6100等をリセット状態
あるいは階層電源による動作状態とすることで、活性動
作中においても消費電力を低減することが可能である。
【0259】以後は、図21において、たとえば、第1
行第2列に設けられたバンクを、たとえば、バンク12
と呼ぶことにする。
【0260】図23は、メインコラム選択線MYSとバ
ンク00〜バンク33のうち、たとえば、第1列に属す
るバンク01〜バンク31にそれぞれ対応するサブコラ
ム選択線SYS0〜SYS3の構成を説明するための図
である。
【0261】たとえば、サブコラム選択線SYS0は、
リセット信号RSTの活性化に応じて導通状態となるn
チャネルMOSトランジスタ6304により、接地電位
にリセットされる。
【0262】一方、サブコラム選択線SYS0が選択さ
れる場合は、列ローカル制御回路630からのバンク0
1に対応する信号/COLBF0が活性状態(" L" レ
ベル)となり、pチャネルMOSトランジスタ6306
が導通状態となる。これに応じて、サブコラム選択線S
YSにメインコラム選択線MYSの電位レベルが伝達さ
れる。
【0263】他のサブコラム線SYS1〜SYS3につ
いても同様の構成である。また、他の列に属するバンク
についても、同様のメインコラム選択線とサブコラム選
択線の構成が設けられている。
【0264】なお、図21および図22で説明したよう
な階層ワード線構造および階層コラム選択線構造を、実
施の形態1〜4の同期型半導体記憶装置に用いることも
可能である。
【0265】図24は、図21に示したアレイ状に分割
されたバンクに適用される階層構造のコラム選択線の他
の構成を示す図である。
【0266】後に説明するように、コラム選択信号はパ
ルス的であり、バンク00〜バンク33のうち、バンク
ij(i=0〜3、j=0〜3)において、コラムが活
性化しているものとする。また、この場合、1本のメイ
ンコラム選択線MYSに複数の(この場合4本)サブコ
ラム選択線SYSが接続されている。
【0267】第i行のバンクが活性化していることを示
し、かつ、メイン選択線MYSにより制御される複数の
サブコラム選択線のうち、k番目(k=0〜3)のサブ
コラム選択線が選択されたことを示すフラグである信号
/COLDikが活性化され、かつ、メインコラム選択
線MYSが活性化されると対応するサブコラム選択線S
YSが活性化される。
【0268】なお、複数のサブコラム選択線SYSを個
別に活性化する他の方式としては、信号/COLDik
をゲートに受けるPMOSトランジスタの替わりに、列
選択動作が活性化されたことを示すフラグ信号/COL
BFが活性化され、かつ、複数のサブコラム選択線SY
Sの中から1本を選択するデコード信号とが入力された
ときにサブコラム線が活性化するように、信号/COL
BFをゲートに受けるPMOSトランジスタとデコード
信号をゲートに受ける複数のMOSトランジスタとが直
列に設けられる構成とすることも可能である。
【0269】図25は、図21に示した同期型半導体記
憶装置の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
【0270】時刻t1において、行バンクアドレスおよ
び列バンクアドレス応じて、選択されたバンクが活性化
し、フラグ信号FLAGも活性状態となる。イコライズ
信号EQの不活性化に応じて、ローカルイコライズ信号
l.EQも不活性化して、選択されたバンク中のビット
線対等のイコライズ状態が解除される。さらに、アドレ
ス信号の取込動作を指示するローカルドライブ信号l.
FXDRVも活性化する。一方、信号SCRC、SCR
C2(図示せず)は活性状態となる。
【0271】時刻t2において、ワード線活性化信号R
XTが活性化し、ロウアドレス信号に応じてワード線の
選択動作が行われ、時刻t3においてセンスアンプ活性
化信号SEの活性化に応じて、ローカルセンスアンプ活
性化信号l.SEも活性化して選択された複数のメモリ
セルからのデータが対応するビット線電位として増幅さ
れる。
【0272】時刻t4において、ローカルドライブ信号
l.FXDRVは不活性状態となるが、アドレス信号
は、レベル保持回路により保持されている。
【0273】ローカルセンスアンプ活性化信号l.S
E、ローカルイコライズ信号l.EQ等は、選択された
バンクの動作中においては、それぞれ所定の期間、レベ
ル保持回路によりそのレベルが保持されている。
【0274】以後は、行バンクアドレスおよび列バンク
アドレスに応じて、順次、他のバンクの選択動作が行わ
れる。
【0275】なお、以上の説明では、信号EQ、RX
T、SE等は、それぞれ対応する所定期間活性状態とな
るものとしているが、ローカルセンスアンプ活性化信号
l.SE、ローカルイコライズ信号l.EQ等は、レベ
ル保持回路によりそのレベルが保持されるので、信号E
Q、RXT、SE等は、ワンショットパルスでもよい。
【0276】図26は、そのような場合の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。 その動作は、基
本的に図25の場合の動作と同様であるので、その説明
は繰り返さない。
【0277】以上のような構成でも、チップ面積にしめ
る制御系回路の占有面積を抑制しつつ、待機動作中およ
び活性動作中の消費電力を低減することが可能である。
【0278】[実施の形態6]実施の形態5の同期型半
導体記憶装置2000においては、バンクをアレイ状に
分割して配置する構成とした。実施の形態1の同期型1
000の構成においても、個々のバンクをさらに分割
し、アレイ状のバンクの構成とすることが可能である。
【0279】図27は、図1に示した同期型半導体記憶
装置の構成において、たとえば、メモリセルアレイ10
0aおよび100bを行方向にさらに2等分して、図1
の構成においては、2バンクであったものを4バンクと
した場合の構成をしめす概略ブロック図である。
