JPH0519477A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 一般式（Ｉ）で表わされる１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−オキシムスル
ホネート基を有する繰り返し単位を少なくとも１モル％
含む高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物。 、Ｄは、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−イ
ル基又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−イ
ル基を、Ａは水素原子又はアルキル基を、Ｂは単結合、
二価の芳香族炭化水素等、を示す。Ｒ¹ は二価の脂肪族
又は芳香族炭化水素を、Ｒ² は水素原子等、を示す。Ｒ
は水素原子等、を示す。Ｒ³ はアルキル基等を、Ｒ⁴ 、
Ｒ⁵ は同一でも相異していてもよく、各々水素原子等、
を示す。ｎは１以上の整数を示す。またＲとＢが結合し
て環を形成してもよい。 【効果】 高感度であり、解像力に優れた感光性組成物
を提供できる。。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷、多色印刷の
校正刷、オーバーヘッドプロジェクター用図面、更には
半導体素子の集積回路を製造する際に微細なレジストパ
ターンを形成することが可能なポジ型感光性組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷版等の用途において活性光線に
より可溶化する、いわゆるポジチブに作用する感光性物
質としては、従来オルトキノンジアジド化合物が知られ
ており、実際平版印刷版等に広く利用されてきた。この
ようなオルトキノンジアジド化合物の例は、例えば、米
国特許2766118 号、同2767092 号、同2772972 号、同28
59112 号、同2907665 号、同3046110 号、同3046111
号、同3046115 号、同3046118 号、同3046119 号、同30
46120 号、同3046121 号、同3046122 号、同3046123
号、同3061430 号、同3102809 号、同3106465 号、同36
35709 号、同3647443号の各明細書をはじめ、多数の刊
行物に記載されている。

【０００３】これらのオルトキノンジアジド化合物は、
活性光線の照射により分解を起こして５員環のカルボン
酸を生じ、アルカリ可溶性となることを利用したもので
あるが、いずれも感光性が不十分であるという欠点を有
する。

【０００４】オルトキノンジアジド化合物を含む感光性
組成物の感光性を高める方法については、今までいろい
ろと試みられてきたが、現像時の現像許容性を保持した
まま感光性を高めることは非常に困難であった。例え
ば、このような試みの例として、特公昭４８−１２２４
２号、特開昭５２−４０１２５号、米国特許第4,307,17
3 号などの明細書に記載された内容を挙げることができ
る。

【０００５】またポジ型に作用する新しい感光物として
露光によりスルホン酸を発生するオキシムスルホネート
化合物が、特開昭６１−２５１６５２号、特開平１−１
２４８４８号、同１−１６３７３６号、同２−１５４２
６６号に記載されている。またその他のスルホン酸、ス
ルフィン酸、カルボン酸などの酸を発生する化合物が特
開昭６０−２６０９４７号、特開平２−７０４８号、同
２−１０００５３号、同２−１０００５４号、及び同２
−１０００５５号などに記載されているが、これらは何
れもより長波の光源、例えばｇ線（４３６nm）、ｉ線
（３６５nm）との適性が不十分であり、光源によっては
十分な感度を示さないという問題があった。

【０００６】一方、ポジ型フォトレジスト組成物として
は、一般にアルカリ可溶性樹脂と感光物としてのナフト
キノンジアジド化合物とを含む組成物が用いられてい
る。例えば、「ノボラック型フェノール樹脂／ナフトキ
ノンジアジド置換化合物」として米国特許第3666473
号、米国特許第4115128号及び米国特許第4173470 号等
に、また最も典型的な組成物として「クレゾール−ホル
ムアルデヒドより成るノボラック樹脂／トリヒドロキシ
ベンゾフエノン−１，２−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステル」の例がトンプソン「イントロダクション
・トウー・マイクロリソグラフィー」（L. F. Thompson
「Introduction to Microlithography」）（ＡＣＳ出
版、No. ２１９号、ｐ１１２〜１２１）に記載されてい
る。

【０００７】結合剤としてのノボラック樹脂は、膨潤す
ることなくアルカリ水溶液に溶解可能であり、また生成
した画像をエッチングのマスクとして使用する際に特に
プラズマエッチングに対して高い耐性を与えるが故に本
用途に特に有用である。また、感光物に用いるナフトキ
ノンジアジド化合物は、それ自身ノボラック樹脂のアル
カリ溶解性を低下せしめる溶解阻止剤として作用する
が、光照射を受けて分解するとアルカリ可溶性物質を生
じてむしろノボラック樹脂のアルカリ溶解度を高める働
きをする点で特異であり、この光に対する大きな性質変
化の故にポジ型フォトレジストの感光物として特に有用
である。

