JPH02131467A - グリセリン誘導体 - Google Patents

グリセリン誘導体

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JPH02131467A
JPH02131467A JP1171362A JP17136289A JPH02131467A JP H02131467 A JPH02131467 A JP H02131467A JP 1171362 A JP1171362 A JP 1171362A JP 17136289 A JP17136289 A JP 17136289A JP H02131467 A JPH02131467 A JP H02131467A
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直之 下村
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哲也 川原
Shinya Abe
信也 阿部
Shuhei Miyazawa
修平 宮澤
Mitsuaki Miyamoto
光明 宮本
Hiroyuki Yoshimura
寛幸 吉村
Kokichi Harada
原田　耕吉
Junsaku Nagaoka
永岡　淳作
Tsutomu Kawada
力 川田
Tsutomu Yoshimura
勉 吉村
Hiromasa Suzuki
弘真 鈴木
Shigeru Soda
左右田　茂
Yoshimasa Machida
町田　善正
Koichi Katayama
片山　幸一
Isao Yamatsu
功 山津
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、医薬として優れた作用を有する新規なグリセ
リン誘導体及びその薬理学的に許容できる塩に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕血小板
活性化因子（　Ｐ　Ａ　Ｆ−Ｐｌａｔｅｌｅｔ　Ａｃｔ
ｉｖａ−ｔｉｎｇ　Ｆａｃｔｏｒ　）　　（以下単にＰ
ＡＦと略称する》は、近年著しく注目されており、最近
では種々の疾病との関連性が明らかになりつつある。即
ち、炎症をはじめとしてＤ　Ｉ　Ｃ，エンドトキシンシ
ョック、喘息、消化管潰瘍、腎炎、肝炎及び臓器移植時
の拒絶反応などに関与していることが推定されている。
このような状況において、ＰＡＦ抑制作用を有する化合
物の探索が行われて右り、その中でも、例えば特開昭６
０−１５８１７２号、特開昭６１−２９３９５４号、特
開昭６０−２４３０４７号などで示される如くグリセリ
ン誘導体がある。しかしながら、現在のところ、抗ＰＡ
Ｆ剤としては満足すべきものは出現していない。
このような状況に鑑みて、本発明者等は優れたＰＡＦ抑
制作用を有するのみならず、作用の持続性、化合物の安
定性においても優れているグリセリン誘導体について長
年にわたって探索研究を続けてきた。
〔発明の構成及び効果〕
本発明者等は、前記に示した目的で長年鋭意検討を重ね
てきた結果、次に示すグリセリン誘導体又はその薬理学
的に許容できる塩が目的を達成できることを見出し、本
発明を完成した。
即ち、本発明化合物は、次の一般式（１）で示されるグ
リセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩である
。
一般式 ＣＨ２−０−Ｃ−Ａ ｛式中、Ａは Ｉ？２ （式中、ｍは０〜６の整数を意味し、Ｒ２，　Ｒ３．Ｒ
４は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ基を
意味する）で示される基、 （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒｓは水素原子、
アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキ
ル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する）
で示される基、する》で示される基、又は式一〇−Ｃ−
ＮＨ−Ｒ’　（式中、Ｒ１ｌは水素原子又はアルキル基
を意味する）で示される基を意味する〕で示される基、
■式−Ｎｌ｛−　（ＣＨ２）　ｑ−Ｒ’（式中、ｑは０
〜６の整数を意味し、Ｒ９はアリール基又はヘテロアリ
ール基を意味する）で示される基、 ■式−ＮＨ−（ＣＨ２）ｒ−ＯＲ” （式中、ｒは０〜６の整数を意味し、ＲＩＧはアルキル
基を意味する）で示される基、ｎ 〔式中、ｉＲは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
んでいてもよい環を示し、Ｒ６は水素原子、水酸基、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＵＲ’　
（式中、Ｒ７はアルキル基、アルコキシ基、シクロアル
キル基を意味（式中、Ｓは０〜２０の整数を意味し、Ｒ
ＩＪＩ２は同一又は相異なる水素原子、低級アルヰル基
を意味する）で示される基、 （式中、ｔは０〜６の整数を意味し、Ｒｌ３は水素原子
又は低級アルコキシ力ルボニル基を意味する）で示され
る基、 ｎ （式中、Ｕは０〜６の整数を意味し、１１１１４，ＲＩ
′は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を意味
し、更にＲＩ４，ＲＩ５が一緒になって酸素原子を含ん
でもよい環を形成してもよい。）で示される基、 ■式一Ｎ｝１−（Ｃ｝！２）ｖ−０−（ＣＨ２）．−０
−（ＣＨ２）．−Ｈ（式中、■は１〜１０の整数を意味
し、Ｗは１〜１０の整数を意味し、×は１〜１０の整数
を意味する）で示される基、 ■　式−ＮＨＩＣＬ）ｙＯ−Ｃ−ＮＨ−Ｒ”（式中、ｙ
は０〜６の整数を意味し、ＲＩＢは水素原子又はアルキ
ル基を意味する）で示される基、又は （式中、２は０〜６の整数を意味し、ａは３〜４の整数
を意味し、Ｄは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
する）で示される基を意味する。
Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル基を意味する
。
Ｒｌはアシル基を意味する。
ｎは０〜３の整数を意味する。
即ち、上記の一般式（１）で表されるグリセリン誘導体
は、優れたＰＡＦ抑制作用を有し、更に作用の持続性を
有し、しかも化合物自体が安定性が高いどいう特徴を有
している。
従って本発明の目的は、優れた抗ＰＡＦ作用を有する新
規なグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
を提供することであり、更に本発明の目的は、それらの
製造方法を提供することであり、更に本発明の目的はそ
れを含有する医薬を提供するにある。
Ｒｌｌ，　Ｒｌ２，　Ｒ１４．　Ｒ１５．　６の定義に
みられる低級アルキル基とは、炭素数１〜６の直鎮もし
くは分枝状のアルキル基、例えばメチル、エチノベｎ−
プロビル、ｎ−ブチル、インブロビノベイソブチノベｎ
−ヘプチノペ　１−エチルプロビル、イソアミノベｎ−
ヘキシルなどをあげることができる。
ｐ．５．　ＲＧ．　Ｒ’ｓ．　Ｒｌｌ，　Ｒ１０．　１
１７１１＋の定義にみられるアルキル基とは、炭素数１
〜３０の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基をいう。具
体的には、上記に示した低級アルキル基、即ち炭素数１
〜６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、例えばメチル
、エチル、ｎ−プロビノベｎ−プチル、イソプロビル、
イソブチル、ｎ−へブチル、１−エチルプロビル、イソ
アミル、ｎ−ヘキシルなどに加えて、ヘプチル、オクチ
ノベノニル、デシル、ウンデシル、ドデシノベ　トリデ
シノペテトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシノベヘ
プタデシノベオクタデシル、ノナデシノへエイコサニル
、ヘネイコサニル、ドコサニル、トリコサニノベテトラ
コサニノベベンタコサニノベへキサコサニノペへブタコ
サニル、オクタコサニル、ノナコサニノベ　トリアコン
タニルなどのアルキル基をあげることができるが、炭素
数１４〜２２程度のアルキル基が好ましく、更には炭素
数１６〜２０程度のアルキル基が最も好ましい。
｝＋２，　Ｒ３，　Ｒ４の定義にみられる「低級アルコ
キン基」とは、上記の低級アルキル基から誘導された低
級アルコキシ基、即ち炭素数１〜６を有する低級アルコ
キシ基を意味する。また、Ｒｌ３の定義にみられる「低
級アルコキシ力ルボニル基」の低級アルコキシとは、上
記の如く炭素数１〜Ｇを有する低級アルコキシ基を意味
する。更に、Ｒ６，　Ｒ１の定義にみられる「アルコキ
シ基」とは、上記のアルキル基から誘導されたアルコキ
シ基を意味する。
Ｒｓ，Ｒｓ，　Ｒ９の定義にみられる「アリール基」と
は、置換もしくは無置換のフエニル基、ナフチル基、フ
ルオレニル基などを意味するが、具体的には低級アルキ
ル基、ハロゲンなどで置換さとができる。
更に、ＲＳ，Ｂの定義にみられるアリールアルキル基と
は、上記のアリール基から誘導されるアリールアルキル
基を意味する。
八の定義中のメチレン鎮の数、即ちｍ，　ｐ，　ｑ，　
ｒ，ｔ，　ｕ，　ｙ，　ｚは０〜６の整数を意味するが
、１〜３程度が好ましい。
Ｒ１の定義におけるアシル基とは、脂肪族飽和カルボン
酸、脂肪族不飽和カルボン酸、炭素環式カルボン酸又は
複素環式カルボン酸のような有機酸の残基があげられる
が、具体的には、例えばホルミル、アセチル、プロビオ
ニル、プチリノペイソブチリル、バレリル、インバレリ
ル、ピバロイルなどの低級アルカノイル基、置換もしく
は無置換のベンゾイル、トルオイル、ナフトイルなどの
アロイル基、フロイル、ニコチノイル、イソニコチノイ
ルなどのヘテロアロイル基、シクロヘキシル力ルボニル
基などをあげることができる。これらのうち好ましいも
のをあげれば、アセチル、ブロピオニルなどの低級アル
カノイル基、置換もしくは無置換のベンゾイル基であり
、最も好ましいものとしては、例えばアセチル基、ｏ，
ｍ，ｐ−メトキシベンゾイル基などをあげることができ
る。
Ａの定義は■〜０に分類されているが、これらのうちで
■で定義されているグループの化合物が最も好ましく、
次いで■で定義されているグループの化合物、■で定義
されているグループの化合物が好ましい。
■で定義されている場合の中でも、特にＲ６が式−０−
Ｃ−Ｎｉｌ−Ｒ’　　（式中、Ｒ８は水素原子又はアル
キル基を意味する）で示される基の場合が好ましい。
この場合Ｒ８のアルキル基は、上記の如く炭素数１〜３
０の直鎮もしくは分岐状のアルキル基を意味するが、好
ましくは炭素数１４〜２２程度のアルキル基、更に好ま
しくは炭素数１６〜２０程度のアルキル基である。
炭素原子のほか、窒素原子、酸素原子を含んでもよい環
を意味するが、好ましい具体例を述べれば以下の通りで
ある。
またＢの定義においてもメチル基の場合が最も好ましく
、更にｎは０又は１〜３の整数を意味するがｎ＝ｌの場
合が最も好ましい。
本発明化合物は、式（１）で表されるグリセリン誘導体
又はその薬理学的に許容できる塩である。
これらの塩としてはいかなる塩でも良いが、例えば上記
グリセリン誘導体（１）の塩酸塩、臭化水素塩、ヨウ化
水素塩、硫酸塩、リン酸塩などの酸付加塩などのほか、
本発明においては、Ｇの定義におけるビリジン環の窒素
原子が四級化された四級塩が最も好ましい。四級塩であ
ればいかなる塩でも良いが、これら四級塩の中で上記の
中で最も好ましいのは（１）の環がピペリジンの場合で
ある。
Ｒｌ７は水素原子又は低級アルキル基を意味し、Ｘは薬
理学的に許容できるアニオンである）で示される基であ
る場合が最も好ましい。
上記の定義において、ＲＩ７は炭素数１〜３程度が好ま
しく、更にはエチル基の場合が最も好ましい。
Ｘ″′はいかなるアニオンでもよいが、代表的　一なも
のをあげれば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン
、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオン
などの酸のアニオン、水酸イオンなどをあげることがで
きる。最も好ましいアニオンは塩素イオンなどのノ＼ロ
ゲンイオンである。
本発明の化合物は、分子内に不斉炭素を有し、種々の立
体異性体が存在するが、本発明においては、その各々あ
るいはその混合物のいずれもが本発明に包含されること
は言うまでもない。
次に本発明の代表的な製造方法を示す。
ＣＨ−０−８ （ＩＩ） （一連の式中、Ａ，　Ｂ，　ｎ，　Ｒ’，　Ｒ”，　Ｘ
は前記の意味を有する） （第一工程） 本工程は、一般式（Ｉ　Ｉ）で表される化合物を常法に
よりアシル化して一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を
得る工程である。
アシル化は、例えばＲ’ＯＨ　　（式中、Ｒｌはアシル
基を意味する）で表されるカルボン酸の反応性誘導体、
例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式（ＩＩ）
で表される化合物と反応させて、目的物質の一つである
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合は、無水酢酸を用いることが
好ましい結果を与える。
本反応は塩基の存在下に反応を行うことが好ましい。
塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウ
ムのような水素化アルカリ金属頚、金属ナトリウムのよ
うなアルカリ金属、ナトリウムメトキシドのようなナト
リウムアルコラート、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのような水酸化アルカリ、ピリジン、トリエチルアミ
ンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど
の炭酸アルカリなどがあげられる。
本反応は、無溶媒、又は例えばテトラヒド口フラン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトンのようなケトン順、ベンゼン、トルエンなど
のベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は−７８℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第二工程） 本反応は、第一工程で得られた一般式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物を常法により四級塩化し、本発明化合物（Ｉ
Ｖ）を得る工程である。即ち、一般式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物を一般式Ｒ”−Ｘ（ＲＩ’ｌ．Ｘは前記の意
味を有する》で表される化合物と反応させることにより
、容易に目的物質である本発明化合物（ＩＶ）を得る。
ハロゲン化水素塩とする際はＲ１７−ｔｌａｌと反応さ
せる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、又
は例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