【0280】この場合、バンク0〜バンク3の各バンク
に対応して、ロウプリデコーダ36a〜36dが設けら
れ、かつ、コラムプリデコーダ34a〜34dが設けら
れる。しかも、ロウデコーダ44においては、メインワ
ードドライバに対して、プリデコードされたロウ選択信
号をメインワードドライバMWDに伝達するために、そ
らぞれのバンクに対応して、ロウ選択信号線RPDL0
〜RPDL3が設けられる構成となっている。
【0281】このような、構成では、バンク数を増加さ
せたことによりローカル制御系の回路であるロウプリデ
コーダ36やコラムプリデコーダ34、さらには、ロウ
選択信号線RPDL0〜RPDL3によるチップ面積の
増大が大きくなってしまう。
【0282】図28は、このような問題を回避するため
の実施の形態6の同期型半導体記憶装置3000の構成
の一部を説明するための概略ブロック図である。同期型
半導体記憶装置3000においては、ロウプリデコーダ
36からのロウ選択信号を保持するラッチ回路列700
aおよび700bを設ける構成となっている。
【0283】すなわち、コントロール回路20の制御の
もとに、アドレスバス50により伝達され、バンクアド
レスバス51からの信号に応じて、対応するバンクが選
択されると、ロウプリデコーダ36は、行アドレスを取
りこんでプリデコードし、このプリデコード信号は、ロ
ウ選択信号線RPDLにより、ラッチ回路列700aお
よび700bに伝達され、保持される。メインワードド
ライバMWDは、このラッチ回路列700aおよび70
0bに保持されたプリでコード信号に基づいて、対応す
るメインワード線の選択を行う。
【0284】つまり、行アドレスは、ロウプリデコーダ
36、ラッチ回路列700aおよび700bのそれぞれ
に伝達される過程で、おのおのラッチ回路により保持さ
れ、階層的に伝達される。
【0285】なお、ここで、バンクのおのおのが偶数ア
ドレス領域および奇数アドレス領域に分割されているの
は次の理由による。
【0286】以下では、実施の形態6の同期型半導体記
憶装置3000のコラムプリデコーダ34やロウプリデ
コーダ34の基本的な部分は、実施の形態1〜4の構成
と同様であるので、この実施の形態1〜4の構成を例に
とって説明する。
【0287】すなわち、同期型半導体記憶装置3000
を、データ出力のタイミングとしてクロック信号の立上
りおよび立下りの両エッジでデータを出力できるように
動作させるとする。以下、このような動作を行うSDR
AMをダブルデータレートSDRAM(以下、DDR−
SDRAM)と呼ぶ。
【0288】このとき、たとえば、図15を参照して、
コラム系のアクセスにおいては、アドレス信号はコラム
アドレスラッチ550に取込まれる。
【0289】この列アドレスのバースト動作時における
変化の仕方は、インタリーブ方式とシーケンシャル方式
との2種類がある。そのいずれの変化の仕方を選択する
かは、アドレス信号の組合せにより、モードレジスタ
(図示せず)中に動作情報として蓄積される。このモー
ドレジスタ制御に従って、バーストアドレスカウンタ5
52,554の変化の仕方が異なることになる。
【0290】DDR−SDRAM動作モードでは、外部
クロック信号の1サイクルにおいて、データを2回出力
することが必要である。そこで、DDR−SDRAM動
作モードでの内部回路の動作としては、1クロックサイ
クルにおいて、選択されたメモリアレイブロックから2
個のデータを読出すことになる。そのために、バースト
アドレスカウンタ552,554から出力されるアドレ
ス信号は、この2個のデータを読出すための2つのアド
レスを一度に発生させることが必要となる。
【0291】この場合、問題となるのは、バーストアド
レスの初期状態、すなわち、外部から与えられる列アド
レス信号は、偶数あるいは奇数のいずれのアドレスでも
よいために、バーストアドレスの生成は、入力されたア
ドレスから順次インクリメントしていけばよいわけでは
ないことである。
【0292】たとえば、外部から列アドレス信号として
1が入力された場合においても、発生されるべきペアの
内部列アドレス信号は、シーケンシャルモードの場合に
は(1、2)であるのに対し、インタリーブモードの場
合には(1、0)となる。
【0293】したがって、偶数のアドレスでの列選択が
行なわれる場所と、これとペアになる奇数のアドレスで
の列選択(列選択信号が活性化される列)の場所とが異
なることになる。
【0294】このために、同期型半導体記憶装置300
0では、偶数アドレスに対応する領域と奇数アドレスに
対応する領域にメモリセルアレイブロックの各々を分割
し、偶数のアドレスに対応する列選択信号と、奇数のア
ドレスに対応する列選択信号のデコーダを分離し、独立
に動作させる構成となっている。
【0295】図29は、図28に示したラッチ回路列7
00aおよび700b中に含まれるロウラッチ回路71
0の構成を説明するための回路図である。
【0296】図29を参照して、ロウラッチ回路710
は、ラッチ回路7102と、ラッチ回路7102の入力
ノードと接地電位との間に直列に接続されるNチャネル
MOSトランジスタ7104,7106および7108
とを含む。
【0297】NチャネルMOSトランジスタ7104の
ゲートには、ロウプリデコード信号DRAijが与えら
れ、NチャネルMOSトランジスタ7106のゲートに
は、ロウプリデコード信号DRAklが与えられ、Nチ
ャネルMOSトランジスタ7108のゲートには、バン
クが選択される期間中活性となるバンク選択信号BSF
が入力する。
【0298】ラッチ回路7102の出力ノードと接地電
位との間には、リセット信号RSTにより導通状態とな
るNチャネルMOSトランジスタ7110が接続され
る。
【0299】ロウラッチ回路710はさらに、ラッチ回
路7112の出力を受けるインバータ7112と、イン
バータ7112の出力を受けてメインワードドライバM
WDに与えるインバータ7114とを含む。メインワー
