JPH04121748A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

［０００１］

【産業上の利用分野】

本発明は、平版印刷、多色印刷の校正刷、オーバーヘッ
ドプロジェクタ−用図面、更には半導体素子の集積回路
を製造する際に微細なレジストノ＜ターンを形成するこ
とが可能なポジ型感光性組成物に関する。 ［０００２］

【従来の技術】

平版印刷版等の用途において活性光線により可溶化する
、いわゆるポジチブに作用する感光性物質としては、従
来オルトキノンジアジド化合物が知られており実際平版
印刷版等に広く利用されてきた。このようなオルトキノ
ンジアジド化合物の例は、例えば、米国特許２７６６１
１８．同２７６７０９２．同２７７２９７２、同２８５
９１１２．同２９０７６６５．同３０４６１１０．同３
０４６１１１、同３０４６１１５．同３０４６１・１８
．同３０４６１１９．同３０４６１２０、同３０４６１
２１．同３０４６１２２．同３０４６１２３．同３０６
１４３０、同３１０２８０９．同３１０６４６５．同３
６３５７０９．同３６４７４４３の各明細書をはじめ、
多数の刊行物に記載されている。 これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして５員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となる性質が利用されるものであるが、光
分解により窒素ガスを生じるため、感光層に密着させた
原画が浮き上がり、焼きボケを生じたり、現像時未分解
のオルトキノンジアジド化合物がカップリング反応を起
こす等の問題があった。 ［０００３］ 一方、半導体素子、磁気バブルメモリー　集積回路等の
電子部品を製造するためのパターン形成法としては、従
来より、紫外線または可視光線に感光するフォトレジス
トを利用する方法が幅広く実用に供されている。フォト
レジストには、光照射により被照射部が現像液に不溶化
するネガ型と、反対に可溶化するポジ型とがあるが、ネ
ガ型はポジ型に比べて感度が良く、湿式エツチングに必
要な基板１さ開平４−１２１７４８　（５） との接着性及び耐薬品性にも優れていることから、近年
までフォトレジストの主流を占めていた。しかし、半導
体素子等の高密度化、高集積化に伴い、パターンの線幅
や間隔が極めて小さくなり、また、基板のエツチングに
はドライエツチングが採用されるようになったことから
、フォトレジストには高解像度及び高ドライエツチング
耐性が望まれるようになり、現在ではポジ型フォトレジ
ストが大部分を占めるようになった。特に、ポジ型フォ
トレジストの中でも、感度、解像度ドライエツチング耐
性に優れることから、例えばジエー・シー・ストリエー
タ著、コダック・マイクロエレクトロニクス・セミナー
・プロシーデインゲス、第１１６頁（１９７６年）（Ｊ
、Ｃ，５ｔｒｉｅｔｅｒ、Ｋｏｄａｋ　　Ｍｉｃｒ。 ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ　　Ｓｅｍ１ｎａｒ　　Ｐｒｏ
ｃｅｅｄｉｎｇｓ、１１６　（１９７６））等に挙げら
れた、アルカリ可溶性のノボラック樹脂をベースにした
アルカリ現像型のポジ型フォトレジストが現行プロセス
の主流になっている。 ［０００４］ しかしながら、近年、電子機器の多機能化、高度化に伴
い、更に高密度、並びに高集積化を図るべく、パターン
の微細化が強く要請されている。　これに対し近年、露
光光源の短波長化、即ちｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（
３６５ｎｍ）更には、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光（２００〜３０
０ｎｍ）へと検討が進められているカミ従来のポジ型フ
ォトレジストの感光物であるオルトキノンジアジド化合
物はＤｅｅｐ−ＵＶ領域での吸収が大きく、またこの領
域の光ブリーチ性が／Ｊ１ｅいため、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光
を光源として使用した場合、レジストパターンの形状が
劣化するという問題があった。　これに対して、オルト
キノンジアジド化合物を用いずにポジチブに作用させる
感光性組成物に関して、いくつかの提案がされている。 その１つとして、例えば特公昭５６−２６９６．米国特
許４５５１４１６Ｊ、Ｖａｃ、Ｓｃｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌ
、、１９巻、１３３８頁（１９８１）Ｊ、Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、１２９巻、２５５２頁（１９８
２）、同１３０巻、１４３３頁（１９８３）等に記載さ
れている、２−ニトロベンジルエステルもしくは２，６
−シニトロベンジルエステル基を有する化合物、また特
開昭６０−２４３６５３．Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ
ｓ、２１巻、２００１頁（１９８８）　　５ＰＩＥ、９
２０巻、６７頁（１９８８）等に記載されている２−二
トロベンジルスルホネートもしくは２，６−シニトロベ
ンジルスルホネート基を有する化合物が挙げられる。し
かし、これらの化合物の場合においても、Ｄｅｅｐ−Ｕ
Ｖ領域の吸収が大きく、また光ブリーチしないため、同
様な問題が発生している。 ［０００５］ 更に、Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域の光ブリーチ性を上げる試み
として、ＩＥＥＥ　　Ｔｒａｎｓ、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　
　Ｄｅｖｉｃｅｓ、ＥＤ−２８巻、１３００頁（１９８
１）、５ＰＩＥ　　７７１巻、２頁（１９８７）、同９
２０巻、５１頁（１９８８）、Ｊ、Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙ
ｍ、Ｓｃ　ｉ、Ｔｅｃｈｎｏｌ、、２巻、３９２頁（１
９８９）、及び米国特許４５２２９１１．同４６０１９
６９．同４６２２２８３、同４６２４９０８．同４６２
６４９１．同４７５２５５１．同４８０８５１２、特開
昭６３−１６３３４０．同６４−５４０．同６４−３３
５４３．特開平１−１０６０３４．同１−１０６０３５
．同１−１０６０３６．同１−１０６０３７、同１−１
２４８４９．同１−１５２４５１．同１−１８８８５２
等に記載されている、２−ジアゾ−１，３−ジオン（−
Ｃ（＝Ｏ）　−Ｃ（＝Ｎ２）Ｃ（＝○）−）基を有する
化合物を挙げることができる。これらの化合物は確かに
Ｄｅｅｐ−ＵＶ領域において光ブリーチ性を示すが、こ
れらの化合物自体のべ一り時における昇華性が大きい、
及び未露光部のアルカリ現像液に対する溶解阻止能が小
さいという問題がある。 ［０００６］ また更に、露光により脱ＣＯ２反応を生起させ、露光部
のアルカリ現像液に対する溶解阻止能を低下させること
によりポジ型パターンを得る方法として、特開平１−１
４０１４４記載の種々の置換ベンジルエステル化合物を
用いた系が挙げられるが、この場合露光部と未露光部の
アルカリ現像液に対する溶解性の差が十分に大きくはな
らな′いという問題がある。 ［０００７］