【０００８】これまで、かかる観点からノボラック樹脂
とナフトキノンジアジド系感光物を含有する数多くのポ
ジ型フォトレジストが開発、実用化され、1.５μｍ〜２
μｍ程度までの線幅加工に於ては充分な成果をおさめて
きた。

【０００９】しかし、集積回路はその集積度を益々高め
ており、超ＬＳＩなどの半導体基板の製造に於ては１μ
ｍ以下の線幅から成る超微細パターンの加工が必要とさ
れる様になってきている。かかる用途に於ては、特に高
い解像力、露光マスクの形状を正確に写しとる高いパタ
ーン形状再現精度及び高生産性の観点からの高感度を有
するフォトレジストが要求され、従来の上記ポジ型フォ
トレジストでは対応できないのが実情である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの問題点が解決された新規な感光性組成物を提供する
ことである。即ち高い感度を有する新規な感光性組成物
を提供することである。

【００１１】本発明の更に別の目的は、高い解像力を有
し、１μｍ以下の線幅から成る超微細パターンの加工が
可能なポジ型感光性組成物を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意検討を加えた結果、新規なポジ型の感光
性組成物を用いることで前記目的が達成されることを見
い出し本発明に到達した。

【００１３】即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表わ
される１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び
／又は５−オキシムスルホネート基を有する繰り返し単
位を少なくとも１モル％含む高分子化合物を含有するポ
ジ型感光性組成物を提供するものである。

【００１４】

【化２】

【００１５】式中、Ｄは、１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−４−イル基又は１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−イル基を示す。Ａは水素原子又はアルキ
ル基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜３個のア
ルキル基、更にこのアルキル基に例えば塩素原子のよう
なハロゲン原子、例えばメトキシ基のような炭素原子数
１〜６個のアルコキシ基などが置換したものであって、
具体的には水素原子、メチル基、クロロメチル基などが
含まれる。

【００１６】Ｂは単結合、二価の芳香族炭化水素、-CO-
O-R¹-、又は -CO-NR²-R¹-を示し、好ましくは単結合、
炭素数６〜２０個の単環もしくは多環の置換又は無置換
のアリーレン基、-CO-O-R¹- 、又は -CO-NR²-R¹-を示
す。具体的には、アリーレン基としては、単環および２
環のものが好ましく、例えばフェニレン基、ナフチレン
基などが含まれる。置換アリーレン基としては、上記の
ようなアリーレン基に、例えばメチル基、エチル基など
の炭素原子数１〜６個のアルキル基、例えばメトキシ
基、エトキシ基などの炭素原子数１〜６個のアルコキシ
基、例えば塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、フ
ェニル基、カルボキシ基、シアノ基などが置換したもの
が含まれ、具体的にはクロロフェニレン基、ブロモフェ
ニレン基、フェニルフェニレン基、メチルフェニレン
基、エチルフェニレン基、メトキシフェニレン基、エト
キシフェニレン基、シアノフェニレン基、メチルナフチ
レン基、クロロナフチレン基、ブロモナフチレン基など
があげられる。

【００１７】Ｒ¹ は、二価の脂肪族又は芳香族炭化水素
基を示し好ましくは炭素数１〜３０個のアルキレン基、
又は炭素数６〜２０個の単環もしくは多環の、置換基を
有していてもよいアリーレン基を示す。好ましい置換基
としては、アルキル、アリール、アルコキシ、ニトロ、
シアノ、アミド、ウレイド、ウレタン基又はハロゲン原
子が挙げられる。またＲ¹ 中にエーテル、エステル、ア
ミド、ウレタン、ウレイド等の二価の基を含有していて
もよい。

【００１８】Ｒ² は水素原子、アルキル基、アリール
基、又はアラルキル基を示す。好ましくは、水素原子、
炭素原子数１〜６個のアルキル基、更にこのアルキル基
に例えば塩素原子のようなハロゲン原子、例えばメトキ
シ基のような炭素原子数１〜６個のアルコキシ基などが
置換したもの、更にまた炭素原子数６〜１０個のアリー
ル基、例えばフェニル、ナフチル基などが含まれる。Ｒ
は水素原子、アルキル、アルケニル、アリール、アラル
キル、アルコキシ、アリーロキシ、シアノ、−CO−R³も
しくは−CO−NR⁴R⁵ の各基を示し、好ましくはＲは置換
基を有していてもよいアルキル、アリール、アルケニル
又はアルコキシ基を示す。