なお、本製造方法において、出発物質として用いられる
一答式（ＩＩ）は、例えば次のいくつかの方法により製
造できる。
下記に示す，フ法は、Ａの定義の■〜■に示される場合
において、■の場合を除いた場合である。
製造方法（ｉ） ＣＨ２−ＯＨ ＣＨ−０−８ ＣＨＩ−ＯＨ （Ｖ） ＣＨ．−０−Ｃ−Ｎｌｌ−Ａ’ ＣＨ−０−８ （Ｖｌ１） Ｃ｝Ｉ２−ＯＨ ＣＨ．−０−Ｃ−ＮＨ−Ａ’ ＣＨ２−０−Ｃ−ＮＨ−Ａ’ （式中、Ｂ，ｎは上記の意味を有し、Ｈａｌはハロゲン
原子を意味し、Ａ”はＡの定義において、Ａが■，■，
■，■．■，■．■，■，■又は■で示される基である
場合であって、その基から式一ＮＮ−で表される基を除
いた残基を意味する）（第一工程） 一般式（Ｖ）で表される化合物を一般式（Ｖｌ）で表さ
れるインシアネートと塩基の存在下反応させることによ
り、一般式（Ｖｌｌ）で表される化合物を得る工程であ
る。
使用できる塩基としては、例えばピリジン、４　−　（
Ｎ．　Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、キノリンなどが
あげられる。
本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどのベンゼン系溶媒などから選択された溶媒中で行
われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
このとき用いたインシアネー｝　０＝Ｃ＝Ｎ−Ａ’は、
例えば３．４．５−｝！Ｊメトキシアニリンの如き化合
物Ａ’−ＮＨ２と、ホスゲン、二塩化オキサリル、クロ
ロギ酸トリクロロメチルなどとを反応させることにより
得ることができる。
本反応は普通、ベンゼン、トルエン、酢酸エチルなどの
不活性有機溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第二工程） 一般式（ＶＩＩ）で表される化合物とハロゲノギ酸フエ
ニルを塩基の存在下反応させることにより、化合物（Ｉ
Ｘ）を得る工程である。
使用できる塩基としては、例えばピリジン、トリエチル
アミンなどがあげられる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレ
ンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は−７８℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第三工程） 一般式（ＩＸ）で表される化合物を一般式（Ｘ）で表さ
れるアミン体と反応せしめて、一般式（ＸＩ）で表され
る化合物を得る工程である。ｎ一１である場合、化合物
（Ｘ）は２−（アミノメチル）ピリジンである。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレ
ンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、アセトニトリノペジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
本工程によって得られた一般式（ＸＩ）で表される化合
物は、一般式（１）におけるＡの定義において八が■で
ある場合を除いた場合において、一般式（ＩＩ）で表さ
れる化合物に一致する。
製造方法（ｉｉ） ＣＨ２一叶 Ｃ｝Ｉ−０−Ｂ　　　　　　　　　　ｍＣ）ｌ２−ＤＨ ＣＨ−０〜Ｂ ＣＨ２−Ｏｉｌ （Ｘｌｌｌ） Ｃｌｌ２−ＯＨ ↓ ＣＩ−１，−０−Ｃ−ＮＨ−Ａ’ （一連の式において、Ｂ，　Ａ’　，　ｎ，　Ｈａｌは
前記の意味を有する》 （第一工程） 一般式（Ｖ）で表される化合物とジヒドロビラン（ＸＩ
Ｉ）を酸存在下反応させることにより、一般式（ＸＩＩ
Ｉ）で表される化合物を得ることができる。
酸としては、例えばｐ一トルエンスルホン酸、ピリジニ
ウムｐ−｝ルエンスルホネートなどをあげることができ
る。
本反応は通常、例えばジクロロメタン、クロロホルムな
どの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、ヘキサンなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒の沸点まで適宜選ばれる。
（第二工程） 一般式（Ｘｌｌｌ）で表される化合物をハロゲノギ酸フ
ェニルと塩基の存在下反応させることにより、一般式（
ＸＩＶ）で表される化合物を得ることができる。
使用できる塩基としては、例えばビリジン、トリエチル
アミンなどがあげられる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメ
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンナトの
ベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は−７８℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第三工程） 一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を一般式（Ｘ）で表
されるアミン体と反応させることにより、一般式（ＸＶ
）で表される化合物を得ることができる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、ジクロロメ
タンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第四工程） 一般式（ＸＶ）で表される化合物を酸存在下水又はメタ
ノール、エタノールなどのアルコール類と反応させるこ
とにより、一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を得るこ
とができる。
酸としては、例えばｐ−｝ルエンスルホン酸、酢酸、ピ
リジニウムｐ−｝ルエンスルホネート、塩酸などをあげ
ることができる。
本反応は無溶媒、又は例えばメタノーノぺエタノールな
どのアルコール類、水、テトラヒド口フラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベン
ゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド
などから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第五工程） 一般式０＝Ｃ＝Ｎ−Ａ’　　（Ｖｌ）で表されるインシ
アネートと一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を常法に
より塩基の存在下反応させることにより、一般式（ＸＩ
）で表される化合物を得ることができる。
塩基としては、例えばピリジン、４　−　（Ｎ，　Ｎ一
ジメチルアミノ）ピリジン、キノリンなどがあげられる
。
−本反応は無溶媒、又はテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒などから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
製造方法（　ｉｉｉ　） ＣＨ．−ＤＨ ＣＨ−［］−８　　　　　　　　　　　（ν）ＣＨ２−
ＤＨ ■ ＣＨ２−０−Ｃ−ＮＨ−Ａ’ Ｕ （一連の式において、Ａ’　．　ｒ＋．　Ｂ，　Ｈａｌ
は前記の意味を有する） （第一工程） 一般式（Ｖ）で表されるグリセリン誘導体をハロゲノギ
酸フエニル（ＶＩＩＩ）と常法により縮合反応せしめて
、一般式（ＸＶＩ！）で表される化合物を得る工程であ
る。
本反応は、好ましくはトリエチルアミン、ピリジンの如
きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き
水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの如きアルカリ
金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒド口フラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム
などのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
ナトのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第二工程） 第一工程で得られたジカーボネー｝　（ＸＶＩＩ）を一
般式（Ｘ）で表されるアミン体と反応させ、一般式（Ｘ
ＶＩＩＩ）で表される化合物を得る工程である。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
（第三工程） 第二工程で得られたカルバモイル誘導体（ＸＶＩＩＩ）
を一般式８２Ｎ−Ａ’　　（ＸＩＸ）　で表サレルアミ
ンと反応させ、一般式（Ｈ）で表される化合物を得る工
程である。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
製造方法２ 口 ＣＨ２−０−Ｃ−Ｎ｝Ｉ−Ａ’ Ｉ Ｃ｝ｌ．−０−Ｃ−Ｎｉｌ−Ａ’ （一連の式において、ＲＩ７，ｎ，Ａ’，Ｂ，Ｒ’，Ｘ
は前記の意味を有する》 （第一工程） 本工程は、一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を常
法によりアシル化して一般式（ＸＸ）で表される化合物
を得る工程である。
アシル化は、例えばＲ’ＤＨ　　（式中　Ｒｌはアシル
基を意味する）で表されるカルボン酸の反応性誘導体、
例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式（ＸＶＩ
ＩＩ）で表される化合物と反応させて、目的物質の一つ
である一般式（ＩＩＩ）で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合は、無水酢酸を用いることが
好ましい結果を与える。
本反応は塩基の存在下に反応を行うことが好ましい。
（第二工程） 一般式（ＸＸ）で表される化合物を一般式｝１，Ｎ−Ａ
’（ＸＩＸ）で表されるアミンと反応させ、一般式（Ｘ
ＸＩ）で表される化合物を得る工程である。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
（第三工程） 製造方法１の第二工程で記載した方法と同様に四級塩化
する工程である。
一般式（１）において、八が は前記の意味を有する）で示される基である場合は、次
の方法によっても製造することができる。
ｎ （一連の式において、Ｒ１７，　ｎ，　Ｒ５，　ｐ，　
Ｂ，　Ｒ’，　Ｈａｌ，　Ｘは前記の意味を有する） （第一工程） 一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物をスルファモイ
ルフェニルアルキルアミン（ＸＸＩＩＩ）　　ト反応さ
せ、一般式（ＸＸＩＶ）で表される化合物を得る工程で
ある。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒド口フランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
（第二工程） 第一工程で得られた一般式（ＸＸＩＶ）で表される化合
物を一般式（ＸＸＶ）で表されるアルキルハライドと反
応させ、一般式（ＸＸＶＩ）で表される化合物を得る工
程である。
本反応は、好ましくは炭酸カリウムの如き炭酸アルカリ
類、水酸化ナ｝ＩＪウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ順、トリエチルアミン、ビリジンの如きアミン
類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き水素化ア
ルカリ金属類などの塩基存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒド口フラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、塩化メチレン、クロコホルム
などのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベン
ゼン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第三工程） 第二工程で得られた一般式（ＸＸｍで表される化合物を
常法によりアシル化して一般式（ＸＸＶｉｌ）で表され
る化合物を得る工程である。
アシル化は、例えばＲ’ＤＨ　　（式中、Ｉ’ｌｌはア
シル基を意味する）で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式（Ｘ
Ｘｍで表される化合物と反応させて、一般式（ＸＸＶＩ
Ｉ）で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合は無水酢酸を用いることが好
ましい結果を与える。
本反応は、好ましくはトリエチルアミン、ビリジンの如
きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き
水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの如きアルカリ
金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒド口フランなどの
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲ
ン系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶
媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第四工程） 本反応は、第三工程で得られた一般式（ＸＸＶＩＩ）で
表される化合物を常法により四級塩化し、本発明化合物
（ＸＸＶＩＩＩ）を得る工程である。即ち、一般式（Ｘ
ＸＶＩＩ）で表される化合物を一般式Ｒ”−Ｘ　（Ｒ”
，Ｘは前記の意味を有する）で表される化合物と反応さ
せることにより、容易に目的物質である本発明化合物（
ｘｘｖｏｌ）を得る。ハロゲン化水素塩とする際はＲ１
７−｝１ａｌ（Ｒｌ７＝ｌ）と反応させる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、又
は例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
■　式一Ｎ｝ｌ−（Ｃｔｌ２）　，一〇一Ｃ−ＮＨ−Ｒ
”　　（式中、ｙは０〜６を意味し、Ｒ１１１は水素原
子又はアルキル基を意味する》で示される基である場合
は、次の方法によっても製造することができる。
（一連の式において、Ｒ”，　ｎ，　Ｒ’，　ｙ，　Ｒ
”，　Ｂ，　Ｈａｌは前記の意味を有する） （第一工程） カルバモイル誘導体（ＸＶＩＩＩ）を一般式（ＸＸＩＸ
）で表されるアミンと反応させ、一般式（ＸＸＸ）で表
される化合物を得る工程である。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒド口フランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
