JPH0482157B2 - - Google Patents

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JPH0482157B2
JPH0482157B2 JP60101644A JP10164485A JPH0482157B2 JP H0482157 B2 JPH0482157 B2 JP H0482157B2 JP 60101644 A JP60101644 A JP 60101644A JP 10164485 A JP10164485 A JP 10164485A JP H0482157 B2 JPH0482157 B2 JP H0482157B2
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JP
Japan
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glycero
triphenylmethyl
phosphocholine
ethanolamine
chloroform
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JP60101644A
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JPS60252490A (ja
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Parutoaufu Furiidoritsuhi
Herumetsuteru Arubin
Original Assignee
Hemii Horudeingu Ag
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Publication date
Application filed by Hemii Horudeingu Ag filed Critical Hemii Horudeingu Ag
Publication of JPS60252490A publication Critical patent/JPS60252490A/ja
Publication of JPH0482157B2 publication Critical patent/JPH0482157B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids
    • C07F9/10—Phosphatides, e.g. lecithin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids
    • C07F9/091—Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はsn−グリセロ−３−ホスホコリン−及
びsn−グリセロ−３−ホスホエタノールアミン−
トリフエニルメチル誘導体に関するものであり、
その製造法並びにこれをグリセリンの１−及び２
−位に相互に無関係に種々のアシル残基で置換さ
れた化学的に限定された対掌体不保含の１，２−
ジアシル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン及び
１，２−ジアシル−sn−グリセロ−３−ホスホエ
タノールアミンの合成に使用する方法に関しても
記載する。
現在公知の技術水準によればグリセリンの１及
び２位に相互に無関係に種々のアシル残基を有す
る化学的に限定されたホスフアチジルコリン及び
ホスフアチジルエタノールアミンは酵素及び大過
剰のカルボン酸の使用を必要とする数段階の全合
成又は高価な半合成法によつてしか得られない。
これに関する従来技術は２つの総合記事、H.ア
イブル（Eibl），ケム（Chem），フイジ（Phys）．
リビツド（Lipids），第26巻（1980）第405〜429
頁及び応用化学の雑誌、第96巻（1984）、第247−
262頁に記載されている。
工業的規模でこの混合置換されたホスフアチジ
ルコリン及びホスフアチジルエタノールアミンの
合成は従来公知の方法で及びその際使用される出
発化合物及び中間体を用いて実施することができ
ない。
したがつて本発明は簡単にかつ容易に入手でき
る出発化合物から出発して新規中間体を限定され
た化学構造を有する混合置換された対掌性不含の
１，２−ジアシル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リン及び１，２−ジアシル−sn−グリセロ−３−
ホスホエタノールアミンを用いて工業的規模で製
造することができる方法を見い出すことを課題と
する。この課題は本発明によつて予想されなかつ
た簡単かつ価値ある方法で解決することができ
る。
したがつて本発明の対象は一般式（） （式中Ｔは非置換のあるいはC1−C6アルキル
基、C1−C6アルコキシ基又はハロゲン原子によ
つて１−又は数回置換されたトリフエニルメチル
基を示し、 R1，R2，R3は同一であり、夫々メチル基を示
す又は相異り、この場合残基R1，R2及びR3のう
ち２つは常に水素原子を示し、三番目の残基は非
置換であるか又はC1−C6アルキル基、C1−C6ア
ルコキシ基又はハロゲン原子によつて１−又は数
回置換されたトリフエニルメチル基である）で表
わされるsn−グリセロ−３−ホスホコリンの及び
sn−グリセロ−３−ホスホエタノールアミンの新
規トリフエニルメチル誘導体である。
一般式（）（式中R1，R2及びR3は夫々メチル
基を示す。）なる化合物はグリセロホスホコリン
誘導体であり、一方一般式（）（式中残基R1，
R2及びR3のうち２つは水素原子であり、三番目
は置換又は非置換のトリフエニルメチル基であ
る。）なる化合物はグリセロホスホエタノールア
ミンの誘導体である。
一般式（）中本発明による化合物に於てＴで
表わされる残基及び残基R1，R2及びR3のうち１
つはその他の２つの残基が水素原子を示す場合非
置換のトリフエニルメチル基であるのが好まし
い。しかし一般式（）のうち１−Ｏ−トリフエ
ニルメチル基及び（又は）場合により分子内に存
在するＮ−トリフエニルメチル基は相互に無関係
にアルキル基、たとえばメチル基、エチル基プロ
ピル基等々、アルコキシ基、たとえばメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基等々又はハロゲン
原子、たとえばフルオル原子、クロル原子又はブ
ロム原子によつて１−又は数回置換されている化
合物も包含する。更に置換されたトリフエニルメ
チル基を有する一般式（）なる化合物の場合ト
リフエニルメチル基のフエニル基１又は数個のパ
ラ位で上述の残基によつて置換されている化合物
が好ましい。
ここで使用されるグリセロホスホコリン、グリ
セロホスホエタノールアミン及びその誘導体に対
する命名法及び位置表示はバイオケム
（Biochem）．J.171，29−35（1978）に示される法
則に従う。記載された化合物の系統的化学表示に
於ける略号“sn”は立体特異的に番号を付すこと
を意味する。グリセリン残基の置換位置に関連す
るすべての位置表示はこの立体特異的番号付けに
基づいている。
一般式（）なる化合物を次の様にして製造す
る。すなわち一般式（） （式中R1，R2及びR3は上述の意味を有する。） で表わされるsn−グリセロ−３−ホスホコリン又
はsn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニ
ルメチル）−エタノールアミン、これと無機−も
しくは有機酸又は−塩基との塩あるいはこれと金
属塩との錯体を一般式（） Ｔ−Ｘ （） （式中Ｔは一般式（）に於けると同一の意味
を有し、Ｘは反応性離脱基、たとえばクロル−、
ブロム−又はヨード原子を示す。） で表わされる反応性トリフエニルメチル誘導体と
不活性有機溶剤又は溶剤混合物中室温ないし溶剤
の沸騰温度又は溶剤混合物のもつとも低沸点の溶
剤成分の沸騰温度で反応させることによつてグリ
セリンの１位の酸素をトリチル化して得られる。
トリチル化剤として本発明による方法に於て反
応性トリフエニル溶剤誘導体、好ましくはトリフ
エニルメチルクロリド又はトリフエニルメチルブ
ロミド、特に好ましくはトリフエニルメチルクロ
リドを使用する。一般式（）なる１−Ｏ−トリ
フエニルメチル誘導体の製造のためにトリチル化
剤の１モルを消費する。しかし反応の進行の促進
及び反応の完了のために、多くの場合合目的的に
トリチル化剤の過剰を使用することは必ず必要で
ある。その際トリチル化剤の使用量は広い範囲内
で任意に変化することができる。一般式（）な
る出発化合物１モルあたり少過剰のないし数倍の
モル過剰のトリチル化剤を使用することが特に好
ましい。但しこの場合1.5〜３−倍モル過剰が特
に好ましい。
一般式（）なる化合物と一般式（）なる化
合物との反応は適当なプロトン受容体の過剰の存
在下で有利に行われる。プロトン受容体として無
機又は有機塩基が挙げられる。反応を有機塩基、
たとえば第三アミン、たとえばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン、ヒユーニク（Hu¨nig）−塩基あるいはヘ
テロ環状塩基、たとえばピリジン、４−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノピリジン、４−ピロリジノ−ピリ
ジン、ピコリン、コリジン、キノリン、イソキノ
リン等々の存在下に実施するのが特に好ましい。
反応を夫々の反応成分に対して不活性である有
機溶剤又は溶剤混合物中で実施する。溶剤として
特に非プロトン性極性溶剤が挙げられる。これに
好ましくはジメチルスルホキシド、カルボン酸ア
ミド、たとえばジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホル酸トリアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ニトリル、たとえば
アセトニトリル、プロピオニトリル、ヘテロ環状
塩基、たとえばピリジン、キノリン、ピコリン又
はこの様な溶剤の混合物が属する。多くの場合反
応を不活性非プロトン性極性溶剤及びより小さい
極性の不活性非プロトン性溶剤から成る溶剤混合
物中で実施するのが有利である。この様な溶剤混
合物に関してより小さら極性を有する溶剤成分と
してたとえば脂肪族又は芳香族炭化水素、たとえ
ば低−又は高沸点石油エーテル、ヘキサン、ヘプ
タン、ベンゾール、トルオール等々、ハロゲン化
脂肪族又は芳香族炭化水素、たとえばメチレンク
ロリド、クロロホルム、１，２−ジクロルエタ
ン、四塩化炭素、クロルベンゾール、ｐ−クロル
トルオール等々が適当である。
反応温度は広い範囲で変化することができる。
一般に室温ないし夫々使用される溶剤の沸騰温度
又は使用される溶剤混合物のもつとも低い沸点の
溶剤成分の沸騰温度で、好ましくは20〜200℃の
温度で、特に20〜80℃の温度で処理する。
一般式（）なる化合物を製造するために一般
式（）なる化合物それ自体から、これと無機又
は有機酸又は塩基との塩からあるいはこれと金属
塩との錯体から出発することができる。特に１−
Ｏ−トリチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン
の製造に於て多くの場合により安定な及びより良