【００１９】具体的には、Ｒのアルキル基は、直鎖、分
枝、環状のものであり、好ましくは炭素原子数が１〜１
８個のものであって、例えばメチル、エチル、ブチル、
ヘキシル、オクチル、ドデシル、ヘキサデシルなどの各
基が含まれる。また、Ｒのアリール基は、好ましくは単
環又は２環のものであって、例えばフェニル基、ナフチ
ルなどが含まれる。またＲのアルケニル基は例えば、ビ
ニル基であり、更にビニル基に、例えばメチル基のよう
なアルキル基、例えばフェニル基のようなアリール基な
どの置換したものが含まれ、具体的には１−メチルビニ
ル基、２−メチルビニル基、１，２−ジメチルビニル
基、２−フェニルビニル基、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）ビニル基、２−（ｐ−クロロフェニル）ビニル基、
２−（ｏ−クロロフェニル）ビニル基などが挙げられ
る。

【００２０】また、Ｒのアルコキシ基は好ましくは炭素
原子数１〜６個のものであって、具体的にはメトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。またこ
れらの基に結合してもよい好ましい置換基としてはアル
キル、アリール、アルコキシ、ニトロ、シアノ、アミ
ド、ウレイド、ウレタンなどの基、もしくはハロゲン原
子が挙げられる。

【００２１】Ｒ³ は置換基を有していてもよいアルキ
ル、アリール、アラルキル、アルコキシ、もしくはアリ
ーロキシ基を示し、好ましくは炭素数１〜１０個のアル
キル、炭素数６〜１５個のアリール、炭素数１〜６個の
アルコキシ基である。

【００２２】Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は同一でも相異していてもよ
く、各々水素原子、アルキル、アリール、もしくはアラ
ルキル基を示し、好ましくは水素原子、又は炭素数１〜
６個のアルキル、炭素数６〜１０個のアリール基であ
る。ｎは１以上の整数を示す。またＲとＢが結合して環
を形成してもよい。

【００２３】本発明の一般式（Ｉ）の繰り返し単位を有
する化合物は、異種の感光基（即ちナフトキノンジアジ
ド基及びオキシムスルホネート基）を組み合せることに
より、広範囲に光源との適性を増加せしめ、高感度化を
図ったものである。

【００２４】以下に本発明の成分について、詳細に説明
する。〔式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位に由来されるモノ
マー化合物〕 一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位に由来されるモ
ノマー化合物は、ケトン化合物とヒドロキシルアミンと
の反応により得られる一般式（II）のオキシム化合物
と、一般式（III)で示されるスルホニルクロリドとを塩
基性条件下、縮合させることにより合成できる。

【００２５】 CH₂＝C(A)-B-C(R)=N-OH (II) Ｄ−SO₂ −Cl (III) （ここでＤ、Ａ、Ｂ、Ｒは一般式（Ｉ）で示されたもの
と同義である。）

【００２６】以下に本発明に使用される一般式（Ｉ）で
示される繰り返し単位に由来されるモノマーの具体的な
化合物を例示する。

【００２７】

【化３】

【００２８】

【化４】

【００２９】

【化５】

【００３０】

【化６】

【００３１】〔一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位
を有する高分子化合物〕一般式（Ｉ）で表わされる単位
を少なくとも１モル％有する高分子化合物は、一般式
（Ｉ）で表わされる構造単位に由来されるモノマーの重
合によって合成されるが、別の方法として一般式（II）
で表わされるオキシム基を有するモノマーの重合体に一
般式（III)で表わされるスルホニルクロリドを塩基性条
件下、反応させることによっても合成できる。更に上記
一般式（Ｉ）の構造単位に由来されるモノマー、又は一
般式（II）のオキシム基を有するモノマーと別の重合可
能なエチレン性不飽和結合を有する化合物（１種以上）
との２元以上の共重合体の形で用いてもよい。この場
合、一般式（Ｉ）で表わされる構造単位に由来されるモ
ノマー又は一般式（II）で表わされるモノマーは１〜９
０モル％含有されていることが好ましく、１０〜８０モ
ル％の範囲が更に好ましい。

