JPH02221112A - 球状シリカゲルの製造法 - Google Patents
球状シリカゲルの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は球状シリカゲルの製造法に関するものであり、
詳しくは、例えば、オレフィンの重合触媒担体として適
した球状シリカゲルの製造法に関するものである。
詳しくは、例えば、オレフィンの重合触媒担体として適
した球状シリカゲルの製造法に関するものである。
[従来技術とその問題点]
従来より、オレフィンの重合開始触媒を担持するための
担体として球状シリカゲルが広く利用されている。これ
は球状シリカゲルが適度な細孔を有する不活性な球状物
であるため、重合開始剤の担持面からも、また、特に気
相重合における系内の流動性の面からも望ましいからで
ある。
担体として球状シリカゲルが広く利用されている。これ
は球状シリカゲルが適度な細孔を有する不活性な球状物
であるため、重合開始剤の担持面からも、また、特に気
相重合における系内の流動性の面からも望ましいからで
ある。
これら担体として使用する球状シリカゲルの場合、通常
、表面積、平均細孔径、細孔容積、粒子強度、及び平均
粒径などの各種の物性値を厳密にコントロールすること
が要求される。一般的に望ましい球状シリカゲルの物性
値としては例えば、次の範囲のものが挙げられる。
、表面積、平均細孔径、細孔容積、粒子強度、及び平均
粒径などの各種の物性値を厳密にコントロールすること
が要求される。一般的に望ましい球状シリカゲルの物性
値としては例えば、次の範囲のものが挙げられる。
表面積50〜700麓/g
平均細孔径 20〜1000A
細孔容積 0.3〜2.0IIJ1/9平均粒径 5μ
m〜5M 粒子強度 1〜4 ところが、これらの各物性値を全て満足できる球状シリ
カゲルを製造することは非常に難しく、また、その製造
コストも高いものでおった。
m〜5M 粒子強度 1〜4 ところが、これらの各物性値を全て満足できる球状シリ
カゲルを製造することは非常に難しく、また、その製造
コストも高いものでおった。
従来、微細な球状シリカゲルの製造法として、例えば、
コロイド状シリカを水に対して混和性を有する重合可能
な有機材料をバインダーとして、0.5〜50μmに微
粒子球状粒子に成形する方法が知られている。(特公昭
54−9588号参照)しかしながら、この方法では、
製造途中において、調製されたシリカゾル粒子と有機材
料との混合物を500℃以上の温度で4時間以上も焼結
させてポリマー化した有機材料を除去する必要があり、
製造プロセスが面倒である。また、最終的に得られる球
状シリカゲルの物性値は原料として用いるコロイド状シ
リカの物性値によって決定されてしまうので、製品の物
性値をコントロールすることが難しいとの欠点もある。
コロイド状シリカを水に対して混和性を有する重合可能
な有機材料をバインダーとして、0.5〜50μmに微
粒子球状粒子に成形する方法が知られている。(特公昭
54−9588号参照)しかしながら、この方法では、
製造途中において、調製されたシリカゾル粒子と有機材
料との混合物を500℃以上の温度で4時間以上も焼結
させてポリマー化した有機材料を除去する必要があり、
製造プロセスが面倒である。また、最終的に得られる球
状シリカゲルの物性値は原料として用いるコロイド状シ
リカの物性値によって決定されてしまうので、製品の物
性値をコントロールすることが難しいとの欠点もある。
一方、有機材料などの有機成分を用いないで球状シリカ
ゲルを製造する方法として、例えば、シリカゾルを噴霧
乾燥することにより球状シリカゲルを得る方法が提案さ
れている。(特開昭53−65295号参照)しかし、
この方法の場合、生成する球状シリカゲルが中空状ある
いは窪みのある不均一な球状物となり、そのため、流動
性が劣る上、粒子強度のバラツキが大きいと言う欠点が
ある。
ゲルを製造する方法として、例えば、シリカゾルを噴霧
乾燥することにより球状シリカゲルを得る方法が提案さ
れている。(特開昭53−65295号参照)しかし、
この方法の場合、生成する球状シリカゲルが中空状ある
いは窪みのある不均一な球状物となり、そのため、流動
性が劣る上、粒子強度のバラツキが大きいと言う欠点が
ある。
また、珪酸ナトリウムと硫酸とを23〜50℃の温度で
混合してDH9”、8〜10.4の混合溶液を調製し、
そこでシリカヒドロゲルスラリーを形成し熟成後、DH
を3以下に低下させ、更に、pHを8〜10.2に上昇
して熟成した復、噴霧乾燥する方法も知られている。(
特公昭47−35676号参照)しかし、この方法は処
理工程が多く操作が煩雑で工業的に不利な上、粒子強度
のコントロールが難しい。
混合してDH9”、8〜10.4の混合溶液を調製し、