好な貯蔵可能な金属塩錯体、たとえばsn−グリセ
ロ−３−ホスホコリンのカドミウムクロリド−付
加物を使用するのが有利である。
後処理は反応溶液を蒸発することによつて又は
一般式（）なる化合物が難溶性である溶剤を用
いて希釈し反応溶液から生成物を沈殿させること
によつて有利に行われる。通常の化学的後処理法
によつて得られる粗生成物は混合置換されたホス
フアチジルコリン及びホスフアチジルエタノール
アミンの製造用中間体として更に精製処理するこ
となく極めて良好に適する。一般式（）なる化
合物の精製のために特に通常のクロマトグラフイ
ー法、たとえば薄層−、カラム−、吸−、中圧−
又は高圧液体クロマトグラフイー分離が適する。
本発明のその他の対象はグリセリンの１−及び
２−位に相互に無関係に種々のアシル残基を有す
る対掌体不含ホスフアジルコリン及びホスフアチ
ジルエタノールアミンの製造に新規の一般式
（）なる化合物を使用することに関する。
一般式（）なる化合物の使用下一般式（） （式中R′1，R′2，R′3は同一であり、夫々３個
の水素原子又は３個のメチル基であり、 R4及びR5は相異り、相互に無関係に非置換の
あるいはハロゲン原子又はアルコキシ基によつて
１又は数回置換された、直鎖状又は分枝状C1−
C24Dアルキル−あるいは直鎖状又は分枝状１−
又は数回不飽和のC3−C24Dアルケニル基を示
す。） で表わされる混合置換された１，２−ジアシル−
sn−グリセロ−３−ホスホコリン及び１，２−ジ
アシル−sn−グリセロ−３−ホスホエタノールア
ミンを製造することができる。
このために一般式（）なる化合物を一般式
R4COOHなるカルボン酸のアシル化作用の誘導
体でアシル化し、一般式（） （式中Ｔ，R1，R2，R3は一般式（）に於け
ると同一の意味を有し、R4は一般式（）に於
けると同一の意味を有する。） で表わされる化合物となし、その後一般式（）
なる得られた化合物から酸の作用によつて−但し
一般式（）（式中残基R1，R2及びR3のうち１つ
はトリフエニルメチル基を示す。）なる化合物の
場合酸はルイス酸である−１−Ｏ−トリフエニル
メチル基を一般式（） 式中R1，R2，R3及びR4は上述の意味を有す
る。） なる２−アシル−sn−グリセロ−３−ホスホコリ
ン又は２−アシル−sn−グリセロ−３−ホスホノ
−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン
の形成下に離脱し、一般式（）なる化合物を一
般式R5COOHなるカルボン酸のアシル化作用の
誘導体と反応させることによつて一般式（ａ） （式中R1，R2，R3は一般式（）に於けると
同一の意味を有し、R4及びR5は一般式（）に
於けると同一の意味を有する。） で表わされる１，２−ジアシル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン又は１，２−ジアシル−sn−グ
リセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミンへ更にアシル化し、その
後一般式（ａ）（式中残基R1〜R3はトリフエニ
ルメチル基を示す。）なる得られた化合物を非プ
ロトン性溶剤中で酸の作用下一般式（）（式中
残基R1′，R2′及びR3′は水素原子を示す。） なる化合物に変える。
R4及びR5に対して記載された定義に於て“直
鎖状又は分枝状アルキル基”は飽和脂肪族炭化水
素残基を意味する。これは１〜24個の炭素原子を
有し、任意にしばしば分枝していてよい。（直鎖
状又は分枝状の、１−又は数回不飽和アルケニル
残基”なる表現は不飽和、脂肪族（C3−C24）炭
化水素残基を示す。この残基は１又は数個のオレ
フイン性二重結合を有し、同様に任意にしばしば
分枝していてよい。アルキル基及びアルケニル残
基に於て１又は数個の水素原子をハロゲン原子、
たとえばフルオル−、クロル−、ブロム−又はヨ
ード−原子によつてあるいはアルコキシ基、たと
えばメトキシ−、エトキル−，プロピルオキシ
−、イソプロピルオキシ−、ブチルオキシ基等々
によつて置き代えることができる。
一般式（）なる化合物の一般式（）なる２
−アシル誘導体へのアシル化は一般式R4COOH
なるカルボン酸の反応性カルボン酸誘導体を用い
て行われる。この様なアシル化剤はたとえばこの
カルボン酸のハロゲン化物、無水物活性エステル
又はアゾリドが適当であり、この際カルボン酸イ
ミドダゾリドが特に好ましい。反応は通常のアシ
ル化条件、たとえば水不含、極性非プロトン性溶
剤又は夫々の反応成分に対して不活性である溶剤
混合物中で行われる。これに好ましくはエーテ
ル、たとえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、
エチレングリコールジメチルエーテル、ハロゲン
化脂肪族又は芳香族炭化水素、たとえばメチレン
クロリド、クロロホルム１，２−ジクロルエタ
ン、クロルベンゾール、ｐ−クロルトルオール、
カルボン酸アミド、たとえばジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ル酸トリアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチ
ルスルホキシド、同時にプロトン受容体として作
用するヘテロ環状塩基、たとえばピリジン、アル
キル化されたピリジン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミ
ノピリジン等々あるいはこれらの溶剤の混合物が
属する。アシル化剤としてカルボン酸イミダゾリ
ドを使用する場合、１：４〜４：１の割合でジメ
チルスルホキシド及びテトラヒドロフランから成
る混合物が有効である。アシル化は同時に触媒的
に作用する無機化合物から由来する酸結合剤、た
とえば水素化ナトリウム、金属ナトリウム等々あ
るいは有機化合物から由来する酸結合剤、たとえ
ばトリエチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリンの使用下あるいはヘテロ環状塩基、たとえ
ばピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、
ピコリン、コリジン、キノリン、イソキノリン
等々の存在下に有利に行われる。アシル化反応を
０℃ないし溶剤の沸点の温度、好ましくは20〜30
℃の温度で実施することができる。
反応の際に生じる未反応カルボン酸及び場合に
よりまだ存在するアシル化剤の未反応残部を次の
反応工程の前に分離しなければならない。たとえ
ばそれはシリカゲルでクロマトグラフイーによつ
て又は化学的分離に於てその他の通常の精製方法
によつて、たとえば水と混和し得ない溶剤中に粗
生成物を有する溶液を希水性塩基、たとえばアン
モニア水で抽出することによつてあるいは適当な
溶剤から粗生成物の再結晶又は再沈殿によつて行
われる。
次いで一般式（）なる２−アシル誘導体から
酸処理によつて１−Ｏ−トリフエニルメチル基を
離脱する。一般式（）（式中残基R1，R2及びR3
はトリフエニルメチル基を示す。）なるグリセロ
ホスホエタノールアミン誘導体の場合、Ｎ−トリ
フエニルメチル基の維持が必要であり、一般式
（）（式中残基R1，R2及びR3は夫々メチル基を
示す。）なるグリセロホスホコリン誘導体の場合、
１−Ｏ−トリフエニルメチル基の離脱のためにル
イス酸を使用するのが有利である。しかし１−Ｏ
−トリフエニルメチル基の離脱はグリセロホスホ
コリン誘導体の場合更に無機酸、たとえば鉱酸、
たとえばハロゲン化水素酸、臭化水素酸、過塩素
酸等々を用いてあるいは有機酸、たとえばトリフ
ルオル酢酸又はトリクロル酢酸等々を用いて行な
うことができる。その際アシル残基の転位を妨害
するために温度を20℃以下に保つのが有利であ
る。特に有効な脱トリチル化剤として三フツ化硼
素−メタノール．錯体をメチレンクロリド中で０
℃で使用する。その際一般式（）なる化合物が
これを次の加工処理の前に更に精製処理する必要
がない程良好な純度で得られる。１−Ｏ−トリフ
エニルメチル基の離脱後得られる一般式（）な
る化合物を直接次のアシルに供給する合成の実施
形態が特に有利である。というのはそれによつて
精製処理で場合により生じるアシル残基の転位が
合成工程のこの段階で決定的に減少するからであ
る。
一般式（）なる化合物の一般式（ａ）なる
１，２−ジアシル誘導体への再アシル化は再び一
般式R5COOHなる酸の上記反応性カルボン酸誘
導体を用いて行われる。グリセリンの１位にアシ
ル残基を導入するためにこの際特にこの酸の無水
カルボン酸が有効である。反応は通常のアシル化
条件下で有利に水不含極性非プロトン性溶剤又は
溶剤混合物中で行われる。この場合２−位のアシ
ル化に於て上記溶剤の他に更にハロゲン化炭化水
素、たとえばメチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、クロルベンゾール等々との溶剤混合
物が挙げられる。特にメチレンクロリドと４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンとの混合物が有
効である。これは同時に酸結合剤の機能も引き受
ける。この反応にあたり室温ないし溶剤の沸騰温
度又は最も低い沸点の溶剤成分の沸騰温度の温度
範囲が選ばれる。反応を室温又は僅かに高められ
た20〜40℃の温度で実施するのが好ましい。
形成された一般式（ａ）なるジアシル誘導体
が化学的分離に於ける通常の精製処理で純粋な形
で得ることができる。粗生成物をたとえば水と混
和し得ない溶剤中に溶解し、希水性塩基、たとえ
ばアンモニア水で過剰のアシル化剤から抽出して
分離するあるいは再結晶又は再沈殿によつて精製
することができる。
その他に通常のクロマトグラフイー法又は２層
間の多重分散法が一般式（ａ）なる化合物の精
製に適当である。
一般式（ａ）（式中残基R1，R2及びR3はトリ
フエニルメチル基を示す。）なる化合物から一般
式（）（式中R1′，R2′及びR3′は夫々水素原子を
示す。）なる１，２−ジアシル−sn−グリセロ−
３−ホスホエタノールアミンはＮ−トリフエニル
メチル残基の離脱によつて得ることができる。離
脱のために無機酸、たとえば鉱酸、たとえば塩化
水素又は臭化水素又は好ましくは有機酸、たとえ
ばハロゲン化されたカルボン酸、たとえばトリク
ロル−又はトリフルオル酢酸が適する。この際グ
リセリンの１−及び２−位の脱アシル化を避ける
ために非プロトン性溶剤中で処理する。Ｎ−トリ
フエニルメチル残基をトリフルオル酢酸でメチレ
ンクロリド中約０℃の温度で除去するのが好まし
い。
本発明による化合物の同定及び純度試験は薄層
クロマトグラフイー及びスペクトル法、特に 1H
−NMR−スペクトルを用いて行われる。測定さ
れたスペクトル値は化合物の記載の化学構造と一
致する。
一般式（）なる化合物は一般式（）なる混
合置換された１，２−ジアシル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン及び１，２−ジアシル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミンの一般の化
学的合成に対する新規の中心的中間体である。一
般式（）なる中間体を使用する場合、従来この
様な混合置換されたホスフアチジルコリン及びホ
スフアチジルエタノールアミンの半合成製造に於