（第二工程） 一般式（ＸＸＸ）で表される化合物をハロゲノギ酸フェ
ニル（ＶＩＩＩ）と常法により縮合反応せしめて、一般
式（ＸＸＸＩ）で表される化合物を得る工程である。
本反応は、好ましくはトリエチルアミン、ピリジンの如
きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き
水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの如きアルカリ
金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、塩化メチレン、クロロホルム
などのハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
ナトのベンゼン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシドなどの溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第三工程） 第二工程で得られたカルバモイル誘導体（ＸＸＸＩ）を
一般式（ＸＸＸＩＩ）で表されるアミンと反応させ、一
般式（ＸＸＸＩＩＩ）で表される化合物を得る工程であ
る。
本反応は、無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンな
どのハロゲン系溶媒、テトラヒド口フランなどのエーテ
ル類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中で行
われる。
反応温度は室温乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択され
る。
（第四工程） 第三工程で得られた一般式（ＸＸＸＴＩｒ）で表される
化合物を常法によりアシル化して一般式（ＸＸＸｍ　で
表される化合物を得る工程である。
アシル化は、例えばＲ’ＯＨ　　（式中、Ｒ１はアシル
基を意味する）で表されるカルボン酸の反応性誘導体、
例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式（ＸＸＸ
ＩＩＩ）で表される化合物と反応させて、一般式（ＸＸ
Ｘｍ　で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合は無水酢酸を用いることが好
ましい結果を与える。
本反応は、好ましくはトリエチルアミン、ビリジンの如
きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き
水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの如きアルカリ
金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒド口フランなどの
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲ
ン系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶
媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第五工程） 本反応は、第匹工程で得られた一般式（ＸＸＸＩ〜′）
で表される化合物を常法により四級塩化し、本発明化合
物（ＸＸＸＶ）を得る工程である。即ち、一般式（ＸＸ
ＸＩＶ）で表される化合物を一般式Ｒ”−Ｘ　　（ＲＩ
１，Ｘは前記の意味を有する）で表される化合物と反応
させることにより、容易に目的物質である本発明化合物
（ＸＸＸＶ）を得る。
ハロゲン化水素塩とする際はＲ１７−Ｈａｌ（Ｒ”　＝
Ｈ）と反応させる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、又
は例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、
テトラヒド口フラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
順、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
なお、上記の製造方法４において、一般式（ＸＸＸＩＩ
Ｉ）で表される化合物は、次に示す方法により一般式（
ＸＸＸ）で表される化合物より直接製造することも可能
である。
Ｃ｝１２−０−Ｃ−ＮＨ−　（［：Ｈ２）　，−ＯＨロ （式中、Ｒ’ｊ＋　ｒＬ　Ｌ　Ｂは前記の意味を有する
）即ち、一般式（ＸＸＸ）で表される化合物を一般式（
ＸＸＸＶＩ）で表される化合物と反応させ、一般式（Ｘ
ＸＸＩＩＩ）で表される化合物を得ることができる。
本反応は好ましくはトリエチルアミン、ピリジンの如き
アミン類の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどの
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲ
ン系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒中
で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
製造方法５ 一般式（１）において、Ａが 記の意味を有する）で示される基である場合は、次に示
す方法によっても製造できる。
ｎ （一連の式において、Ｒ”，　Ｘ，　Ｒ’，　ｎ，　Ｒ
’，　環Ｒ，　Ｂ，　ｌ｛ａｌは前記の意味を有する） （第一工程） 一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を一般式（ＸＸ
ＸＶＩＩ）で表される環状アミンと反応させることによ
り、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）で表される化合物を得る
工程である。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレ
ンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘヰサメチルリン酸トリアミ
ドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第二工程） 第一工程で得られた一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）で表され
る化合物をハロゲノギ酸フエニル＜ＶＩＩＩ）と塩基の
存在下、反応させることにより、般式（ＸＸＸＩＸ）で
表される化合物を得る工程である。
使用できる塩基としては、例えばピリジン、トリエチル
アミンなどがあげられる。
本反応は無溶媒、又は例えばクロロホルム、塩化メチレ
ンなどの塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエチ
ルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチル
ケトンのようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベ
ンゼン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は−７８℃乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第三工程） 第二工程で得られた一般式（ＸＸＸＩＸ）で表される化
合物と一般式（ＸＸＸＸ）で表されるアミンを反応させ
ることにより、一般式（ＸＸＸＸＤ　で表される化合物
を得る工程である。
本反応は無溶媒、又はクロロホルム、塩化メチレンなど
の塩化炭素系溶媒、テトラヒド口フラン、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン
系溶媒、アセトニトリノベジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミドなど
から選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
（第四工程） 第三工程で得られた一般式（ＸＸＸＸＩ）で表される化
合物を常法によりアシル化して一般式（ＸＸＸＸＩＩ）
で表される化合物を得る工程である。
アシル化は、例えばｒｌ’ｏＩ｛　　（式中、Ｒ１はア
シル基を意味する）で表されるカルボン酸の反応性誘導
体、例えば酸無水物、酸ハロゲン化物などを一般式（Ｘ
ＸＸＸＩ）で表される化合物と反応させて、一般式（Ｘ
ＸＸＸＩＩ）　　で表される化合物とする。
アセチル基を導入する場合は、無水酢酸を用いることが
好ましい結果を与える。
本反応は、好ましくはトリエチルアミン、ピリジンの如
きアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムの如き
水素化アルカリ金属類、金属ナトリウムの如きアルカリ
金属、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの如き水酸化
アルカリ類などの塩基の存在下に行う。
また本反応は、無溶媒、又はテトラヒドロフランなどの
エーテル類、塩化メチレン、クロロホルムのようなハロ
ゲン系溶媒、ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの
溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点までの温度で適宜選択さ
れる。
（第五工程） 本反応は、第四工程で得られた一般式 （ＸＸＸＸＩＩ）で表される化合物を常法により四級塩
化し、本発明化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）を得る工程であ
る。即ち、一般式（ＸＸＸＸＩＩ）で表される化合物を
一般式　Ｒ”−Ｘ　　（Ｒ”，Ｘは前記の意味を有する
》で表される化合物と反応させることにより、容易に目
的物質である本発明化合物（ＸＸＸＸＩＩＩ）を得る。
ハロゲン化水素塩とする際はＲ”−Ｈａｌ（Ｒ”＝Ｈ）
と反応させる。
本反応は好ましくは窒素中遮光して行われ、無溶媒、又
は例えばメタノール、エタノールなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、
ベンゼン、トルエンなどのベンゼン系溶媒、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミドなどから選択された溶媒
中で行われる。
反応温度は欠冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
なお、上記の製造方法５において一般式（ＸＸＸＸＩ）
で表される化合物は、一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）で表さ
れる化合物から次の方法により直接製造することも可能
である。
Ｕ 即ち一般式（ＸＸＸＶＩＩＩ）で表される化合物と一般
式０＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ”　（ＸＸＸＸＩＶ）　テ表されルイ
ソシアネートを通常塩基の存在下反応させることにより
、一般式（ＸＸＸＸＩ）で表される化合物を得ることが
できる。
使用できる塩基としては、例えばピリジン、４　−　（
Ｎ，　Ｎ−ジメチルアミノ）　ピリジン、キノリンなど
が挙げられる。
本反応は無溶媒、又はテトラヒドロ：／ラン、ジエチル
エーテルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの
ベンゼン系溶媒などから選択された溶媒中で行われる。
反応温度は水冷下乃至溶媒沸点まで適宜選ばれる。
このとき用いたインシアネートは製造方法１の（ｉ）の
第一工程で用いたインシアネートと同様の方法で得るこ
とができる。
本方法において、理解を容易にするため、ｎロ 中、Ｒ８は水素原子又はアルキル基を意味する）で示さ
れる基である場合を具体的に図式すれば、以下のとおり
である。
ｎ Ｋ” また、上記一般式（ＸＸＸＸＩＸ）で表される化合物は
次の方法によっても製造可能である。
口 Ｄ 次に本発明の効果を詳述するために、実験例を以下に示
す。
実験例１ ヒト血小板ＰＡＦ惹起凝集に対する作用〈方　法〉 ２週間以上薬物を服用していない健常成人男子の前腕静
脈から採血し、これに３．８％クエン酸ナトリウム溶液
を１７９容添加した。遠心法により多血小板血漿（ＰＰ
Ｐ）を調製した。血小板能の測定はボーン（Ｂｏｒｎ）
らの光学的方法に準じて血小板凝集メーターへマトレー
サー■＠（二光バイオサイエンス社）を用いて測定した
。ＰＡＦはＴｙｒｏｄｅ溶液（Ｃａ”　（＋）　）に溶
解し、最大凝集を起こす最低の濃度を用いた。被験化合
物は生理食塩水に溶解した。
被験化合物の凝集抑制活性は、対照ＰＲＰにおけるＰＡ
Ｆによる最大の光透過度（最大凝集率）に対する抑制率
から求めた。その抑制曲線よりＩＣ５。を求めた。結果
を表１に示す。
被験化合物の欄の番号は下記に示す実施例番号の化合物
である。
く結 果〉 実験例２ 表 く方　法〉 男子健常人より常法に従って血小板を得、パインディン
グバｙ　７　７　−（Ｂｉｎｄｉｎｇ　Ｂｕｆｆｅｒ）
（１０ｍＭ　ｐｈｏｓｐｈａｔｅ−ｂｕｆｆｅｒｅｓ　
ｓａｌｉｎｅ（ｐｔｌ　７．０）．０．１％（ｗ／ｖ）
　ＢＳＡ，０．　９ｍＭ　ＣａＣ１，を含む）　に１０
＠ケ／４６０μｌとなるように懸濁する。ポリプロピレ
ンチニーブに被験化合物のパインディングバッファ一溶
液２０μｌを加え、血小板液４６０μｌをさらに加えて
、Ｖｏｒｔｅｘ後３７℃で６分間インキニベート（ｉｎ
ｃｕｂａｔｅ）する。次いで３１−ＰＡＦのパインディ
ングバッファ一溶液２０μｌ（ｆｉｎａｌ　’Ｈ−Ｐ　
Ａ　Ｆ濃度０．６　〜１ｎＭ）を加え、６分間インキニ
ベートし、氷冷した洗浄溶液（０．１％（Ｗ／Ｖ）のＢ
ＳＡを含むＳａｌｉｎｅ）　３−を加え反応を停止し、
ガラスフィルター（ＷｈａｔｍａｎＧＦ／Ｃ）上で吸引
濾過する。ガラスフィルターを乾燥後、液体シンチレー
ションカウンターにて放射能を測定する。
Ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ％は下記の式に従って計算し、Ｉ
Ｃｓ。は図より内挿して求めた。
Ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ％＝ 〈結 果〉 表 （ｔｏｔａｌ　ｂｉｎｄｉｎｇ）−（ｎｏｎ−ｓｐｅｃ
ｉｆｉｃ　ｂｉｎｄｉｎｇ）ｔｏｔａｌ　ｂｉｎｄｉｎ
ｇ；薬物あるいはＰＡＦ濃度０の時のｄｐｍ． ｎｏｎ−ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ｂｉｎｄｉｎｇ；ｃｏｌｄ
　ＰＡＰ　１０−’Ｍ加えた時のｄｐｍ． 結果を表２に示す。
〈方 法〉 体重３０ｇ前後のＩＣＲ系雄性マウスに生理食塩水ある
いは被験化合物を静注し、１５分後にＰＡＦＩＯＯμｇ
／ｋｇを静注した。その後１時間で生死を判定し、生存
率を出した。結果を表３に示す。
〈結　果〉 表　　　３ 実験例４ く方　法〉 Ｐｅｎｔｏ麻酔下（５０ｍｇ／ｋｇ，　　ｉ．ｐ．）の
Ｆ３４４　ｒａｔの頚動脈及び頚静脈にカニニレーショ