そこでシリカヒドロゲルスラリーを形成し熟成後、DH
を3以下に低下させ、更に、pHを8〜10.2に上昇
して熟成した復、噴霧乾燥する方法も知られている。(
特公昭47−35676号参照)しかし、この方法は処
理工程が多く操作が煩雑で工業的に不利な上、粒子強度
のコントロールが難しい。
更に、珪酸ナトリウム水溶液と鉱酸との反応により(琴
だシリカヒドロゲルスラリーに、アンモニア水溶液を混
合した後、湿式粉砕し、次いで、これを噴霧乾燥する方
法も知られている。(特開昭62−275014号参照
)しかし、この方法においても、製品シリカゲルの粒子
強度をコントロールすることは難しかった。
だシリカヒドロゲルスラリーに、アンモニア水溶液を混
合した後、湿式粉砕し、次いで、これを噴霧乾燥する方
法も知られている。(特開昭62−275014号参照
)しかし、この方法においても、製品シリカゲルの粒子
強度をコントロールすることは難しかった。
[発明の課題と解決手段]
本発明者は上記実情に鑑み、有機成分を用いることなく
球状シリカゲルを製造する際に、表面積、平均細孔径、
細孔容積及び平均粒径の制御に加えて、粒子強度の調節
も可能な球状シリカゲルの工業的有利な製造法について
鋭意検討を重ねた結果、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを
反応させて得られたシリカヒドロゲルを粉砕処理した後
、噴霧乾燥する場合のシリカヒドロゲルのスラリー8度
が製品の球状シリカゲルの粒子強度に重要な影響を与え
ることを見い出し、本発明を完成するに至った。
球状シリカゲルを製造する際に、表面積、平均細孔径、
細孔容積及び平均粒径の制御に加えて、粒子強度の調節
も可能な球状シリカゲルの工業的有利な製造法について
鋭意検討を重ねた結果、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを
反応させて得られたシリカヒドロゲルを粉砕処理した後
、噴霧乾燥する場合のシリカヒドロゲルのスラリー8度
が製品の球状シリカゲルの粒子強度に重要な影響を与え
ることを見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸
とを反応させて得たシリカヒドロゲルを湿式粉砕処理し
た優、このシリカヒドロゲルと水とのスラリーを噴霧乾
燥することにより球状シリカゲルを得る方法において、
前記スラリーにおける水の存在間をシリカヒドロゲルに
対して、0゜2〜1.5重量倍に調節することを特徴と
する球状シリカゲルの製造法に存する。
とを反応させて得たシリカヒドロゲルを湿式粉砕処理し
た優、このシリカヒドロゲルと水とのスラリーを噴霧乾
燥することにより球状シリカゲルを得る方法において、
前記スラリーにおける水の存在間をシリカヒドロゲルに
対して、0゜2〜1.5重量倍に調節することを特徴と
する球状シリカゲルの製造法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明においては、先ず、アルカリ金属珪酸塩の水溶液
と鉱酸水溶液とを反応させシリカヒドロシルを製造する
が、アルカリ金属珪酸塩としては、例えば、珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウムが挙げられ、通常、珪酸ナトリウム
が一般的に好ましい。
と鉱酸水溶液とを反応させシリカヒドロシルを製造する
が、アルカリ金属珪酸塩としては、例えば、珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウムが挙げられ、通常、珪酸ナトリウム
が一般的に好ましい。
一方、鉱酸としては、通常、硫酸、塩酸、硝酸などが挙
げられる。アルカリ金属珪酸塩と鉱酸との反応は回文法
でも、連続法でもよく、その製造条件は特に限定される
ものではない。しかし、この反応で生成するシリカヒド
ロシル中のS i O27!度は通常、10〜22重量
%の範囲となるように条件を選ぶのが望ましい。要する
に、前記ゾル中の5fOz濃度が前記範囲よりも低い場
合には、シリカヒドロシルがゲル化する時間が長く工業
的に不利であり−1また前記範囲よりも高い場合には、
ゲル化時間が短すぎて均一なシリカヒドロゲルが生成し
ない。このゾル中のS!Ozm度を調節するためには、
通常、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸の濃度及びその使用量
を適宜、選定すればよい。通常、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液濃度は15〜27S i 02重量%であり、鉱
酸の水溶液濃度は3〜18Nの範囲から選ばれる。