ドドライバMWDにおいては、インバータ7114の出
力を受けて、昇圧電位に変換し、選択されたメインワー
ド線MWLに与える。
【0300】図30は、図28に示したロウプリデコー
ダ36の構成を示す概略ブロック図である。図4に示し
た構成と異なる点は、以下のとおりである。
【0301】バンク数が増加したことに応じて、バンク
アドレスバス51cがバスB0〜B31となっているこ
とである。
【0302】さらに、ロウプリデコーダ36が4つのバ
ンクに共通に設けられていることに応じて、対応するバ
ンクが選択された場合に、それぞれのバンク活性化フラ
グBAF0〜BAF3を生成するフラグ生成回路720
が設けられていることである。
【0303】また、各バンク活性化フラグBAF0〜B
AF3を受けて保持し、対応するロウラッチ回路700
aおよび700bにバンク選択信号BSF0〜BSF3
を出力するレベルホルダ740がさらに設けられてい
る。
【0304】すなわち、図4に示した実施の形態1の同
期型半導体記憶装置1000においては、レベルホルダ
208からの出力信号がバンクの選択・活性化を指示し
ていたのに対し、実施の形態6の同期型半導体記憶装置
においては、一つのロウプリデコーダから各バンクに対
するバンク活性化フラグBAF0〜BAF3およびバン
ク選択信号BSF0〜BSF3が出力される。
【0305】また、各バンクに対してリセット信号RS
Tを出力するリセット指示回路750、および各バンク
に対しアドレス信号の取込動作を指示するローカルドラ
イブ信号l.FXDRVを出力するドライブ回路760
も設けられる。
【0306】なお、信号l.EQ、信号l.RXT、信
号l.SEを出力する構成は、基本的に図4の構成と同
様である。
【0307】図31は、ロウプリデコーダからの信号
l.FXDRVに応じて、行アドレスバス50cから行
アドレスを取りこむ行アドレス取込回路260の構成を
示す概略ブロック図である。
【0308】図4の構成と基本的に同様であるが、以下
の点が異なる。すなわち、図31においては、ラッチ回
路250が信号l.FXDRVにより駆動される構成と
なっている。ラッチ回路250は、行アドレスを取りこ
んだ後は、アドレスバス50cとは切り離される。
【0309】なお、図31においては、ラッチ回路から
の出力が冗長行デコーダ270に与えられ、対応する冗
長ロウ選択信号線RDPLに与えられる。
【0310】冗長行デコーダ270からの出力に応じ
て、いずれかの冗長行が選択される際には、冗長判定回
路268から出力されるヒットミス信号H/Mに応じ
て、正規のメモリセル行に対応するドライバ回路254
の動作は停止される。
【0311】図32は、図28に示したコラムプリデコ
ーダ34の構成を示す概略ブロック図である。図15に
示した実施の形態4の構成と異なる点は、以下のとおり
である。
【0312】上述したとおり、バンク数が増加したこと
に応じて、バンクアドレスバス51cがバスB0〜B3
1となっている。
【0313】さらに、コラムプリデコーダ34が4つの
バンクに共通に設けられていることに応じて、対応する
バンクが選択された場合に、それぞれの列選択活性化フ
ラグCol.FLAG0〜Col.FLAG3を生成す
るフラグ生成回路518a〜518dが設けられている
ことである。
【0314】また、各列選択活性化フラグCol.FL
AG0〜Col.FLAG3を受けて、後に説明するよ
うに、対応する冗長列からの読出データをグローバルI
/OバスG−I/Oへの伝達を制御する列選択動作制御
回路580を備える構成となっていることである。列選
択動作制御回路580は、列冗長デコーダ456からの
出力を受けて、冗長列に対応したメインI/O線対とグ
ローバルI/OバスG−I/Oとの接続を制御する信号
を生成するデコーダ457を含む。なお、列選択動作制
御回路580は、より一般に、列系の選択動作を制御す
る信号を生成するもので、デコーダ457等の構成は例
示に過ぎない。
【0315】なお、信号Read.FLAG、信号Wr
ite.FLAG等を出力する構成は、基本的に図15
の構成と同様である。
【0316】図33は、列系のローカル制御回路につい
て、冗長回路部分の制御系も含めた構成を示す概略ブロ
ック図である。
【0317】図33を参照して、アドレス処理部APU
は、バンク0ないし4の列選択動作を制御するための回
路であり、冗長判定部408aは、冗長領域SR0〜S
R3に対する列判定動作を制御するための回路である。
【0318】以下で説明するとおり、冗長領域SR0
は、偶数アドレスに対応した領域100a0および10
0a1の双方について冗長置換を行なうことが可能な構
成となっている。
【0319】アドレス処理部APUは、中央からアドレ
スバス50cによって伝達された13ビットのアドレス
Add(C:0)をパルス発生回路512の出力に応じ
て取込む1次ラッチ回路550aと、1次ラッチ回路5
50aが出力するコラムアドレスをラッチするラッチ回
路550bと、1次ラッチ回路550aの下位3ビット
を動作条件に応じて変換するアドレス変換回路554a
と、アドレス変換回路554aの出力を受けクロック信
号CCLKに同期してバースト動作のためにカウントを
行なうカウンタ554b、554cと、ラッチ回路55
0bおよびカウンタ554b、554cの出力を受ける
プリデコーダ556a、556b、557および558
と、プリデコーダ556a、556b、557および5
58の出力を遅延させて出力するシフタ560a、56
0bと、シフタ560a、560bの出力をメモリアレ
イ中に出力するドライバ562a、562bと、ラッチ
回路550bによってラッチされたアドレス信号を受け
て冗長判定を行なう冗長判定部408とを含む。
【0320】ここで、信号CCLKは、内部クロック信
号int.CLKの反転した信号であり、カウンタ55
4bおよび554cは、この内部クロック信号int.