【発明が解決しようとする課題】

本発明の目的は、上記問題点が解決された新規なポジ型
感光性組成物を提供することである。即ち露光時ガスを
発生せず、また現像時カップリング反応を起こかない新
規なポジ型感光性組成物を提供することである。 本発明の別の目的は、短波長の光、特にＤｅｅｐ−ＵＶ
領域の光に対し、良好なレジストパターンを形成し得る
新規なポジ型感光性組成物を提供することである。 ［０００８］

【課題を解決するための手段】

本発明者等は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた
結果、アルコキシベンジルエステル基もしくはアルコキ
シベンジルスルホネート基を有する新規な高分子化合物
を用いることにより、上記目的が達成されることを見い
だし、本発明に到達した。即ち本発明の目的は、下記一
般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される活性光線の照射
によりカルボン酸もしくはスルホン酸を発生する基を有
する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物に
より達成された。 ［０００９］

【化４】 ［００１０］ ここで、 Ｒ２−Ｒ６：同一でも異なっていても良く、水素原子、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、シアノ
基もしくはアルキル基。ただし、少なくとも１つはアル
コキシ基もしくはアリーロキシ基であり、２つが結合し
て環を形成しても良い。 を表す。 以下に、本発明の詳細な説明する。 ［００１１］ 一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される基を有する化
合物としては、下記−般式（ＩＩＩ）、（■ｖ）　　（
Ｖ）もしくは（ｖ■）で表ｇれる一Ｅ／マーに由来する
構造単位を少なくとも１モル％有する高分子化合物であ
ることが好ましい。

【０Ｏ１２】

【化５】 ［００１３］ ここで、 Ｒ：水素原子、 ハロゲン原子もしくはアルキル基、 好ましくは水素原子もしく は炭素数１〜４個のアルキル基、 更に好ましくは水素原子もしくはメチル基、 Ｒ゛水素原子、アルキル基もしくはアリール基、好まし
くは水素原子もしくは炭素数１〜４個のアルキル基、 Ｒ〜Ｒ°同一でも異なっていても良く、水素原子、ノ＼
ロゲン原子、アルコキ２　６゛ シ基、アリーロキシ基、シアノ基もしくはアルキル基、
好ましくは水素原子、塩素原子、炭素数１〜６個のアル
コキシ基、炭素数６〜１５個のアリーロキシ基、または
炭素数１〜４個の直鎖もしくは分枝アルキル基、更に好
ましくは水素原子もしくは炭素数１〜６個のアルコキシ
基、を示す。 ただし、Ｒ−Ｒの少なくとも１つはアルコキシもしくは
アリーロキシ基、好ましくはＲ〜Ｒの少なくとも１つは
アルコキシもしくはアリーロキシ基であり、Ｒ２−Ｒ６
のうちの２つが結合して環を形成しても良い。 具体的には、ＣＨ２＝Ｃ（−Ｒ）　−Ａ−または［００
１４］

【化６】 ［００１５］ を除く基としニー、２−アルコキシベンジル、３−アル
コキシベンジル、２．３−ジアルコキシベンジル、２，
４−ジアルコキシベンジル、２，５−ジアルコキシベン
ジル、２，６−ジアルコキシベンジル、３，４−ジアル
コキシベンジル、３５−ジアルコキシベンジル、２，３
．４−トリアルコキシベンジル、３，４゜５−トリアル
コキシベンジルのエステルもしくはスルホネート基を示
す。 Ａ：単結合、もしくは２価の脂肪族もしくは芳香族炭化
水素基、好ましくは単結合、２価の炭素数１〜３０個の
脂肪族基、または２価の炭素数６〜２０個の単環もしく
は多環芳香族基、更に好ましくは単結合、２価の炭素数
１〜１０個の脂肪族基、または２価の炭素数６〜１５個
の単環もしくは多環芳香族基を示す。 また、Ａ中にケトン、エーテル、エステル、アミド、ウ
レタン、ウレイド基を含有してもよく、更にこれらの基
を介してＣＨ２＝Ｃ（−）−Ｒ基もしくは［００１６］

【化７】 ［００１７］ 基と結合してもよい。 これらの高分子化合物は、活性光線もしくは放射線の照
射によりカルボン酸もしはくスルホン酸を発生して、ア
ルカリ水溶液に対する溶解性が増大する特性を有してい
る。 これらの化合物と、水不溶性でかつアルカリ水溶液に可
溶な樹脂を含有する組成物としても良い。 また、−殺伐（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される基を有
する化合物力板下記−般式（ＶＩＩ）もしくは（ＶＩＩ
Ｉ）で表される化合物であっても良い。 ［００１８］