げられる。アルカリ金属珪酸塩と鉱酸との反応は回文法
でも、連続法でもよく、その製造条件は特に限定される
ものではない。しかし、この反応で生成するシリカヒド
ロシル中のS i O27!度は通常、10〜22重量
%の範囲となるように条件を選ぶのが望ましい。要する
に、前記ゾル中の5fOz濃度が前記範囲よりも低い場
合には、シリカヒドロシルがゲル化する時間が長く工業
的に不利であり−1また前記範囲よりも高い場合には、
ゲル化時間が短すぎて均一なシリカヒドロゲルが生成し
ない。このゾル中のS!Ozm度を調節するためには、
通常、アルカリ金属珪酸塩と鉱酸の濃度及びその使用量
を適宜、選定すればよい。通常、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液濃度は15〜27S i 02重量%であり、鉱
酸の水溶液濃度は3〜18Nの範囲から選ばれる。
ここで生成したシリカヒドロシルは次いで、ゲル化しシ
リカヒドロゲルとする。そして、シリカヒドロゲルは混
合物から分離し充分に水洗する。
リカヒドロゲルとする。そして、シリカヒドロゲルは混
合物から分離し充分に水洗する。
本発明ではシリカヒドロゲルを湿式粉砕するが、その前
に、シリカヒドロゲルを水熱処理するのが好ましい。こ
の水熱処理は通常、シリカヒドロゲルを脱塩水中に懸濁
させ、これに例えば、アンモニア水などを加えることに
より系内のpHを1〜10に調整した後、50〜200
℃の温度で1〜50時間、保持することにより実施され
る。この際のDHが前記範囲外の場合には、シリカの溶
解度が高くなるので好ましくない。
に、シリカヒドロゲルを水熱処理するのが好ましい。こ
の水熱処理は通常、シリカヒドロゲルを脱塩水中に懸濁
させ、これに例えば、アンモニア水などを加えることに
より系内のpHを1〜10に調整した後、50〜200
℃の温度で1〜50時間、保持することにより実施され
る。この際のDHが前記範囲外の場合には、シリカの溶
解度が高くなるので好ましくない。
水熱処理を終えた混合物は、通常、シリカヒドロゲルを
分離した後、次いで、これを粉砕処理するが、通常、分
離したシリカヒドロゲルを衝撃式粉砕機、ジェット粉砕
機、ボールミル、石臼ミル等の機械式粉砕機等で予備的
に100〜200μm程度に荒粉砕しておくのが望まし
い。この荒粉砕ではシリカヒドロゲルに付着する表面水
の除去もできるとの効果も有する。
分離した後、次いで、これを粉砕処理するが、通常、分
離したシリカヒドロゲルを衝撃式粉砕機、ジェット粉砕
機、ボールミル、石臼ミル等の機械式粉砕機等で予備的
に100〜200μm程度に荒粉砕しておくのが望まし
い。この荒粉砕ではシリカヒドロゲルに付着する表面水
の除去もできるとの効果も有する。
本発明においては、シリカヒドロゲルを水とのスラリー
とした優、このスラリーを湿式粉砕し、そして、湿式粉
砕後のスラリーを引き続き噴霧乾燥することにより球状
シリカゲルを得るものである。本発明では、このスラリ
ー化に用いる水の使用量、すなわち、スラリー中の水の
存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜1.5重
量倍、好ましくは0.3〜1.4重量倍に調節すること
を必須の要件とするものである。この際の水の使用量が
あまり少ない場合には、スラリー状態とならず噴霧乾燥
により球状粒子が得られず粒強度を高くすることができ
ない。逆に、あまり多すぎる場合には、粒子強度が十分
に上がらない。なお、シリカヒドロゲルの比表面積が4
00尻/g以上の場合には、充分な粒子強度を得るスラ
リー状態度に調節すると、スラリーの粘度が高くなりす
ぎ、攪拌及び湿式粉砕が不能となることがあるが、この
場合、スラリーのpHを1〜3に調整すると良好な処理
ができるので好ましい。
とした優、このスラリーを湿式粉砕し、そして、湿式粉
砕後のスラリーを引き続き噴霧乾燥することにより球状
シリカゲルを得るものである。本発明では、このスラリ
ー化に用いる水の使用量、すなわち、スラリー中の水の
存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜1.5重
量倍、好ましくは0.3〜1.4重量倍に調節すること
を必須の要件とするものである。この際の水の使用量が
あまり少ない場合には、スラリー状態とならず噴霧乾燥
により球状粒子が得られず粒強度を高くすることができ
ない。逆に、あまり多すぎる場合には、粒子強度が十分
に上がらない。なお、シリカヒドロゲルの比表面積が4
00尻/g以上の場合には、充分な粒子強度を得るスラ
リー状態度に調節すると、スラリーの粘度が高くなりす
ぎ、攪拌及び湿式粉砕が不能となることがあるが、この
場合、スラリーのpHを1〜3に調整すると良好な処理
