JP2779982B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JP2779982B2 JP3147603A JP14760391A JP2779982B2 JP 2779982 B2 JP2779982 B2 JP 2779982B2 JP 3147603 A JP3147603 A JP 3147603A JP 14760391 A JP14760391 A JP 14760391A JP 2779982 B2 JP2779982 B2 JP 2779982B2
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版、IC回路や
フォトマスク等の製造において好適に使用される感光性
組成物に関するものである。より詳しくは、ジアゾニウ
ム化合物及び高分子化合物を含有し、露光時の感度が向
上したネガ型感光性組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】ネガ型に作用する感光性
組成物において感光性物質として使用されているものの
大多数はジアゾニウム化合物であり、その最も常用され
ているものにp−ジアゾジフェニルアミンのホルムアル
デヒド縮合物に代表されるジアゾ樹脂がある。ジアゾ樹
脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組成物は、例
えば米国特許第2714066号明細書に記載されてい
るようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結合剤を使用し
ないものと、例えば特開昭50−30604号公報に記
載されているように結合剤とジアゾ樹脂が混合されてい
るものに分類することができるが、近年ジアゾニウム化
合物を用いた感光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性
を持たせるためにジアゾニウム化合物と結合剤となるポ
リマーよりなっている。
【0003】このような感光層としては特開昭50−3
0604号公報に記載されているように、未露光部が水
性アルカリ現像液によって除去(現像)される所謂アル
カリ現像型と、有機溶剤系現像剤によって除去される所
謂溶剤現像型が知られているが、労働安全衛生上、アル
カリ現像型が注目されており、これは主に結合剤の性質
により決まる。結合剤にアルカリ現像性を持たせる方法
としては、前記特開昭50−30604号公報に記載さ
れているようにカルボン酸含有のモノマーを共重合させ
るか、米国特許第2861058号明細書に記載されて
いるようにポリビニルアルコールのヒドロキシル基と無
水フタル酸のような環状酸無水物を反応させることによ
りポリマー中にカルボン酸を導入する方法等がある。
【0004】しかしながら、いずれの感光性組成物も十
分な感度を有しておらず、短い露光時間では十分な画像
が得られないという欠点を有していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、ポリマー結合剤を含むネガ型感光性組成物であっ
て、短い露光時間でも十分な画像形成のできる高感度な
ネガ型感光性組成物を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく鋭意検討した結果、新規な感光性組成物を使用
することによりこれらの目的が達成されることを見い出
し、本発明に到達した。即ち本発明は、ジアゾニウム化
合物及び高分子化合物を含有するネガ型感光性組成物に
おいて、該高分子化合物が下記一般式(I)で表わされ
る構成単位を有する重合体であることを特徴とする感光
性組成物に関するものである。
【0007】 −(CH2−C(R1) (X−R2−Y)) − (I) 式中、R1 は水素原子またはメチル基を示し、X は単
結合、エステル結合またはアミド結合を示し、R2 は単
結合またはC,H,N,O,Sより選ばれた2種以上の
原子よりなる2価の連結基を示し、Y は下記一般式
(II) で示される構成単位を含み、重量平均分子量が5
00以上の重合体成分を示す。
【0008】 −(CH2−C(R3)(R4−Z)) − (II) 式中、R3 は水素原子またはメチル基を示し、R4 は単
結合またはC,H,N,O,Sより選ばれた2種以上の
原子よりなる2価の連結基を示し、Zは、−COOH,
【0009】
【化2】
【0010】−SO3H, −CONHSO2R7 のいずれかを示す。
5 ,R6 はそれぞれ水素原子または置換基を有してい
てもよいC1 〜C15の炭化水素基を示し、R7 は置換基
を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素基を示す。以
下、本発明について詳述する。
【0011】本発明において使用される上記一般式
(I)で表わされる構成単位を有する重合体は、好まし
くは下記一般式(III)で示されるマクロマー( マクロモ
ノマー)をラジカル重合することにより得られる。 CH2=C(R1) (X−R2−Y) (III) 式中、R1 ,R2 ,X及びYは前述したものと同じであ
る。
【0012】本発明において好適に使用されるマクロマ
ーは、従来公知の合成法によって製造することができ
る。具体的には、分子中にカルボキシル基、ハロゲン化
アシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、ハロゲノ基、エ
ポキシ基等の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は
連鎖移動剤を用いてラジカル重合して得られる末端に反
応性基が結合したオリゴマーと種々の試薬を反応させて
マクロマーにするラジカル重合法による方法等により合
成される。
【0013】具体的には、P. Dreyfuss & R. P. Quirk,
Encycl. Polym. Sci. Eng.,,551(1987),
P. F. Rempp, & E. Franta, Adv. Polym. Sci., 58
1(1984),川上雄資「化学工業」38、56(1
987)、山下雄也「高分子」31、988(198
2)、小林四郎「高分子」30、625(1981)、
伊藤浩一「高分子加工」35、262(1986)、東
貴四郎、津田隆「機能材料」1987No. 10,5等の
総説及びそれに引用の文献・特許等に記載の方法に従っ
て合成することができる。
【0014】但し、本発明において好適に使用されるマ
クロマーは、その繰り返し単位(前述の一般式(II) )
中に酸性基を含有していることから、次の方法により合
成される。その一つの方法としては、例えば下記反応式
(1)で示されるように該酸性基を保護した官能基の形
で含有するモノマーを用いて上記の方法でラジカル重合
することにより合成し、末端反応性基を導入するもので
ある。
【0015】反応式(1)
【0016】
【化3】
【0017】本発明に好適に使用されるマクロマー中に
含有される酸性基の保護基導入反応及び脱保護基反応
(例えば加水分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応
等)については、従来公知の方法により行なうことがで
きる。具体的には、J.F.W. McOmie,“Protective Group
s in Organic Chemistry”,Plenum Press (1973
年),T.W. Greene,“Protective Groups in Organic S
ynthesis”, John Wiley &Sons (1981年)、小田
良平「高分子ファインケミカル」講談社(1976
年)、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」講談社(1
977年)、G. Berneret al, J. Radiation Curing,
1986,No. 10,p10、特開昭62−21266
9号、特開昭62−286064号、特開昭62−21
0475号、特開昭62−195684号、特開昭62
−258476号、特開昭63−260439号、特願
昭62−220510号、特願昭62−226692号
等に記載の方法を用いて合成することができる。
【0018】他の1つの方法としては、例えば下記反応
式(2) で示されるように、前記と同様にしてオリゴマ
ーを合成した後、オリゴマーの片末端に結合した「特定
の反応性基」とオリゴマー中に含有される該酸性基との
反応性の差を利用して、「特定の反応性基」とのみ反応
する重合二重結合性基含有の試薬と反応させることによ
り合成する方法である。 反応式(2)
【0019】
【化4】
【0020】反応式(2)に示したような特定の官能基
の組合せについての具体例を表−Aに示す。しかし、本
発明はこれらに限定されるものでなく、重要なことは通
常の有機化学反応における反応の選択性を利用すること
で、オリゴマー中の該酸性基を保護することなくマクロ
マー化が達成されればよい。 表−A ───────────────────────────── 重合性基導入の試薬中の オリゴマー末端の特定の 官能基:A部 官能基:B部 ───────────────────────────── -CO-Cl, 酸無水物, -OH, -NHR8 -SO2Cl ───────────────────────────── -COOH, -NHR8 ハロゲノ基 ───────────────────────────── -OH, -NHR8 -CO-Cl, -SO2-Cl ───────────────────────────── R8 は水素原子または置換基を有していてもよいC1
〜C15の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子であ
る。
【0021】さらに他の1つの方法としては、例えば下
記反応式(3) で示されるように、酸性基を導入可能な
官能基(例えばヒドロキシル基)を有するマクロマーを
上述の方法により合成した後、酸性基を導入する方法が
ある。 反応式(3)
【0022】
【化5】
【0023】この方法ではマクロマーの段階で酸性基を
導入しているが、酸性基を導入する前のマクロマーを用
いて先にラジカル重合により重合体とした後に酸性基を
導入し、本発明の高分子化合物としてもよい。以上の方
法等により、本発明に用いられる高分子化合物が合成さ
れるが、一般式(II) で示される構成単位で好ましいも
のとして、例えば下記の構成単位を挙げることができ
る。
【0024】
【化6】
【0025】式中、R3 は水素原子またはメチル基を示
し、G は−O−または−NH−を示し、R9 は置換基を
有していてもよいC1 〜C15の炭化水素連結基を示し、