【００３２】好適な重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物としては、以下に示すものが含まれる。例
えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合
物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
類、クロトン酸エステル類などから選ばれる付加重合性
不飽和結合を１個有する化合物である。具体的には、例
えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル（アルキル
基の炭素原子数は１〜１０のものが好ましい）アクリレ
ート（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２，２−ジ
メチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキ
シペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノ
アクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、
メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、など）、ア
リールアクリレート（例えば、フェニルアクリレートな
ど）；メタクリル酸エステル類、例えば、アルキル（ア
ルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好ましい）メ
タクリレート（例えば、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレレート、イソプロ
ピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−
ヒドロキシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フ
ルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレートなど）、アリールメタクリレート（例えば、
フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナ
フチルメタクリレートなど）；アクリルアミド類、例え
ばアクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アル
キル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒド
ロキシエチル基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリ
ールアクリルアミド（アリール基としては、例えばフェ
ニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、シ
アノフェニル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル
基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル
基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシ
ル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−アリ
ールアクリルアミド（アリール基としては、例えばフェ
ニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリ
ルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル
アクリルアミドなど；メタクリルアミド類、例えばメタ
クリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキ
ル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えば、メ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、
ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などがあ
る。）、Ｎ−アリールメタクリルアミド（アリール基と
しては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキ
ル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基などが
ある。）、Ｎ，Ｎ−ジアリールメタクリルアミド（アリ
ール基としては、フェニル基などがある。）、Ｎ−ヒド
ロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−
フェニルメタクリルアミドなど；アリル化合物、例えば
アリルエステル類（例えば、酢酸アリル、カプロン酸ア
リル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチ
ン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、ア
セト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタ
ノールなど；ビニルエーテル類、例えば、アルキルビニ
ルエーテル（例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキ
シルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、
エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエ
ーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニル
エーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキ
シエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニル
エーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエ
チルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチル
ビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒド
ロフルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエ
ーテル（例えば、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリ
ルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−
２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエ
ーテル、ビニルエントラニルエーテルなど）；ビニルエ
ステル類、例えば、ビニルブチレート、ビニルイソブチ
レート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチル
アセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビ
ニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビ
ニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、
ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、
ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、
ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニ
ル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラ
クロル安息香酸ビニル、ナトフエ酸ビニルなど；スチレ
ン類、例えば、スチレン、アルキルスチレン（例えば、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピル
スチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロ
ヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレ
ン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレ
ン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレ
ンなど）、アルコキシスチレン（例えば、メトキシスチ
レン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシ
スチレンなど）、ハロゲンスチレン（例えば、クロルス
チレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テト
ラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチ
レン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルス
チレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリ
フルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフル
オルメチルスチレンなど）；クロトン酸エステル類、例
えば、クロトン酸アルキル（例えば、クロトン酸ブチ
ル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート
など）；イタコン酸ジアルキル類（例えば、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど）；マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
（例えば、ジメチルマレレート、ジブチルフマレートな
ど）；アクリル酸、メタクリル酸、マレイミド、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル等がある。その他、一
般的には前記一般式（Ｉ）で表わされる構造単位に由来
されるモノマーと共重合可能である付加重合性不飽和化
合物であればよい。

【００３３】本発明に用いられる上記高分子化合物の分
子量は、重量平均で１０００以上、好ましくは5,０００
〜1,００0,０００である。

【００３４】また、上記高分子化合物の感光性組成物中
の含量は、感光性組成物の全固形分に対し、１〜１００
重量％、好ましくは３〜７０重量％、更に好ましくは５
〜５０重量％の範囲で使用される。

【００３５】〔１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
４−及び／又は５−スルホン酸エステル化合物〕本発明
のポジ型感光性組成物は、必要に応じ一般式（Ｉ）で表
わされる繰り返し単位を有する本発明の化合物に他の
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は
５−スルホン酸エステル化合物を添加し、併用してもよ
い。このような１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
４−及び／又は５−スルホン酸エステル化合物は、一般
にスルホニルクロライド等のハロゲノスルホニル基を４
位又は５位に有する１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド化合物を、モノ又はポリヒドロキシフェニル化合物と
縮合させて得られるスルホニル酸エステル化合物として
表わすことができる。このようなモノ又はポリヒドロキ
シフェニル化合物として代表的なものはヒドロキシ基を
有するベンゾフエノン化合物であり、一例を挙げると、
４−ヒドロキシベンゾフエノン、２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフエノン、２，２′−ジヒドロキシベンゾフエノ
ン、４，４′−ジヒドロキシベンゾフエノン、２，３，
４−トリヒドロキシベンゾフエノン、２，４，６−トリ
ヒドロキシベンゾフエノン、２，４，４′−トリヒドロ
キシベンゾフエノン、２，３，４，４′−テトラヒドロ
キシベンゾフエノン、２，２′，４，４′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４，２′−テトラヒド
ロキシベンゾフエノン、３，３′，４，４′−テトラヒ
ドロキシベンゾフエノン他、特開昭６２−１５０２４５
号公報に示されたようなヒドロキシ基を５個以上有する
ベンゾフエノン、並びにその誘導体が含まれる。更にｐ
−クレゾール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、レゾルシ
ン、ピロガロール、２，２′−ジヒドロキシビフェニ
ル、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシビフェニル
などのヒドロキシ基置換ビフェニル化合物も挙げること
ができる。

【００３６】また更に米国特許第3046120 号明細書に記
載されているフェノール−ホルムアルデヒド樹脂また
は、ｏ−，ｍ−、又はｐ−クレゾール−ホルムアルデヒ
ド樹脂などの比較的高分子量の化合物も本発明に使用で
きる。