ができるので好ましい。
湿式粉砕は最終的に生成するシリカゲル粒子の表面状態
及び形状に大きな影響を与えるが、湿式粉砕に用いる粉
砕機としては、通常、ボールミル、振動ミル、攪拌ボー
ルミル、ロッドミル、摩擦円板ミル、石臼式コロイドミ
ル等が挙げられる。この湿式粉砕の処理は、通常、スラ
リー中のシリカヒドロゲルが粒子径1〜50μm、好ま
しくは10〜30μm状態となるまで実施するのが望ま
しい。
及び形状に大きな影響を与えるが、湿式粉砕に用いる粉
砕機としては、通常、ボールミル、振動ミル、攪拌ボー
ルミル、ロッドミル、摩擦円板ミル、石臼式コロイドミ
ル等が挙げられる。この湿式粉砕の処理は、通常、スラ
リー中のシリカヒドロゲルが粒子径1〜50μm、好ま
しくは10〜30μm状態となるまで実施するのが望ま
しい。
本発明では、このようにして得た特定割合の水を含有す
るシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥し球状シリカ
ゲルとするが、この際の噴霧方式としては、通常、加圧
ノズル方式、回転ディスク方式、二流体方式などの方法
を適用することができる。また、乾燥熱風の温度として
は、通常100〜500℃程度である。この噴霧乾燥に
より、ン垂合触媒担体用のシリカゲルの粒径としては3
0〜100μmのものが適する。
るシリカヒドロゲルのスラリーを噴霧乾燥し球状シリカ
ゲルとするが、この際の噴霧方式としては、通常、加圧
ノズル方式、回転ディスク方式、二流体方式などの方法
を適用することができる。また、乾燥熱風の温度として
は、通常100〜500℃程度である。この噴霧乾燥に
より、ン垂合触媒担体用のシリカゲルの粒径としては3
0〜100μmのものが適する。
[発明の効果]
本発明によれば、有機成分を用いることなく、シリカヒ
ドロゲル−水スラリーの水分量を制御するだけで、重合
触媒担体として適した微細な粒状シリカゲルを簡単に製
造することができる。そして、本発明で製造される球状
シリカゲルは表面積、平均細孔径、細孔容積などの物性
値に加えて、粒子強度に優れていると言う独特な効果を
有する。
ドロゲル−水スラリーの水分量を制御するだけで、重合
触媒担体として適した微細な粒状シリカゲルを簡単に製
造することができる。そして、本発明で製造される球状
シリカゲルは表面積、平均細孔径、細孔容積などの物性
値に加えて、粒子強度に優れていると言う独特な効果を
有する。
[実施例]
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記述
に限定されるものではない。
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記述
に限定されるものではない。
実施例1〜3
珪酸ナトリウム水溶液と硫酸とを混合し反応させること
により、5iOz濃度18.5重量%のシリカヒドロシ
ルを生成させ、次いで、これを1時間放置することによ
りゲル化しシリカヒドロゲルとした。
により、5iOz濃度18.5重量%のシリカヒドロシ
ルを生成させ、次いで、これを1時間放置することによ
りゲル化しシリカヒドロゲルとした。
次いで、この混合物からシリカにドロゲルを濾別し水洗
した後、これを脱塩水と混合()、これに28重量%ア
ンモニア水を加え系内のpHを8゜5に調整し、引き続
き、このスラリーを95°Cの温度に昇温し同温度で3
8時間、水熱処理を施した。
した後、これを脱塩水と混合()、これに28重量%ア
ンモニア水を加え系内のpHを8゜5に調整し、引き続
き、このスラリーを95°Cの温度に昇温し同温度で3
8時間、水熱処理を施した。
その復、混合物から再びシリカヒドロゲルを濾別し、こ
のゲルを衝撃型粉砕機(奈良機械制作新製、自由粉砕機
M−4A型)により粗粉砕処理した復、このゲルを第1
表に示す割合に予め、秤徂した脱塩水と混合しスラリー
化し、次いで、このスラリーを石臼型湿式粉砕機(僧堂
産業(株)製、スーパーマスコロイダー)により処理し
、シリカヒドロゲルの湿式粉砕を行った。
のゲルを衝撃型粉砕機(奈良機械制作新製、自由粉砕機
M−4A型)により粗粉砕処理した復、このゲルを第1
表に示す割合に予め、秤徂した脱塩水と混合しスラリー
化し、次いで、このスラリーを石臼型湿式粉砕機(僧堂
産業(株)製、スーパーマスコロイダー)により処理し
、シリカヒドロゲルの湿式粉砕を行った。
そして、湿式粉砕俊の各スラリーをディスク式スプレー
ドライヤー(大川原化工機(株)社製、C3100)を
用いて、ディスク周速約45m/ Secの条件下、ま
た、入り口熱風温度370℃及び出口熱風温度150℃
にて噴霧乾燥することにより、微細球状のシリカゲルを
回収した。
ドライヤー(大川原化工機(株)社製、C3100)を