て使用しなければならなかつた酵素の使用をもは
や必要としないので、一般式（）なる化合物を
工業的規模でも容易に得ることができる。本発明
のその他の利点は１位又は２位のアシル化に使用
されるカルボン酸誘導体を実質上完全に使用する
ことになる。従来使用される酵素法の場合、グリ
セロホスホコリン又はＮ−保護されたグリセロホ
スホエタノールアミンの１−及び２−位を先ず２
個の同一アシル残基で置換し、その後２位のアシ
ル残基をホスホリパーゼA2の作用によつて離脱
し、この中間体に次のアシル化反応によつて所望
のアシル残基を導入する。その際２−位の第一ア
シル化に使用されたカルボン酸は消失する。更に
酵素による加水分解の速度及び効果はカルボン酸
の種類に依存する。一方一般式（）なる化合物
の本発明による製造は全くこれに依存しない。
一般式（）なるホスフアチジルコリン及びホ
スフアチジルエタノールアミンはたとえば価値あ
る乳化剤として医薬及び植物保護剤の製造にある
いは写真工業に使用することができる。更にこの
化合物はリポソーム、リポソーム溶液及びリポソ
ームゲルの製造用化学的に限定された出発化合物
として適する。
一般式（）なる化合物の製造用出発化合物と
してsn−グリセロ−３−ホスホコリン又はsn−グ
リセロ−３−ホスホル−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル−エタノールアミンを使用する。sn−グリセロ
−３−ホスホコリンを公知方法によつて、たとえ
ば天然レシチンからアルカリ性加水分解によつて
実質上無制限の量で簡単な方法で製造することが
できる。好ましくは市販の生成物を使用する。
sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニ
ルメチル）−エタノールアミンは任意の由来のsn
−グリセロ−３−ホスホエタノールアミンのＮ−
トリチル化によつて容易に入手することができ
る。特に有利なかつ簡単な方法でsn−グリセロ−
３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノ
ールアミンを植物性、動物性又は微生物起源のリ
ン脂質の反応性、置換又は非置換のトリフエニル
メチル誘導体、好ましくはトリフエニルメチルブ
ロミドとの混合物中でホスフアチジルエタノール
アミンのトリチル化、次いで全脂質のけん化によ
つて製造する。この混合物からsn−グリセロ−３
−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノー
ルアミンを水と混和し得ない溶剤で、好ましくは
クロロホルムでメタノールの存在下に抽出して水
溶性離脱生成物から分離し、次いで脂肪酸をアル
カリ性水層で場合によりメタノールの混合下に洗
滌して純粋な形で得ることができる。sn−グリセ
ロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミンの製造のためにたとえば次の処理
を行うことができる： 大豆リン脂質1.5ｇ及びトリフエニルメチルブ
ロミド1.4ｇをクロロホルム50ml中で溶解する。
トリエチルアミン1.1ｇの添加後、反応混合物を
12時間20℃で攪拌する。次いでクロロホルム５ml
及び0.5N水酸化ナトリウム溶液100mlをメタノー
ル中に加え、30分間、20℃で攪拌する。次いでク
ロロホルム100mlを加え、有機層を分離し、これ
を３回アルカリ性水層で洗滌する。最後に有機溶
剤を減圧下除去する。sn−グリセロ−３−ホスホ
−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン
を含有する残留物を直接引き続きのＯ−トリチル
化に使用することができる。シリカゲルでクロロ
ホルム−メタノール−傾斜液を用いる粗生成物の
クロマトグラフイー分離によつて得られる純粋な
化合物は薄層クロマトグラフイーでシリカゲル上
に単一スポツト、Rf0.3を示す（展開剤：クロロホ
ルム−メタノール−25％NH350：25：６（Ｖ／
Ｖ／Ｖ））。
次に例によつて本発明を詳述するが、本発明は
これによつて限定されない。
(a) 一般式（）なる化合物の製造 例 １： １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン sn−グリセロ−３−ホスホコリン−CdCl2−錯
体５ｇ及びトリフエニルメチルクロリド4.6ｇを
70℃で水不含ジメチルホルムアミド（50ml）中で
溶解する。トリエチルアミン2.3mlの添加後、30
分間70℃で水分の除去下攪拌する。反応混合物の
冷却後、粉末NaHCO35ｇを加え、20分室温で攪
拌する。次いで反応溶液を過し、ジエチルエー
テル300mlを加える。形成された油を遠心分離し、
一回ジエチルエーテルで洗滌し、最後にメタノー
ル150ml中に溶解する。CHCl3300mlの添加後、
CHCl3−CH3OH−H2O3／48／47／Ｖ／Ｖ／Ｖ）
から成る溶剤混合物（上層）90mlで洗滌し、下層
をCHCl3−CH3OH2／１（Ｖ／Ｖ）150mlで希釈
する。次いで25％水性NH3−溶液３mlを加え、
15分室温で放置し、最後に形成された無色の沈殿
物を遠心分離する。減圧で溶剤の除去後油状残留
物を３回夫々50mlのジエチルエーテルで浸出す
る。その際形成された固形の粗生成物（5.5ｇ）
が得られ、これは薄層クロマトグラフイーにより
シリカゲル（底開剤：CHCl3−CH3OH−25％
NH365／355，Ｖ／Ｖ／Ｖ）上に0.15のRf−値を
示し、極めて少量の不純物しか有しない。純粋な
化合物がシリカゲルで中圧クロマトグラフイー分
離によつて得られる。溶離のためにCHCl3−
CH3OH−傾斜液を使用する。この場合溶離剤は
25％水性NH3−溶液0.5容量％を含有する。純粋
物質は薄層クロマトグラフイーでシリカゲル（展
開剤は粗生成物の分析に於けると同一である。）
上に単一スポツト，Rf0.15を示す。
1H−NMR−スペクトル：δppm 3.1（Ｎ−CH3）；3.3−4.3（コリン及びグリセロ
ール）；7.23（トリフエニルメチルＣ−Ｈ） 例 ２ １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ−
３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタ
ノールアミン sn−グリセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエ
ニルメチル）−エタノールアミン964mg及びトリフ
エニルロリド1.735ｇを水不含ピリジン32ml中で
水分の除去下に48時間室温で攪拌する。次いで氷
水上に注ぐ。生成物を３回ジエチルエーテルで抽
出する。精製されたエーテル層を２回水洗し、次
いでNa2SO3で乾燥する。減圧下溶剤の除去後、
残りのピリジンを残留物の蒸発によつてトルオー
ルの存在下に減圧で除去する。残留物をクロロホ
ルム−メタノール１／１（Ｖ／Ｖ）30ml中に取り
入れ、一晩４℃で放置する。沈殿したトリフエニ
ルメチルカルビノールの除去及び溶剤混合物の引
き続きの除去後、粗生成物1.7ｇが得られる。こ
れは直接次のアシル化に使用される。シリカゲル
でクロロホルム−メタノール−傾斜液を用いてク
ロマトグラフイー分離後、純粋な化合物が得られ
る。これは薄層クロマトグラフイーによりシリカ
ゲル（展開剤：クロロホルム−メタノール６：４
（Ｖ／Ｖ）上に単一スポツト，Rf0.6を示す。
1H−NMR−スペクトル：δppm（DMSO−d6） 3.5−4.3（グリセロール及びエタノールアミン
Ｃ−Ｈ，鈍い）；7.25（トリフエニルメチルＣ−
Ｈ，ｍ）。
例 ３ 例１に記載した処理工程の適用下で次の化合物
が得られる： １−Ｏ−（４，4′−ジメトキシトリフエニルメ
チル）−sn−グリセロ−３−ホスホコリン薄層ク
ロマトグラフイーによりシリカゲル上にし展開
剤：CHCl3，CH3OH、25％水性NH3；65，35.5
（Ｖ／Ｖ／Ｖ））に単一スポツト、Rf−値0.15を示
す。
1H−NMR−スペクトル：δppm（CD3OD） 3.1（Ｎ−CH3）；3.8（フエニル−Ｏ−CH3）；3.3
−4.3（コリン及びグリセロール）：7.23（芳香族） 例 ４ １−Ｏ−（４，4′−ジメトキシトリフエニルメ
チル）−sn−グリセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−ト
リフエニルメチル）−エタノールアミン sn−グリセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエ
ニルメチル）−エタノールアミン2.4ｇ及び４，
4′−ジメトキシトリフエニルメチルクロリド4.5
ｇを有する溶液を水不含ピリジン80ml中で72時間
室温で攪拌する。減圧でピリジンの除去後、残留
物をCHCl3−CH3OH2／１（Ｖ／Ｖ）200ml中に
溶解する。この溶液を２回夫々40mlのCHCl3−
CH2−OH−H2O3／48／47（Ｖ／Ｖ／Ｖ）で洗滌
し、次いで溶剤を減圧留去する。その際褐色の油
が得られる。これは80ml及び３mlに分けたジエチ
ルエーテルで浸出した後粗生成物2.5ｇを無定形
無色粉末として生じる。シリカゲル上で薄層クロ
マトグラフイー（展開剤：CHCl3−CH3OH6／
４，Ｖ／Ｖ）により粗生成物は90％より多い目的
生成物を含有する（Rf0.6）。これは更に精製する
ことなく混合置換された対掌体不含１，２−ジア
シル−sn−グリセロ−sn−グリセロ−３−ホスホ
エタノールアミンの製造に使用することができ
る。
純粋な化合物がシリカゲルでCHCH3−
CH3OH−傾斜液（0.5容量％NH3水の存在下）を
用いて中圧クロマトグラフイー分離して得られ、
薄層クロマトグラフイー（例３に於けると同様な
条件）によれば単一スポツト，Rf0.6を示す。
1H−NMR−スペクトル：δppm （CDCl3−CD3OD2／１，Ｖ／Ｖ） 3.1（Ｎ −CH3）；3.8（フエニル−Ｏ−CH3）；
3.3−4.3（コリン及びグリセロール）；7.23（芳香
族）。
(b) 一般式（）なる化合物の製造のために上記
例に従つて得られた一般式（）なる化合物の
製造に使用する。
例 ５ (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−オレオイ
ル−３−ホスホコリン油酸1.26ｇとカルボニル
イミダゾール794mgとをテトラヒドロフラン25
ml中で45分間、室温で反応させ、次いで溶剤を
減圧で除去する。次いで形成された脂肪酸イミ
ダゾリドを含有する残留物にジメチルスルホキ
シド28ml中に１−Ｏ−トリフエニルメチル−sn
−グリセロ−３−ホスホコリン（例１による）
の粗生成物1.1ｇを有する溶液を加える。ジメ
チルスルホキシド11.5ml中に金属ナトリウム
148mgを溶解して製造した触媒の添加後、反応
混合物を時折りの振とう下20分、20℃で放置す
る。最後に0.1N水性酢酸64mlを一注きでに加
える。クロロホルム−メタノール２／１（Ｖ／
Ｖ）から成る混合物で２回抽出し、精製された
有機層をメタノール−H2O1／１（Ｖ／Ｖ）か
ら成る混合物で２回抽出する。減圧で溶剤の蒸
発後、粗生成物をクロロホルム中で溶解し、シ
リカゲルカラム上に付与する。純粋な化合物
（1.1ｇ）をクロロホルム−メタノール傾斜液で
溶離し、薄層クロマトグラフイーによりシリカ