10は置換基を有していてもよいC1 〜C15の炭化水素
基を示す。これらの構成単位の具体例としては、以下に
示すものが挙げられる。
【0026】
【化7】
【0027】
【化8】
【0028】本発明において好適に使用されるマクロマ
ーを合成する際に用いることができる連鎖移動剤として
は、前述の反応性基を含有するメルカプト化合物(例え
ばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、
2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオ
ン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロ
ピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−
〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピ
オン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕
プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)ア
ラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカ
プトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホ
ン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−
1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロ
パノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプ
トフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メル
カプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノー
ル等)又はこれらメルカプト化合物の酸化体であるジス
ルフィド化合物、あるいはヨード化アルキル化合物(例
えばヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタ
ノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロ
パンスルホン酸等)等が挙げられるが、メルカプト化合
物が好ましい。
【0029】用いることのできる特定の反応性基を含有
する重合開始剤としては、例えば、2,2′−アゾビス
(2−シアノプロパノール)、2,2′−アゾビス(2
−シアノペンタノール)、4,4′−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸
クロライド)、2,2′−アゾビス〔2−(5−メチル
−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2′
−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロ
パン〕、2,2′−アゾビス〔2−(3,4,5,6−
テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,
2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチル)
−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}、2,2′
−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチ
ル)−プロピオンアミド〕等又はこれらの誘導体等が挙
げられる。
【0030】これら連鎖移動剤あるいは重合開始剤の使
用量は、各々全単量体に対して0.1〜15重量%であ
り、好ましくは0.5 〜10重量%である。本発明の一般
式(I)で示される構成単位は、一般式(II)で示され
る構成単位のみを含むものであってもよいが、さらに他
の構成単位を含んでいてもよい。この場合、マクロマー
を合成する際、他の重合性モノマーを同時に用いること
により合成できる。
【0031】このような重合性モノマーとしては、例え
ばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリ
ル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、
ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類、ク
ロトン酸エステル類等から選ばれる重合性不飽和結合を
有する化合物である。具体的には、例えばアクリル酸エ
ステル類、例えばアルキル(該アルキル基の炭素原子数
は1〜10のものが好ましい)アクリレート(例えばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピ
ル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸
エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t
−オクチル、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプ
ロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペン
タエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート等)、アリールアクリレート(例え
ばフェニルアクリレート等):メタクリル酸エステル
類、例えばアルキル(該アルキル基の炭素原子数は1〜
10のものが好ましい)メタクリレート(例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチル
メタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート等)、アリールメタ
クリレート(例えばフェニルメタクリレート、クレジル
メタクリレート、ナフチルメタクリレート等):アクリ
ルアミド類、例えばアクリルアミド、N−アルキルアク
リルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜1
0のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、t−ブチル基、ヘプチル基、オクチル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシエチル基等があ
る。)、N−アリールアクリルアミド(該アリール基と
しては、例えばフェニル基、トリル基、ニトロフェニル
基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基等がある。)、N,N−ジアルキルアクリ
ルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10
のもの、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブ
チル基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等があ
る。)、N,N−アリールアクリルアミド(該アリール
基としては、例えばフェニル基等がある。)、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミド
エチル−N−アセチルアクリルアミド等:メタクリルア
ミド類、例えばメタクリルアミド、N−アルキルメタク
リルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜1
0のもの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、
エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシ
ル基等がある。)、N−アリールメタクリルアミド(該
アリール基としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル
基、スルファモイルフェニル基等がある。)、N,N−
ジアルキルメタクリルアミド(該アルキル基としては、
エチル基、プロピル基、ブチル基等がある。)、N,N
−ジアリールメタクリルアミド(該アリール基として
は、フェニル基等がある。)、N−ヒドロキシエチル−
N−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニ
ルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタク
リルアミド等:アリル化合物、例えばアリルエステル類
(例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステア
リン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳
酸アリル等)、アリルオキシエタノール等:ビニルエー
テル類、例えばアルキルビニルエーテル(例えばヘキシ
ルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビ
ニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテ
ル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2
−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジ
エチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエ
チルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエー
テル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビ
ニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル
等)、ビニルアリールエーテル(例えばビニルフェニル
エーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニ
ルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテ
ル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエー
テル等)等:ビニルエステル類、例えばビニルブチレー
ト、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテー
ト、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニ
ルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジク
ロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブ
トキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フ
ェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレ
ート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息
香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、ナフトエ酸
ビニル等:スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチ
レン(例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリ
メチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、
イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチ
レン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベン
ジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメ
チルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメ
チルスチレン等)、アルコキシスチレン(例えばメトキ
シスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメ
トキシスチレン等)、ハロゲン化スチレン(例えばクロ
ロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、
テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオ
ロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−
トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリ
フルオロメチルスチレン等)等:クロトン酸エステル
類、例えばクロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチ
ル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート
等)等:イタコン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸ジ
メチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル
等):マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
(例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレート
等):アクリロニトリル、メタクリロニトリル等があ
る。
【0032】これらの重合性モノマーのうち好適に使用
されるのは、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アク
リロニトリル、メタクリロニトリルである。一般式
(I)のY中、一般式 (II) の構成単位の占める割合
は、5〜100重量%が好ましく、さらに好ましくは2
0〜100重量%である。
【0033】本発明の高分子化合物は、一般式(I)で
表わされる構成単位のみからなるものであってもよい
が、好ましくは他の構成単位を含む。この場合、本発明
の高分子化合物を合成する際、マクロマーと共に他の重
合性モノマーを用いればよい。このような重合性モノマ
ーとしては、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類等が挙げられる。
【0034】これらの重合性モノマーのうち好適に使用
されるのは、前述のアクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル及びアクリ
ル酸、メタクリル酸である。これらの共重合体は、一般
式(I)で示される構成単位を、共重合体を構成するす
べての構成単位に対して1重量%以上含有することが好
ましく、5〜80重量%含有することがさらに好まし
い。
【0035】また、これらの共重合体は一般式(I)で
示される構成単位を2種以上含有してもよい。また一般
式(II)で示される構成単位を共重合体の主鎖部に含有
していてもよい。本発明の高分子化合物において、その
主鎖部及び一般式(II) 中のY部はそれぞれランダム重
合体であっても、ブロック重合体であってもよい。
【0036】本発明において好適に使用されるマクロマ
ーの分子量は重量平均で500以上であり、好ましくは
700〜20万の範囲である。また、本発明の高分子化
合物の分子量は好ましくは2000以上であり、更に好
ましくは5000〜30万の範囲であり、数平均分子量
で好ましくは800以上であり、更に好ましくは100
0〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/
数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.
1〜10の範囲である。
【0037】本発明の高分子化合物中には、未反応のモ
ノマー及びマクロマーが含まれていてもよい。この場
合、これらの化合物の高分子化合物中に占める割合は1
5重量%以下が望ましい。このような高分子化合物を合
成する際に用いられる溶媒としては、例えばエチレンジ
クロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、ア
セトン、メタノール、エタノール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【0038】これらの溶媒は単独であるいは2種以上混
合して用いられる。本発明の高分子化合物は単独で用い
ても混合して用いてもよい。感光性組成物中に含まれ
る、これらの高分子化合物の含有量は約5〜95重量%
であり、好ましくは約10〜90重量%である。本発明
に用いられるネガ作用ジアゾニウム化合物としては米国
特許第3867147号記載のジアゾニウム化合物、米
国特許第2632703号明細書記載のジアゾニウム化
合物等が挙げられるが、特に芳香族ジアゾニウム塩と例
えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルムアルデ
ヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用であ
る。好ましいジアゾ樹脂には、4−ジアゾ−ジフェニル
アミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベン
ゼン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチ
ルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−
ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5
−ジエトキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジ
アゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4
−モルフォリノベンセン、1−ジアゾ−2,5−ジメト
キシ−4−p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ
−2−エトキシ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼ
ン、p−ジアゾ−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,
5−ジブトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジア
ゾ−2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、
1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モルフォリノベ
ンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4−モルフ
ォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエトキシ−4
−p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−3−エ
トキシ−4−N−メチル−N−ベンジルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−3−クロロ−4−N,N−ジエチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジ
ノベンゼン、1−ジアゾ−2−クロロ−4−N,N−ジ
メチルアミノ−5−メトキシベンゼン、1−ジアゾ−3
−メトキシ−4−ピロリジノベンゼン、3−メトキシ−
4−ジアゾジフェニルアミン、3−エトキシ−4−ジア
ゾジフェニルアミン、3−(n−プロポキシ)−4−ジ
アゾフェニルアミン、3−イソプロポキシ−4−ジアゾ
ジフェニルアミンのようなジアゾモノマーと、ホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、
ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズアル
デヒドのような縮合剤をモル比で各々1:1〜1:0.