用いて、ディスク周速約45m/ Secの条件下、ま
た、入り口熱風温度370℃及び出口熱風温度150℃
にて噴霧乾燥することにより、微細球状のシリカゲルを
回収した。
このようにして回収された球状シリカゲルにっき、各々
、平均粒径、表面積、及び粒子強度を測定したところ、
第1表に示す結果を得た。
、平均粒径、表面積、及び粒子強度を測定したところ、
第1表に示す結果を得た。
なお比較のためスラリー中の水分量を0.2(重量倍)
より小さくしたところ、スラリーとならずフィードでき
なかった。また1、5(重量倍)より大きくしたところ
、粒子強度が悪すぎて、測定準備中に解砕された。
より小さくしたところ、スラリーとならずフィードでき
なかった。また1、5(重量倍)より大きくしたところ
、粒子強度が悪すぎて、測定準備中に解砕された。
第1表
* スラリー中の水分量(重量倍)
シリカヒドロゲルに対する重量割合。
** 粒子強度
試料を10メツシユふるいにかけ凝集物を取り除いた後
、180℃の温度で2時間乾燥後、この試料4gを40
重量%グリセリン水溶液100gでスラリー化し、この
スラリーを120分間、超音波処理(150w126K
Hz、 Power Control 10) L/、
粒子の解砕を行い、処理後の粒度分布を測定し、これを
処理前の粒度分布と対比して下式により、粒子強度を求
めた。この値は1に近いほど強度が強い。
、180℃の温度で2時間乾燥後、この試料4gを40
重量%グリセリン水溶液100gでスラリー化し、この
スラリーを120分間、超音波処理(150w126K
Hz、 Power Control 10) L/、
粒子の解砕を行い、処理後の粒度分布を測定し、これを
処理前の粒度分布と対比して下式により、粒子強度を求
めた。この値は1に近いほど強度が強い。
9R理俊のo(90)/D (10)
粒子強度=
処理前のD (90)/D (10)
なお、超音波洗浄機としては、神明台工業(株)製、V
Ol 50FS−3を使用し、粒度分布測定機としては
、堀場(株)製、CAPA−700(自然沈降による測
定法式)を用いた。
Ol 50FS−3を使用し、粒度分布測定機としては
、堀場(株)製、CAPA−700(自然沈降による測
定法式)を用いた。
実施例4〜6
実施例1の方法において、水熱処理をpH6〜7で72
℃の温度で7時間行ない、また、噴霧乾燥前のスラリー
のpHを2.0とし、この際の水分量を第2表に示す割
合として、その他は同様な方法で球状シリカゲルを製造
したところ、回収された球状シリカゲルの物性値は第2
表に示す通りであった。
℃の温度で7時間行ない、また、噴霧乾燥前のスラリー
のpHを2.0とし、この際の水分量を第2表に示す割
合として、その他は同様な方法で球状シリカゲルを製造
したところ、回収された球状シリカゲルの物性値は第2
表に示す通りであった。
第2表
実施例7〜9
実施例4の方法と同様にシリカヒドロゲルと球状シリカ
ゲルを製造したところ、回収された球状シリカゲルの物
性値は第3表に示す通りであった。
ゲルを製造したところ、回収された球状シリカゲルの物
性値は第3表に示す通りであった。
第3表
Claims (2)
- (1)アルカリ金属珪酸塩と鉱酸とを反応させて得たシ
リカヒドロゲルを湿式粉砕処理した後、このシリカヒド
ロゲルと水とのスラリーを噴霧乾燥することにより球状
シリカゲルを得る方法において、前記スラリーにおける
水の存在量をシリカヒドロゲルに対して、0.2〜1.
5重量倍に調節することを特徴とする球状シリカゲルの
製造法。 - (2)シリカヒドロゲル−水スラリーのpHを1〜3に
調節することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1039957A JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
EP90114201A EP0468070B1 (en) | 1989-02-20 | 1990-07-25 | A method for preparing spherular silica gel particles |
US07/845,528 US5589150A (en) | 1989-02-20 | 1992-03-04 | Method for preparing spherular silica gel particles |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1039957A JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