ゲル上に（展開剤：クロロホルム−メタノール
−25％NH365：35：５（Ｖ／Ｖ／Ｖ））単一ス
ポツト，Rf0.4を示す。
(B) ２−オレオイル−sn−グリセロ−３−ホスホ
コリン メチレンクロリド30ml中に１−Ｏ−トリフエ
ニルメチル−２−オレオイル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン500mgを有する溶液にメタノ
ール中に三フツ化硼素を有する20％溶液0.5ml
を加え、次いで30分間０℃で攪拌する。次いで
メタノール15ml及び水９mlを加え、振とうし、
有機層を単離する。溶剤を室温で高減圧除去に
よつて除く。
(C) １−パルミトイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホコリン 形成された２−オレオイル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリンを含有する残留物を乾燥クロ
ロホルム30ml中に溶解する。次いでこの溶液に
無水パルミチン酸820mg及びジメチルアミノピ
リジン200mgを加え、反応混合物を６時間20℃
で攪拌する。次いでメタノール15mlを加え、先
ず0.1N HClで、次いでH2Oで振とうする。減
圧で有機層の除去後、物質をクロロホルム−メ
タノール−傾斜液を用いるシリカゲルでのクロ
マトグラフイー分離によつて精製する。精製さ
れた化合物（400mg）薄層クロマトグラフイー
でシリカゲル上に（展開剤：クロロホルム−メ
タノール−25％NH365：35：５（Ｖ／Ｖ／Ｖ）
単一スポツト，Rf0.4を示す。
例 ６ １−ステアロイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホコリン ２−オレオイル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リン（例５、段階Ａ及びＢに従つて１−Ｏ−トリ
フエニルメチル−２−オレオイル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン700mgから得られる。）を有す
る溶液を無水ステアリン酸1.2ｇと例５、段階Ｃ
に記載した処理工程に従つて反応させ、クロマト
グラフイーにより精製し、次いで分析する。１−
ステアロイル−２−オレオイル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン550mg（１−Ｏ−トリフエニル
メチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンに対し
て76％収率）が得られる。これは薄層クロマトグ
ラフイーでシリカゲル上に（展開剤：クロロホル
ム−メタノール−25％NH3水溶液，65：35：５，
Ｖ／Ｖ／Ｖ）単一スポツトを示す；Rf−値0.4。
例 ７ (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−リノレオ
イル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）600mgをリ
ノール酸690mg及びカルボニルジイミダゾール
440mgから製造されたリノレオイルイミダゾリ
ドで例５、段階Ａに記載した処理工程に従つて
アシル化する。シリカゲルで中圧クロマトグラ
フイー分離後、純粋な化合物（690mg、理論値
の75％）は薄層クロマトグラフイーでシリカゲ
ル上に単一スポツト、Rf−値0.3を示す（展開
剤：クロロホルム−メタノール−25％NH3水
溶液，65：35：５，Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
(B) ２−リノレオイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホコリン メチレンクロリド60ml中に１−Ｏ−トリフエ
ニルメチル−２−リノレオイル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン１ｇを有する溶液を１−Ｏ
−トリフエニルメチル残基の離脱のために例
５、段階Ｂに記載した様にメタノール中に三フ
ツ化硼素を有する20％溶液で処理する。
(C) １−ステアロイル−２−リノレオイル−sn−
グリセロ−３−ホスホコリン 段階Ｂで得られた２−リノレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホコリンを無水ステアリン酸
1.6ｇを例５、段階Ｃに記載した処理工程に従
つて反応させ、クロマトグラフイーで精製す
る。純粋生成物（１−Ｏ−トリフエニルメチル
−２−リノレオイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホコリンに対して80％収率）820mgが得られる。
これは薄層クロマトグラフイーでシリカゲル上
に単一スポツトを示す： Rf−値0.7（展開剤：クロロホルム−メタノー
ル−25％NH3水溶液，65：35：５，Ｖ／Ｖ／
Ｖ）。
例 ８ (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アセチル
−sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）320mgと無
水酢酸0.7mgとを水不含ピリジン４ml中で一晩、
室温で反応させる。次いで反応混合物を氷水上
に注ぎ、２回クロロホルム−メタノール（２：
１，Ｖ／Ｖ）で抽出する。精製された有機層を
２回クロホルム−メタノール−水（３：48：
47，Ｖ／Ｖ／Ｖ）で洗滌し、重炭酸ナトリウム
で乾燥し、最後に乾燥物となす。粗生成物をシ
リカゲルでクロロホルム−メタノール−傾斜液
を用いて中圧クロマトグラフイー分離して精製
する。純粋生成物（180mg、51％収率）は薄層
クロマトグラフイーでシリカゲル上に単一スポ
ツト：Rf0.16を示す（展開剤：クロロホルム−
メタノール−25％NH3水溶液、65：35：５、
Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
1H−NHR−スペクトル；δppm（COCl3−
CD3OD2：１、Ｖ／Ｖ）2.13（H3C−CO，ｓ，
3H）；3.16（H3C−Ｎ ，ｓ，9H）；3.3−4.4（グ
リセロール及びコリン−CH2）；5.23（グリセロ
ールＣ−Ｈ，1H）；7.33（芳香族、15H）。
(B) ２−アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リン (C) １−パルミトイル−２−アセチル−sn−グリ
セロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アセチル
−sn−グリセロ−３−ホスホコリンから１−Ｏ
−トリフエニルメチル基を例５、段階Ｂに記載
した処理工程に従つて離脱し、形成された２−
アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンと
無水パルミチン酸とを例５、段階Ｃに記載され
た処理工程に従つて反応させ１−パルミトイル
−２−アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リンとなす。
例 ９ (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−メトキシ
アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）316mgとメ
トキシアセチルイミダゾリド−これはメトキシ
酢酸90mg及びカルボニルジイミダゾール178mg
から製造される−とを例５、段階Ａに記載した
処理工程に従つて反応させ後処理する。純粋な
１−Ｏ−トリフエニルメチル−２−メトキシア
セチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン250
mg（69％収率）が得られる。これは薄層クロマ
トグラフイーで単一スポツトを示す（展開剤：
クロロホルム−メタノール−25％NH3−水溶
液、65：35：５、Ｖ／Ｖ／Ｖ）；Rf−値0.25。
(B) ２−メトキシアセチル−sn−グリセロ−３−
ホスホコリン (C) １−ステアロイル−２−メトキシアセチル−
sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−メトキシ
アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンか
ら１−Ｏ−トリフエニルメチル基を例２、段階
Ｂに記載した処理工程に従つて離脱し、その際
形成された２−メトキシアセチル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホコリンを例６と同様に無水ステ
アリン酸と反応させ１−ステアロイル−２−メ
トキシアセチル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リンとなし、クロマトグラフイーで精製する。
例 10 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（2′−エ
チルヘキサノイル）−sn−グリセロ−３−ホス
ホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）250mgを有
する溶液を２−エチルヘキサノイルイミダゾリ
ド―これは２−エチルヘキサン酸144mg及びカ
ルボニルイミダゾール178mgから製造される−
と例５、段階Ａの記載した処理法に従つて反応
させ、後処理する。純粋な１−Ｏ−トリフエニ
ルメチル−２−（2′−エチルヘキサノイル）−sn
−グリセロ−３−ホスホコリン200mg（69％収
率）が得られる。これは薄層クロマトグラフイ
ーで（展開剤：クロロホルム−メタノール−25
％NH3，65：35：５，Ｖ／Ｖ／Ｖ）単一スポ
ツトを示す；Rf−値0.24。
(B) ２−（2′−エチルヘキサノイル）sn−グリセ
ロ−３−ホスホコリン (C) １−オレオイル−２−（2′−エチルヘキサノ
イル）−sn−グリセロ−３−ホスホコリン１−
Ｏ−トリフエニルメチル−２−（2′−エチルヘ
キサノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン
から１−Ｏ−トリオフエニルメチル基を例５、
段階Ｂに記載された処理工程に従つて離脱し、
その際形成された２−（2′−エチルヘキサノイ
ル）−sn−グリセロ−３−ホスホコリンを例５、
段階Ｃに記載された処理法に従つて無水油酸と
反応させ１−オレオイル−２−（2′−エチルヘ
キサノイル）−sn−グリセロ−３−ホスホコリ
ンとなし、クロマトグラフイーにより精製す
る。
例 11 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（1′−
14C）−ドデカノイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホコリン （1′−14C）−ドデカン酸（1μCi／mMol）
100mg及びカルボニルジイミダゾール90mgを45
分間水不含テトラヒドロフラン30ml中20℃で反