5、好ましくは1:0.8〜1:0.6とし、これを通常の
方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの反応生成
物が挙げられる。陰イオンとしては、四フッ化ホウ酸、
六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン
酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホ
サリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、
2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニト
ロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン
酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプ
リルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−
4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン
酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができ
る。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適で
ある。
【0039】また、前述したジアゾモノマーと、カルボ
ン酸及び/又はフェノールを有するアルデヒド又はその
アセタール(更に必要に応じて前述の縮合剤)より得ら
れる縮合物と前述の陰イオンとの反応生成物や、特開平
1−102456号及び特開平1−102457号の各
公報に記載されているジアゾ樹脂も本発明において好適
に使用される。特にカルボン酸基を含有するジアゾ樹脂
が好ましい。
【0040】これらジアゾニウム化合物の感光性組成物
中の含有量は、1〜50重量%、好ましくは3〜35重
量%である。また必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種
以上を併用してもよい。本発明の組成物中には、一般式
(I)で表わされる構成単位を有する重合体の他に、フ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン及び
カルボキシル基含有エポキシ樹脂、ポリアセタール樹
脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、カルボキシル基含
有ポリウレタン樹脂等、公知のアルカリ可溶性の高分子
化合物を含有させることができる。かかるアルカリ可溶
性の高分子化合物は全組成物の70重量%以下の添加量
で用いられる。
【0041】本発明の組成物中には、露光後直ちに可視
像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料、顔
料、安定剤、界面活性剤、可塑剤やその他のフィラー等
の添加剤を加えることができる。露光後直ちに可視像を
得るための焼出し剤としては、露光によって酸を放出す
る感光性化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代
表として挙げることができる。具体的には特開昭50−
36209号公報、特開昭53−8128号公報に記載
されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53−
36223号公報、特開昭54−74728号公報に記
載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料
の組合せを挙げることができる。画像の着色剤として前
記の塩形成性有機染料以外の他の染料も用いることがで
きる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶
性染料及び塩基染料を挙げることができる。具体的に
は、オイルイエロー#101、オイルイエロー#13
0、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリ
アピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(CI42535)、ロー
ダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)等を挙げることができる。
【0042】またジアゾニウム化合物の安定剤として
は、リン酸、亜リン酸、ピロリン酸、蓚酸、ホウ酸、p
−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒド
ロキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、リンゴ
酸、酒石酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共
重合体、ポリビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリ
ビニルスルホン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタ
レン−1−ホスホン酸、4−クロロフェノキシメチルホ
スホン酸、ナトリウムフェニル−メチル−ピラゾロンス
ルホネート、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,
2,4、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,
2、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジスルホン酸等が
挙げられる。
【0043】また、塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類(例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス)、界面活性剤類(例えばフッ素系界面活性剤)、膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例えばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチ
ル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等)を添加することができる。
これらの添加剤の添加量はその使用目的によって異なる
が、一般には感光層の全固形分に対して0.5〜30重量
%である。
【0044】本発明の感光性組成物は、上記各成分を溶
解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用
する溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロ
パノール、n−ブタノール、t−ブタノール、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエ
チルケトン、エチレングリコール、エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ
−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセ
テート、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチ
ル、乳酸メチル、乳酸エチル等があり、これらの溶媒を
単独であるいは混合して使用する。
【0045】また、これらの溶媒や混合溶媒に少量の水
やトルエン等のジアゾ樹脂や高分子化合物を溶解させな
い溶媒を添加した混合溶媒も適当である。尚、上記成分
の溶媒中の濃度(固形分)は、1〜50重量%である。
これらの溶媒に溶解させた感光液を塗布し乾燥させる場
合50℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥
方法は始め温度を低くして予備乾燥した後高温で乾燥さ
せてもよいが、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直
接高温で乾燥させてもよい。
【0046】また、塗布量は用途により異なるが、例え
ば感光性平版印刷版についていえば一般的に固形分とし
て0.5〜3.0g/m2が好ましい。塗布量が少くなるにつ
れ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。また
本発明の感光性組成物が塗布される支持体としては、例
えば、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、例
えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)亜鉛、