CLKが不活性である期間中にカウントアップ動作を行
なうことになる。
【0321】図33中プリデコーダ556a、556b
シフタ560a、560bおよびドライバ562a、5
62bは、奇数アドレス領域に対応した列選択信号をプ
リデコードラインに出力するための構成を示す。
【0322】偶数アドレス領域に対する冗長判定部40
8aと同様に、奇数アドレス領域100a2に対応して
も、冗長判定部408bが設けられている。
【0323】冗長判定部408は、冗長判定回路456
と、冗長判定回路456およびOR回路458の出力を
遅延させて出力するシフタ460,461と、シフタ4
60の出力をメモリアレイ中に出力するドライバ462
とを含む。
【0324】次に簡単に動作を説明する。同期型半導体
記憶装置3000の中央部から送られたアドレス信号
は、コラムへのアクセス信号COLAとバンクアドレス
とに基づくパルス発生回路512の出力に応じて、1次
ラッチ回路550aにコラムアドレスとして取込まれ
る。
【0325】1次ラッチ回路550aは、ラッチ回路5
50bとアドレス変換回路554aにコラムアドレスを
送り出した後、信号SCRCによりセットされる。この
1次ラッチ回路550aは電源投入時にも電源投入の際
のみに発生する信号Vupによってリセットされる。
【0326】コラムアドレスの下位3ビットは、バース
ト動作のための処理に関わるもので、アドレス変換処理
を施した後カウンタに入力される。
【0327】実際は、奇数アドレスと偶数アドレスとが
同時に処理されるため最下位アドレスは共通となり、カ
ウンタ処理をされるのは下位3ビット中の2ビットとな
る。
【0328】この結果がバンクのメモリアレイの奇数ア
ドレス領域と偶数アドレス領域の各プリデコーダに伝達
される。また冗長判定回路にもコラムアドレスが入力さ
れ、冗長メモリ列への置換が行なわれた場合には、OR
回路458から出力される信号が活性状態となり、それ
に応じて所定の時間遅延して出力されるドライバ回路4
62からの出力が、冗長メモリ列の置換を指示するヒッ
ト信号Hitとして認識される。なお、信号Hitが不
活性である場合は冗長メモリ列への置換が行なわれてい
ないことになり、この場合は冗長列への変換がミス(M
iss)したと呼ぶことにする。したがって、ドライバ
回路462から出力される信号は、総称してヒット/ミ
ス信号(以下H/M信号)と呼ばれる。
【0329】以上説明したとおり、偶数アドレス部40
8に対応して設けられた複数の冗長判定回路の判定結果
はOR回路458においてOR処理がなされ、いずれか
の冗長置換が実施されたか否かの判定結果として認識さ
れる。
【0330】入出力選択回路457からシフタおよびド
ライバを経由して出力される入出力選択信号I/O−S
el.は、後に説明するように、冗長領域SR0〜SR
3に属するメインI/O線対RM−I/Oにより読出さ
れたデータを、いずれのグローバルI/OバスG−I/
Oに出力するかを指示する信号である。
【0331】[冗長メモリセル列の配置]図34は、正
規メモリセル列、冗長メモリセル列、サブI/O線対S
−I/O、RS−I/OおよびメインI/O線対M−I
/O、RM−I/Oにより読出されたデータが、グロー
バルI/OバスG−I/Oに伝達される経路を説明する
ための概略ブロック図である。
【0332】領域100a0における正規のメモリセル
列に対応する列選択線YS0が活性化することにより読
出されたデータは、メインI/O線対M−I/Oを経由
してリード/ライトアンプ802、804、806およ
び808に伝達され、増幅された後、対応するグローバ
ルI/OバスG−I/Oへと伝達される。
【0333】これに対して、領域100a0の冗長列領
域(スペア領域)SR0に対応して設けられたメインI
/O線対RM−I/Oを経由して読出されたデータは、
対応するリード/ライトアンプ810〜816によりそ
れぞれ増幅される。
【0334】リード/ライトアンプ801〜816によ
り増幅されたデータは、マルチプレクサ818に入力さ
れ、図32において説明した信号I/O−Sel.に応
じて、対応するグローバルI/OバスG−I/Oのうち
の所定のデータ線対に伝達される。
【0335】ここで、領域100a0の正規なメモリセ
ル列の領域から読出されたデータは、グローバルG−I
/O線対G−I/O0〜3に伝達される。
【0336】これに対して、冗長列領域SR0から読出
されたデータは、マルチプレクサ818を経由して、グ
ローバルI/Oバスのうち、G−I/O線対0〜7のい
ずれかに伝達される。
【0337】これは、もう1つの偶数アドレス領域であ
る100a1から読出されたデータは、グローバルI/
Oバスのうち、G−I/O線対4〜7に伝達されるた
め、スペア領域SR0が、この領域100a0の正規メ
モリセル列領域および100a1の正規メモリセル列領
域のいずれとも置換可能とするために、マルチプレクサ
618からの出力は、領域100a0および100a1
の接続するG−I/O線対のすべてに接続する構成とな
っているためである。
【0338】以上のような構成により、実施の形態1の
同期型1000の構成において、個々のバンクをさらに
分割し、アレイ状のバンクの構成とした同期型半導体記
憶装置3000を構成することが可能である。この場
合、選択したメモリセル列からのデータを読み出す際の
データ幅は、各バンクの行方向のサイズには変化が無い
ので、同期型半導体記憶装置1000と同様のデータ幅
を確保できる。
【0339】このような構成により、チップ面積の増大
や消費電力の増大を抑制しつつ、一つのメモリセルアレ
イマットから取り出せるデータ数を確保することが可能
である。
【0340】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなく特許請求の
範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味およ
び範囲内のすべての変更が含まれることが意図されてい
る。
【0341】
【発明の効果】請求項1、2および4記載の同期型半導
体記憶装置は、アドレスバスを複数のメモリブロックに
ついて共通に設ける構成としたので、チップ面積にしめ
る制御系回路の占有面積を抑制することが可能である。
【0342】請求項3および5記載の同期型半導体記憶
装置は、コマンドデータバスを複数のメモリブロックに
ついて共通に設ける構成としたので、チップ面積にしめ
る制御系回路の占有面積を抑制することが可能である。
【0343】請求項6ないし10記載の同期型半導体記
憶装置は、活性化されたメモリセルブロックに対応する
アドレス信号または内部制御信号の取込動作完了後に
は、アドレス信号取込回路や制御信号取込回路が待機状
態となるため、消費電力を低減することが可能である。
【0344】請求項11ないし15記載の同期型半導体
記憶装置は、コマンドデータバスを複数のメモリブロッ
クについて共通に設ける構成としたので、チップ面積に
しめる制御系回路の占有面積を抑制することが可能であ
る。
【0345】請求項16ないし19記載の同期型半導体