【化８】 ［００１９］ ここで、 Ｒ１：水素原子、アルキル基もしくはアリール基、好ま
しくは水素原子もしくは炭素数１〜４個のアルキル基、 Ｒ２−Ｒ６：同一でも異なっていても良く、水素原子、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、シアノ
基もしくはアルキル基、好ましくは水素原子、塩素原子
、炭素数１〜６個のアルキコシ基、炭素数６〜１５個の
アリーロキシ基、又は炭素数１〜４個の直鎖もしくは分
枝アルキル基、更に好ましくは水素原子、もしくは炭素
原子数１〜６個のアルコキシ基、を示す。ただし、Ｒ２
−Ｒ６の少なくとも１つはアルコキシ基もしくはアリー
ロキシ基であり、好ましくはＲ２もしくはＲ３の少なく
とも１つはアルコキシ基もしくはアリーロキシ基である
。更にＲ２−Ｒ６のうちの２つが結合して環を形成して
も良い。 具体的には、Ａを除く基として、２−アルコキシベンジ
ル、３−アルコキシベンジル、２．３−ジアルコキシベ
ンジル、　２，４−ジアルコキシベンジル、２５−ジア
ルコキシベンジル、２，６−ジアルコキシベンジル、３
，４−ジアルコキシベンジル、３，５−ジアルコキシベ
ンジル、２，３．４−トリアルコキシベンジル、３，４
．５−トリアルコキシベンジルのエステルもしくはスル
ホネート基を示す。 Ａ：ｎ価の脂肪族もしくは芳香族炭化水素基、好ましく
は炭素数１〜３０個の脂肪族基、又−は炭素数６〜２０
個の単環もしくは多環芳香族基を示す。また、Ａ中にケ
トン、エーテル、エステル、アミド、ウレタン、ウレイ
ド、ハロゲン等の基を含有しても良い、 ｎ：１以上の整数、好ましくは１〜１０の整数、を示す
。 これら−殺伐（ＶＩＩ）もしくは（ＶＩＩＩ）で表され
る化合物を用いる場合には、上記水不溶でアルカリ水溶
液に可溶な樹脂は、必須成分となる。 以下に、本発明の成分について詳細に説明する。 ［００２０］ ［式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）（Ｖ）もしくは（Ｖ　Ｉ　）
で表されるモノマー単位を有する高分子化合物１ 一般式（ＩＩＩ）もしくは（Ｖ）で表されるモノマーは
、例えば、［００２月

【化９］ ［００２２］ もしくは ＣＨ２＝Ｃ（−Ｒ）−Ａ−Ｃ○○Ｈと、下記−殺伐（Ｉ
Ｘ）で表される化合物との脱水試剤による脱水縮合反応
、またはこれらの化合物と下記−殺伐（Ｘ）で表される
化合物との塩基存在下における求核置換反応、あるいは
、［００２３］ 【化１０１ ［００２４］ もしくはＣＨ２＝Ｃ（−Ｒ）　−Ａ、−ＣＯＣｌと、下
記−殺伐（ＩＸ）で表される化合物との、塩基存在下に
おける脱ＨＣＩ縮合反応、等の公知の方法により合成さ
れる。 ［００２５］ 【化１１】 ［００２６］ （ここで、Ｒ１−Ｒ６、Ｒ１及びＡは、−殺伐（ＩＩＩ
）の場合と同義である。 またＸは塩素原子もしくは臭素原子を示す。）−殺伐（
ＩＶ）もしくは（Ｖ　Ｉ　）で表されるモノマーにおい
ても同様に一般式（ＩＸ）の化合物と ［００２７］

【化１２】 ［００２８］ もしくはＣＨ＝Ｃ（−Ｒ）−Ａ−３Ｏ２Ｃ１との塩基存
在下による脱ＨＣＩ縮合反応により合成できる。 一般式（ＩＸ）の化合物は、下記−殺伐（Ｘ　Ｉ　）の
化合物と金属水素化合物との還元反応等により合成され
る。また、−殺伐（Ｘ）の化合物は一般式（Ｘ　Ｉ　）
の化合物から、オキシ塩化燐、チオニルクロリド等のハ
ロゲン化試剤の作用により変換できる。 ［００２９］

【化１３】 ［００３０］ （ここで、Ｒ２−Ｒ６は一般式（ＩＩＩ）もしくは（Ｉ
Ｖ）の場合と同義である。Ｒ７は水素原子、アルキルも
しくはアリール基を表す。）本発明に用いられる高分子
化合物は、−殺伐（ＩＩＩ）〜（Ｖ　Ｉ　）で示される
モノマーに由来する構造単位を２種以上含有していても
よい。以下に、−殺伐（Ｉ　Ｉ　Ｉ）、（ＩＶ）、（Ｖ
）もしくは（ＶＩ）で表されるモノマーの具体例（１）
〜（４４）を示す。なお、具体例中のＲは水素原子もし
くはメチル基を表す。 ［００３１］