銅等のような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等のようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルム等が含まれる。これらの支持体のうち、アル
ミニウム板は寸法的に著しく安定であり、しかも安価で
あるので特に好ましい。更に、特公昭48−18327
号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合
体シートも好ましい。
【0047】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、適当な親水化処理をすることが望
ましい。このような親水化処理としては、例えばアルミ
ニウム表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子の
スラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラ
シグレイニング、ボールグレイニング等の機械的方法、
HFやAlCl3 、HCl をエッチャントするケミカルグレイ
ニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイニング
やこれらの粗面化法を複合して行う複合グレイニングに
よって表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又はアル
カリによりエッチング処理し、引き続き硫酸、リン酸、
蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれら
の混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行いアルミ
ニウム表面に強固な不動態皮膜を設けることが好まし
い。このような不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親
水化されるが、更に必要に応じて米国特許第2,714,066
号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記載されて
いる珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米
国特許第2,946,638 号明細書に記載されている弗化ジル
コニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247 号明細
書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許
第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処
理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載されているポ
リアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書や英
国特許第1,230,447 号明細書に記載されているポリビニ
ルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載
されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951 号明
細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−1
6893号や特開昭58−18291号の各公報に記載
されている親水性有機高分子化合物と2価の金属よりな
る複合処理、特開昭59−101651号公報に記載さ
れているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗によ
って親水化処理を行ったものは特に好ましい。その他の
親水化処理方法としては米国特許第3,658,662号明細書
に記載されているシリケート電着を挙げることができ
る。
【0048】支持体上に塗布された本発明の感光性組成
物は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通して露
光し、次いで水性アルカリ現像液で現像することによ
り、原画に対してネガのレリーフ像を与える。露光に使
用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀灯、キセ
ノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ、紫外
線、レーザ光線等が挙げられる。
【0049】露光後現像する際、用いられる水性アルカ
リ現像液組成物としては、例えば特開昭51−7740
1号に示されている、ベンジルアルコール、アニオン性
界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、
特開昭53−44202号に記載されている、ベンジル
アルコール、アニオン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を
含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭55−15
5355号に記載されている、水に対する溶解度が常温
において10重量%以下である有機溶剤とアルカリ剤と
水とを含有する現像液組成物等が挙げられる。
【0050】これらは、いずれも有機溶剤を現像液組成
物中に含有している。しかし有機溶剤は一般に毒性及び
臭気があり、また火災に対する危険性を持っており、さ
らに廃液においてもBOD規制を受ける等の多くの欠点
を有し、コストも高くなる。従って、有機溶剤を実質上
含まない現像液組成物を使用することが望ましい。尚、
本発明において、「実質上有機溶剤を含まない」とは、
前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める割合
が3重量%以下であることを意味し、好ましくは1重量
%以下であるが、さらに好ましくは0.5重量%以下であ
り、全く含まないことが望ましい。
【0051】これに対して、有機溶剤を実質上含まない
現像液組成物としては、ポジ型感光性平版印刷版を現像
する際用いられている組成物等があるが、これらの現像
液組成物はアルカリ性が非常に強く、人体に付着した場
合、かぶれ、炎症等を起こす危険性がある。従って、本
発明に用いる現像液組成物としては、有機溶剤を実質上
含まず、かつ pHが12以下である組成物が好ましい。
【0052】このような現像液に用いるアルカリ剤とし
ては、弱塩基または弱酸と強塩基の塩が好ましい。具体
的には、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミン等の有機アミン類、及び炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム、有機カルボン酸のNa 塩またはK塩、リン酸
のNa 塩またはK塩(第一、第二、第三)、ホウ酸のN
a 塩またはK塩(第一、第二、第三)等が挙げられる。
これらのアルカリ剤のうち、有機アミン類及び炭酸塩類
が好ましい。また、現像液の劣化を防止するため、二種
以上のアルカリ剤を併用することが好ましい。
【0053】これらのアルカリ剤は現像液組成物中10
重量%以下で使用される。また、現像液中に特開昭50
−51324号公報に記載されているようなアニオン性
界面活性剤、及び両性界面活性剤、特開昭59−752
55号公報、特開昭60−111246号公報に記載さ
れているような非イオン性界面活性剤等の界面活性剤を
含有していてもよい。これらの界面活性剤は現像液組成
物中10重量%以下で使用されるが6重量%以下が好ま
しい。
【0054】さらに、現像液中に亜硫酸ナトリウム等の
水溶性亜硫酸塩を添加してもよい。これらの亜硫酸塩は
現像液組成物中5重量%以下で使用される。本発明にお
いて好適に使用される現像液組成物は pHが12以下で
あるが、より好ましくは pHが8〜11.5の範囲のもの
である。以上記述した現像液により、本発明の感光性組
成物を現像する場合、用いる本発明の高分子化合物は現
像液に溶解または分散可能であることが好ましいが、単
に膨潤するものであってもよい。この場合、未露光部の
本発明の感光性組成物は、現像液に浸した後ブラシ等に
より機械的にこすり取られることが好ましい。
【0055】
【発明の効果】本発明の感光性組成物は、画像露光時の
感度に優れ、短い露光時間でも十分な画像が得られる。
従って、作業効率等が著しく改善される。
【0056】
【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれにより限定されるもので
はない。マクロマーの合成例1:MM−1 攪拌機、冷却管を備えたフラスコに2−メトキシエチル
アセテート100gを入れ、窒素気流下85℃に加熱攪
拌した。
【0057】このフラスコ中に、ジメチル−t−ブチル
シリルメタクリレート95g、β−メルカプトプロピオ
ン酸5g、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)0.