応させる。形成されたアシルイミダゾリドの溶
液を１−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホコリン127mgに加える。減圧で
溶剤の除去後、残留物をジメチルスルホキシド
１ml中に溶解し、反応を金属ナトリウム23ｇを
ジメチルスルホキシド18ml中に溶解して得られ
た触媒的に作用する酸結合剤の添加によつて開
始する。反応混合物を時折りの振とう下10分間
20℃で保ち、その後一注きで水性酢酸10mlを添
加して中和する。次いで２回夫々クロロホルム
−メタノール（２：1V／Ｖ）15mlで抽出する。
精製された有機層を順次に夫々６mlのクロロホ
ルム−メタノール−HN3水溶液（３：48：47，
Ｖ／Ｖ／Ｖ）及びクロロホルム−メタノール−
水（３：48：47，Ｖ／Ｖ／Ｖ）で洗滌する。減
圧で溶剤の除去及びベンゾールの存在下蒸発
後、相生成物が得られる。これをシリカゲルで
クロロホルム−メタノール−傾斜液を用いて中
圧クロマトグラフイーによつて精製する。この
場合純粋物質110mg（82％収率）を６：４（Ｖ／
Ｖ）のクロロホルム−メタノール割合で溶離す
る。純粋物質は薄層クロマトグラフイーでシリ
カゲル上に単一スポツト；Rf0.25を示す（展開
剤：クロロホルム−メタノール−25％NH3水
水溶援、65：35：５，Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
放射能は1uci／ｍ Molである。
1H−NMR−スペクトル：δppm（CDCl3−
CD3OD2／１，Ｖ／Ｖ）0.90（アシル−CH3，
3H）；1.26（（CH2）o，ｓ）；1.66（H2C−Ｃ−
CO，ｍ，2H）；3.16（H3C−＋ Ｎ ，ｓ，9H）；3.3
−4.4（グリセロール及びコリン−CH2，8H）；
5.23（グリセロール−CH，ｍ，1H）；7.33（芳香
族，15H） (B) ２−（1′−14C）−ドデカノイル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホコリン (C) １−オレオイル−２−（1′−14C）−ドデカノ
イル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（1′−
14C）−ドデカノイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホコリンから１−Ｏ−トリフエニルメチル基を
例５、段階Ｂに記載した処理工程に従つて離脱
し、その際形成された２−（1′−14C）−ドデカ
ノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンを例
５、段階Ｃと同様に無水油酸と反応させて１−
オレオイル−２−（1′−14C）−ドデカノイル−
sn−グリセロ−３−ホスホコリンとなし、クロ
マトグラフイーにより精製する。
例 12 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（9′，
10′−ジブロムステアロイル）−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）300mgを９，
10−ジブロム無水ステアリン酸1.3ｇと例８、
段階Ａに記載した処理法に従つて４−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノピリジン300mgの存在下クロロ
ホルム20ml中で５時間20℃で反応させ、後処理
する。純粋な１−Ｏ−トリフエニルメチル−２
−（9′，10′−ジブロムステアロイル）−sn−グ
リセロ−３−ホスホコリン460mg（82％収率）
が得られる。これは薄層クロマトグラフイーで
単一スポツト；Rf−値0.3を示す（展開剤：ク
ロロホルム−メタノール−25％NH3水溶液、
65：35：５，Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
(B) ２−（9′，10′−ジブロムステアロイル）−sn
−グリセロ−３−ホスホコリン (C) １−ステアロイル−２−（9′，10′−ジブロム
ステアロイル）−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（9′，
10′−ジブロムステアロイル）−sn−グリセロ−
３−ホスホコリンから１−Ｏ−トリフエニルメ
チル基を例５、段階Ｂに記載した処理工程に従
つて離脱し、その際形成された２−（9′，10′−
ジブロムステアロイル）−sn−グリセロ−３−
ホスホコリンを例６と同様に無水ステアリン酸
と反応させ１−ステアロイル−２−（9′，10′−
ジブロムステアロイル）−sn−グリセロ−３−
ホスホコリンとなし、クロマトグラフイーによ
り精製する。
例 13 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アラキド
ノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン１−
Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ−３−
ホスホコリン（例１による）550mgを例12に記
載した処理法に従つて無水アラキドン酸1.50ｇ
とアルゴン−雰囲気下で反応させる。メタノー
ル15mlの添加後、クロロホルム−メタノール−
水（３：48：47、Ｖ／Ｖ／Ｖ）９mlで洗滌し、
次いで下層を減圧で乾燥し、中圧クロマトグラ
フイーにより精製する。１−Ｏ−トリフエニル
メチル−２−アラキドノイル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリン750mg（80％収率）が得られ
る。これは薄層クロマトグラフイーで単一スポ
ツト；Rf−値0.3を示す（展開剤：クロロホル
ム−メタノール−25％NH3水溶液、65：35：
５，Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
(B) ２−アラキドノイル−sn−グリセロ−３−ホ
スホコリン (C) １−ステアロイル−２−アラキジノイル−sn
−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アラキド
ノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンから
１−Ｏ−トリフエニルメチル基を例５、段階Ｂ
に記載した処理工程に従つて離脱し、その際形
成された２−アラキドノイル−sn−グリセロ−
３−ホスホコリンを例６と同様に無水ステアリ
ン酸と反応させ１−ステアロイル−２−アラキ
ジノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンと
なし、クロマトグラフイーにより精製する。
例 14 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−テトラコ
サノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホコリン（例１による）316mgをテ
トラコサノイルイミダゾリド−これはテトラコ
サン酸1.7ｇ及びカルボニルジイミダゾール356
mgから製造される−と例５、段階Ａに記載した
処理法に従つて反応させ、後処理する。純粋な
１−Ｏ−トリフエニルメチル−２−テトラコサ
ノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリン850
mg（62％収率）が得られる。これは薄層クロマ
トグラフイーで単一スポツト；Rf−値0.3を示
す（展開剤；クロロホルム−メタノール−25％
NH3水溶液、65：35：５、Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
(B) ２−テトラコサノイル−sn−グリセロ−３−
ホスホコリン (C) １−オレオイル−２−テトラコサノイル−sn
−グリセロ−３−ホスホコリン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−テトラコ
サノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコリンか
ら１−Ｏ−トリフエニルメチル基を例５、段階
Ｂに記載した処理工程に従つて離脱し、その際
形成された２−テトラコサノイル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホコリンを例５、段階Ｃと同様に
無水油酸と反応させ、１−オレオイル−２−テ
トラコサノイル−sn−グリセロ−３−ホスホコ
リンとなし、クロマトグラフイーにより精製す
る。
例 15 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−オレオイ
ル−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニ
ルメチル）−エタノールアミン 油酸306mg及びカルボニルジイミダゾール255
mgをテトラヒドロフラン10ml中で45分間室温で
水分の除去下に攪拌する。１−Ｏ−トリフエニ
ルメチル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−
トリフエニルメチル）−エタノールアミン（例
２による）480mgをオレイルイミダゾリドの溶
液に取り入れた後、ジメチルスルホキシド中に
ナトリウム金属41mgを有する溶液3.1mlを加え
る。20分間室温で反応し、次いで0.1N水性酢
酸17.8mlで中和する。氷水中に取り入れ、３回
ジエチルエーテルで抽出し、精製された有機層
を２回水洗し、Na2SO4で乾燥し、その後減圧
で溶剤を除去する。粗生成物をシリカゲルで石
油エーテル−クロロホルム−傾斜液を用いてク
ロマトグラフイーにより精製した後、目的生成
物633mgが得られる。シリカゲル上で生成物の
薄層クロマトグラフイー（展開剤：クロロホル
ム−メタノール９：１（Ｖ／Ｖ））は単一スポツ
ト、Rf0.6を示す。
1−NMR−スペクトル：δppm（CDCl3）0.88
（−CH3）；1.26（−CH2−）；1.8−2.3（−CH2−
CH2−Ｃ＝Ｃ，−CH2−CH2−Ｃ＝Ｏ）；3.1−
4.3（グリセロール及びエタノールアミンＣ−
Ｈ）；5.1（グリセロールC2−Ｃ−Ｈ，オレオイ
ルHC≡CH）；7.25（トリフエニルメチルＣ−
Ｈ）。
(B) ２−オレオイル−sn−グリセロ−３−ホスホ
ノ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン メチレンクロリド30ml及びメタノール中に三
フツ化硼素を有する20％溶液１mlから成る混合
物中に１−Ｏ−トリフエニルメチル−２−オレ
オイル−sn−グリセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−
トリフエニルメチル）−エタノールアミン406mg
を有する溶液を30分間０℃で攪拌する。次いで
メチレンクロリド30mlを加え、30mlを加え、３
回水洗し、有機層をNa2SO4で乾燥する。
(C) １−パルミトイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエニルメ
チル）−エタノールアミン 形成された２−オレオイル−sn−グリセロ−
３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミンの溶液に無水パルミチン酸1.3
ｇ及びジメチルアミノピリジン230mgを加える
反応混合物を６時間20℃で攪拌する。その後溶
剤を減圧で除去する。残留物をシリカゲルで石
油エーテル−クロロホルム−傾斜液を用いてク
ロマトグラフイー分離した後、純粋なアシル化
生成物361mgが得られる。化合物は薄層クロマ
トグラフイーでシリカゲル上に単一スポツト、
Rf0.6を示す（展開剤：クロロホルム−メタノ
ール９／１（Ｖ／Ｖ））。
1H−NMR−スペクトル：δppm（CDCl3）0.88
（−CH3）；1.22（−CH2−）；1.55（−CH2−Ｃ−
CO）；1.8−2.3（−CH2−CH2−Ｃ＝，−CH2−
Ｃ＝Ｏ）；3.1−4.3（グリセロール及びエタノー
ルアミンＣ−Ｈ）；5.1（グリセロール＝Ｃ−Ｈ、
オレオイルCH＝CH）；7.25（トリフエニルメチ
ルＣ−Ｈ）。
(D) １−パルミトイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミン メチレンクロリド６ml及びトリフルオル酢酸
６mlから成る混合物12ml中に１−パルミトイル
−２−オレオイル−sn−３−グリセロ−（Ｎ−
トリフエニル−メチル）エタノールアミン190
mgを有する溶液を水分の除去下５分間０℃で放
置する。次いで６％アンモニア水溶液を用いて
一注ぎで中和する。水性層を分離し、クロロホ
ルム−メタノール２／１（Ｖ／Ｖ）で抽出する。
精製された有機層を水洗する。減圧で溶剤の除
去後、粗生成物をシリカゲルでクロロホルム−
メタノール−傾斜液を用いてクロマトグラフイ
ーにより精製する。化合物は薄層クロマトグラ
フイーでシリカゲル上に単一スポツト、Rf0.5
を示す（展開例：クロロホルム−メタノール−
25％NH3水溶液、50：25：６（Ｖ／Ｖ／Ｖ）。
例 16 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−リノレオ
イル−sn−グリセロ−３−ホスホノ−（Ｎ−ト
リフエニルメチル）−エタノールアミンリノー
ル酸464mg及びカルボニルジイミダゾール365mg
を45分間テトラヒドロフラン15ml中で20℃で反
応させる。形成されたアシルイミダゾリドの溶
液を１−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−
エタノールアミン（例２による）530mgに加え
る。溶剤を減圧で除去後、残留物をジメチルス
ルホキシド15ml中で溶解し、反応ごジメチルス
ルホキシド3.7ml中に金属ナトリウム49mgを溶
解して得られる触媒的に作用する酸結合剤の添
加によつて開始する。反応混合物を時折りの振
とう下で20分間20℃で保ち、次いで水性0.1N
酢酸を用いて一注ぎで中和する。次いで２回
夫々20mlのクロロホルム−メタノール２：１
（Ｖ／Ｖ）で抽出する。精製された有機層を順
次に夫々８mlのクロロホルム−メタノール−
NH3−水溶液（３：48：47V／Ｖ／Ｖ）及びク
ロロホルム−メタノール−水（３：48：47、
Ｖ／Ｖ／Ｖ）で洗滌する。減圧で溶剤の除去及
びベンゾールの存在下で蒸発後、粗生成物が得
られる。これはシリカゲルでクロロホルム−メ
タノール−傾斜液を用いて中圧クロマトグラフ
イーによつて精製後純粋化合物670mg（92％収
率）を生じる。純粋化合物は薄層クロマトグラ
フイーでシリカゲル上に単一スポツト、Rf0.61
を示す（展開剤：メタノール−クロロホルム
８：3V／Ｖ）。
(B) ２−リノレオイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホノ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノール
アミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホノ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−
エタノールアミン435mgから例15、段階Ｂに記
載した処理法に従つて１−Ｏ−トリフエニルメ
チル基をメタノール中に三フツ化硼素を有する
20％溶液0.5mlで離脱する。
(C) １−オレイル−２−リノオレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミン (D) １−オレオイル−２−リノレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミン ２−リノレオイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミンを例15、段階Ｃに於ける処理工程に準じて
無水油酸で更にアシル化して１−オレオイル−
２−リノレオイル−sn−グリセロ−３−ホスホ
−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミ
ンとなし、これから例15、段階Ｄに記載した処
理法に準じてＮ−トリフエニルメチル残基を離
脱する。
例 17 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−ステアロ
イル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリ
フエニルメチル）−エタノールアミンを例16、
段階Ａに於ける処理工程に準じて１−Ｏ−トリ
フエニルメチル−sn−グリセロ−３−ホスホ−
（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン
380mgとステアロイルイミダゾリド350mgとの反
応によつて製造する。
(B) ２−ステアロイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミンが１−Ｏ−トリフエニルメチル基を段階Ａ
で得られた生成物から例15、段階Ｂの記載した
処理工程に従つて離脱して得られる。
(C) １−オレオイル−２−ステアロイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミン (D) １−オレオイル−２−ステアロイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミン 段階Ｂで得られた２−ステアロイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミンを例15、段階Ｃに於け
る処理工程に準じて無水油酸1.5ｇと反応させ
１−オレオイル−２−ステアロイル−sn−グリ
セロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）
−エタノールアミン350mgとなす。例15、段階
Ｄに於ける処理工程に準ずる脱トリチル化は１
−オレオイル−２−ステアロイル−sn−グリセ
ロ−３−ホスホエタノールアミン250mgを生じ
る。これからシリカゲルクロロホルム−メタノ
ール−傾斜液を用いてクロマトグラフイー分離
して純粋生成物140mgが得られる。これは薄層
クロマトグラフイーで単一スポツト、Rf−値
0.5を示す（展開剤：クロロホルム−メタノー
ル−25％NH3水溶液、50：25：６、Ｖ／Ｖ／
Ｖ）。
例 18 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アセチル
−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエ
ニルメチル）−エタノールアミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミン（例２による）300mgを無水酢
酸500mlと水不含ピリジン５ml中で20時間20℃
で反応させる。次いで氷水50ml上に注ぎ、２回
クロロホルム−メタノール２：１（Ｖ／Ｖ）で
抽出する。精製された有機層を２回クロロホル
ム−メタノール−水３：48：47（Ｖ／Ｖ／Ｖ）
で洗滌し、重炭酸ナトリウムで乾燥し、減圧下
乾燥物となす。残りのピリジンをトルオールの
存在下蒸発して除去する。粗生成物をシリカゲ
ルでクロロホルム−メタノール−傾斜液を用い
て中圧クロマトグラフイーにより精製する。得
られた純粋物質（128mg、40％収率）は薄層ク
ロマトグラフイーでシリカゲル上に単一スポツ
ト、Rf−値0.50を示す（展開剤：クロロホルム
−メタノール８：２、Ｖ／Ｖ）。
1H−NMR−スペクトル：δppm（CDCl3−
CD3OD2：１，Ｖ／Ｖ）；2.0（H3C−CO，Ｓ，
3H）：2.8−4.2（グリセロール及びコリン−
CH2）；5.16（グリセロール−CH，ｍ，1H）；
7.23（芳香族30H）１−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−２−アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホ
−（Ｎ−トリフエニルメチルアミン）−エタノー
ルアミンを例15の段階Ｂ，Ｃ及びＤに於ける処
理工程に準じてその他の生成物に変える： (B) ２−アセチル−sn−グリセロ−３−ホスホ−
（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン (C) １−パルミトイル−２−アセチル−sn−グリ
セロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）
−エタノールアミン (D) １−パルミトイル−２−アセチル−sn−グリ
セロ−３−ホスホエタノールアミン 例 19 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−プロピオ
ニル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリ
フエニルメチル）−エタノールアミン１−Ｏ−
トリフエニルメチル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン（例２による）450mgを無水プロピオン酸
900mgとピリジン10ml中30℃で例18、段階Ａに
於ける処理工程に準じて反応させ１−Ｏ−トリ
フエニルメチル−２−プロピオニル−sn−グリ
セロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）
−エタノールアミンとなし、後処理し、精製す
る。収量220mg（理論値の45％）；Rf−値0.5得
られた生成物を例15、段階Ｂ，Ｃ及びＤに於け
る処理工程に準じて次の化合物に変える： (B) ２−プロピオニル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン (C) １−パルミトイル−２−プロピオニル−sn−
グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメ
チル）−エタノールアミン (D) １−パルミトリル−２−プロピオニル−sn−