【化１４】

【化１５】

【化１６】

【化１７】

【化１８】

【化１９】

【化２０１ 【化２１】

【化２２】

【化２３】 ［００４１］ 本発明においては、他の重合可能なエチレン性不飽和結
合を有する化合物（１種以上）との共重合体の形で使用
することもできる。この場合には、−殺伐（ＩＩＩ）〜
（ＶＩ）で表されるモノマーの重合比は、使用する共重
合モノマーの種類により変わるカミ少なくとも１モル％
、好ましくは５モル％以上、更に好ましくは１０モル％
以上である。 好適な重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
としては、以下に示すものが含まれる。例えばアクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエー
テル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エ
ステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有
する化合物である。 ［００４２］ 具体的には、 アクリル酸エステル類：例えばアルキル（該アルキル基
の炭素数が１〜１０のものが好ましい）アクリレート（
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロ
ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル
酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシ
プロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、等）　アリールアクリレート（
フェニルアクリレート等）。 ［００４３］ メタクリル酸エステル類：アルキル（該アルキル基の炭
素数が１〜１０のものが好ましい）メタクリレート（メ
チルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピル
メタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミル
メタクリレートへキシルメタクリレート、シクロへキシ
ルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベ
ンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレ
ート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、フルフリルメタクリレートテトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート等）、アリールメタク
リレート（フェニルメタクリレート、クレジルメタクリ
レート、ナフチルメタクリレート等）。　アクリルアミ
ド類：例えばアクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルア
ミド（該アルキル基としては、炭素数１〜１０のもの、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ
−ブチル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、ヒドロキシエチル基、等）、Ｎ−アリ
ールアクリルアミド（該アリール基としては、フェニル
基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、シアノ
フェニル基、ヒドロキシフェニル基、等）、Ｎ、Ｎ−ジ
アルキルアクリルアミド（該アルキル基としては、炭素
数１〜１０のもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル
基、等）、Ｎ、Ｎ−アリールアクリルアミド（該アリー
ル基としては、フェニル基、等）Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチ
ルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−
アセチルアクリルアミド、等。 メタクリルアミド類：メタクリルアミド、Ｎ−アルキル
メタクリルアミド（該アルキル基としては、炭素数１〜
１０のもの、例えばメチル基、エチル基、ｔブチル基、
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシ
ル基、等）Ｎ−アリールメタクリルアミド（該アリール
基としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基、等）
、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（該アルキル基
としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、等）、Ｎ
、Ｎ−ジアリールメタクリルアミド（該アリール基とし
ては、フェニル基等）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、等。 ［００４４］ アリル化合物：アリルエステル類（酢酸アリル、カプロ
ン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パ
ルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリ
ル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、等）、アリルオキ
シエタノール、ビニルエーテル類：アルキルビニルエー
テル（ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテ
ル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエー
テル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチル
ビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メ
チル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−
エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニル
エーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメ
チルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチ
ルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル
、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビ
ニルエーテル、等）　ビニルアリールエーテル（ビニル
フェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロ
ルフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロルフェニ
ルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラ
ニルエーテル、等）。 ［００４６］ ビニルエステル類：ビニルブチレート、ビニルイソブチ
レート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチル
アセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビ
ニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、
ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、
ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、
ビニルシクロへキシルカルボキシレート、安息香酸ビニ
ル、サルチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラ
クロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、等。 ［００４７］ スチレン類：スチレン、アルキルスチレン（メチルスチ
レン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチル
スチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、
ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルス
チレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメ
チルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、等）、ア
ルコキシスチレン（メトキシスチレン、４−メトキシ−
３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等）、ハロゲ
ンスチレン（クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリ
クロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロル
スチレン、ブロムスチレンジブロムスチレン、ヨードス
チレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２
−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フル
オル−３−トリフルオルメチルスチレン、等）。 ［００４８］ クロトン酸エステル類：クロトン酸アルキル（クロトン
酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロト
ネート、等）。 イタコン酸ジアルキル類：イタコン酸ジメチル、イタコ
ン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、等。 マレイン酸またはフマール酸のジアルキル類ニジメチル
マレレート、ジブチルフマレート、寺。 アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタク
リルロニトリル、等。 がある。 その他、一般的には前記（ＩＩＩ）〜（Ｖ　Ｉ　）で示
される化合物と共重合可能である付加重合性不飽和化合
物であればよい。 ［００４９］ 本発明の高分子化合物の分子量は、重量平均で１，００
０以上、好ましくは５０００〜１，０００，０００であ
る。 本発明の、−殺伐（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）もしく
は（Ｖ　Ｉ　）で表されるモノマーに由来する構造単位
を有する高分子化合物の含量は、全組成物の固形分に対
し、５〜１００重量％が適当であり、好ましくは１０〜
８０重量％、更に好ましくは２０〜６０重量％である。 ［００５０］ ［−殺伐（ＶＩＩ）もしくは（ＶＩＩＩ）で表される化
合物］−一般式ＶＩＩ）で表される化合物は、例えば、
上記−殺伐（ＩＸ）の化合物とＡ　（−ＣＯＯＨ）　　
との脱水試剤による脱水縮合反応、−殺伐（ＩＸ）の化
合物とＡ（−ＣＯＣＩ）　　との塩基存在下における脱
ＨＣＩ縮合反応、または一般式（Ｘ）の化合物とＡ　（
−ＣＯＯＨ）　　との塩基存在下における求核置換反応
等の公知の方法により合成される。 一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物においても同様に
、−殺伐（ＩＸ）の化成できる。 本発明に使用される一般式（ＶＩＩ）もしくは（ＶＩＩ
Ｉ）で表される化合物は、活性光線もしくは放射線の照
射により、カルボン酸もしくはスルホン酸を発生し、ア
ルカリ水溶液に対する溶解性を増大させることを特徴と
する。 −殺伐（ＶＩＩ）もしくは（ＶＩＩＩ）で表される本発
明の化合物の含量は、全組成物の固形分に対し、５〜９
５重量％が適当であり、好ましくは１０〜８０重量％、
更に好ましくは２０〜６０重量％である。 以下に、これらの化合物の具体例（４５）〜（１０２）
を示す。 ［００５１］