記憶装置は、活性化されたメモリセルブロックに対応す
るアドレス信号または内部制御信号の取込動作完了後に
は、アドレス信号取込回路や制御信号取込回路が待機状
態となるため、消費電力を低減することが可能である。
【0346】請求項20ないし25記載の同期型半導体
記憶装置は、メモリセルブロックの分割数を増加させた
場合でも、チップ面積の増大や消費電流の増加を抑制し
つつ、同時に多ビットのデータを入出力することが可能
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の同期型半導体記憶装
置1000の構成を示す概略ブロック図である。
【図2】 同期型半導体記憶装置1000における内部
クロック信号int.CLKを分配する構成を示す概念
図である。
【図3】 同期型半導体記憶装置におけるアドレスバス
およびコマンドデータバスの構成を示す概略ブロック図
である。
【図4】 本発明の実施の形態1のロウプリデコーダ回
路36の構成を示す概略ブロック図である。
【図5】 階層電源構成を説明するための図であり、図
5(a)は階層電源構成の構成を示す回路図であり、図
5(b)は待機動作時における状態を説明するための図
であり、図5(c)は活性時における状態を説明するた
めの図である。
【図6】 同期型半導体記憶装置1000の動作を説明
するためのタイミングチャートである。
【図7】 本発明の実施の形態2のフリップフロップ回
路224の構成を説明するための概略ブロック図であ
る。
【図8】 フリップフロップ回路224の構成をより詳
細に説明するためのブロック図である。
【図9】 実施の形態3のロウプリデコーダ回路300
の構成を説明するための概略ブロック図である。
【図10】 ドライバ制御回路302の構成を示す概略
ブロック図である。
【図11】 実施の形態3のロウプリデコーダ300の
動作を説明するための第1のタイミングチャートであ
る。
【図12】 実施の形態3の同期型半導体記憶装置の動
作を説明するための第2のタイミングチャートである。
【図13】 実施の形態4のロウプリデコーダ400の
構成を説明するための概略ブロック図である。
【図14】 図13に示したロウプリデコーダ400の
動作を説明するためのタイミングチャートである。
【図15】 コラムプリデコーダ34の構成を説明する
ための概略ブロック図である。
【図16】 リード動作時におけるロウプリデコーダ4
00およびコラムプリデコーダ34の動作を説明するた
めのタイミングチャートである。
【図17】 ライト動作時におけるロウプリデコーダ4
00およびコラムプリデコーダ34の動作を説明するた
めのタイミングチャートである。
【図18】 バンクがアレイ状に配列された第1の同期
型半導体記憶装置の構成を説明するための概略ブロック
図である。
【図19】 バンクがアレイ状に配列された第2の同期
型半導体記憶装置の構成を説明するための概略ブロック
図である。
【図20】 本発明の実施の形態5の同期型半導体記憶
装置2000の構成を説明するための概略ブロック図で
ある。
【図21】 同期型半導体記憶装置2000において、
アドレスバスおよびコマンドデータバスを共有化する構
成を示す概略ブロック図である。
【図22】 メインワード線とサブワード線の構成を説
明するための図である。
【図23】 メインコラム選択線とサブコラム選択線の
構成を説明するための図である。
【図24】 図21に示したアレイ状に分割されたバン
クに適用される階層構造のコラム選択線の他の構成を示
す図である。
【図25】 実施の形態5の同期型半導体記憶装置の動
作を説明するための第1のタイミングチャートである。
【図26】 実施の形態5の同期型半導体記憶装置の動
作を説明するための第2のタイミングチャートである。
【図27】 同期型半導体記憶装置1000の構成にお
いて、各バンクを行方向にさらに2等分した場合の構成
をしめす概略ブロック図である。
【図28】 実施の形態6の同期型半導体記憶装置30
00の構成の一部を説明するための概略ブロック図であ
る。
【図29】 図28に示したラッチ回路列700aおよ
び700b中に含まれるロウラッチ回路710の構成を
説明するための回路図である。
【図30】 図28に示したロウプリデコーダ36の構
成を示す概略ブロック図である。
【図31】 行アドレス取込回路260の構成を示す概
略ブロック図である。
【図32】 図28に示したコラムプリデコーダ34の
構成を示す概略ブロック図である。
【図33】 列系のローカル制御回路について、冗長回
路部分の制御系も含めた構成を示す概略ブロック図であ
る。
【図34】 読出されたデータが、グローバルI/Oバ
スG−I/Oに伝達される経路を説明するための概略ブ
ロック図である。
【図35】 従来の技術1によるマルチバンク構成DR
AM4000のメモリセルアレイ部の構成を概略的に示
す図である。
【図36】 従来の技術2によるマルチバンク構成DR
AM5000のメモリセルアレイ部の構成を概略的に示
す図である。
【図37】 マルチバンク構成DRAM5000のワー
ド選択線の構造を示すための図である。
【符号の説明】
10 外部制御信号入力端子群、12 アドレス信号入
力端子群、14 入出力バッファ回路、16 クロック
信号入力端子、18 内部同期信号発生回路、34 コ
ラムプリデコーダ、36 行プリデコーダ、38 リー
ド/ライトアンプ、40 コラムプリデコーダ、42
コラムデコーダ、44 ロウデコーダ、50a〜50c
アドレスバス、52 アドレスドライバ、54 デー
タバス、300,400 ロウプリデコーダ、100
0,2000,3000 同期型半導体記憶装置。

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部クロック信号に同期して、アドレス
    信号と制御信号とを受け、かつ記憶データを授受する同
    期型半導体記憶装置であって、 行列状に配置される複数のメモリセルを有するメモリセ
    ルアレイを備え、 前記メモリセルアレイは、複数のメモリセルブロックに
    分割され、 前記外部クロック信号に同期した内部クロック信号を出
    力する内部同期信号発生回路と、 前記内部クロック信号に同期して、外部から前記アドレ
    ス信号を取りこむアドレス信号入力回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    アドレス信号入力回路からの前記アドレス信号を伝達す
    るアドレスバスと、 前記メモリセルブロックに対応して設けられ、前記アド
    レスバスからの前記アドレス信号に応じて前記メモリセ
    ルを選択する複数の選択回路とをさらに備え、 前記選択回路は、前記アドレス信号に基づいて、対応す
    るメモリセルブロックが選択されたことに応じて活性化
    される、同期型半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリセルブロックは、独立に読出
    動作および書込み動作が可能なバンクである、請求項1