ンし、動脈から血圧を測定し、静脈からＰＡＦあるいは
被験化合物を０．５ｍｆ／ｋｇで投与した。ＰＡＦ０．
５μｇ／ｋｇを投与３分後に被験化合物を投与し、その
拮抗作用を評価した。結果を表４に示す。
表４における回復率とは、降圧に対する被験化合物によ
る昇圧の割合である。
注）生存率の欄の％は生存率を示す。分数の分母はマウ
スの数を示し、分子は死亡したマウスの数を示す。
く結　果〉 表 ル又はＮ−ベンゾイルの加水分解反応によるものである
。いくつかの化合物においてｐＨ一分解速度プロファイ
ルを調べたところ、いずれも同様なパターンを示したた
め、比較的分解しやすいｐＨ　７．４．　３７℃におけ
る分解速度定数を求め、化合物間の安定性の相対比較を
行った。
〈実験方法〉 検体水溶液（１ｍｇ＃ｒ＋ｊ’）　　１容に対し、緩衝
液（０．５Ｍ　　リン酸ナトリウム、ｐｌｌ７．４）９
容を加え、３７℃に保存した。経時的にサンプリングを
行い、逆相高速液体クロマトグラフィーにより、未変化
体残存率を測定した。殆どの化合物は一次分解速度式に
より近似されるので、最小二乗法により分解速度定数を
求めた。結果を表５に示す。
一連の化合物は水溶液中において中性〜アルカリ性で不
安定であり、これは主にＮ−アセチく結　果〉 表 上記の実験例により本発明化合物は、優れたＰＡＦ抑制
作用を有することが明らかである。
更に、本発明化合物は、抗ＰＡＦ作用の持続性に優れ、
かつ安定性においても優れていることが判明してあり、
本発明の価値は高い。
従って、本発明化合物は、ＰＡＦに起因するあらゆる疾
患の治療・予防に有効である。
代表的な疾患をあげれば、血栓症、脳卒中（脳出血、脳
血栓）、心筋梗塞、狭心症、ヒトの血管内凝固症候群（
ＤＩＣ）、血栓性静脈炎、糸球体腎炎、アナフィラキシ
ーショック、出血性ショック、アレルギー疾患などの治
療・予防剤として有用である。
本発明化合物を抗ＰＡＦ剤として投与する場合、散剤、
顆粒剤、カプセル剤、シロップ剤などとして経口的に投
与してもよいし、また坐剤、注射剤、外用剤、点滴剤と
して非経口的に投与してもよいが、本発明の場合は、通
常は注射剤又は点滴剤として投与することが好ましい。
投与量は、疾患の種類、症状の程度、年令などにより著
しく異なるが、点滴注射剤として投与する場合は、約０
．　０１　〜１０ｍｇ／ｋｇ／ｈｒ，好ましくは０．　
０３　〜５　ｍｇ／ｋｇ／ｈｒを投与する。
また、静脈注射剤として投与する場合は、通常成人１日
あたり約０．００１　〜５０ｍｇ／ｋｇ　，好ましくは
約０．００１　〜３０ｍｇ／ｋｇ　，更に好ましくは０
．００１〜５ｍｇ／ｋｇ　ｓ更に好ましくは０．　００
３　〜３　ｍｇ／ｋｇを１日１〜数回にわけて投与する
。
経口・非経口投与のための製剤化は、通常の製薬的に許
容できる担体を用い、常法により製造する。
注射剤、点滴剤などを調製する場合は、生薬に必要によ
りｐＨ調整剤、緩衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加
し、必要ならば凍結乾燥などを行って、常法により皮下
・筋肉内・静脈内用注射剤、点滴注射剤とする。
〔実　施　例〕
次に本発明の代表的な実施例を掲げるが、本発明がそれ
らにのみ限定されることがないことは言うまでもない。
なお、実施例における化学構造式において、Ｍｅはメチ
ル基を意味し、Ｅｔはエチル基を意味し、ｐｈはフェニ
ル基を意味する。
実施例１ 合成 ３，４．５−｝リメトキシアニリン１８．　３ｇのトル
エン溶液（６００　ｍｌ）をクロロギ酸トリクロロメチ
ル４８ｍＩｌのトルエン溶液（１４０　ｍｆ）に加え、
３時間還流した。冷後、溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留
（１１５℃／ｌｍｍＨｇ）することにより３．４．５−
｝リメトキシフェニルイソシアナー｝　１５．　５３ｇ
を得た。
このうち４．１ｇを取り、２−メトキシー１．３−プロ
パンジオール２．１ｇ，ピリジン２１ｍｅとともに窒素
雰囲気中、室温で４４時間撹拌した。
溶媒を留去し、クロロホルムに溶かし、希塩酸で洗い、
水洗し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を除いて得た
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒
：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１１）で精製することに
より、目的物２．　５５ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍｆｌｚ，　ＣＤＣＩ，ｌ）
δ：２．３４（ｍ，ＩＨ），　３．３６　〜３．９４（
ｎ＋，３Ｈ），　３．５０（ｓ，３｝１）．　３．８０
（ｓ．３ｔｌ），　３．８４（ｓ．６ｔｌ），　４．３
２（ｍ，２ｔｌ），６．６６（ｓ，２｝１），　６．８
０（ｍ．ＬＨ）合成 （１）で得られた２−０−メチル−１−０−（３４．５
−｝！Ｊメトキシ）フェニルカルボモイルグリセリン１
．７０ｇ　，　　ビリジン０．９５ｇ　，塩化メチレン
６０蛯の混合物に水冷下クロロギ酸フェニル１．　１０
ｇを滴下し３０分間撹拌した。反応液を１％炭酸水素ナ
｝　ＩＪウム水溶液で２回洗い、水洗したのち硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して得た油状物を２−（アミノメチル）ビリ
ジン２．　３８ｇのクロロホルム溶液（８０ｍｌ）に溶
解させ、８０℃で４８時間撹拌した。
冷後、溶媒を留去し残渣をシリカゲル力ラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−１：
１）で精製することにより目的物１．　４１ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）δ；
３．４９（ｓ，３Ｈ）．　３．５２　〜３．９２（ｍ，
ＩＨ），　３．８０（ｓ，３Ｈ），　３．８５（ｓ，６
Ｈ）．　４．２６（ｍ，４Ｈ），　４．５０（ｃｌ，Ｊ
＝５Ｈｚ．２Ｈ）．　５．７６〜６．０４（ｍ，ＩＨ）
，　６．６７（ｓ，２１｛），６．８８（ｂｒ，Ｓ，Ｉ
Ｈ）．　７．０６〜７．３２（ｍ，２Ｈ）．　７、４６
〜７．７８（ｍ，ＩＨ）．　８．５２（ｍ，ＩＨ）ビリ
ジル）メチル力ルバモイル−１−０−（３，４．５−ト
リメトキシ）フェニルカルバモイルグリセリン１．３０
ｇ、無水酢酸３０ｇ１ピリジン３０ｒｎ１の混合物を窒
素雰囲気中１１０℃で１５時間撹拌した。冷後、溶媒を
留去し残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１）で精製す
ることにより、目的物０．　８７ｇを得た。
・　’Ｈ　　　ＮＭＲ　　（９０ＭＨＺ，　　ＣＤＣＩ
．３）　　δ　：２．　６２（ｓ．　３１１），　’３
。３４（ｓ．３Ｈ），　３．５０（ｍ，ＩＨ），３．８
１（ｓ．３Ｈ）．　３．８２（ｓ，６Ｈ），　３．９０
　〜４．１８（ｍ，２Ｈ），４．　２９　（ｄ，　Ｊ＝
５Ｈｚ，　２Ｈ）　，　５．　１２　（ｓ，　２Ｈ）　
，　６．　７５　（ｓ．２Ｈ），　６．９８〜７．３０
（ｍ，２ｔｌ），　７．４８〜７．９０（ｍ，２ｔＤ，
８．　３６　〜８．　５４　（ｍ，　ＩＨ）合成 （２）で得られた２−Ｑ−メチル−３−０−（２−（ｍ
，２Ｈ）．　５．４５（ｓ．２Ｈ）．　　６．８９（ｓ
，２Ｈ）．　　７．７２　〜７．９７（ｍ．３Ｈ）．　
　８．２８　〜８．５２（ｍ，ｉｆ｛）．　　９．０７
　〜９．　２２　＜ｍ．　ＩＨ） 実施例２ （３）で得られた３−０−（Ｎ−アセチルーＮ一（２−
ビリジル）メチル｝カルバモイル−２一〇−メチル−１
−ロー（３．４．５−｝リメトキシ）フェニルカルバモ
イルグリセリン０．　８７ｇをヨウ化エチル２５蔵に溶
かし、７０℃で１８時間窒素雰囲気中、遮光して還流し
た。冷後、沈澱した固型物を取り、アセトンーエーテル
で２回再沈澱することにより目的物０．　２ｇを得た。
・’ｌ｛　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）δ
；１．６５（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ．３Ｈ）．　２．６７（ｓ
．３｝１）．　３．４３（ｓ．３８）．　３．６２〜３
．８８（ｍ，ＩＨ），　３．８０（ｓ．３Ｈ）．　３．
８４（ｓ．６Ｈ）．　４．１０（ｍ．２Ｈ）．　４．５
２（ｍ，２Ｈ）．　４．９６ンの合成 −　’Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　　ＣＤ（：１，）
δ：１．３０〜２．ＯＯ（ｍ，６Ｈ）．　　３．２６〜
３、９４（ｍ．５Ｈ），３．４０（ｓ．３Ｈ）．　４．
０４〜４．２６（ｍ，２Ｎ）．　　４．４０（ｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ．２Ｈ）．　４．５５（ｍ．ＩＨ）．　５．９６
（ｍ．ＩＨ）．　６．９６〜７．４０（ｍ，２Ｈ），　
７．５５（ｍ，ＩＨ），　８．４２（ｍ，ＩＨ）１−０
−　（テトラヒドロー２Ｈ−ビランー２一イル）−２−
０−メチルグリセリンをピリジン２５０−に溶かし、水
冷下でクロロギ酸フェニルを撹拌しながら滴下した。２
時間後、希塩酸に加え、エーテル３００−で抽出し、有
機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。
残渣に２−アミノメチルビリジン６０ｍｊ’を加え室温
で１時間反応させた後、シリカゲル力ラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１
）で精製し目的物４６ｇを得た。
（１）で得られた２−０−メチル−３−０−（Ｎ−（２
−ピリジル）メチル）カルバモイル−１一〇−（テトラ
ヒドロー２Ｈ−ピランー２−イル）グリセリンをメタノ
ール２００　ｍｅに溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸３
０ｇを加え５時間反応させた。反応液を１００　ｒｎｌ
まで濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２００　Ｔ
ｎｌに加え、酢酸エチルで３回抽出した。有機層を集め
、減圧濃縮、水層も減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加
えて濾過、減圧濃縮した。残渣を合わせてシリカゲル力
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール：酢酸
エチル＝５：９５）で精製して目的物２７ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍ｝！ｚ，　ＣＤＣ１３）δ
；３．１３（ｂｒ，ＬＨ）　３．２８　〜３．８０（ｍ
，３Ｈ），　３．４２（ｓ，３Ｈ），４．　２０　（ｄ
．　Ｊ＝５．　４Ｈｚ．　２Ｈ）　，　４．　４３　（
ｄ．　Ｊ＝５．６Ｈｚ，　２Ｈ），６．１６（ｂｒ，１
｝１），　７．００〜７．３０（ｍ．２Ｈ）　７．６０
（ｍ，ＩＨ）　，　８．　４４　（ｍ，　Ｉ　Ｈ）２−
アミノフルオレン５．７ｇ　（３１．２ｍｍｏｌ）をト
ルエン１００ｍｅニ！ｖ３濁し、ＴＣＦ　　＜’１口０
ギ酸トリクロ口メチルエステル＞　１２．５ｇ　（６２
．９ｍｒｎｏｌ）を加え、３０分加熱還流した。
トルエンと過剰のＴＣＰを留去し、反応物に（２）で得
られたアルコール体５　ｇ　　（２０．　８ｍｍｏｌ）
のテトラヒド口フラン溶液を加えた後、ビリジン２０ｍ
ｌを加えた。室温で１時間撹拌後、油洛中、５０℃で３
０分、加熱した。冷後、反応液に氷水２　０　０　ｍｌ
、塩化メチレン１００ｍｌを加え、不溶物を吸引濾過し
取り除いた。有機層を水洗、濃縮し、シリカゲル力ラム
クロマトグラフィ−（溶出溶媒；塩化メチレン：アセト
ン＝１：１）で精製し目的物５．３ｇを得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ３）δ；３
．４６（ｓ，３｝１），　３．６４（ｍ，ＬＨ），　３
．８３（ｓ，２Ｈ），　４．００〜４．３６（ｍ，４Ｈ
）．　４．４６（ｄ．Ｊ＝５．５Ｈｚ．２１１），　６
．９８（ｂｒ，ＬＨ），　７．００〜７．８０（ｍ，ｌ
ｌｌｆ）．　８．４６（ｍ，ＬＨ）一ビリジル）メチル
｝カルバモイル−２−〇一渣をシリカゲル力ラムクロマ
トグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘヰサン−
２：１）で精製し目的物７ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０！Ｊｔ｛ｚ，　ＣＤＣｌ３）
δ；１、７０（ｂｒ，ＩＨ），　３．０７（Ｓ．３Ｈ）
，　３．１０（ｍ．ＬＨ），３．８５（ｓ，３ｔｌ），
　３、８８　（ＩＯｓ．　２Ｈ）　，　３．　９６　（
ｍ，　２ｔ｛）　，４．１３（ｍ，２Ｈ），　５、２９
（ｓ．２Ｈ），　６．８５　〜７．８５（ｍ，１４Ｈ）
．　８．５８（ｍ，ＬＨ＞ （３）で得られた１−０−（２−フルオレンアミノ）カ
ルボニル−２−ローメチル−３一〇−｛Ｎ−（２−ピリ
ジル）メチル｝カルバモイルグリセリンをピリジン５１
ｍｅに加え室温で撹拌しながら２−メトキシ安息香酸ク
ロリドを滴下し、１．５時間反応させた。反応液を飽和
炭酸水素ナ｝　ＩＪウム水溶液５Ｑｍｌに加え、塩化メ
チレンで３回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮し、残（４）で得られた１−
０−（２−フルオレンアミノ）−３−０　−　｛Ｎ−　
（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ−（２−ビリジル）メ
チル｝カルパモイルー２−０−メチルグリセリンをヨウ
化エチル７０ｍｊ２に溶かし、２４時間加熱還流した。
反応液を室温に戻し、濃縮乾固して残渣をイオン交換樹
脂〔アンバーライトＩＲＡ−４１０．　ＣＩ″″型〕　
（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）にて処理し粗ク
ロリド体８．５ｇを得た。この粗クロリド体をシリカゲ
ル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：
塩化メチレン＝５：９５）で精製し目的物７．１ｇを得
た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ，）　　
δ；１．５８（ｔ，Ｊ＝７｝１ｚ，３Ｈ），　３．１５
（ｓ．３Ｈ），　３．３０（ｂｓ．２Ｈ）．　３．３１
（ｍ．ＩＨ），　３．８９（ｓ．３Ｈ），　３．９１（
ｃｌｌ，Ｊ＝１２Ｈｚ，５Ｈｚ，ＩＨ），　４．０７（
ｍ．ＬＨ），　４．２０（ｍ，ＩＨ），４．７７（ｑ．
Ｊ＝７Ｈｚ，２｝１），　５．５５（ｈｓ．２｝１）．
　７．０７（ｔ．Ｊ＝７Ｈｚ．１｝１）．　７．１３（
ｄ，Ｊ＝８｝１ｚ，ＩＨ）．　７．２６（ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ．ＩＨ）．　７．３５（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，Ｉｆｆ）．
　７．４２　〜７．５５（ｍ．４｝１），　？、７１（
ｂｓ．ＩＨ）．　７．７９（ｍ，２Ｈ），　８．０２（
ｄ，Ｊ＝８１｛ｚ，ＩＨ），　　８．１０（ｔ，Ｊ＝６