【化２４】

【化２５】

【化２６】 ［００５４］

【化２７】 ［００５５］

【化２８】 ［００５６］

【化２９】 ＣＲ３ ／ ［００５７］

【化３０】

【化３１】

【化３２】

【化３３】

【化３４】

【化３５】

【化３６】

【化３７】

【化３８】 ［００６６］ ［アルカリ可溶性樹脂］ アルカリ可溶性樹脂は、露光部のアルカリ溶解性をより
効率的にするため、ま た皮膜性・耐熱性を付与するため添加する。 このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好ましくはフェ
ノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基、イミド
基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、Ｎ−
スルホニルウレタン基、活性メチレン基等の、ｐＫａｌ
　１以下の酸性水素原子を有するポリマーである。好適
なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラック型フェ
ノール樹脂、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹
脂、Ｏ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール−ホル
ムアルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアルデヒド樹
脂、またこれらの共縮合物等がある。更に、特開昭５０
−１２５８０６に記載されている様に、上記のようなフ
ェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル基で置換さ
れたフェノールもしくはクレゾールとホルムアルデヒド
との縮合物とを併用してもよい。またＮ−（４−ヒドロ
キシフェニル）メタクリルアミドのようなフェノール性
ヒドロキシ基し含有子ツマ−を共重合成分するポリマー
　ｐ−ヒドロキシスチレン、０−ヒドロキシスチレン、
ｍ−イソプロペニルフェノール、ｐ−インプロペニルフ
ェノール等の単独もしくは共重合のポリマー　更にまた
これらのポリマーを部分エーテル化、部分エステル化し
たポリマーも使用できる。 更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含
有モノマーを共重合成分とするポリマー　無水マレイン
酸とスチレン等の共重合物を加水分解もしくはアルコー
ルでハーフエステル化させたポリマー、特開昭６１−２
６７０４２記載のカルボキシル基含有ポリビニルアセタ
ール樹脂、特開昭６３−１２４０４７記載のカルボキシ
ル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使用できる。 更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−フェニルスルホニルメタクリルアミド
、マレイミドを共重合成分とするポリマー　特開昭６３
−１２７２３７記載の活性メチレン基含有ポリマーも使
用できる。これらのアルカリ可溶性ポリマーは、単一で
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。 感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、５〜９５重量％、好ましくは２０〜９０重
景％、更に好ましくは４０〜８０重量％の範囲である。 ［００６７］ ［その他の好ましい成分］ 本発明のポジ型感光性組成物には、必要に応じて、更に
染料、顔料、可塑剤及び光分解効率を増大させる化合物
（いわゆる増感剤）等を含有させることができる。 染料は着色剤として用いることができるが、好適な染料
としては、油溶性染料及び塩基性染料がある。具体的に
は、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１３０
、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイル
ブルーＢＯ３、オイルブルー＃６０３、オイルブラック
ＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、クリスタルバ
イオレツ）　（ＣＩ４２５５５）　、メチルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７０
Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレ
ンブルー（ＣＩ５２０１５）等を挙げることができる。 また露光後直ちに可視像を得るための焼きだし剤を加え
ることができる。このような焼きだし剤としては、露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有
機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体
的には、特開昭５０−３６２０９、同５３−８１２８に
記載されている０−ナフトキノンジアジド−４−スルホ
ン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭
５３−３６２２３、同５４−７４７２８に記載されてい
るトリハロメチル化合物と塩形成性の有機染料の組合せ
を挙げることができる。 本発明の組成物中には、更に感度を高めるために環状酸
無水物、その他のフィラー等を加えることができる。環
状酸無水物としては、米国特許４１１５１２８に記載さ
れているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−ニンドオキシ
ー△４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α
−フェニル無水マレイン酸、無水琥珀酸、ピロメリット
酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成物中の固形
分に対して１〜１５重量％含有させることによって、感
度を最大３倍程度に高めることができる。 ［００６８］ ［溶媒］ 本発明のポジ型感光性組成物を、平版印刷用の材料とし
て使用する場合は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に溶解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール
、プロパツール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパツール、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテー
ト、２−エトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル
、乳酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、
ｙ−ブチロラクトントルエン、酢酸エチル等があり、こ
れらの溶媒を単独もしくは混合して使用７する。そして
上記成分中の濃度（添加物を含む全固形分）は、２〜５
０重量％である。また、塗布して使用する場合、塗布量
は用途により異なるカミ例えば感光性平版印刷版につい
ていえば、一般的に固形分として０．　５〜３．０ｇ／
ｍ２が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて感光性は
大になるが、感光膜の物性は低下する。 ［００６９］ ［平版印刷版等の製造］ 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば紙、プラスチッ
クス（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等
）がラミネートされた紙、アルミニウム（アルミニウム
合金を含む）亜鉛、銅等のような金属の板、２酢酸セル
ロース、３酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、
酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース
、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、上記
のごとき金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持体
の内、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ−り、
しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭４８
−１８３２７に記載されているようなポリエチレンテレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートも好ましい。アルミニウム板の表面はワ
イヤブラシダレイニング、研磨粒子のスラリーを注ぎな
がらナイロンブラシで粗面化するブラシダレイニング、
ボールダレイニング、溶体ホーニングによるグレイニン
グ、バフグレイニング等の機械的方法、ＨＦ、ＡｌＣｌ
３やＨＣＩをエッチャントとするケミカルダレイニング
、硝酸もしくは塩酸を電解液とする電解グレイニング、
もしくはこれらの粗面化法を複合させて行った複合グレ
イニングによって表面を砂目立てした後、必要に応じて
酸もしくはアルカリによりエツチング処理され、引続き
硫酸、燐酸、蓚酸、はう酸、クロム酸、スルファミン酸
もしくはこれらの混酸中で直流もしくは交流電源にて陽
極酸化を行いアルミニウム表面に強固な不働態皮膜を設
けた物が好ましい。このような不働態皮膜自体でアルミ
ニウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じて
米国特許２７１４０６６、同３１８１４６１に記載され
ている珪酸塩処理（珪酸ナトリウム、珪酸カリウム）、
米国特許２９４６６３８に記載されているフッ化ジルコ
ニウム酸カリウム処理、米国特許３２０１２４７に記載
されているホスホモリブデート処理、英国特許１１０８
５５９に記載されているアルキルチタネート処理、強国
特許１０９１４３３に記載されているポリアクリル酸処
理、強国特許１１３４０９３や英国特許１２３０４４７
に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４
４−６４０９に記載されているホスホン酸処理、米国特
許３３０７９５１に記載されているフィチン酸処理、特
開昭５８−１６８９３、同５８−１８２９１に記載され
ている親水性有機高分子化合物と２価の金属よりなる複
合処理、特開昭５９−１０１６５１に記載されているス
ルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によって親水化
処理を行ったものは特に好ましい。その他の親水化処理
方法としては、米国特許３６５８６６２に記載されてい
るシリケート電着を挙げることができる。 また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したも
のも好ましい。ががる封孔処理は熱水及び無機塩もしく
は有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴等によ
って行われる。 ［００７０１ ［活性光線もしくは放射線］ 本発明に用いられる活性光線の光源としては、水銀灯、
メタルハライドランフキセノンランプ、ケミカルランプ
、カーボンアーク灯等がある。放射線トしては、電子線
、Ｘ線、イオンビーム、遠紫外線等がある。好ましくは
、フォトレジスト用の光源として、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅ
ｐ−ＵＶ光が使用される。また高密度エネルギービーム
（レーザービームもしくは電子線）による走査もしくは
パルス露光も本発明に使用することができる。このよう
なレーザービームとしては、ヘリウム・ネオンレーザ−
アルゴンレーザー　クリプトンイオンレーザ−ヘリウム
・カドミウムレーザー　ＫｒＦエキシマ−レーザー等が
挙げられる。 ［００７１］ ［現像液］ 本発明のポジ型感光性組成物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三燐酸ナトリウム、
第二燐酸ナトリウム、第三燐酸アンモニウム、第二燐酸
アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム
、ランモニア水等のような無機アルカリ剤及びテトラア
ルキルアンモニウムＯＨ塩等のような有機アルカリ剤の
水溶液が適当であり、それらの濃度が０．１〜１０重量
％、好ましくは０．５〜５重量％になるように添加され
る。 また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じて界面活性
剤やアルコール等のような有機溶媒を加えることもでき
る。 以下、本発明を、合成例、実施例により更に詳細に説明
する力ξ本発明はこれらに限定されるものではない。 ［００７２］