    記載の同期型半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記制御信号に応じて、前記同期型半導
    体記憶装置の動作を制御する内部制御信号を出力する中
    央制御回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    内部制御信号を伝達するコマンドデータバスとをさらに
    備え、 前記選択回路は、前記内部制御信号および前記アドレス
    信号に基づいて、対応するメモリセルブロックが選択さ
    れたことに応じて活性化される、請求項2記載の同期型
    半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記制御信号に応じて、前記同期型半導
    体記憶装置の動作を制御する内部制御信号を出力する中
    央制御回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    内部制御信号を伝達するコマンドデータバスとをさらに
    備え、 前記内部制御信号は、 行系回路の活性化を指示する行活性化信号と、 列系回路の活性化を指示する列活性化信号とを含み、 前記各選択回路は、 対応するメモリセルブロックの行を選択する行選択回路
    と、 対応するメモリセルブロックの列を選択する列選択回路
    とを含み、 前記行選択回路は、前記行選択活性化信号の活性化と、
    前記アドレス信号に応じて前記対応するメモリセルブロ
    ックが選択されたことに応じて、前記アドレスバスから
    行アドレスを取りこみ、 前記列選択回路は、前記列選択活性化信号の活性化と、
    前記アドレス信号に応じて前記対応するメモリセルブロ
    ックが選択されたことに応じて、前記アドレスバスから
    列アドレスを取りこむ、請求項2記載の同期型半導体記
    憶装置。
  5. 【請求項5】 前記メモリセルブロックに対応して設け
    られ、前記コマンドデータバスからの前記内部制御信号
    に応じて前記対応するメモリセルブロックの動作を制御
    する複数のローカル制御回路をさらに備え、 前記ローカル制御回路は、前記前記アドレス信号に基づ
    いて、前記対応するメモリセルブロックが選択されたこ
    とに応じて、前記内部制御信号を取りこむ、請求項3記
    載の同期型半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記メモリセルブロックに対応して設け
    られ、前記コマンドデータバスからの前記内部制御信号
    に応じて前記対応するメモリセルブロックの動作を制御
    する複数のローカル制御回路をさらに備え、 前記ローカル制御回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記内部制御信号を取りこむ制御信号取込回路
    と、 前記制御信号取込回路からの信号レベルを保持する第1
    のレベル保持回路とを含み、 前記中央制御回路からの内部制御信号は、前記第1のレ
    ベル保持回路における信号レベルの保持動作が完了後に
    非活性化される、請求項3記載の同期型半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】 前記制御信号取込回路は、前記第1のレ
    ベル保持回路における信号レベルの保持動作が完了後に
    リセットされる、請求項6記載の同期型半導体記憶装
    置。
  8. 【請求項8】 前記制御信号取込回路は、 前記中央制御回路により制御され、待機動作モード時の
    リーク電流を低減する階層電源回路と、 前記階層電源回路を介して電源電位が供給され、前記コ
    マンドデータバスからの前記内部制御信号を前記第1の
    レベル保持回路に伝達する駆動回路とをさらに含み、 前記階層電源回路は、前記第1のレベル保持回路におけ
    る信号レベルの保持動作が完了後に前記待機動作モード
    となる、請求項7記載の同期型半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記選択回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記アドレス信号を取りこむアドレス信号取込回
    路と、 前記アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持する
    第2のレベル保持回路とを含む、請求項3記載の同期型
    半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 前記アドレス信号取込回路は、前記第
    2のレベル保持回路における信号レベルの保持動作が完
    了後にリセットされる、請求項9記載の同期型半導体記
    憶装置。
  11. 【請求項11】 外部クロック信号に同期して、アドレ
    ス信号と制御信号とを受け、かつ記憶データを授受する
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配置される複数のメモリセルを有するメモリセ
    ルアレイを備え、 前記メモリセルアレイは、複数のメモリセルブロックに
    分割され、 前記外部クロック信号に同期した内部クロック信号を出
    力する内部同期信号発生回路と、 前記内部クロック信号に同期して外部から前記制御信号
    を取りこみ、前記同期型半導体記憶装置の動作を制御す
    る内部制御信号を出力する中央制御回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    内部制御信号を伝達するコマンドデータバスと、 前記メモリセルブロックに対応して設けられ、前記コマ
    ンドデータバスからの前記内部制御信号に応じて前記対
    応するメモリセルブロックの動作を制御する複数のロー
    カル制御回路とをさらに備え、 前記ローカル制御回路は、前記対応するメモリセルブロ
    ックが選択されたことに応じて、前記内部制御信号を取
    りこむ、同期型半導体記憶装置。
  12. 【請求項12】 前記メモリセルブロックは、独立に読
    出動作および書込み動作が可能なバンクである、請求項
    11記載の同期型半導体記憶装置。
  13. 【請求項13】 前記内部クロック信号に同期して、外
    部から前記アドレス信号を取りこむアドレス信号入力回
    路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    アドレス信号入力回路からの前記アドレス信号を伝達す
    るアドレスバスとをさらに備え、 前記ローカル制御回路は、前記アドレス信号に基づい
    て、対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて前記内部制御信号を取りこむ、請求項12記載の同