Ｈｚ，ＩＨ）．　　８．６７（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，ＩＨ）
，　　９．１６（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＩＨ），　　９．８
０（ｂｓ，ＩＨ）・ＭＳ　　ＰＡＢ　　：６１０（Ｍａ 実施例３ ムクロリド ２−メトキシー１．３−プロパンジオール２０ｇをピリ
ジン２００ｍ７！に溶解し、水冷、撹拌下、クロロ炭酸
フェニル５２．　６ｍｊ！を３０分で滴下した。
２時間後、反応液を４Ｎ一塩酸一水１ｌに加えエーテル
抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナ｝＋７ウム水溶液
で洗い、濃縮後、シリカゲル力ラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて
精製し目的物５２ｇを得た。
・　’Ｈ　　　ＮＭＲ　　（９０Ｍ｝＋２，　　ＣＤＣ
１３）　　δ　：３．５２（ｓ，３Ｈ）．　３．７６（
ｍ，１｝１）．　４．３４（ｍ，２Ｈ），　４．４０（
ｍ．２Ｈ），　７．００　〜７．５０（ｍ．１０Ｈ）（
１）で得られた１．３−０−ジフェニルオキシ力ルボニ
ル−２−ローメチルグリセリン５０ｇをクロロホルム５
０−に溶解し、室温撹拌下、２−（アミノメチル）ピリ
ジン１４．９ｍｌを滴下した。
反応液を還流下７時間加温した後、溶媒を濃縮し、濃縮
物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒；
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１　：　１）にて精製し、
目的物２９ｇを得た。
・１Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ，）δ：３
．５３（ｓ．３Ｈ）．　３．７６（ｍ．ＩＨ），　４．
２０　〜４．４２（ｍ．４Ｈ）．４．５１（ｄ．Ｊ＝５
Ｈｚ，２Ｈ）．　５．９２（ｂｒ．１｝１）．　７．１
６　〜７．５６（ｍ，７Ｈ）．　７．７０（ｍ．ＬＨ）
．　８．５６（ｍ．ｌｌ｛）カルバモイルグリセリンの
合成 Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−酢酸エチ
ル＝２　：　１）にて精製し目的物２１ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）δ；
３．２４（ｓ，３Ｈ）．　３ＪＯ（ｍ．ＩＨ）．　３．
８２（ｓ，３Ｈ），３．７０　〜４．１０（ｍ，４Ｈ）
．　５．２０（ｓ．２Ｈ），　６．７０　〜？．５０（
＋ｎ．１１｝１）．　７．６０（ｍ，ＩＨ）．　８．４
８（ｍ，ＬＨ）（２）で得られた２−０−メチル−１一
〇−フエノキシ力ルボニル−３−０−　｛Ｎ−（２−ビ
リジル）メチル｝カルバモイルグリセリン１６ｇをビリ
ジン１６０　ｍｅに溶解し、室温にて２−メトキシ安息
香酸クロリドを滴下した。１時間撹拌後、冷飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンにて抽出した
。有機層を水洗後濃喀し、濃縮物をシリカゲル力ラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン：（３）で
得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイル
ーＮ−（２−ピリジル）メチル）カルバモイル−２−０
−メチル−１−０−フェノキシ力ルボニルグリセリン１
ｇ１テトラヒド口フルフリルアミン０．　３５　ｇ　，
クロロホルム３０ｍｅの混合物を１２時間還流した。冷
後、溶媒を留去し残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラ
フィ−（溶出溶媒：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１
）で精製することにより目的物０．　４０ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍ｝ｔｚ，　ＣＤＣＩ３）δ
；１．　７０〜２．　０８　（ｍ．　４Ｈ），　２．　
８４〜４．　２２（ｍ，　Ｌｏｆｔ）．３．１７（Ｓ．
３｝１），　３．８２（Ｓ，３Ｎ）．　４．８４　〜５
．２８（ｂｒ，１Ｎ），　５．１８（ｓ．２｝１）．　
６．７６〜７．７２（ｍ，７Ｈ），　８．４８（ｍ．Ｉ
Ｈ） （４）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル
−２−０−メチル−１−０−（２−テトラヒド口フラニ
ル）メチル力ルバモイルグリセリン０．４ｇをヨウ化エ
チル４０ｍｅに溶がし、窒素雰囲気中遮光して２４時間
還流した。冷後、溶媒を留去し、残渣をイオン交換樹脂
〔アンバーライトＩＲＡ−４１０，　ＣＩ一型〕　（溶
出溶媒；メタノール：水＝７：３）で処理した後、シリ
カゲル力ラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝１：９）で精製し、目的物０．３ｇ
を得た。
−　’Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　　ＣＤＣＩ，）δ
；１．　２８〜２．　１２（ｍ．　７Ｈ），　２．　６
４　〜４．　２８（ｍ，　ＩＯＨ）．３．１８（ｓ．３
Ｂ），　３．８８（ｓ．３Ｈ），　４．９２〜５．２８
（ｍ，２Ｈ）．　５．３０　〜５．７０（ｒｎ．ＩＨ）
，　５．４９（ｓ，２Ｈ），　６．７６〜？．０８（ｍ
，２｝１），　７．２５〜７．５５（ｍ，２Ｈ）．　７
．８０　〜８．２０（ｍ，　２日），　８．３０　〜８
．５６（ｍ，１｝１）．　９．８８（ｍ，ＬＨ） 実施例４ （１）　　２−０−メチル−１−０−（３−オクタデシ
ンの合成 ムクロリド 実施例３（２）で得られた２−０−メチル−１一〇−フ
ェノキシ力ルボニル−３−０−　｛Ｎ−（２−ピリジル
）メチル｝カルバモイルグリセリン２．８６ｇ　，　３
　−　（オクタデシルオキシ》プロビルアミン２．６ｇ
をクロロホルムに溶かして均一とした後、溶媒を留去し
残渣を１００℃で一夜撹拌した。冷後、シリカゲルクロ
マトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘヰサン
＝１：１）で精製することにより目的物１ｇを得た。
−　’Ｈ−ＮＭＲ　（９０？ＪＨｚ，　　ＣＤＣＩ，）
δ；０．８７（ｍ，３１｛）．　　１．００〜１．８６
（ｍ，３４｝１），　　３，Ｏｎ　〜３．７４（ｍ，６
Ｈ），　　３．３９（ｓ．３Ｈ）．　　３．９０〜４．
２９（ｍ，５Ｈ），　４．４５，＜ｄ，Ｊ＝５ｔｌｚ．
２ｔｌ），　４．９８〜５．２６（ｂｒ，ＩＨ）．５．
７０〜５．９６（ｂｒ．ＩＨ），　　６．９８　〜７．
２８（ｍ，２Ｈ）．　　７．４〜７．７０（ｍ，ＬＨ）
．　　８．３４　〜８．５２（ｍ，ＩＨ）合成 −オクタデシルオキシ）プロビル力ルバモイル−３−０
−（２−ビリジル）メチル力ルバモイルグリセリン１．
０ｇをテトラヒドロフラン２０ｄに溶かし、室温で水素
化カリウム０．２ｇを加え、３０分間撹拌した。水冷下
、２−メトキシ安息香酸クロリド０．　２９ｇを加え、
１時間撹拌した。反応液に酢酸０．２ｇを加え室温で３
０分間撹拌したのち、酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で２回洗ったあと、２回水洗し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ一ヘキサン＝１：１）
で精製することにより、目的物０．　２５ｇを得た。
−　’Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ３）δ；
０．８８（ｍ．３Ｈ）．　１．０５〜１．９０（ｍ，３
４Ｈ），　３．０６　〜３．５４（ｍ，７Ｈ）．　３．
１８（ｓ，３Ｈ）．　３．７０　〜３．９０（ｍ，２Ｈ
）．　３．８０ｓ，３Ｈ），　３．９２〜４．２２（ｍ
，２ｔｌ），５．００　〜５．２６（ｂｒ，ＩＨ）．’
　５．１９（ｓ，２Ｈ）．　６．７４　〜７．７３（ｍ
，７Ｈ），　８．４８（ｍ，ＩＨ）（１）で得られた２
−０−メチル−１−０−（３（３）１−エチル−２−Ｃ
Ｎ−（２−メトキシ）ベ（２）で得られた３−０−　（
Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ一（２−ビリジル
）メチル〕カルバモイルー２−０−メチル−１−ロー（
３一オクタデシルオキシ）プロビル力ルバモイルグリセ
リン０．　２５ｇをヨウ化エチル３０ｍｌに溶かし、窒
素８囲気中遮光して４８時間還流した。
冷後、溶媒を留去し残渣をイオン交換樹脂〔アンバーラ
イトＩＲＡ−４１０，　ＣＩ一型〕　（溶出溶媒；メタ
ノール：水＝７：３）で処理したのち、シリカゲル力ラ
ムクロマトグラフィ−（溶出溶媒；メタノール：塩化メ
チレン＝１＝９）で精製し凍結乾燥することにより、目
的物　０．　２０ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍｔｉｚ，　ＣＤＣ１３）δ
；０．８９（ｍ，３Ｈ）．　１．０９　〜１．９７（ｍ
，３４Ｈ）．　１．８４（ｍ，３Ｈ）．　３．１２〜３
．６２（ｍ，７Ｈ）．　３．２７（ｓ．３ｔ｛），　３
．７３〜３。８９（ｍ，２Ｈ），　３．９７（ｓ．３Ｈ
）．　４。０３　〜４．　４１　（ｍ２Ｈ）．　５．３
０ｍ．２Ｈ），　５．５２（＋ｍ．ＩＨ），　５．６２
（ｓ．２Ｈ）．６．９０　〜７．２５（ｍ．２Ｈ）．　
７．４５　〜７．６９（ｍ．２１１），　８．０３〜８
．３０（ｍ．２｝１）．　８．４１　〜８．６２（ｍ，
ＩＨ）．　１０．２９（ｍ．ＩＨ） 実施例５ 実施例３の（２）で得られた２−０−メチル−１一〇−
７エノキシカルボニル−３−０−　（Ｎ−（２−ピリジ
ル）メチル｝カルバモイルグリセリン１．５ｇをクロロ
ホルム１５ｍｆに溶かし、１，１〇一ジアミノデカン１
．Ｏｇを加え６０℃で３０分間撹拌した。反応液を室温
に戻し、トリエチルアミン２ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチル
力ルバミルクロリド１２ｍｅを加え３０分間反応させた
。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、塩化
メチレン２０ｍｅで３回抽出した。有機層を集め、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮し、残渣をシリカゲ
ル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノール：
酢酸エチル＝５：９５）で精製し２て目的物２．０ｇを
得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ］３）δ；
１．　００　〜１．　７２　（ｍ、１６Ｈ），　２．９
２（ｓ，６Ｈ）．　３．００−＝３．３３（ｍ，４Ｈ）
，　　　３．４７（ｓ，３Ｈ），　　　３．６４（ｍ，
ＬＨ），　　　４．０８−４．２９（ｍ．４Ｈ）．　４
．２９　〜４．５０（ｍ，ＩＨ）．　４．３２（ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ，２ｔｌ）．　４．９２（ｒｎ，ＩＨ），　６
．９８（ｌＴＩ，ｉｌｌ），　７．１０〜７．３９（ｍ
．２ｔ｛），　７．７０（ｔ，Ｊ＝８ｆｌｚ，ｌｔｌ）
．　８．５７（ｍ，ｉｔ｛） （２）　１−０−　（Ｎ．Ｎ−ジメチル力ルバミルアミ
ノ》の合成 ウム水溶液４０ｒｎｌに加え塩化メチレン４０ｍｌで３
回抽出した。有機層を集め、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；メタノール：酢酸エチル＝５：９
５）で精製し目的物４．２ｇを得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩｓ）δ；１
．０４〜１．６０（ｍ．１６Ｈ），　２．８０（ｓ，６
Ｂ）．　２．９０　〜３．０５（ｍ，５Ｈ）．　３．１
２（ｓ，３Ｎ）．　３．６２　〜３．８０（ｍ．２Ｈ）
．３．７５（ｓ，３Ｈ），　３．８７〜４．０３（ｍ，
２Ｎ）．　４．２０　〜４．４５（ｂｒ．　ＩＨ）．　
４．　６５　〜４．　９０（ｂｒ，　ＩＩ｛）．　５．
　１３（ｓ．　２Ｎ）．６．７０　〜７．７０（ｍ，７
Ｈ）．　８．４３（ｍ．ＩＨ）（１）で得られた１−０
−　（１０−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバミルアミノ）デシ
ルカルバモイルー２一ロ−メチル−３−０−　（Ｎ−（
２−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン４．２
ｇをビリジン４０一に溶かし、室温で撹拌しながら２一
メトキシ安息香酸クロリド１．５−を加え３０分間反応
させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリ（２）で得られた
ｌ−０−（Ｎ，Ｎ−ジメチル力ルバミルアミノ〉デシル
カルバモイルー３−〇−（Ｎ　−　（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル）カルバモイル
ー２−ローメチルグリセリン１．２ｇをヨウ化エチル２
０−に溶かし、２日間加熱還流した。反応液を室温にし
て減圧濃縮し、残渣をイオン交換樹脂〔アンバーライト
ＩＲＡ−４１０，　ＣＩ一型〕　（溶出溶媒；メタノー
ル；水＝７：３）にて処理し、粗クロリド体１．５ｇを
得た。この粗クロリド体をシリカゲル力ラムクロマトグ
ラフイー（溶出溶媒；メタノール：塩化メチレン＝５：
９５）で精製し、目的物１．１ｇを得た。
・’ＩＩ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）　
　δ１．０４〜１．６０（ｍ，１６｝１），　１．７７
（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ）．２．８８（ｓ，６Ｈ）．　
２．９４　〜３．３６（ｍ，３｝１）．　３．２０（９
．３Ｈ）．　３．５２〜３．８４（ｍ．４Ｈ），　３．
９０（ｓ．３Ｈ）．３．８８　〜４．２６（ｍ，２Ｈ）
．　４．４６（ｍ，ＩＨ）．　５．１４（ｑ．Ｊ−７Ｈ
ｚ，２８）．　５．２０（ｍ．ＬＨ），　５．５２（ｂ
ｒ，２Ｈ）．　７．００（ｍ．２｝１），　７．４４（
ｍ．２Ｈ）．　８．０６（ｍ，２Ｈ），　８．４７（ｍ
，１Ｍ）．　１０．　１（ｍ．　ＩＨ） 実施例６ え均一としたのち、溶媒を留去し、混合物を８０℃で２
０分間撹拌した。冷後、クロロホルムを加え、５回水洗
したのち、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去す
ることにより目的物２０．　３ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１ａ）　　
δ；０．８８（ｍ，３Ｈ），　１．０８　〜１．７５（
ｍ，３２）Ｉ），　２．６８　〜３．０２（ｍ，４Ｈ）
，　３．３２　〜３．７７（ｍ．５Ｈ）．　４．０５（
ｍ，２Ｈ） １−オクタデカノール１０．８ｇ，ピリジン６ｇ、塩化
メチレン３００顎の混合物に水冷下、クロロギ酸フェニ