【００３７】また同じく特開昭５６−１０４５号公報、
特開昭５６−１０４４号公報、特公昭４３−２８４０３
号公報および特公昭４９−２４３６１号公報等に開示さ
れた多価フェノール類とアルデヒド・ケトン類との縮合
物、特開昭５９−８４２３８号公報、特開昭５９−８４
２３９号公報に開示されたカテコール、レゾルシン、又
はハイドロキノンと置換フェノール類とのアルデヒド・
ケトン類による共縮合物、特開昭６０−３１１３８号公
報記載の置換フェノールとベンズアルデヒドとの縮合物
のほか、フェノールとｏ−，ｍ−、又はｐ−クレゾール
等の置換フェノールとのアルデヒド・ケトン類による共
縮合物、ｐ−ヒドロキシスチレンポリマー等も本発明に
対し有効に使用される。

【００３８】一般式（Ｉ）で表わされる本発明の化合物
と併用する場合、一般式（Ｉ）の化合物と、該１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−スル
ホン酸エステル化合物の比率は重量比で１０：１〜１：
２０であり、好ましくは５：１〜１：１０、更に好まし
くは２：１〜１：５である。

【００３９】〔アルカリ可溶性樹脂〕 本発明のポジ型感光性組成物は、一般式（Ｉ）で表わさ
れる繰り返し単位を、少なくとも１モル％有する高分子
化合物単独で使用することができるが、露光部のアルカ
リ溶解性をより効率的にする為、アルカリ可溶性ポリマ
ーと組合せて用いる方が更に好ましい。

【００４０】このようなアルカリ可溶性ポリマーは、好
ましくはフェノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン
酸基、イミド基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルア
ミド基、Ｎ−スルホニルウレタン基、活性メチレン基等
の、pKa １１以下の酸性水素原子を有するポリマーであ
る。好適なアルカリ可溶性ポリマーとしては、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、具体的にはフェノールホルムアル
デヒド樹脂、ｏ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾーム−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾー
ム−ホルムアルデヒド樹脂、キシレノール−ホルムアル
デヒド樹脂、またこれらの共縮合物等がある。更に、特
開昭５０−１２５８０６号に記載されている様に、上記
のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノール
ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル
基で置換されたフェノールもしくはクレゾールとホルム
アルデヒドとの縮合物とを併用してもよい。またＮ−
（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドのような
フェノール性ヒドロキシ基含有モノマーを共重合成分と
するポリマー、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキ
シスチレン、ｍ−イソプロペニルフェノール、ｐ−イソ
プロペニルフェノール等の単独もしくは共重合のポリマ
ー、更にまたこれらのポリマーを部分エーテル化、部分
エステル化したポリマーも使用できる。

【００４１】更に、アクリル酸、メタクリル酸等のカル
ボキシル基含有モノマーを共重合成分とするポリマー、
無水マレイン酸とスチレン等の共重合物を加水分解もし
くはアルコールでハーフエステル化させたポリマー、特
開昭６１−２６７０４２号記載のカルボキシル基含有ポ
リビニルアセタール樹脂、特開昭６３−１２４０４７号
記載のカルボキシル基含有ポリウレタン樹脂も好適に使
用できる。

【００４２】更にまた、Ｎ−（４−スルファモイルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−フェニルスルホニルメタ
クリルアミド、マレイミドを共重合成分とするポリマ
ー、特開昭６３−１２７２３７号記載の活性メチレン基
含有ポリマーも使用できる。

【００４３】これらのアルカリ可溶性ポリマーは、単独
で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
感光性組成物中の好ましい添加量は、感光性組成物全固
形分に対し、１〜９９重量％、好ましくは３０〜９７重
量％、更に好ましくは５０〜９５重量％の範囲である。

【００４４】〔その他の好ましい成分〕 本発明のポジ型感光性組成物には、必要に応じて、更に
染料、顔料、可塑剤及び光分解効率を増大させる化合物
（いわゆる増感剤）等を含有させることができる。

【００４５】染料は着色剤として用いることができる
が、好適な染料としては、油溶性染料及び塩基性染料が
ある。具体的には、オイルイエロー ０１、オイルイエロー ３０、オイルピンク １２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイ
ルブルー ０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業
（株）製）、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、ローダ
ミンＢ（ＣＩ４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ
Ｉ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等
を挙げることができる。

【００４６】また露光後直ちに可視像を得るための焼き
だし剤を加えることができる。このような焼きだし剤と
しては、露光によって酸を放出する感光性化合物と塩を
形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることが
できる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５
３−８１２８号に記載されているｏ−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の
組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７
２８号に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成
性の有機染料の組合せを挙げることができる。

【００４７】本発明の組成物中には、更に感度を高める
ために環状酸無水物、その他のフイラー等を加えること
ができる。環状酸無水物としては、米国特許第4115128
号に記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エ
ンドオキシ−Δ⁴ −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水琥珀酸、ピ
ロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物を全組成
物中の固形分に対して１〜１５重量％含有させることに
よって、感度を最大３倍程度に高めることができる。