【実施例】

合成例１３，５−ジメトキシベンジルアルコールの合成
リチウムアルミニウムハイドライド（Ｌ　ｉＡ　Ｉ　Ｈ
４）　７　、　６　ｇを脱水乾燥したＴＨＦｌｏｏｍｌ
に分散した。これに、３，５−ジメトキシ安息香酸３６
．４ｇの脱水ＴＨＦ２００ｍｌの溶液を撹拌下、１時間
かけて滴下した。その後、室温にて１時間撹拌を続けた
。水２０ｍ１を滴下し、残存のＬ　ｉＡ　Ｉ　Ｈｉ、を
処理した後、この反応混合物を水１．５１中に投入した
。濃塩酸２０ｇを加え酸性化し、酢酸エチル７００ｒｎ
’ｌにて２回抽出した。抽出液を水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥させた。乾燥させた酢酸エチル溶
液を濃縮し、カラムクロマトグラフィー（充填剤ニジリ
カゲル、展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝２７１）で精
製したところ、無色針状結晶３１ｇを得た。ＮＭＲによ
りこの結晶が下に示す、３．５−ジメトキシベンジルア
ルコールであることを確認した。 ［００７３］

【化３９】 ［００７４］ 合成例２３，５−ジメトキシベンジルメタクリレートの
合成３．５−ジメトキシベンジルアルコール１６．８ｇ
　（０，１００モル）、トリエチルアミン９．５ｇ　（
０，０９４モル）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン１
３ｇ　（０，０１１モル）をアセトン１２０ｍ１に溶解
し、これにメタクリロイルクロリド１１．０ｇ　（０，
１０５モル）のアセトン５０ｍ１溶液を室温下、３０分
間かけて滴下した。その後、１時間撹拌を続けた。生成
した塩を濾別し、濃縮した後、カラムクロマトグラフィ
ー（充填剤ニジリカゲル、展開液、ヘキサン／酢酸エチ
ル＝５／１）にて精製したところ、オイル状液体１７．
５ｇを得た。 ＮＭＲにより、この液体が下に示す、３，５−ジメトキ
シベンジルメタクリレートであることを確認した。 ［００７５］