8g及び2−メトキシエチルアセテート100gの混合
物を一定流量で2.5時間かけて滴下した。滴下終了後、
さらに3時間85℃で攪拌した。次に、グリシジルメタ
クリレート13.4g、N,N−ジメチルドデシルアミン
2g及びt−ブチルヒドロキノン1.5gを加え、110
℃で8時間攪拌した。
【0058】冷却後この反応混合物にp−トルエンスル
ホン酸5g及び90重量%N,N−ジメチルアセトアミ
ド水溶液200ml を加え、40℃に加熱し、1時間攪
拌した。冷却後、この反応混合物を水/アセトン(容積
比1/5)の混合溶液2リットル中に再沈させ、デカン
テーションにより沈殿物を捕集した。この沈殿物をアセ
トンにてさらに洗浄し、乾燥することにより粘稠物68
gを得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーに
より重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したと
ころ3.8×103 であった。マクロマーの合成例2:MM−2 攪拌機、冷却管を備えたフラスコに2−メトキシエチル
アセテート100gを入れ、窒素気流下70℃に加熱攪
拌した。
【0059】このフラスコ中に、エチルメタクリレート
40g、アクリロニトリル10g、メタクリル酸50
g、2−メルカプトエタノール4g、2,2′−アゾビ
スイソブチロニトリル1.2g及び2−メトキシエチルア
セテート100gの混合物を一定流量で4時間かけて滴
下した。滴下終了後さらに4時間70℃で攪拌した。次
にこの反応混合物を室温まで冷却し、ピリジン12.1g
を加えた後、メタクリル酸クロリド16.1gを滴下し
た。滴下後室温で1時間攪拌し、さらにt−ブチルヒド
ロキノン0.5gを加え、60℃で2時間攪拌した。
【0060】冷却後、水2リットル中に攪拌下投入し、
そのまま1時間攪拌して静置後、水をデカンテーション
により除去した。水での洗浄をさらに2回行った後、1
−メトキシ−2−プロパノール200ml に溶解し、石
油エーテル2リットルに再沈させた。沈殿物をデカンテ
ーションにより捕集し、減圧下乾燥することにより粘稠
物55gを得た。ゲルパーミエ−ションクロマトグラフ
ィーにより重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定
したところ4.2×103 であった。マクロマーの合成例3:MM−3 攪拌機、冷却管を備えたフラスコにN,N−ジメチルア
セトアミド100gを入れ、窒素気流下85℃に加熱攪
拌した。
【0061】このフラスコ中に、ベンジルメタクリレー
ト40g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート60
g、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)0.7g、
チオグリコール酸4g及びN,N−ジメチルアセトアミ
ド100gの混合物を一定流量で2.5時間かけて滴下し
た。滴下終了後、さらに3時間85℃で攪拌した。次
に、グリシジルメタクリレート12g、N,N−ジメチ
ルドデシルアミン2g及びt−ブチルヒドロキノン1.2
gを加え、110℃で8時間攪拌した。
【0062】冷却後、酢酸20gを加えた後、水2リッ
トルに再沈させ、デカンテーシヨンにより沈殿物を捕集
した。この沈殿物をテトラヒドロフランとヘキサンの混
合液にてさらに洗浄し、乾燥した。得られた粘稠物を
N,N−ジメチルアセトアミド300gとともにフラス
コに入れた。
【0063】この混合物に、トリエチルアミン56g及
び無水コハク酸55.4gを加え、80℃で5時間攪拌し
た。冷却後酢酸200gを加え、水3リットルに再沈さ
せ、デカンテーションにより沈殿物を捕集した。この沈
殿物を水にてさらに洗浄し、乾燥することにより粘稠物
91gを得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーにより重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定し
たところ6.1×103 であった。マクロマーの合成例4〜8:MM−4〜MM−8 マクロマーの合成例1〜3と同様にして、次に示すマク
ロマーMM−4〜MM−8を合成した。これらのマクロ
マーの重量平均分子量(ポリスチレン標準)は1.5×1
3 〜1.2×104 の範囲であった。
【0064】尚、添字は組成重量比を示す。
【0065】
【化9】
【0066】
【化10】
【0067】高分子化合物の合成例1:GP−1 攪拌機、冷却管を備えたフラスコに、先に合成例で示し
たマクロマーMM−120g、N,N−ジメチルアセト
アミド200g及び水50gを入れ、窒素気流下75℃
に加熱攪拌した。このフラスコ中に、エチルメタクリレ
ート45g、2−ヒドメロキシエチルメタクリレート2
0g、アクリロニトリル15g、2,2′−アゾビスイ
ソ酪酸ジメチル1g及びN,N−ジメチルアセトアミド
50gの混合物を一定流量で2.5時間かけて滴下した。
滴下終了後、さらに3時間75℃で攪拌した後、水3リ
ットルに攪拌下投入した。
【0068】析出物をろ過により集め、乾燥することに
より、92gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより重量平均分子量(ポリスチレ
ン標準)を測定したところ3.2×104 であった。高分子化合物の合成例2:GP−2 攪拌機、冷却管を備えたフラスコに、1−メトキシ−2
−プロパノール50gを入れ、窒素気流下75℃に加熱
攪拌した。このフラスコ中に、先に合成例で示したマク
ロマーMM−2 30g、ベンジルメタクリレート60
g、2−ヒドロキシエチルアクリレート10g、2,
2′−アゾビスイソ酪酸ジメチル1g及び1−メトキシ
−2−プロパノール250gの混合物を一定流量で2.5
時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに3時間75℃
で攪拌した後、水3リットルに攪拌下投入した。
【0069】析出物をろ過により集め、乾燥することに
より、89gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーにより、重量平均分子量(ポリスチ
レン標準)を測定したところ4.1×104 であった。高分子化合物の合成例3〜8:GP−3〜8 高分子化合物の合成例1〜2と同様にして、第1表に示
すモノマー及びマクロマーを用い高分子化合物GP−3
〜GP−8を合成した。これらの高分子化合物の重量平
均分子量(ポリスチレン標準)は2.7×104 〜1.2×
105 の範囲にあった。
【0070】
【表1】
【0071】
【表2】
【0072】比較用の高分子化合物の合成例:LP−1
〜LP−4 先に示した高分子化合物GP−1の合成例において、マ
クロマーMM−1の代わりにメタクリル酸を用いた以外
はGP−1の合成例と同様にして、第2表に示すLP−
1を合成した。ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーにより重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定し
たところ2.9×104 であった。
【0073】さらに、同様に第2表に示すモノマーを用
い比較用の高分子化合物LP−2〜LP−4を合成し
た。これらの高分子化合物の重量平均分子量(ポリスチ