グリセロ−３−ホスホエタノールアミン 例 20 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−ブチリル
−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエ
ニルメチル）−エタノールアミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミン（例２による）500mgをブチリ
ルイミダゾリド−これは酪酸132mg及びカルボ
ニルジイミダゾール267mgから得られる−で例
16、段階Ａと同様にアシル化し、後処理し、精
製する。得られた生成物（300mg，56％収率；
Rf−値0.52、シリカゲル上、展開剤：クロロホ
ルム−メタノール８：２、Ｖ／Ｖ）を例15、段
階Ｂ，Ｃ及びＤに於ける処理工程に準じて更に
反応させる： (B) ２−ブチル−sn−グリセロ−３−ホスホ−
（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン (C) １−パルミトイル−２−ブチリル−sn−グリ
セロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）
−エタノールアミン (D) １−パルミトイル−２−ブチリル−sn−グリ
セロ−３−ホスホエタノールアミン 例 21 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−イソブチ
リル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリ
フエニルメチル）−エタノールアミン１−Ｏ−
トリフエニルメチル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン（例２による）500mgをイソブチリルイミ
ダゾリド―これはイソ酪酸132mg及びカルボニ
ルジイミダゾール267mgから得られる−で例16、
段階Ａと同様にアシル化し、後処理し、精製す
る得られた生成物（272mg、50％収率；Rf−値
0.53、シリカゲル上で、展開剤：グロロホルム
−メタノール８：２，Ｖ／Ｖ）は次のスペクト
ル値を示す。
1H−NMR−スペクトル：δppm（CDCl3−
CD3OD，２：１、Ｖ／Ｖ）1.2（CH3，6H）；
2.5−3.9（グリセロール及びコリンCH2；8H）；
5.26（グリセロール−CH，ｍ，1H）；7.23（芳香
族、30H）１−Ｏ−トリフエニルメチル−２−
イソブチリル−sn−グリセロ−３−ホスホ−
（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミン
を例16、段階Ｂ，Ｃ及びＤに準じて次の化合物
に変える。
(B) ２−イソブチリル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン (C) １−オレオイル−２−イソブチリル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミン (D) １−オレオイル−２−イソブチリル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミン 例 22 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（3′−ト
リフルオルメチルブチリル）−sn−グリセロ−
３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタ
ノールアミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミン（例２による）900mg及び無水
３−トリフルオルメチルブチリル500mgをメチ
レンクロリド50ml中で４−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノピリジン300mgの添加後、４時間20℃で攪
拌する。水の添加後振とうし、有機層を
Na2SO4で乾燥し、減圧で蒸発する。粗生成物
をシリカゲルでクロロホルム−メタノール−傾
斜液を用いて0.5容量％NH3水溶液の存在下中
圧クロマトグラフイーによつて精製した後、１
−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（3′−トリフ
ルオルメチルブチリル）−sn−グリセロ−３−
ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノー
ルアミン820mg（76％収率；Rf−値0.50、シリ
カゲル上で、展開剤：クロロホルム−メタノー
ル８：２、Ｖ／Ｖ）が得られる。この生成物を
例15、段階Ｂ，Ｃ及びＤに準じて次の化合物に
変える。
(B) ２−（3′−トリフルオルメチルブチリル）−sn
−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニル
メチル）−エタノールアミン (C) １−パルミトイル−２−（3′−トリフルオル
メチルブチリル）−sn−グリセロ−３−ホスホ
−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールアミ
ン (D) １−パルミトイル−２−（3′−トリフルオル
メチルブチル）−sn−グリセロ−３−ホスホエ
タノールアミン 例 23 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−（2′−ブ
チルヘキサノイル）−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミン（例２による）430mgを２−ブ
チルヘキサノイルイミダゾリド−これは２−ブ
チルヘキサン酸200mg及びカルボニルジイミダ
ゾール210mgから得られる−で例16、段階Ａと
同様にアシル化し、後処理し、精製する。得ら
れた生成物（370mg、70％収率Rf−値0.55、シ
リカゲル上で、展開剤：クロロホルム−メタノ
ール８：２、Ｖ／Ｖ）を例15、段階Ｂ，Ｃ及び
Ｄに於ける処理工程に準じて次の化合物に更に
変える： (B) ２−（2′−ブチルヘキサノイル）−sn−グリセ
ロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−
エタノールアミン (C) １−パルミトイル−２−（2′−ブチルヘキサ
ノイル）−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−ト
リフエニルメチル）−エタノールアミン (D) １−パルミトイル−２−（2′−ブチルヘキサ
ノイル）−sn−グリセロ−３−ホスホエタノー
ルアミン 例 24 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−アラキド
ノイル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−ト
リフエニルメチル）−エタノールアミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ
−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エ
タノールアミン（例２による）500mg及び無水
アラキドン酸890mgをメチレンクロリド50ml中
で４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン300mg
の添加後４時間20℃で攪拌する。水の添加後振
とうし、有機層をNa2SO4で乾燥し、減圧で蒸
発する。粗生成物をシリカゲルでクロロホルム
−メタノール−傾斜液を用いて0.5容量％水性
NH3の存在下に中圧クロマトグラフイーによ
り精製した後、１−Ｏ−トリフエニルメチル−
２−アラキドノイル−sn−グリセロ−３−ホス
ホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノールア
ミン（82％収率；Rf−値0.61、シリカゲル上
で、展開剤：クロロホルム−メタノール８：
２，Ｖ／Ｖ）520mgが得られる。この生成物を
例15、段階Ｂ，Ｃ及びＤに準じて次の化合物に
変える： (B) ２−アラキドノイル−sn−グリセロ−３−ホ
スホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノール
アミン (C) １−パルミトイル−２−アラキドノイル−sn
−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニル
メチル）−エタノールアミン (D) １−パルミトイル−２−アラキドノイル−sn
−グリセロ−３−ホスホエタノールアミン 例 25 (A) １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−テトラコ
サノイル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−
トリフエニルメチル）−エタノールアミン１−
Ｏ−トリフエニルメチル−sn−グリセロ−３−
ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノー
ルアミン（例２による）500mgをテトラコサノ
イルイミダゾリド−これはテトラコサン酸1.57
ｇ及びカルボニルイミダゾール267mgから得ら
れる−で例16、段階Ａと同様にアシル化し、後
処理し、精製する。得られた生成物（640mg、
90％収率；Rf−値0.6、シリカゲル上で、展開
剤：クロロホルム−メタノール８：２、Ｖ／
Ｖ）を例15、段階Ｂ，Ｃ及びＤに於ける処理工
程に準じて次の化合物に更に変える。
(B) ２−テトラコサノイル−sn−グリセロ−３−
ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノー
ルアミン (C) １−パルミトイル−２−テトラコサノイル−
sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニ
ルメチル）−エタノールアミン (D) １−パルミトイル−２−テトラコサノイル−
sn−グリセロ−３−ホスホエタノールアミン 例 26 (C) １−ステアロイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミン メチレンクロリド150ml中に２−オレオイル
−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエ
ニルメチル）−エタノールアミン−これは１−
Ｏ−トリフエニルメチル−２−オレオイル−sn
−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニル
メチル）−エタノールアミン（例15、段階Ａ及
びＢ参照）から得られる−を有する溶液に無水
ステアリン酸3.5ｇ及び４−Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノピリジン625mgを加える。反応混合物を
３時間20℃で攪拌し、次いでクロロホルム−メ
タノール−水（３：48：47、Ｖ／Ｖ）45ml及び
メタノール75mlを加える。振とう後、下層を分
離し、更に２回夫々45mlのクロロホルム−メタ