【００４８】〔溶媒〕 本発明のポジ型感光性組成物を、平版印刷用の材料とし
て使用する場合は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。また半導体等のレジスト材料用
としては、溶媒に溶解したままで使用する。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテ
ート、２−エトキシエチルアセテート、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエン、乳酸エチル等があ
り、これらの溶媒を単独もしくは混合して使用する。そ
して上記成分中の濃度（添加物を含む全固形分）は、２
〜５０重量％である。また、塗布して使用する場合、塗
布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版に
ついていえば、一般的に固形分として0.５〜3.０ｇ／m²
が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて感光性は大に
なるが、感光膜の物性は低下する。

【００４９】〔平版印刷版等の製造〕 本発明のポジ型感光性組成物を用いて平版印刷版を製造
する場合、その支持体としては、例えば紙、プラスチッ
クス（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
等）がラミネートされた紙、アルミニウム（アルミニウ
ム合金を含む）、亜鉛、銅等のような金属の板、２酢酸
セルロース、３酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、
上記のごとき金属ラミネートもしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持
体の内、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、
しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭４８
−１８３２７号に記載されているようなポリエチレンテ
レフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合さ
れた複合体シートも好ましい。アルミニウム板の表面は
ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子のスラリーを注ぎ
ながらナイロンブラシで粗面化するブラシグレイニン
グ、ボールグレイニング、溶体ホーニングによるグレイ
ニング、バフグレイニング等の機械的方法、ＨＦ、AlCl
₃ やHCl をエッチャントとするケミカルグレイニング、
硝酸もしくは塩酸を電解液とする電解グレイニング、も
しくはこれらの粗面化法を複合させて行った複合グレイ
ニングによって表面を砂目立てした後、必要に応じて酸
もしくはアルカリによりエッチング処理され、引続き硫
酸、燐酸、蓚酸、ほう酸、クロム酸、スルファミン酸も
しくはこれらの混酸中で直流もしくは交流電源にて陽極
酸化を行いアルミニウム表面に強固な不働態皮膜を設け
た物が好ましい。このような不働態皮膜自体でアルミニ
ウム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じて米
国特許第2714066 号、同第3181461 号に記載されている
珪酸塩処理（珪酸ナトリウム、珪酸カリウム）、米国特
許第2946638 号に記載されているフッ化ジルコニウム酸
カリウム処理、米国特許第3201247 号に記載されている
ホスホモリブデート処理、英国特許第1108559 号に記載
されているアルキルチタネート処理、独国特許第109143
3 号に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第
1134093 号や英国特許第1230447 号に記載されているポ
リビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号に記
載されているホスホン酸処理、米国特許第3307951 号に
記載されているフイチン酸処理、特開昭５８−１６８９
３号、同５８−１８２９１号に記載されている水溶性有
機重合体と２価の金属イオンとの錯体による下塗処理、
特開昭５９−１０１６５１号に記載されているスルホン
酸基を有する水溶性重合体の下塗によって親水化処理を
行ったものは特に好ましい。その他の親水化処理方法と
しては、米国特許第3658662 号に記載されているシリケ
ート電着を挙げることができる。

【００５０】また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処
理を施したものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及び
無機塩もしくは有機塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水
蒸気浴等によって行われる。

【００５１】〔活性光線もしくは放射線〕 本発明の感光性組成物の露光に用いられる活性光線の光
源としては、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠紫外
線等がある。好ましくは、フォトレジスト用の光源とし
て、ｇ線、ｉ線、Deep−ＵＶ光が使用される。また高密
度エネルギービーム（レーザービームもしくは電子線）
による走査もしくはパルス露光も本発明に使用すること
ができる。このようなレーザービームとしては、ヘリウ
ム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイ
オンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrF エ
キシマーレーザー等が挙げられる。

【００５２】〔現像液〕 本発明のポジ型感光性組成物に対する現像液としては、
珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三燐酸ナトリウム、
第二燐酸ナトリウム、第三燐酸アンモニウム、第二燐酸
アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、アンモニア水等のような無機アルカリ剤及びテトラ
アルキルアンモニウムＯＨ塩等のような有機アルカリ剤
の水溶液が適当であり、それらの濃度が0.１〜１０重量
％、好ましくは0.５重量％になるように添加される。

【００５３】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じて界面活性剤やアルコール等のような有機溶媒を加え
ることもできる。

【００５４】

【実施例】以下、本発明を、合成例、実施例により更に
詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。