レン標準)は2.5×104 〜1.1×105の範囲であっ
た。
【0074】
【表3】
【0075】実施例1 特開昭56−28893号公報に開示された方法により
基板を作製した。即ち、厚さ0.24mmのアルミニウム板
をナイロンブラシと400メッシュのパミストンの水懸
濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄
した。次いで10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒
間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後20%HNO3
で中和洗浄し、水洗した。これを陽極時電圧が12.7V
で陽極時電気量に対する陰極時電気量の比が0.8の条件
下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で
160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。このときの表面粗さを測定したところ0.6μ
(Ra 表示)であった。引き続いて30%の硫酸中に浸
漬し、55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸
中、電流密度2A/dm2 において厚さが2.7g/m2にな
るように2分間陽極酸化処理した。その後70℃の珪酸
ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬後水洗乾燥した。この
ようにして準備された基板の上に、次の感光液〔V〕−
1〜〔V〕−8をホイラーを用いて塗布し、100℃で
2分間乾燥した。乾燥重量は2g/m2であった。
【0076】尚、感光液〔V〕−1〜〔V〕−8に用い
た本発明の高分子化合物は第3表に示す。 感光液〔V〕: 本発明の高分子化合物(第3表) 5.0g 4−ジアゾジフェニルアミン及びフェノキシ酢酸と 0.5g ホルムアルデヒドの縮合物の4−n−ドデシルベン ゼンスルホン酸塩 油溶性染料(ビクトリアピュアブルーBOH) 0.1g リンゴ酸 0.05g FC−430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 1−メトキシ−2−プロパノール 100g 次に比較例として、上記感光液中の本発明の高分子化合
物の代わりに比較用の高分子化合物を用いた感光液
〔W〕−1〜〔W〕−4を同様に塗布、乾燥した。乾燥
重量は2g/m2であった。感光液〔W〕−1〜〔W〕−
4に用いた比較用の高分子化合物も第3表に示す。
【0077】感光液〔V〕−1〜〔V〕−8及び〔W〕
−1〜〔W〕−4を用いて得られた各感光性平版印刷版
〔V〕−1〜〔V〕−8及び〔W〕−1〜〔W〕−4の
上に富士写真フィルム(株)製グレイスケールタブレッ
トを重ね、富士写真フィルム(株)製PSライトで1m
の距離から1分間露光し、次に示す現像液〔S〕に50
秒間浸漬後、ブラシで表面を軽くこすり未露光部を除去
した。尚、現像液〔S〕の pHは12以下であった。
【0078】現像液〔S〕: NaHCO3 10g Na2CO3 20g
【0079】
【化11】
【0080】水 920g 得られた平版印刷版の露光量に対する感度を目視にてベ
タ部の段数より読み取った。その結果を第3表に示す。
第3表より、本発明の高分子化合物を用いた感光性平版
印刷版〔V〕−1〜〔V〕−8は、比較例の感光性平版
印刷版〔W〕−1〜〔W〕−4よりいずれも段数が大き
く、高感度であった。 第3表 ───────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた高分子化合物 現像後のベタ部の段数 ───────────────────────────── 〔V〕−1 GP−1 6 〔V〕−2 GP−2 6 〔V〕−3 GP−3 5 〔V〕−4 GP−4 5 〔V〕−5 GP−5 6 〔V〕−6 GP−6 6 〔V〕−7 GP−7 5 〔V〕−8 GP−8 5 比較例 〔W〕−1 LP−1 4 〔W〕−2 LP−2 3 〔W〕−3 LP−3 4 〔W〕−4 LP−4 3 ─────────────────────────────実施例2 実施例1により得られた感光性平版印刷版〔V〕−1及
び〔W〕−1の上に富士写真フィルム(株)製グレイス
ケールタブレットを重ね、富士写真フィルム(株)製P
Sライトで1mの距離から1分間露光し、次に示す現像
液〔T〕または〔U〕にそれぞれ50秒間浸漬後、ブラ
シで表面を軽くこすり未露光部を除去した。尚、現像液
〔T〕及び〔U〕の pHはそれぞれ12以下であった。
【0081】現像液〔T〕: NaHCO3 15g Na2CO3 25g 水 960g 現像液〔U〕: トリエタノールアミン 20g モノエタノールアミン 2g 水 978g 得られた平版印刷版の露光量に対する感度を目視にてベ
タ部の段数より読み取った。その結果を第4表に示す。
第4表より、本発明の高分子化合物を用いた感光製平版
印刷版〔V〕−1は比較例の感光性平版印刷版〔W〕−
1よりいずれも段数が大きく、高感度であった。 第4表 ──────────────────────────── 感光性平版印刷版 用いた現像液 現像後のベタ部の段数 ──────────────────────────── 〔V〕−1 〔T〕 6 〔W〕−1(比較例) 〔T〕 4 〔V〕−1 〔U〕 5 〔W〕−1(比較例) 〔U〕 3 ────────────────────────────
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 290/04 G03F 7/021 G03F 7/00 503

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ジアゾニウム化合物及び高分子化合物を
    含有するネガ型感光性組成物であって、 該高分子化合物が、下記一般式(I)で表される構成単
    位を有する重合体であり、 −(CH−C(R)(X−R−Y))− (I) 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、Xは単
    結合、エステル結合またはアミド結合を示し、Rは単
    結合またはC、H、N、O、Sより選ばれた2種以上の
    原子よりなる2価の連結基を示し、Yは下記一般式(I
    I)で示される構成単位を含み、重量平均分子量が50
    0以上の重合体成分を示す。 −(CH−C(R)(R−COOH))− (II) (式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、R
    単結合またはC、H、N、O、Sより選ばれた2種以上
    の原子よりなる2価の連結基を示す。)〕該重合体が、
    カルボキシル基を保護した形で含有するモノマーと、分
    子中にカルボキシル基、ハロゲン化アシル基、ヒドロキ
    シル基、アミノ基、ハロゲノ基、エポキシ基からなる群
    から選択される反応性基を含有する重合開始剤および/
    または連鎖移動剤とをラジカル重合して得られるオリゴ
    マーを、該反応性基と反応し得る官能基を含有する重合
    性モノマーと反応を行い、一般式(III)で表される
    マクロマーを得た後、 CH=C(R)(X−R−Y) (III) (式中、R、X、R、Yは一般式(I)における定