    期型半導体記憶装置。
  14. 【請求項14】 前記ローカル制御回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記内部制御信号を取りこむ制御信号取込回路
    と、 前記制御信号取込回路からの信号レベルを保持する第1
    のレベル保持回路とを含む、請求項13記載の同期型半
    導体記憶装置。
  15. 【請求項15】 前記ローカル制御信号が、対応するメ
    モリセルブロックが選択されたことに応じて取りこむ前
    記内部制御信号は、前記対応するメモリセルブロックの
    行系の動作に対する制御信号である、請求項13記載の
    同期型半導体記憶装置。
  16. 【請求項16】 前記中央制御回路からの内部制御信号
    は、前記第1のレベル保持回路における信号レベルの保
    持動作が完了後に非活性化される、請求項14記載の同
    期型半導体記憶装置。
  17. 【請求項17】 前記制御信号取込回路は、前記第1の
    レベル保持回路における信号レベルの保持動作が完了後
    にリセットされる、請求項14記載の同期型半導体記憶
    装置。
  18. 【請求項18】 前記メモリセルブロックに対応して設
    けられ、前記アドレスバスからの前記アドレス信号に応
    じて前記メモリセルの行を選択する複数の行選択回路
    と、 前記メモリセルブロックの行に対応して設けられ、前記
    行選択回路により選択的に活性化される複数のワード線
    とをさらに備え、 前記行選択回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記アドレス信号を取りこむアドレス信号取込回
    路と、 前記アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持する
    第2のレベル保持回路とを含み、 前記第2のレベル保持回路は、前記ワード線ごとに設け
    られるラッチ回路を有する、請求項14記載の同期型半
    導体記憶装置。
  19. 【請求項19】 前記メモリセルブロックは、複数のサ
    ブメモリセルブロックに分割され、 前記メモリセルブロックに対応して設けられ、前記アド
    レスバスからの前記アドレス信号に応じて前記メモリセ
    ルの行を選択する複数の行選択回路と、 前記メモリセルブロックの行に対応して、前記複数のサ
    ブメモリセルブロックに共通に設けられ、前記行選択回
    路により選択的に活性化される複数のメインワード線
    と、 前記サブメモリセルブロックの行に対応して設けられ、
    対応するメインワード線が選択的に活性化されるのに応
    じて前記行選択回路により活性化される複数のサブワー
    ド線とをさらに備え、 前記行選択回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記アドレス信号を取りこむアドレス信号取込回
    路と、 前記アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持する
    第2のレベル保持回路とを含み、 前記第2のレベル保持回路は、前記サブワード線ごとに
    設けられるラッチ回路を含む、請求項14記載の同期型
    半導体記憶装置。
  20. 【請求項20】 外部クロック信号に同期して、アドレ
    ス信号と制御信号とを受け、かつ記憶データを授受する
    同期型半導体記憶装置であって、 行列状に配置される複数のメモリセルを有するメモリセ
    ルアレイを備え、 前記メモリセルアレイは、第1複数個の列および第2複
    数個の行に配置される複数のメモリセルブロックに分割
    され、 前記外部クロック信号に同期した内部クロック信号を出
    力する内部同期信号発生回路と、 前記内部クロック信号に同期して、外部から前記アドレ
    ス信号を取りこむアドレス信号入力回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    アドレス信号入力回路からの前記アドレス信号を伝達す
    るアドレスバスと、 前記メモリセルブロックに対応して設けられ、前記アド
    レスバスからの前記アドレス信号に応じて前記メモリセ
    ルを選択する複数の選択回路とをさらに備え、 前記選択回路は、前記アドレス信号に基づいて、対応す
    るメモリセルブロックが選択されたことに応じて活性化
    される、同期型半導体記憶装置。
  21. 【請求項21】 前記メモリセルブロックは、独立に読
    出動作および書込み動作が可能なバンクである、請求項
    20記載の同期型半導体記憶装置。
  22. 【請求項22】 前記制御信号に応じて、前記同期型半
    導体記憶装置の動作を制御する内部制御信号を出力する
    中央制御回路と、 前記複数のメモリセルブロックに共通に設けられ、前記
    内部制御信号を伝達するコマンドデータバスとをさらに
    備え、 前記内部制御信号は、 行系回路の活性化を指示する行活性化信号と、 列系回路の活性化を指示する列活性化信号とを含み、 前記各選択回路は、 対応するメモリセルブロックの行を選択する行選択回路
    と、 対応するメモリセルブロックの列を選択する列選択回路
    とを含み、 前記行選択回路は、前記行選択活性化信号の活性化と、
    前記アドレス信号に応じて前記対応するメモリセルブロ
    ックが選択されたことに応じて、前記アドレスバスから
    行アドレスを取込んで保持し、 前記列選択回路は、前記列選択活性化信号の活性化と、
    前記アドレス信号に応じて前記対応するメモリセルブロ
    ックが選択されたことに応じて、前記アドレスバスから
    列アドレスを取込んで保持する、請求項21記載の同期
    型半導体記憶装置。
  23. 【請求項23】 前記複数のメモリセルブロックは、複
    数のバンクグループに分割され、 前記行選択回路は、 前記バンクグループに対応してそれぞれ設けられ、前記
    アドレスバスおよび前記コマンドデータバスからの信号
    を受け、前記行選択活性化信号の活性化と、前記アドレ
    ス信号に応じて前記対応するメモリセルブロックが選択
    されたことに応じて、前記アドレスバスから行アドレス
    を取込んで保持する複数のメイン行選択回路と、 前記メモリセルブロックにそれぞれ対応して設けられ、
    前記メイン行選択回路に保持された行アドレス信号を受
    けて保持し、対応するメモリセル行を選択するための信
    号を生成する複数のサブ行選択回路とを含む、請求項2
    2記載の同期型半導体記憶装置。
  24. 【請求項24】 前記選択回路は、 前記内部制御信号および前記アドレス信号に基づいて、
    前記対応するメモリセルブロックが選択されたことに応
    じて、前記アドレス信号を取りこむアドレス信号取込回