【化４０】 ［００７６］ 合成例３４−クロロスルホニルスチレンの合成４−スチ
レンスルホン酸Ｎａ塩８２．５ｇをＣＨＣ１３４００ｒ
ｎ　１に分散させ、水冷下、５塩化燐１２４．９ｇを撹
拌しながら徐々に添加した。その後、５時間加熱還流さ
せた。放冷後、反応混合物を氷水６００ｍ１に投入し、
ＣＨＣｌ３層を更に水で洗浄した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた後、濃縮し、減圧蒸留にて精製した。オ
イル状液体４５ｇを得た。ＮＭＲ１元素分析により、こ
の液体が４−クロロスルホニルスチレンであることを確
認した。 ［００７７］

【化４１】 ［００７８］ 合成例４３，５−ジメトキシベンジル−４−スルホネー
トの合成合成例２の、メタクリロイルクロリドの代わり
に、４−クロロスルホニルスチレン２１．３ｇ　（０，
１０５モル）を用い、合成例２と同様に反応、後処理を
行った。粘稠オイル２５．２ｇを得た。ＮＭＲより、こ
のオイルが下に示す、３゜５−ジメトキシベンジル−４
−スチレンスルホネートであることを確認した。 ［００７９］ ［化４２］ ［００８０］ 合成例５３．５−ジメトキシベンジルメタクリレートの
重合体の合成３．５−ジメトキシベンジルメタクリレー
ト２３．６ｇを２−メトキシエタノール８０ｍ・１に溶
解し、窒素気流下、６５℃に加熱して、２，２″−アゾ
ビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０２５ｇ
を添加した。３時間加熱・撹拌を続けた後、２，２′−
アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０２
５ｇを再度添加し、更に４時間反応を続けた。 反応溶液を水２１中に撹拌しながら投入し、析出した白
色樹脂を濾取・乾燥して、重合体２２ｇを得た。ゲルパ
ーミェーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により分
子量を測定したところ、重量平均（ポリスチレン標準）
で５５，０００であった。 ［００８１］ 合成例６３，５−ジメトキシベンジル−４−スチレンス
ルボネート／スチレン共重合体の合成 合成例５の３，５−ジメトキシベンジルメタクリレート
の代わりに、３，５−ジメトキシベンジル　４−スチレ
ンスルホネート２０．１ｇ　（０，０６０モル）、及び
スチレン４．２ｇ　（０，０４０モル）を用い、合成例
５と同様にして反応・後処理を行った。白色樹脂２３ｇ
を得た。分子量は重量平均（ＧＰＣ、ポリスチレン標準
）で４３，０００であった。 ［００８２］ 実施例１〜６ 下記感光液［Ａ］の、本発明の高分子化合物の種類を変
えて、表１に示す６種類の感光液［Ａ］−１〜［Ａ］−
６を調製し、シリコーンウェハー上にスピナーで塗布し
た。更にホットプレート上で９０℃において２分間乾燥
させた。膜厚は１．０μｍであった。 感光液［Ａ］の処方 本発明の高分子化合物　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１，０ｇエチルセロソルブアセテート　　　　
　　　　　　　　　　　　７．０ｇ［００８３］

【表１】 ［００８４］ 次に、フィルターを介して２５４　ｎｍ光を取り出し、
マスクを通してコンタクト露光した。その後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキシドの２．４％水溶液で
６０秒間現像することにより、レジストパターンを形成
させた。その結果０．５μｍのライン及スペースの良好
なパターンが得られた。 なお、表１における本発明の高分子化合物の分子量は重
量子ｔＱ（ＧＰＣ、ポリスチレン標準）で４２，０００
〜６８，０００であった。 ［００８５］ 実施例７〜１２ 下記感光液［Ｂ］の本発明の高分子化合物の種類を変え
て、表２に示す６種類の感光液［Ｂ］−１〜［Ｂ］−６
を調製し、シリコンウェハー上にスピナーで塗布した。 更にホットプレート上で９０℃において２分間乾燥させ
た。膜厚は１０μｍであった。 感光液［Ｂ］ 本発明の高分子化合物　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　０．５ｇポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）
（丸首石油（株）製、重量平均分子量６．０００）　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０
ｇエチルセロソルブアセテート　　　　　　　　　　　
　　　　　　８．５ｇ［００８６］