ノール−アンモニア水（３：48：47、Ｖ／Ｖ／
Ｖ）で並びに１回クロロホルム−メタノール−
水（３：48：47、Ｖ／Ｖ／Ｖ）で洗滌する。溶
剤を減圧で除去後、粗生成物をシリカゲルでク
ロロホルム−メタノール−傾斜液を用いて中圧
クロマトグラフイーによつて精製する。この場
合純粋物質990mg（89％収率，Rf−値0.6、シリ
カゲル上で、展開剤：クロロホルム−メタノー
ル９：１、Ｖ／Ｖ）が得られる。
(D) １−ステアロイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホエタノールアミン １−ステアロイル−２−オレオイル−sn−グ
リセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメチ
ル）−エタノールアミン１ｇをトリフルオル酢
酸30ml中で５分間０℃で放置する。後処理を例
15、段階Ｄと同様に行う。純粋物質550mg（72
％収率）が得られる。これは薄層クロマトグラ
フイーでシリカゲル上で単一 ポツト、Rf−
値0.5を示す（展開剤：クロロホルム−メタノ
ール−25％NH3，50：25：６、Ｖ／Ｖ／Ｖ） 例 27 (C) １−ステアロイル−２−リノレオイル−sn−
グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリフエニルメ
チル）−エタノールアミン (D) １−ステアロイル−２−リノレオイル−sn−
グリセロ−３−ホスホエタノールアミン １−Ｏ−トリフエニルメチル−２−リノレオ
イル−sn−グリセロ−３−ホスホ−（Ｎ−トリ
フエニルメチル）−エタノールアミン700mgから
得られた２−リノレオイル−sn−グリセロ−３
−ホスニ−（Ｎ−トリフエニルメチル）−エタノ
ールアミン（例16、段階Ａ及びＢ参照）にメチ
レンクロリド中で無水ステアリン酸2.2ｇ及び
４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン390mgを
加え、３時間室温で攪拌する。得られた生成物
を例15、段階Ｄに記載された様にトリフルオル
酢酸と反応させ、精製する。
純粋な１−ステアロイル−２−リノレオイル
−sn−グリセロ−３−ホスホエタノールアミン
250mgが得られる。これは薄層クロマトグラフ
イーでシリカゲル上で単一スポツト；Rf−値
0.5を示す（展開剤：例26に於けると同様なク
ロロホルム−メタノール）。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式（） （式中Ｔは非置換のあるいはC1−C6アルキル
    基、C1−C6アルコキシ基又はハロゲン原子によ
    つて１−又は数回置換されたトリフエニルメチル
    基を示し、 R1，R2，R3は同一であり、夫々メチル基を示
    す又は相異り、この場合残基R1，R2及びR3のう
    ち２つは常に水素原子を示し、三番目の残基は非
    置換であるか又はC1−C6アルキル基、C1−C6ア
    ルコキシ基又はハロゲン原子によつて１−又は数
    回置換されたトリフエニルメチル基である。） で表わされるsn−グリセロ−３−ホスホコリン−
    及びsn−グリセロ−３−ホスホエタノールアミン
    のトリフエニルメチル誘導体。
JP60101644A 1984-05-15 1985-05-15 グリセロホスホコリン―及びグリセロホスホエタノールアミン誘導体 Granted JPS60252490A (ja)

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AT1590/84 1984-05-15

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT383130B (de) * 1984-05-15 1987-05-25 Chemie Linz Ag Verfahren zur herstellung von an c1 und c2 verschieden substituierten phosphatidylcholinen und phosphatidylethanolaminen ueber die neuen verbindungen 1-0-tritylglycerophosphocholin beziehungsweise (1-0,n-ditrityl)-glycerophosphoethanolamin
DE3638687A1 (de) * 1986-11-13 1988-05-19 Lentia Gmbh Einstufiges verfahren zur herstellung von gemischt substituierten 1,2-di-acyl-sn-glycero-3-phosphocholinen
AT388165B (de) * 1986-12-10 1989-05-10 Chemie Linz Ag Einstufiges verfahren zur herstellung von gemischt substituierten 1,2-di-acyl-sn-glycero-3- phosphocholinen
JP2657486B2 (ja) * 1987-02-20 1997-09-24 花王株式会社 洗浄剤組成物
US5144045A (en) * 1990-11-13 1992-09-01 American Cyanamid Company Phosphocholine derivative inhibitors of phospholipase A2
US5698537A (en) * 1996-06-18 1997-12-16 Clarion Pharmaceuticals Inc. Method of lowering the viscosity of mucus
US6838452B2 (en) 2000-11-24 2005-01-04 Vascular Biogenics Ltd. Methods employing and compositions containing defined oxidized phospholipids for prevention and treatment of atherosclerosis
DE112004001520B4 (de) * 2003-08-18 2008-04-10 Btg International Ltd. Verwendung eines Lipidglyzerids festgelegter Struktur zur Herstellung eines Medikamentes zur Behandlung der multiplen Sklerose
US7807847B2 (en) 2004-07-09 2010-10-05 Vascular Biogenics Ltd. Process for the preparation of oxidized phospholipids
GB0425932D0 (en) * 2004-11-25 2004-12-29 Btg Int Ltd Structured phospholipids
GB0504362D0 (en) 2005-03-02 2005-04-06 Btg Int Ltd Cytokine modulators
US9006217B2 (en) 2007-01-09 2015-04-14 Vascular Biogenics Ltd. High-purity phospholipids
US8569529B2 (en) 2007-01-09 2013-10-29 Vascular Biogenics Ltd. High-purity phospholipids
EP2348866B1 (en) * 2008-11-06 2015-01-07 Vascular Biogenics Ltd. Oxidized lipid compounds and uses thereof
CN104017019A (zh) * 2014-06-12 2014-09-03 东南大学 一种氮芥-甘油磷脂酰胆碱化合物的合成方法
US9771385B2 (en) 2014-11-26 2017-09-26 Vascular Biogenics Ltd. Oxidized lipids
CA2968790A1 (en) 2014-11-26 2016-06-02 Vascular Biogenics Ltd. Oxidized lipids and treatment or prevention of fibrosis
CZ308596B6 (cs) * 2017-04-03 2020-12-23 Ústav molekulární genetiky AV ČR, v. v. i. Deriváty fosfolipidů a jejich použití jako léčiva
PL232663B1 (pl) * 2017-06-30 2019-07-31 Univ Przyrodniczy We Wroclawiu Fosfatydylocholiny oraz sposób ich otrzymywania
PL232298B1 (pl) * 2017-06-30 2019-06-28 Univ Przyrodniczy We Wroclawiu Sposób otrzymywania fosfatydylocholiny zawierającej ibuprofen w pozycji sn-1

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2820893C2 (de) * 1978-05-12 1986-02-20 A. Nattermann & Cie GmbH, 5000 Köln Strukturanaloga von natürlichen Phospholipiden und Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen
IT1123187B (it) * 1979-09-17 1986-04-30 Lpb Ist Farm Processo per la preparazione di l-alfa-glicerilfosforilcolina
DE3130867A1 (de) * 1981-08-04 1983-02-24 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Zwischenprodukte zur herstellung von glycerinderivaten
AT383130B (de) * 1984-05-15 1987-05-25 Chemie Linz Ag Verfahren zur herstellung von an c1 und c2 verschieden substituierten phosphatidylcholinen und phosphatidylethanolaminen ueber die neuen verbindungen 1-0-tritylglycerophosphocholin beziehungsweise (1-0,n-ditrityl)-glycerophosphoethanolamin

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