    路と、 前記アドレス信号取込回路からの信号レベルを保持する
    レベル保持回路とを含む、請求項21記載の同期型半導
    体記憶装置。
  25. 【請求項25】 前記アドレス信号取込回路は、前記レ
    ベル保持回路における信号レベルの保持動作が完了後に
    リセットされる、請求項24記載の同期型半導体記憶装
    置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003178580A (ja) * 2001-10-23 2003-06-27 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びこれを利用したメモリシステム
JP2010263194A (ja) * 2009-04-03 2010-11-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd 集積回路構造

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6480429B2 (en) * 2001-02-12 2002-11-12 Micron Technology, Inc. Shared redundancy for memory having column addressing
KR100766372B1 (ko) * 2005-11-29 2007-10-11 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리의 뱅크 제어장치 및 방법
US8159896B2 (en) 2008-11-26 2012-04-17 Micron Technology, Inc. Local power domains for memory sections of an array of memory
US20130185527A1 (en) * 2012-01-16 2013-07-18 Qualcomm Incorporated Asymmetrically-Arranged Memories having Reduced Current Leakage and/or Latency, and Related Systems and Methods
US10217494B2 (en) * 2017-06-28 2019-02-26 Apple Inc. Global bit line pre-charging and data latching in multi-banked memories using a delayed reset latch

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2528613B1 (fr) * 1982-06-09 1991-09-20 Hitachi Ltd Memoire a semi-conducteurs
US4740923A (en) * 1985-11-19 1988-04-26 Hitachi, Ltd Memory circuit and method of controlling the same
US5245572A (en) * 1991-07-30 1993-09-14 Intel Corporation Floating gate nonvolatile memory with reading while writing capability
JPH05166396A (ja) * 1991-12-12 1993-07-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体メモリ装置
JPH0684396A (ja) * 1992-04-27 1994-03-25 Nec Corp 半導体記憶装置
JPH06325575A (ja) 1993-05-12 1994-11-25 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
JP3279787B2 (ja) 1993-12-07 2002-04-30 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
JP2742220B2 (ja) * 1994-09-09 1998-04-22 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
US5473566A (en) * 1994-09-12 1995-12-05 Cirrus Logic, Inc. Memory architecture and devices, systems and methods utilizing the same
JP2970434B2 (ja) * 1994-10-31 1999-11-02 日本電気株式会社 同期型半導体記憶装置およびセンス制御方法
KR0158112B1 (ko) 1995-04-25 1999-02-01 김광호 다수개의 뱅크들을 가지는 반도체 메모리 장치
US5621690A (en) * 1995-04-28 1997-04-15 Intel Corporation Nonvolatile memory blocking architecture and redundancy
JPH0973776A (ja) 1995-09-07 1997-03-18 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
JP3843145B2 (ja) 1995-12-25 2006-11-08 株式会社ルネサステクノロジ 同期型半導体記憶装置
JPH09185883A (ja) 1995-12-28 1997-07-15 Nec Corp メモリアクセス制御装置
JP3244035B2 (ja) * 1997-08-15 2002-01-07 日本電気株式会社 半導体記憶装置
JPH11149770A (ja) * 1997-11-14 1999-06-02 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003178580A (ja) * 2001-10-23 2003-06-27 Samsung Electronics Co Ltd 半導体メモリ装置及びこれを利用したメモリシステム
JP2010263194A (ja) * 2009-04-03 2010-11-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd 集積回路構造
US8406075B2 (en) 2009-04-03 2013-03-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Ultra-low leakage memory architecture

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