    義と同じである。)該マクロマーをラジカル重合するこ
    とにより合成されること、 を特徴とする上記感光性組成物。
  2. 【請求項2】 ジアゾニウム化合物及び高分子化合物を
    含有するネガ型感光性組成物であって、 該高分子化合物が、下記一般式(I)で表される構成単
    位を有する重合体であり、 −(CH−C(R)(X−R−Y))− (I) 〔式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、Xは単
    結合、エステル結合またはアミド結合を示し、Rは単
    結合またはC、H、N、O、Sより選ばれた2種以上の
    原子よりなる2価の連結基を示し、Yは下記一般式(I
    I)で示される構成単位を含み、重量平均分子量が50
    0以上の重合体成分を示す。 −(CH−C(R)(R−COOH))− (II) (式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、R
    単結合またはC、H、N、O、Sより選ばれた2種以上
    の原子よりなる2価の連結基を示す。)〕該重合体が、
    カルボキシル基を含有するモノマーと、分子中にカルボ
    キシル基と異なる反応性の反応性基を含有する重合開始
    剤および/または連鎖移動剤とをラジカル重合して得ら
    れるオリゴマーを、該反応性基とのみ反応し得る官能基
    を含有する重合性モノマーと反応を行い、一般式(II
    I)で表されるマクロマーを得た後、 CH=C(R)(X−R−Y) (III) (式中、R、X、R、Yは一般式(I)における定
    義と同じである。)該マクロマーをラジカル重合するこ
    とにより合成されること、を特徴とする上記感光性組成
    物。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5698361A (en) * 1991-10-07 1997-12-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
DE4242050A1 (de) * 1992-12-14 1994-06-16 Hoechst Ag Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung
DE4423140A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE4430680A1 (de) * 1994-08-29 1996-03-07 Hoechst Ag Lichtempfindliches Gemisch
DE69608734T2 (de) * 1995-02-15 2000-11-23 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Lagerstabilität
US5846685A (en) * 1997-01-31 1998-12-08 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation sensitive diazo sulfo-acrylic adducts and method for producing a printing plate
JP4314702B2 (ja) 1998-11-26 2009-08-19 セイコーエプソン株式会社 印刷装置、書込方法およびプリンタ
JP4946748B2 (ja) * 2007-09-14 2012-06-06 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ
KR101344792B1 (ko) * 2010-12-17 2013-12-24 제일모직주식회사 하드마스크 조성물, 이를 사용한 패턴 형성 방법 및 상기 패턴을 포함하는 반도체 집적회로 디바이스

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5488403A (en) * 1977-12-21 1979-07-13 Okamoto Kagaku Kogyo Kk Block sensitive layer for printing
US4247615A (en) * 1980-03-06 1981-01-27 Eastman Kodak Company Continuous-tone dyed diazo imaging process
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH0693116B2 (ja) * 1986-01-21 1994-11-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
GB2202858A (en) * 1987-03-26 1988-10-05 Sericol Group Ltd Photopolymerisable compositions for producing screen printing stencils
JPH087438B2 (ja) * 1988-03-11 1996-01-29 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH01302345A (ja) * 1988-05-31 1989-12-06 Mitsubishi Kasei Corp 感光性組成物
JP2650323B2 (ja) * 1988-05-31 1997-09-03 三菱化学株式会社 感光性組成物
JP2650322B2 (ja) * 1988-05-31 1997-09-03 三菱化学株式会社 感光性組成物
JPH01307745A (ja) * 1988-06-07 1989-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性記録材料
DE3902653A1 (de) * 1989-01-30 1990-08-02 Roehm Gmbh Elastomere acrylharze
US5240808A (en) * 1989-04-27 1993-08-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive compositions containing photosensitive polymeric compound having both photocross-linkable groups capable of cycloaddition, and functional groups carrying P--OH bonds
JP2640141B2 (ja) * 1989-05-23 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 電子写真感光体
US5112743A (en) * 1989-05-24 1992-05-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates
JP2609161B2 (ja) * 1989-09-27 1997-05-14 富士写真フイルム株式会社 静電写真用液体現像剤

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