【００５５】合成例１（化合物例（Ｉ−８）の原料合
成） ｐ−アセチルフェニルメタクリレート２０４ｇ（1.００
モル）をエタノール８００mlに溶解し、これにヒドロキ
シルアミン塩酸塩８3.５ｇ（1.２０モル）の水２００ml
溶液を攪拌しながら添加した。引き続き水酸化ナトリウ
ム６０ｇ（1.５０モル）の水８０ml溶液を滴下し、その
後３時間加熱還流させた。反応混合物を氷約１kgに投入
し、淡黄色の固体を析出させた。この固体を濾別し、水
洗後、エタノールにて再結晶させることにより、淡黄色
結晶１０８ｇを得た。ＮＭＲ及び元素分析によりこの結
晶が下記式のオキシム化合物であることを確認した。

【００５６】

【化７】

【００５７】合成例２（化合物例（Ｉ−８）とベンジル
メタクリレートの共重合体の合成） 合成例１において合成したオキシム化合物３5.１ｇ（0.
１６０モル）、ベンジルメタクリレート7.１ｇ（0.０４
０モル）を２−メトキシエタノール１２０mlに溶解し、
窒素気流下７０℃に加熱した後、α，α′−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）0.２５ｇを加えて
４時間重合反応を行った。α，α′−アゾビス（２，４
−ジメチルバレロニトリル）0.２５ｇを追加し更に４時
間重合反応を続けた。

【００５８】反応終了後、反応溶液を水３リットル中に
攪拌しながら注ぎ、生じた白色沈澱を濾取乾燥して共重
合体３8.５ｇを得た。分子量は重量平均（ＧＰＣ，ポリ
スチレン標準）で１8,０００であった。

【００５９】このポリマー２1.１ｇ、１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド２1.５ｇ
（0.０８０モル）をＴＨＦ２００mlに溶解し攪拌しなが
らトリエチルアミン7.３ｇ（0.０７２モル）／ジメチル
アミノピリジン1.０ｇ（0.００８モル）のＴＨＦ２０ml
溶液を滴下ロートより添加した。添加に約３０分間を要
した。添加後、３０℃で５時間攪拌を続けた。

【００６０】その後、蒸留水２０mlを加え、トリエチル
アミンにて反応液のpHを５〜６に調整した。反応液を水
２リットルに注入し沈殿物を濾集して、本発明の高分子
化合物である黄色粉末３６ｇを得た。

【００６１】実施例１〜３ 厚さ0.２４mmの２Ｓアルミニウム板を８０℃に保った第
三燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬して脱脂
し、ナイロンブラシで砂目立てした後、アルミン酸ナト
リウムで約１０分間エッチングして、硫酸水素ナトリウ
ム３％水溶液でデスマット処理を行った。このアルミニ
ウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／dm² において２
分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作成した。

【００６２】次に下記感光液〔Ａ〕で使用される本発明
の一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位を有する高分
子化合物の種類を変えて、３種類の感光液〔Ａ〕−１〜
〔Ａ〕−３を調製し、この感光液を陽極酸化されたアル
ミニウム板の上に塗布し、１００℃で２分間乾燥して、
それぞれの感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３を
作成した。このときの塗布量は全て乾燥重量で2.０ｇ／
m²であった。

【００６３】 感光液〔Ａ〕 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ 一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位を 0.４０ｇ 有する本発明の高分子化合物 オイルブルー＃６０３（オリンエント化学工業（株）製） 0.０１ｇ メチルエチルケトン ５ｇ メチルセロソルブ １５ｇ

【００６４】感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３に用いた本
発明の高分子化合物を表−１に示す。すなわち、使用し
た本発明の高分子化合物は、表−１の化合物例から由来
される構造と、ベンジルメタクリレート構造とがモル比
８０：２０で導入されたポリマーであり、分子量は重量
平均（ＧＰＣ、ポリスチレン標準）で何れも１4,０００
〜２0,０００のものであった。

【００６５】次に比較例として下記の感光液〔Ｂ〕を感
光液〔Ａ〕と同様に塗布し、感光性平版印刷版〔Ｂ〕を
作製した。

【００６６】 感光液〔Ｂ〕 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル 0.４０ｇ クロリドとクレゾール−ホルムアルデヒドノボラック 樹脂とのエステル化物 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）製） 0.０１ｇ メチルエチルケトン ５ｇ メチルセロソルブ １５ｇ

【００６７】乾燥後の塗布重量は2.０ｇ／m²であった。
感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３、及び〔Ｂ〕
の感光層上に濃度差0.１５のグレースケールを密着さ
せ、２KWの高圧水銀灯で５０cmの距離から露光を行っ
た。露光した感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３
及び〔Ｂ〕をＤＰ−４（商品名：富士写真フィルム
（株）製）の８倍希釈水溶液で２５℃において６０秒間
浸漬現像し、グレースケールの５段目が完全に溶解除去
される露光時間を測定したところ、表−１に示すとおり
となった。