【表２】 ［００８７］ 次に、２４９　ｎｍ（７）Ｋｒ　Ｆエキシマレーザ−光
により、マスクを介してパルス露光し、その後、テトラ
メチルアンモニウムハイドロオキシドの２．４％水溶液
で６０秒間現像することによりレジストパターンを形成
させた。その結果、０゜３μｍのライン＆スペースの良
好なパターンが得られた。 なお、表２における本発明の高分子化合物の分子量は重
量平均（ＧＰＣ、ポリスチレン標準）で４３，０００〜
６５，０００であった。 ［００８８］ 合成例７　化合物例（５０）の合成 ３．５−ジメトキシベンジルアルコール１６．８ｇ　（
０，１００モル）、トリエチルアミン９．５ｇ　（０，
０９４モル）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン１３ｇ
（０，０１１モル）をアセトン１２０ｍ１に溶解し、こ
れに２−ナフチロイルクロリド２０．０ｇ　（０，１０
５モル）のアセトン５０ｍ１溶液を室温下、３０分間か
けて滴下した。その後、１時間撹拌を続けた。生成した
塩を濾別し、濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（
充填剤ニジリカゲル、展開液、ヘキサン／酢酸エチル＝
５／１）にて精製したところ、無色結晶２１．５ｇを得
た。 ＮＭＲにより、この結晶が化合物例（５０）であること
を確認した。 ［００８９］ 合成例８　化合物例（６９）の合成 ３−メトキシベンジルアルコール１３．８ｇ　（０，１
００モル）、トリエチルアミン９．５ｇ　（０，０９４
モル）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン１．３ｇ（０
，０１１モル）をアセトン１２０ｍ１に溶解し、これに
フタロイルクロリド１０．６ｇ　（０，０５２−ＥＥ−
ル）ノア七トン５０ｍ１溶液を室温下、３０分間かけて
滴下した。その後、１時間攪拌を続けた。生成した塩を
濾別し、濃縮した後、合成例１と同様に精製したところ
、無色結晶１３．５ｇを得た。 ＮＭＲにより、この結晶が化合物例（６９）であること
を確認した。 ［００９０］ 合成例９　化合物例（９６）の合成 ２．３−ジメトキシベンジルアルコール１６．８ｇ　（
０，１００モル）、トリエチルアミン９．５ｇ　（０，
０９４モル）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン１３ｇ
　（０，０１１−Ｅル）をアセトン１２０ｍ１に溶解し
、これに、１．５−ビス（クロロスルホニル）ナフタレ
ン１７．Ｏｇ　（０，０５２モル）のアセトン５０ｍ１
溶液を室温下、３０分間かけて滴下した。その後、１時
間攪拌を続けた。 生成した塩を濾別し、濃縮した後、合成例１と同様に精
製したところ、無色結晶１２．８ｇを得た。ＮＭＲによ
り、この結晶が化合物例（９６）であることを確認した
。 ［００９１］ 実施例１３〜１８ 下記感光液［Ｃ］の本発明の化合物の種類を変えて、６
種類の感光液［Ｃ］　−１〜［Ｃ］−６を調製し、シリ
コンウェハー上にスピナーで塗布した。更に、ポットプ
レート上で９０℃において２分間乾燥させた。膜厚は、
１．０μｍであった。 感光液［Ｃ］ 本発明の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　０．４０ｇｍ　／　ｐ　＝　４７６クレゾールー
ホルムアルデヒドノボラツク樹脂　１．０ｇエチルセロ
ソルブアセテート　　　　　　　　　　　　　　　　　
８．５ｇなお、感光液［Ｃ］−１〜［Ｃ］　−６に用い
た本発明の化合物を表３に示す。 ［００９２］

【表３】 ［００９３］ 次に、フィルターを介して２５４ｎｍ光を取り出し、マ
スクを通してコンタクト露光した。その後、テトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキシドの２．４％水溶液で６
０秒間現像することにより、レジストパターンを形成さ
せた。その結果０．５μｍのライン＆スペースの良好な
パターンが得られた。 ［００９４］ 実施例１９〜２４ 下記感光液［Ｄ］の本発明の化合物の種類を変えて、表
４に示す６種類の感光液［ＤＩ−１〜［ＤＩ−６を調製
し、シリコンウェハー上にスピナーで塗布した。更にホ
ットプレート上で９０℃において２分間乾燥させた。膜
厚は１．０ｇｍであった。 感光液［ＤＩ 本発明の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　０．５ｇポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）
（丸首石油（株）製、重量平均分子量６．０００）　　
、　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．
０ｇエチルセロソルブアセテート　　　　　　　　　　
　　　　　　　８．５ｇ［００′９５］

【表４】 ［００９６］ 次に、２４９ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ−光により、
マスクを介してパルス露光し、その後、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキシドの２．４％水溶液で６０秒
間現像することによりレジストパターンを形成させた。 その結果、０゜３μｍのライン＆スペースの良好なパタ
ーンが得られた。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（ I ）もしくは（II）で表さ
   れる、活性光線の照射によりカルボン酸もしくはスルホ
   ン酸を発生する基を有する化合物を含有することを特徴
   とする感光性組成物。 【化１】 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ここで、 Ｒ＿１：水素原子、アルキル基もしくはアリール基。 Ｒ＿２〜Ｒ＿６：同一でも異なっていても良く、水素原
   子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、シ
   アノ基もしくはアルキル基。ただし、少なくとも１つは
   アルコキシ基もしくはアリーロキシ基であり、２つが結
   合して環を形成しても良い。 を表す。
2. 【請求項２】請求項１において、一般式（ I ）もしく
   は（II）で表される基を有する化合物が、下記一般式（
   III）、（IV）、（Ｖ）もしくは（VI）で表されるモノ
   マーに由来する構造単位を少なくとも１モル％有する高
   分子化合物であることを特徴とする感光性組成物。 【化２】 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） ここで、 Ｒ：水素原子、ハロゲン原子もしくはアルキル基。 Ｒ＿１：水素原子、アルキル基もしくはアリール基。 Ｒ＿２〜Ｒ＿６：同一でも異なっていても良く、水素原
   子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、シ
   アノ基もしくはアルキル基。ただし、少なくとも１つは
   アルコキシ基もしくはアリーロキシ基であり、２つが結
   合して環を形成しても良い。 Ａ：単結合もしくは２価の脂肪族もしくは芳香族炭化水
   素基。 を表す。
3. 【請求項３】請求項１において、更に水不溶でアルカリ
   水溶液に可溶な樹脂を含有することを特徴とする感光性
   組成物。
4. 【請求項４】請求項３において、一般式（ I ）もしく
   は（II）で表される基を有する化合物が、下記一般式（
   VII）もしくは（VIII）で表されることを特徴とする感
   光性組成物。 【化３】 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） ここで、 Ｒ＿１：水素原子、アルキル基もしくはアリール基。 Ｒ＿２〜Ｒ＿６：同一でも異なっていても良く、水素原
   子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、シ
   アノ基もしくはアルキル基。ただし、少なくとも１つは
   アルコキシ基もしくはアリーロキシ基であり、２つが結
   合して環を形成しても良い。 Ａ：ｎ価の脂肪族もしくは芳香族炭化水素基。 ｎ：１以上の整数 を表す。