ル７ｇを滴下し、１０分間撹拌した。反応液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液ご洗い、水洗したのち硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残渣にピベラジ
ン１３ｇ１テトラヒド口フラン３００ｍｌを加実施例３
の（２）で得られた２−０−メチル−１一〇−フエノキ
シ力ルボニルー３−０−　（Ｎ−（２−ビリジル）メチ
ル）カルバモイルグリセリン９．５ｇ，（１）で得られ
た１−（オクタデシルオキシ力ルボニル）ピベラジン２
０ｇを塩化メチレンに溶かして均一としたのち、溶媒を
留去し、残渣を１００℃で３時間撹拌した。冷後、反応
液を飽和炭酸水素ナ｝　ＩＪウム水溶液で洗い、水洗し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、シ
リカゲル力ラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒；酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン＝２　＋　１）で精製することによ
り、目的物４．６１ｇを得た。
−　’｝ｌ−ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ３）　
　δ：０．８７（ｍ，３Ｈ）．　１．０８　〜１．８０
（ｍ．３２Ｈ），　３．１８　〜４．　３６（ｍ，　７
Ｈ），　３．　４０（ｓ，　ＩＩＨ）．　４．　４７（
ｄ，　Ｊ＝５Ｈｚ，２Ｈ），　５．８０（ｂｒ，ＬＨ）
．　６．９６　〜７．３２（ｍ，２Ｈ）．７．４３　〜
７．７２（ｍ，ＬＨ）．　８．５１（ｍ，ＬＨ）キシ力
ルボニル）ビペラジル力ルポニルグリセリンの合成 （２）で得られた２−０−メチル−１−０−（４−オク
クタデシルオキシカルボニル）ビベラジル力ルボニル−
３−０−（２−ビリジル）メチル力ルバモイルグリセリ
ン４．６ｇのピリジン溶液（５０ｍｆ）に２−メトキシ
安息香酸クロリド２．４ｇを加え８０℃で１時間撹拌し
た。冷後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶かし
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗して無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去してシリカゲ
ル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：
ｎ−ヘヰサン＝２　：　１）で精製することにより、目
的物４．６ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，Ｃ［）Ｃｌｓ）　　
δ；０．８６（ｍ，３８）．　１．００　〜１．４４（
ｍ．３２Ｈ），　２．９４　〜３．２４（＋ｎ，７ｔｌ
）．　３．１８（ｓ，３｝１），　３．３７（ｓ．８｝
１）．３．８０（ｓ．３｝１）．　５．１６（ｓ．２｝
１）．　６．７０　〜７．６８（ｍ，７｝１）．８．　
４６　｛ｍ，　１｝ｆ） （３）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ビリジル）メチル）カルバモイル
−２−Ｄ−メチル−１−０−（４−オクタデシルオキシ
力ルボニル）ピペラジル力ルボニルグリセリン１ｇをヨ
ウ化エチル３０ｍＮに溶かし、窒素雰囲気中遮光して４
８時間還流した。冷後、溶媒を留去し残渣をイオン交換
樹脂〔アンバーライトＩＲＡ−４１０，　Ｃド型〕（溶
出溶媒；メタノール：水＝７：３）で処理したのちシリ
カゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；メタノー
ル：塩化メチレン＝１：９）で精製し、目的物０．８７
ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）　　
δ；０．８６（ｍ，３Ｈ），　１．０２　〜１．６３（
ｍ．３２Ｈ）．　１．７６（ｔ，ｄ＝８Ｈｚ．３Ｈ），
　３．００〜４．２２（ｍ，７Ｈ）．　３．２０（ｓ，
３Ｈ），　３．３９（ｓ，８｝１）．　３．８７（ｓ，
３Ｈ）．　５．１８（ｍ．２Ｈ），５．５０（ｓ，２Ｈ
）．　６．７３〜７．１０（ｍ．２Ｈ），　７．０８　
〜７．５２（ｍ．２Ｈ）．　７．８６　〜８．１４（ｍ
，２Ｈ），　８．２４　〜８．４８（ｍ，ＩＨ）．　１
０．０４（ｍ．ＩＨ）実施例７ １−エチル−２−　［Ｎ−　（３−　（４−エトキシ実
施例３（３）で得られた３−０−　｛Ｎ−（２−メトキ
シ）ペンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイルー２−ローメチル−１−〇一フェノキシ力ルボニ
ルグリセリン１．０ｇを３０一のクロロホルムに溶解し
、４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸エチルエ
ステル塩酸塩０．５ｇ、トリエチルアミン　０．　４ｇ
を加え、２時間還流した。反応液を飽和食塩水で洗浄し
、クロロホルムを減圧留去し、残渣をシリカゲル力ラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキ
サン＝７：３）により精製し、目的物を１．１ｇ得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　　（９０ＭＨｚ，ＣＤＣＩ３）　　δ
；０．　６４〜２．　２４（ｍ．　１０Ｎ），　　１．
　２５（ｔ，　Ｊ＝８Ｈｚ，　３Ｈ）．３．　０１（ｔ
，　Ｊ＝６Ｈｚ，　２ｔ｛）．　　３．　０４〜３．　
２８（ｍ，　ＩＨ），３、２２（ｓ，　３Ｈ），　　３
．　７２　〜４．５０（ｍ，２８）．　　３．８６　（
Ｓ，３Ｈ），　　３．９６　〜４．１２（ｍ．２ｔ｛）
，　　４．１１（ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），４．９１（
ｍ，ＩＨ）．　　５．２５（ｓ，２Ｎ），　　６．８８
〜７．８０（ｍ，７ｔｌ）．　　８．３８（ｄ，Ｊ＝７
｝１ｚ，ＩＨ）ル〕アミノメチルビリジニウムヨージド
の合成 （１）で得られた１−０−　（４−エトキシカルボニル
シクロヘキシル）メチル力ルバモイル−３−０−｛Ｎ−
（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ−（２−ビリジル）メ
チル｝カルバモイル−２−０−メチルグリセリン１，１
ｇをヨウ化エチル２０ｍｌ’に溶解し２４時間還流した
。不溶物を濾別し、アセトンに溶解させた。エーテルを
加え再沈澱させ、目的物を１．０ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣｌ３）　　
δ：０．　６４〜２．　３０（ｍ，　ＩＯＨ），　１．
　２４（ｔ，　Ｊ＝８Ｈｚ，　３Ｈ）．１．７７（ｔ．
Ｊ＝８Ｈｚ，３Ｈ）．　　　２．９７（ｔ，Ｊ＝６ｔｔ
ｚ，２Ｈ），　　　３．０８〜３．１６＜ｍ，Ｉｔ｛）
．　　　３．２０＜ｓ，３Ｈ），　　　３．６２　〜４
．２４（ｍ，４Ｈ）．　３．９０（ｓ．３Ｈ）．　４．
０８（ｑ．Ｊ＝８Ｈｚ，２１０，　４．８０〜５．２０
（ｍ．３Ｈ）．　５．５４（ｓ，２８）．　６。７８　
〜７．　１２　（ｍ，２｝１）．　７．０８〜７．３６
（ｍ，２１１），　７．９０〜８。２０　（ｍ，２Ｈ）
，　８．５６（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，ＩＨ），　９．２４（
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＬＨ）実施例８ キシ） プロビルオキシ｝カルボニル〕アミノメセリンの合成 実施例３（３）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メト
キシ）ペンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル）カル
バモイル−２−０−メチル−１−ローフェノキシ力ルボ
ニルグリセリン１．０ｇ，　４−（２−アミノエチル）
ベンゼンスルホンアミド０．５ｇを混合し８０℃で１時
間撹拌した。反応混合物を室温にしシリカゲル力ラムク
ロマトグラフィ−（溶出溶媒；クロロホルム：メタノー
ル＝９５＋５）により精製し目的物を０．８ｇ得た。
・’Ｈ　　ｈＭＲ　（９０Ｍｆｌｚ，　ＣＤＣ１３）　
　δ２．８４（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．２Ｈ）．　３．ｉ８（
ｓ．３Ｈ）．　３．１０　〜３．５４（ｍ，３Ｎ）．　
　３、７４〜３．　９０（ｍ．　２Ｈ）．　　３．　８
２（ｓ，３Ｈ），　　３．９２．〜４．１０（ｍ．２Ｈ
），　　５．０８〜５．３２（ｍ，３Ｈ）．　　５．５
７（ｂｒ．ｓ，２｝１）．　　６．８２〜７．９０（ｍ
．１１Ｈ），８．　５４（ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ．　ＩＨ）
（４−スルファモイル》フェニルエチル｝カルバモイル
グリセリン０．　８ｇをヨウ化エチル１０ｍｅに溶解し
２４時間還流した。不溶物を濾別し、アセトンに溶解し
た。エーテルを加え再沈殿させ、目的物を０．７ｇ得た
。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＤＭＳＯ　　ｄｓ
）δ；１．５８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，３Ｈ）．　２．６０
　〜２．８８（ｍ．２｝１）．３．０４〜３．４０（ｍ
．３Ｈ）．　３．３３（ｓ，３Ｈ）．　　３．５６　〜
３．７６（ｍ，２Ｈ），　３．８８（ｓ，３８）．　３
．９６　〜４．１６（ｍ，２Ｈ）．　４．７９（Ｑ．Ｊ
＝８Ｈｚ，２ｆｔ）．　５．５６（ｓ．２Ｈ）．　６．
９６〜７．８４（ｍ，１１｝１）．　７．９６　〜７．
２４（ｍ，２Ｈ）．　８．７０（ｔＪ＝８Ｈｚ，ＩＨ）
．　９、１８　（ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ．　１｝１）実施例
９ （１）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル
−２−０−メチル−１−０−（２−リンの合成 実施例３（３）で得られた３−０−（Ｎ−（２−メトキ
シ）ペンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−ローメチル−１−〇一フェノキシ力ルボニ
ルグリセリン４．７ｇをクロロホルム５０ｍ２に溶解し
、Ｎ−（４−アミノブチリル）モルホリン２．４ｇを加
えた後、３時間、撹拌還流する。溶媒を濃縮後、濃縮物
をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩
化メチレン：メタノール＝９５：５）にて精製し目的物
を２．９ｇ得た。
・’｝ｌ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）　
　δ；１．８０（ｍ，２Ｈ）．　２．３２（ｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ，２Ｈ）．　３．１８（ｓ，３Ｈ）．　３．００〜
３．３０（＋ｎ．２Ｈ）．　３．３０〜３．７０（ｍ．
９ｔＤ．３．７（１〜４．１０（ｍ．４Ｈ）．　３．８
０（ｓ，３Ｈ），　５．１２（ｍ，ＩＨ）．　５．２０
（ｍ．２Ｈ）．　６．７５　〜７．０４（ｍ．２Ｈ），
７．０４　〜７．６８（ｍ，４Ｈ）．　８．４６（ｍ，
１｝１）ル〕アミノメチルピリジニウムクロリドの合成 ＬＯＭｅ （１）で得られた２−０−メチル−１−［］−（３−（
モルホリノ力ルボニル）プロビル）カルバモイル−３−
０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ−（２−
ビリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン０．９ｇを
ヨウ化エチル１０ｍｆに溶解し、窒素気流下３０時間撹
拌還流した。冷却後反応液を濃縮し、残渣をイオン交換
樹脂〔アンバーライトＩＲＡ−４１０，　ＣＩ一型〕　
（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）にて処理し：粗
クロリド０．９ｇを得た。この粗クロリドをシリカゲル
力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化メチレン：
メタノール＝９５：５）にて精製し、目的物０．９ｇを
得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）　　
δ；１．７６（Ｊ．Ｊ＝７ＨＺ，３Ｈ）．　１．８２（
ｍ，２｝１）．　３．３８（ｔ，Ｊ＝７｝１ｚ，２Ｈ）
，　３．２０（ｓ．３Ｈ），　３、００　〜３．　３０
　（ｍ，　２Ｈ）　，３．３０〜３．７０（ｍ，ＩＩＨ
），　３．８０〜４．３０（ｍ．４ｔ｛），５．２０（
ｑ．Ｊ＝７Ｈｚ，２｝１），　５．５２（ｓ，２Ｈ）．
　５．８０（ｍ，ＩＨ），　６．８０　〜７．１４（ｍ
，２Ｈ），　７．３０　〜７．６０（ｍ，２Ｈ）．　７
．９０　〜８．２０（ｍ，２Ｈ），　８．４３（ｍ．Ｌ
Ｈ），１０．　６３　（ｍ，　ＬＨ＞ 実施例１０ ムヨージド 一〇−Ｃ−Ｎ−（Ｃ｝Ｉ２）　５−０−　（Ｃｌｌ２）
　ｓ−［）−　（ＣＨ２）じＣ１４３Ｈ 合成 ＨＤ−　（Ｃｌ４２）　ｓ−［］−　（ＣＨ２）　．−
ＣＨ３１，５−ペンタンジオール（１０ｇ）のＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（１５０　ｍｌ）溶液に水素化ナ
トリウム（６０％、４．２ｇ）を加えた後、１一プロモ
ベンクン（１２ｍｆ）を加え、室温で３０分撹拌した。
反応液に３％塩酸を加え、エーテルで抽出した。有機層
を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：２
）にて精製し、目的物（６ｇ）を得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（ＣＤＣ］３）　　δ；０．　８８
（ｔ，　Ｊ＝６Ｈｚ，　３Ｈ），　　１．　００〜１．
　７５（ｍ，　１２ｔｌ）．１．　９０　（ｓ，　ＬＨ
）　．　　３．　３４　（ｔ，　Ｊ＝７Ｈｚ，　４Ｈ）
　，　　３．　５８　（ｔ，　Ｊ＝６｝１ｚ．　２Ｈ） （２）　　６．１２−ジオキサヘプタデカンニトリルの
合成 ＣＨ３−　（ＣＨ２）　．−０−　（Ｃｌ｛２）　Ｓ−
［］−　（ＣＨ２）じＣｌｌｌ（１）で得られた５−ペ
ンチルオキシー１−ペンタノール（３ｇ）のＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（５０＋ｎｊ２）溶液に、水素化ナ
トリウム（６０％．　０．７５ｇ）を加えた後、５−プ
ロモベンタンニトリル（２ｄ）を加え、６０℃で２時間
撹拌した。反応液に３％塩酸を加え、エーテルで抽出し
た。有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル力ラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル＝９　＋　１）で精製し、目的物（　ｌ　ｇ）を得た
。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ３）　　δ；０．　８８（