US07/845,528 US5589150A (en) | 1989-02-20 | 1992-03-04 | Method for preparing spherular silica gel particles |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02221112A true JPH02221112A (ja) | 1990-09-04 |
JPH0699135B2 JPH0699135B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=26379365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1039957A Expired - Fee Related JPH0699135B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 球状シリカゲルの製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5589150A (ja) |
EP (1) | EP0468070B1 (ja) |
JP (1) | JPH0699135B2 (ja) |
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JP2010275260A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Kao Corp | 歯磨剤 |
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BE1005718A3 (fr) * | 1992-03-10 | 1993-12-28 | Solvay | Procede pour la fabrication d'une poudre microspheroidale a faible dispersite, poudre microspheroidale a faible dispersite ainsi obtenue, catalyseurs pour la polymerisation d'alpha-olefines et procede de polymerisation d'alpha-olefines. |
BR9301438A (pt) | 1993-04-05 | 1994-11-15 | Petroleo Brasileiro Sa | Processo de preparação de catalisador esférico tipo ziegler para polimerização de alfa-olefinas, catalisador esférico, processo de obtenção de polietileno esférico de altíssimo peso molecular e polietileno esférico de altíssimo pelo molecular |
EP0902758B1 (en) * | 1996-05-31 | 2001-06-06 | PPG Industries Ohio, Inc. | Amorphous precipitated silica |
CN1094898C (zh) * | 1996-05-31 | 2002-11-27 | Ppg工业俄亥俄公司 | 非晶形沉淀氧化硅 |
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1989
- 1989-02-20 JP JP1039957A patent/JPH0699135B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-07-25 EP EP90114201A patent/EP0468070B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-03-04 US US07/845,528 patent/US5589150A/en not_active Expired - Lifetime
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---|---|
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JPH0699135B2 (ja) | 1994-12-07 |
US5589150A (en) | 1996-12-31 |
EP0468070A1 (en) | 1992-01-29 |
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