【００６８】 表−１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 感光性 本発明の高分子化合物 ク゛レースケール5段目が溶解 番 号 平版印刷版 に使用したモノマー 除去される露光時間 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例１ 〔Ａ〕−１ 化合物例(I−５） ２０秒 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例２ 〔Ａ〕−２ 化合物例(I−８） ２５ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例３ 〔Ａ〕−３ 化合物例(I−12） ２５ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 〔Ｂ〕 比較例の化合物 ５０ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００６９】なお、実施例１〜３で使用した本発明の化
合物は、全て、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホニル体を用いた。

【００７０】表−１からわかるように、本発明の化合物
を使用した感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３は
比較例〔Ｂ〕に比べ露光時間が短く感度が高い。

【００７１】実施例４〜６ 下記感光液〔Ｃ〕の本発明の化合物の種類を変えて、３
種類の感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−３を調製し、0.２μ
ｍのミクロフイルターで濾過してレジスト組成物を調製
した。

【００７２】 感光液〔Ｃ〕 一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位を有する 0.３５ｇ 本発明の高分子化合物 ｍ／ｐ＝４／６クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ エチルセロソルブアセテート 8.５ｇ

【００７３】なお、感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−３に用
いた本発明の高分子化合物を表−２に示す。すなわち、
使用した本発明の高分子化合物は表−２の化合物例のモ
ノマーの単独重合体であり、分子量は重量平均（ＧＰ
Ｃ、ポリスチレン標準）で何れも１2,０００〜１6,００
０のものであった。

【００７４】このレジスト組成物をスピンナーを用いて
２５００Ａの酸化皮膜を有するシリコンウエハー上に塗
布し、窒素雰囲気下の対流オーブンで９０℃、２分間乾
燥して膜厚1.０μのレジスト膜を得た。次にニコン社製
縮小投影露光装置を用いてテストチャートマスクを介し
て露光し、2.３８重量パーセントのテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキサイド水溶液で１分間現像後、イオン交
換水でリンスしてレジストパターンを得た。このように
して得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡で観
察し、レジストパターンを評価した。感度は2.０μｍの
マスクパターンを再現する露光量の逆数をもって定義
し、下記比較例の感光液〔Ｄ〕の感度との相対値で示し
た。解像力は、2.０μｍのマスクパターンを再現する露
光量に於ける解像した最小のマスクパターンの線幅で示
した。結果を表−２に示す。

【００７５】 感光液〔Ｄ〕 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロ 0.３５ｇ リドと２，３，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノ ンとのエステル化物 ｍ／ｐ＝４／６クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.０ｇ エチルセロソルブアセテート 8.５ｇ

【００７６】 表−２ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例 本発明の高分子化合物 相対 解像力 番 号 感光液 に使用したモノマー 感度 （μm) ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例４ 〔Ｃ〕−１ 化合物例(I−２） 1.2 0.70 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例５ 〔Ｃ〕−２ 化合物例(I−６） 1.3 0.75 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例６ 〔Ｃ〕−３ 化合物例(I−８） 1.2 0.75 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例 〔Ｄ〕 比較例の化合物 1.0 0.80 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００７７】なお実施例４〜６で使用した本発明の化合
物は全て、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニル体を用いた。

【００７８】表−２からわかるように、本発明の化合物
を使用した感光液〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−３は比較例
〔Ｄ〕に比べ、相対感度は高く、解像力も優れる。

【００７９】

【発明の効果】本発明の感光性組成物は、感度が高く、
解像力に優れている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる１，２−
   ナフトキノン−２−ジアジド−４−及び／又は５−オキ
   シムスルホネート基を有する繰り返し単位を少なくとも
   １モル％含む高分子化合物を含有するポジ型感光性組成
   物。 【化１】 式中、Ｄは、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
   −イル基又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５
   −イル基を示す。Ａは水素原子又はアルキル基を示し、
   Ｂは単結合、二価の芳香族炭化水素、-CO-O-R¹- 、又は
   -CO-NR²-R¹-を示す。Ｒ¹ は二価の脂肪族又は芳香族炭
   化水素を示し、Ｒ² は水素原子、アルキル、アリール、
   又はアラルキル基を示す。Ｒは水素原子、アルキル、ア
   ルケニル、アリール、アラルキル、アルコキシ、アリー
   ロキシ、シアノ、−CO−R³もしくは−CO−NR⁴R⁵ の各基
   を示す。Ｒ³ はアルキル、アリール、アラルキル、アル
   コキシ、もしくはアリーロキシ基を示し、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は
   同一でも相異していてもよく、各々水素原子、アルキ
   ル、アリール、もしくはアラルキル基を示す。ｎは１以
   上の整数を示す。またＲとＢが結合して環を形成しても
   よい。