ｔ，　Ｊ＝７．　２Ｈｚ．　３Ｈ），　１．　１０−２
．　１０（ｍ，　１６Ｈ），２．３６　（ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ，２Ｈ），　　　３．３６　（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，
８Ｈ）（３）　　６．１２−ジオキサヘブタデシルアミ
ンの合成ＣＨ３−　（ＣＨ２）　４−０−　（ＣＨ２）
　ｓ−０−　（Ｃ｝１２）　ｓ＝ＮＨ＊（２）で得られ
た６，１２−ジオキサヘプタデカン−ニトリル（１ｇ》
のテトラヒドロフラン（２０ｍｆ）溶液に水素化リチウ
ムアルミニウム（０．　１５ｇ）を加え、室温で１．５
時間撹拌した。反応液に、飽和硫酸ナトリウム水溶液を
加え、セライト濾過した。濾液を乾燥、濃縮し、残渣を
シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロ
ロホルム：メタノール＝９　：　１）で精製し、目的物
（０．　３ｇ＞を得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（ＣＤＣＩｓ）　　δ；０．８８（
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．３Ｈ）．　１．１０　〜１．８０（ｍ
，１８Ｈ），２．６８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２ｔｌ）
，　２．９２（ｂｓ．２Ｈ）．　３．３４（ｔ，　Ｊ＝
６Ｈｚ，　８Ｈ） 実施例３（３）で得られた３−０−（Ｎ−（２−メトキ
シ）ペンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイル−２−ローメチル−１一〇−フェノキシ力ルボニ
ルグリセリン０．　５３ｇのクロロホルム（５−）溶液
に〔３）で得られた６，１２−ジオキサヘブタデシルア
ミン（０．　２８ｇ）を加え、４時間加熱還流した。反
応液を濃縮し、シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（
溶出溶媒；ベンゼン：アセトン＝４　：　１）で精製し
目的物（０．　１５ｇ）を得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣＩ，）　　δ；０．８５（ｔ
，Ｊ＝６Ｈｚ，３Ｈ），　１．００　〜１．８０（ｍ．
１８ｆｔ）．３．１５（ｓ，３Ｈ）．　　３．１４（ｍ
．２Ｈ）．　　３．３２（ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，８Ｈ）．３
．７５（ｓ．３Ｈ）．　　３．６０〜３．８５（ｍ，３
Ｈ）．　　３．９０　〜４．　０５（ｍ，　２Ｈ）．　
　４．　６０〜５．　００（ｂｒ．　１｝１）．　　５
．　１６（Ｓ．２Ｈ），　　６．７０　〜７．７０（ｍ
，７Ｈ）．　　８．３８−８．５４（ｄ．Ｊ＝４Ｈｚ，
　ＩＨ） リジニウムヨージドの合成 Ｄ （４）で得られたｌ−０−（６．１２−ジオキサヘブタ
デシル）カルバモイル−２一〇−メチルー３−０−　｛
Ｎ−（２−メトヰシ）ベンゾイルーＮ一（２−ピリジル
メチル）｝カルバモイルグリセリン（０．　１５ｇ）を
ヨウ化エチル（１０ｙｄ）に溶解し、窒素気流下、遮光
して４８時間加熱還流した。反応液を濃縮し、残渣をア
セトンーエーテルから再結晶し、目的物（０．１ｇ）を
得た。
・’｝Ｉ−ＮＭＲ　（ＣＤＣ１３）　　δ；０．８６（
ｔ，Ｊ＝６ｔ｛ｚ，３Ｈ）．　１．１０〜２：００（ｍ
，１８Ｈ｝．１．　７５　（ｔ，　Ｊ＝７．２Ｈｚ，　
３Ｈ）　，　３．　１８　（ｓ．　３Ｈ）　，　２．　
９５　〜３．５０（ｍ，２｝１）．　３．３５（ｔ，Ｊ
＝５Ｈｚ，８Ｈ），　３．６５　〜３．８０（ｍ，３Ｈ
），　３．８８（ｓ，３｝１）．　４．００〜４．２０
（ｍ，２Ｈ）．　４．８０〜５．２０（ｂｒ，ｉｌｌ）
．　５．０５　（ｑ，Ｊ＝７．２｝１ｚ，２｝１）．　
５．５０（ｓ．２Ｈ），　６．８６（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，
１｝１），？．　０５（ｄ．　Ｊ＝７．　２Ｈｚ，　１
｝１），　７．　３０　〜？．　５２（＋ｎ，　２｝１
）．７．　９０〜８．　２０（ｍ．　２Ｈ）．　８．　
５０（ｔ，　Ｊ＝６Ｈｚ，　ＩＨ），９．　６５　（ｄ
，　Ｊ＝６Ｈｚ．　ＩＨ）・！ＪＳ　：Ｍ　／　Ｚ　　
６８８　（Ｍ＝−１）実施例Ｉ１ イルピペラジノ力ルボニル）オキシブ口ピノレオヨージ
ド クロロホルム２００　ｍｅにより３回抽出し、抽出液を
飽和食塩水で洗浄し溶媒を減圧留去した。
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフイー（溶出溶媒
；クロロホルム：メタノール＝９：１）により精製し目
的物を５．１ｇ％だ。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）　　
δ；０．８４．（ｍ，３Ｈ）．　１．０４　〜１．８０
（ｍ，３０Ｈ）．　２．２８（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．　２ｔ
ｌ＞，　２．　５２〜３．　００（ｍ，　４Ｈ）．　３
．　３６〜３．　８０（ｍ，　４Ｈ）　，　４．　６８
　（ｂｒ，　ｓ，　ＬＨ）無水ピペラジン２０ｇをテト
ラヒド口フラン１０００ｄに溶解し、水冷下撹拌しなが
らステアロイルクロリド３３、６ｇを滴下した。水冷下
１時間撹拌しテｌ・ラヒドロフランを減圧留去した。飽
和炭酸水素ナ｝　ＩＪウム水溶液を加え、実施例３（３
）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾ
イルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル−２
−０−メチル−１−０−フェノキシ力ルボニルグリセリ
ン１．０ｇ，　（１）で得られた４−ステアロイルピベ
ラジン１．４ｇをクロロホルムｌＱｍｅに溶液し、８０
℃で撹拌し、クロロホルムを留去後：更に１時間撹拌し
た。
反応混合物を室温にし、シリカゲル力ラムクロ７トグラ
フィー（溶出溶媒；クロロホルム：メタノ・−ル＝９５
：５）で精製し：目的物を０．６ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ］３）　　
δ；０．９０（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，３Ｈ），　１．１６　
〜１．７６（ｍ，３０Ｈ）．２Ｊ２（ｔ，Ｊ＝８｝１ｚ
，２Ｈ），　３．２４（ｓ．３Ｈ）．　３．２０　〜３
．７６（ｍ，９Ｈ），　３．８６（ｓ．３Ｈ）．　４．
８４　〜５．１６（ｍ．４Ｈ）．５．２７（ｓ，２Ｈ）
，　６．８８　〜７．８０（ｒｎ，７｝ｔ），　８．５
８（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，　ＩＨ） テアロイルビペラジノ力ルボニル）才キシブロピルオキ
シ｝カルボニル〕アミノメチルビ（２）で得られた３−
０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ−（２−
ピリシル）メチル｝カルバモイル−２一〇−メチル−１
−０−（４−ステアロイルビペラジノ）カルボニルグリ
セリン０．６ｇをヨウ化エチル１０ｍＮに溶解し２４時
間還流した。不溶物を濾別し、アセトンに溶解し、エー
テルを加えることにより沈澱させた。上ずみを除くこと
により、目的物を０．４ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）　　
δ；０．８８（ｔ，，ｈ６Ｈｚ．：Ｅ），　１．００〜
１．８０（ｍ，３０ｉｉ），１．７６（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ
，３Ｈ）．　　２．３１（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），　
　３．２２（ｓ．３Ｈ），　３．１０　〜３；６４（ｍ
，９｝１）．　３．９０（ｓ．３１｛），３．７２〜４
．２０（ｍ，４｝１）．　５．０５（Ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ，
２Ｈ），　５．５５（Ｓ．２｝１）．　６．７２〜７．
０８（ｍ．２Ｈ）．　７．２４〜７．５２（ｍ，２Ｈ）
，　７．８８　〜８．１６（ｍ．２Ｈ）．　　８．５５
（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，ＩＩ｛）．　　９．５４（ｄ．Ｊ＝
８Ｈｚ．ＩＨ）実施例１２ （１）　　２−０−メチル−３−０−（２−ピリジル）
メ実施例３（２）で得られた２−０−メチル−１一〇−
フェノキシ力ルボニル−３−０−（Ｎ−（２−ビリジル
）メチル｝カルバモイルグリセリン２０．　０ｇ及び４
−（アミノメチル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩水和
物１９．０ｇをテトラヒドロフランー水（３　：　１）
　　４００ｍ／に溶解し、トリエチルアミン１７．　０
ｇを加え１２時間還流した。テトラヒドロフランを減圧
留去し、水を加え、酢酸エチル２００−により３回抽出
した。抽出液を飽和食塩水により洗浄し、溶煤を減圧留
去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；クロロホルム：メタノール＝９５：５）により
精製し、目的物を　２１０ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，ＣＤＣ］３）　　δ
：３．１８（ｓ．３１｛）．　３．４０　〜３．７２（
ｍ，１｝１）．　４．００　〜４．４８（ｍ．８Ｈ），
　５．４８　〜６．００（ｍ．４１｛），　６．９６　
〜７．６０（ｍ．６｝１），　７．７１（ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ．ＩＨ）．　８．４０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，　１｝１） （１）で得られた２−ロ−メチル−３−０−（２−ビリ
ジル）メチル力ルバモイル−１−ロー（４ースルファモ
イル）ペンジルカルバモイルグリセリン２．０ｇ，及び
臭化シクロヘキシルメチル０．８ｇ，無水炭酸カリウム
０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｄに溶解
し、６０〜７０℃で２時間撹拌した。反応液に水を加え
酢酸エチル５０ｍｊ２により３回抽出し、抽出液を飽和
食塩水により洗浄し溶媒を減圧留去した。残渣をピリジ
ン５０ｒｄに溶解し、室温で２−メトキシ安息香酸クロ
リド０．　８６ｇを滴下し、６０℃で２時間撹拌した。
ビリジンを減圧留去後、残渣を酢酸エチルに溶解し、有
機層を飽和食塩水により洗浄後、溶媒を減圧留去し、残
渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
酢酸エチル：ヘキサン＝３：２）により精製し、目的物
を１．５ｇ得た。
・１Ｈ−ＮＭＲ　（９０Ｍｌ｛Ｚ，　ＣＤＣＩ３）　　
δ；０．　６０〜１．　９２（ｍ．　ＩＩＨ），　２，
　７２（ｔ，　Ｊ＝６Ｈｚ，　２｝１）．３．０４　〜
３．３６（ｍ，ＬＨ）．　３．１９（ｓ，３Ｈ）．　３
．８０（ｓ．３Ｈ），３．　６０　〜４．　２０　（ｍ
，　４Ｈ）　．　　４．　３４　（ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ，
　２Ｈ）　，　　４．　５２〜４．８０（＋＋＋，ＬＨ
）．　　５．１５（ｓ，２Ｈ）．　　５．３６〜５．６
０（ｍ．１８），　　６．７０〜７．６４（ｍ．１０Ｈ
），　　７．７０（ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ，ＩＨ），　　８．
　４１　（ｃｌ，　Ｊ＝７Ｈｚ，　ＬＨ）（２）で得ら
れた１−０−（４−シクロヘキシルメチルスルファモイ
ル）ペンジルカルバモイルー３−０−　｛Ｎ−（２−メ
トキシ）ペンゾイル−Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カ
ルバモイル−２−０−メチルグリセリン１．５ｇをヨウ
化エチル１０ｍｅに溶解し、２４時間還流した。ヨウ化
エチルを減圧留去し、残渣をイオン交換樹脂〔アンバー
ライトＩＲＡ−４１０，　ＣＩ一型〕　（溶出溶媒：メ
タノール：水＝７：３）で処理し、溶媒を減圧留去した
。残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；塩化メチレン：メタノール＝９　：　１）により精
製し目的物を１．０ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）δ
：０．　６（］−ｉ．　９２（ｍ，　１４Ｈ），　２．
　６８（ｔ，　Ｊ＝６Ｈｚ，　２Ｈ），３．００　〜３
．４０（ｍ，ＩＨ），　３、２０　（ｓ．　３１｛）　
，　３、８９　（Ｓ．３Ｈ），　３．　６０　〜４．　
５２（ｍ．　６ｔｌ），　５．　０８（Ｑ，　Ｊ＝８Ｈ
ｚ，　２Ｎ），４．８０〜５．２０（ｍ，ＬＨ）．　５
．５６（ｓ，２Ｈ）．　６．２０　〜６．４８（ｍ，Ｉ
Ｈ），　６．８０　〜８．１６（ｍ，ＩＯＨ）．　８．
４４（ｔ．Ｊ＝８Ｈｚ，ＩＨ）．　９．７０（ｃｌ，Ｊ
＝７Ｈｚ，ＩＨ）実施例１３ イルーＮ一（２−メトキシー３−（４−オクタデ実施例
１２　（１）で得られた２−０−メチル−３一〇−（２
−ビリジル）メチル力ルバモイル−１−０−（４−スル
ファモイル）ペンジルカルバモイルグリセリン１４．０
ｇ，臭化オクタデシル１０．７ｇ；、無水炭酸カリウム
３．２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００　ｍｌ
に溶解し、６０℃〜７０℃で１．５時間撹拌した。反応
液を室温にし、水を加え、酢酸エチル２００ｍｌにより
３回抽出した。抽出液を飽和食塩水により洗浄後、溶媒
を減圧留去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝３　：　
２）により精製し目的物を９．１ｇ得た。
・’Ｈ　−ＮＭＲ　　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ３）δ
；０．８６（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．３Ｈ），　１．００〜１
．６０（ｍ．３２Ｈ），２．６８　〜３．００（ｍ，２
Ｈ），　３．４０（ｓ，３Ｈ），　３．４０　〜３．６
８（ｍ，ｌｔ｛），　４．００　〜４．４８（ｍ，８｝
１），　５。００〜５．２４（ｍ，１［１）．　５．６
４　〜５．８４（ｍ．１１１），　５．８４　〜６．１
２（ｍ，１１｛）．　　　８．００　〜８．６０（ｍ，
６８），　　　８．６８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，　ＩＨ），
　９．　４０（ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ，　ＬＨ）（２）　　
３−０−（Ｎ−（２−メトヰシ》ベンゾイルーリンの合
成 ｎ （１）で得られた２−ロ−メチル−１−０−（４−オク
タデシルスルファモイル）ペンジルカルバモイル−３−
０−（２−ピリジル）メチル力ルバモイルグリセリン９
．１ｇをビリジン１００　ｍＡに溶解し、２−メトキシ
ベンゾイルクロリド２．２ｇを滴下した。室温で１２時
間撹拌し、ピリジンを減圧留去後、酢酸エチル２００　
ｍに溶解した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクひマトグラフィー
（溶出溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝６：４）により精
製し目的物を４．４ｇ得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）δ
；０．８８（ｔ，Ｊ＝６｝１ｚ．３Ｈ）．　１．００〜
１．６０（ｍ，３２Ｈ）．２．９０（ｑ．Ｊ＝８ｔｌｚ
．２１｛）．　３．０６　〜３。３２　（ｍ．　ＩＨ）
　．３．２０（ｓ，３Ｈ）．　３．８２（ｓ．３Ｈ）．
　３．７５　〜４．２０（ｍ，４Ｈ）．　４．４０（ｄ
，Ｊ−７Ｈｚ，２Ｈ）．　４．７８〜４．９２（ｍ，Ｉ
Ｈ），５．２２（Ｓ．２｝１）．　５．５６　〜５．７
２（ｍ．ＩＨ）．　６．８４　〜７．７６（ｍ．１０Ｈ
）．　７．８０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｎ）．　８．５３
（ｄ，Ｊ＝７ｔｌｚ，ＩＨ） ミノメチルピリジニウムクロリドの合成（２）で得られ
た３−０−　｛Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイルーＮ−
（２−ビリジル）メチル｝カルバモイル−２−ローメチ
ル−１−０−（４−オクタデシルスルファモイル）ペン
ジルカルバモイルグリセリン１．９ｇをヨウ化エチル５
０一に溶解し２４時間還流した。ヨウ化エチルを減圧留
去し残渣をイオン交換樹脂〔アンバーライ｝　ＩＲＡ−
４１０，　ＣＩ一型〕　（溶出溶媒；メタノール：水＝
７：３）により処理し溶媒を減圧留去した。残渣をシリ
カゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；塩化メチ
レン：メタノール＝９　二１）により精製し、目的物を
１．３ｇ得た。
−　’Ｈ−Ｎ！ＪＲ　（４００Ｍ｝Ｉｚ，　ＤＭＳＯ−
６６）　δ；０．８５（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．３Ｈ），　１
．１０　〜１．３８（ｍ，３２Ｈ），１．　５７（ｔ，
　Ｊ＝７Ｈｚ，　３｝１），　２．　６７（ｑ．　Ｊ＝
７Ｈｚ，　２Ｈ），３．０９（ｓ，３Ｎ）．　３．１０
　〜３．２０（ｍ，１｝１）．　３．６０　〜３．６８
（ｍ．ＩＨ）．　３．７１　〜３．７９（ｍ，ＩＨ）．
　３．８５（ｓ．３Ｈ），４．１０　〜４．２０（ｍ，
ＩＨ），　３．９５　〜４．０２（ｍ，ＬＨ＞．　４．
２０〜４．　２５（Ｌ　２Ｈ）．　４．　７５（ｑ．　
Ｊ＝７｝１ｚ，　２Ｈ）．　５．　５３（ｓ，２Ｈ）．
　７．０１　〜？．２１（ｍ，２｝１）．　７．３８　
〜７．５３（ｍ，５ｔｌ）　７．７３（ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ
．２Ｈ），　７．８２（ｔ，Ｊ＝６｝１ｚ，ＩＨ）．７
．９９（ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ．ＬＨ）．　８．０７（ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ，ＩＨ）．　８．６４（ｔ．　Ｊ＝７Ｈｚ．　
１｝１），　９．　１２　（ｄ，　Ｊ＝７Ｈｚ，　ＩＨ
）実施例１４ 一（２−ピリジル）メチル｝カルバモイルクリセリン１
０ｇ　，　３−アミノー１−プロバノール３．７５ｇを
１０ｍ６のクロロホルムに溶かし、室温で１時間撹拌し
た。溶媒を留去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル）で精製することによ
り、目的物８ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ＋）δ：
１．　６９　（ｍ，　２Ｈ）　．　２．　６８　〜３。
７６　（ｍ．　６１｛）　，　３．　４３　（ｓ，３Ｈ
｝．　３．９４　〜４、３２（ｍ，４｝１）．　４．４
６（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，２Ｈ），　５．２Ｈｂ，１｝１）
，　５．９５（ｂ．ＩＨ）．　６．９８〜７．３６（ｍ
，２｝１）．　７．４８　〜７．７４（ｍ，ＩＨ）．　
８。４８　（ｍ，　１｝１）実施例３（２）で得られた
２−０−メチル−１一〇−フェノキシ力ルボニル−３−
０−　（Ｎｒ［］−Ｃ−Ｎ　−　（ＣＨ２）　．＋−（
］−Ｃ−Ｎ−Ｃ　＋　ａＬ７Ｈ　　　　　　　　　　Ｈ （１）で得られた１−０−（３−ヒドロキシ）プロビル
力ルバモイル−２−０−メチル−３−〇一（２−ビリジ
ル）メチル力ルバモイルグリセリン２．９ｇ、ピリジン
１．３ｇの塩化メチレン溶液（５０ｒｎｅ）に水冷下、
クロロギ酸フエニル１．５６ｇを滴下し、１５分間撹拌
した。反応液を飽和炭酸水素ナ｝　ＩＪウム水溶液で洗
い、水洗したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を除いて得た残渣とオククデシルアミン３ｇの混合
物を８０℃で１時間撹拌した。冷後、これをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：１）で精製することにより、目的物３
ｇを得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（９０！．ｌＨｚ，　ＣＤＣＩ３）δ
；０．８７（＋ｍ，３Ｈ），　０．９８　〜１．８７（
ｒｎ，３４Ｈ）．　２．８６　〜３．７１（ｍ，５１１
），　３．４３（ｓ，３ｆｌ）．　３．９５　〜４．２
５（ｍ，６ｔ｛）．　４．４３（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，２Ｈ
）．　４．７６（ｂ，１｝１），　５、１１（ｂ，ＩＨ
），　５．８７（ｂ，ＩＨ），　６．９８　〜７．２９
（ｍ，２ｔｌ），７．　４７　〜７．　７２　（ｍ，　
ＩＨ），　８．　４７（ｍ，　ＬＨ）（ａ）　　３　−
０−（Ｎ−（２−メトキシ）ペンゾイルーリセリン （２）で得られた２−０−メチル−１−０−（３−オク
タデシル力ルバモイルオキシ）プロビル力ルバモイル−
３−０−（２−ビリジル）メチル力ルバモイルグリセリ
ン３ｇをビリジン５０ｍ２に溶かし、室温で２−メトキ
シ安息香酸クロリド１．３ｇを加え５０℃で２時間撹拌
した。冷後、溶媒を留去し、残渣をクロロホルムに溶か
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、水洗したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去しシ
リカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エ
チル：ｎ−ヘキサン−１：１）で精製することにより、
目的物３ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１ｚ）δ；
０．８５（ｍ，３｝１）．　１．０４　〜１．９２（ｍ
，３４ｔｌ），　２．８８　〜３．８６（ｍ，７Ｈ）．
　３．１６（ｓ．３Ｈ）．　３．８０（ｓ．３Ｈ）．３
．９０　〜４．１８（ｍ．４Ｈ）．　４．６８（ｂ．Ｉ
Ｈ），　４．８８　〜５．３０（ｂ，ＩＨ）．　５．１
６（ｓ，２｝１），　６．６８　〜７．６８（ｍ，７Ｈ
）．　８．　４４（ｍ．　ＩＨ） （３）で得られた３−０−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイル
−２−ローメチル−１−０−（３−オクタデシル力ルバ
モイルオヰシ）プロビル力ルバモイルグリセリン３．０
ｇをヨウ化エチル６０ｄに溶かし、窒素雰囲気中、遮光
して４８時間還流した。冷後、溶媒を留去し、残渣をイ
オン交換樹脂〔アンバーライトＩＲＡ−４１０，　ＣＩ
−型〕　（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）で処理
したのち、シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；メタノール：塩化メチレン＝１：９）で精製し、
目的物２．８ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍ｝Ｉｚ，　　ＣＤＣＩｓ）
δ；０．８８（ｍ，３Ｈ）．　　１．０２　〜１．４２
（ｍ．３４Ｈ），　　１．７８（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ．３Ｈ
）．　　３．０４〜３．９０（ｍ，７｝１）．　　３．
２３（ｓ，３８）．３．９２（ｓ．３Ｈ），　　４．０
０〜４．２４（ｍ．４Ｈ）．　　４．８８　〜５．１０
（ｂ．１｝１），　　５．３０（ｍ．２Ｈ）．　　５．
４８　〜５．７６（ｂ，ｌｔｌ）．　　５．５９（ｓ，
２｝１）．　　６．９２〜７．２０（ｍ，２｝１）．７
．４０〜７、６５（ｍ，　２｝１）．　　８．　０１〜
８．　２６（ｍ，　２Ｈ），８．３６〜８．６４（ｍ，
１Ｍ），　　１０．２０〜１０．４０（ｍ．１１｛）実
施例１５ （１）　　１−０−（４−ヒドロキシ）ピペリジノカル
の合成 ｎ 実施例３（２）で得られた２−０−メチル−１一〇−フ
ェノキシ力ルボニル−３−０−　（Ｎ−（２−ピリジル
）メチル）カルバモイルグリセリン１０ｇをクロロホル
ム２０ｍｌに溶かし、４ーヒドロキシピペリジン５．６
ｇを加え、３０分間加熱還流した。反応液を室温にして
減圧下に濃縮乾固して残渣をシリカゲル力ラムクロマト
グラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル：メタノール＝９５
：５）にて精製し、目的物１０．　３ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＥＡＲ（９０ＭＨＺ，　　ＣＤＣ１３）δ
；１．　４０　〜２．　１０（ｍ，　４Ｈ）．　　３．
　１３（ｍ．　２Ｈ）．　　３．　５５（ｓ，３Ｈ）．
　　２．５３〜４．１２（ｍ．５｝１），　　４．１３
〜４．２９（ｍ，４Ｈ）．４．４８（ｃ！．２Ｈ），　
　５．９３（ｍ，ＬＨ＞，　　８．１３　〜８．３６（
ｍ，２｝１），　　８．６９（ｍ，ＬＨ），　　８．５
５（ｍ，ＩＨ）蔵を滴下した。３０分後、反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液９０ｍｌに加え、塩化メチレ
ン５０ｍｌで３回抽出した。有機暦を集め、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒
；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン−２：１）で精製し、目的
物１０ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０Ｍｔｌｚ，　ＣＤＣＩ３）δ
；１．６８　〜２．２０（ｍ，４Ｈ），　３．２３　〜
４．００（＋ｎ，５Ｈ），３．５０（ｓ，３Ｈ）．　４
．１０　〜４．４２（ｍ，４Ｈ）．　４．５２（ｄｊ＝
７｝１ｚ，２１｛），　４．９５（ｍ，ＩＨ），　６．
１０（ｍ，ＩＨ），　７．１５〜７．８６（ｍ，８Ｈ）
，　８．５８（ｍ，ＩＨ）（１）で得られた１一〇−（
４−ヒドロキシ）ピペリジノ力ルボニル−２−０−メチ
ル−３−０−　｛Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバ
モイルグリセリン９ｇをピリジン９０ｍｌに溶かし、水
冷下で撹拌しながらクロロギ酸フェニル３．８（２）で
得られた２−０−メチル−１一〇一｛４−（フェノキシ
力ルボニル）オキシピペリジノ｝カルポニル−３−０−
（Ｎ−（２−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリ
ン６。２７ｇを塩化メチレン１５ｍｆｆに溶かし、オク
タデシルアミンを加え均一にした後、溶媒を留去し、１
００℃で１０分間加熱した。反応液を室温に戻し、シリ
カゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；アセトン
：へキサン＝１：２）で精製し、目的物７．９ｇを得た
。
（口）　（別法） （１）で得られた１−０−（４−ヒドロキシ）ビベリジ
ノカルボニル−２一〇一メチル−３−０−　（Ｎ−＜２
−ピリジル）メチル｝カルバモイルグリセリン１．１ｇ
をビリジン２０ｍ２に溶かし、イソシアン酸オクタデシ
ル９００ｍｇを加え、１００℃で１２時間撹拌した。反
応液を室温に戻し、減圧濃縮後、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶出溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝２　：　１）で精製して目的物９００ｍｇを得
た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９ＣＩＭＦＩＺ，　ＣＤＣＩ３）
δ：０．７２〜ｌ００（ｍ，３｝１），　１．０４〜２
．０８（ｍ，３６｝１），３．００〜３．９４（ｍ，７
Ｈ），　３．４４（ｓ．３ｔｌ），　４．０３〜４．４
０（ｍ，４Ｈ），　４．５０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）
，　４．８７（ｉｌ＋，２Ｈ），　６．１０（ｍ．ＩＨ
），　７．１０，　〜７．４０（ｍ，２ｔｌ）．７．７
０（ｍ，ＩＨ），　８．５５（ｍ，ＬＨ）（３）で得ら
れた２−ローメチル−３−０−（Ｎ−（２−ピリジル）
メチル｝カルバモイル−１−０−　（４−オクタデシル
力ルバモイルオキシ）ピペリジノカルボニルグリセリン
７．　８５ｇをピリジン７８ｙｄに溶かし、室温で撹拌
しなから２−メトキシ安息香酸クロリド２．１ｄを滴下
し、１時間反応させた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ＢＯｍｌに加え塩化メチレン１００ゴで３回抽
出した。有機層を集め無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧下で濃縮乾固した。
残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒
；酢酸エチル：ｎ−ヘヰサン＝２：１）で精製し目的物
７．８ｇを得た。
・’Ｈ　　ＮＭＲ　（９０ＭＨＺ，　ＣＤＣ１３）δ：
０．７３　〜１．０２（ｍ，３Ｈ）．　１．０９　〜１
．４５（ｍ，３２Ｎ）．１．　５（１〜１．　９０（ｍ
，　４Ｈ），　３．　０２〜３．　３９（ｍ，　５Ｈ）
，３．２１（Ｓ．３１｛）．　３．５２〜３．８０（ｍ
，５Ｈ）．　３．８５（ｓ，３Ｈ）．　４．００〜４．
１３（ｍ．２ｔｌ）．　４．５３〜４．９３（ｍ，ＬＨ
）．　５．２５（ｓ，２Ｈ），　６．８４．　〜７．８
０（ｍ，７Ｈ），８．　５８　（ｍ．　ＩＨ） （５）１−エチル−２−ＣＮ−（２−メトキシ）べル〕
アミノメチルピリジニウムクロリドの合成 （４）で得られた３−Ｄ−　（Ｎ−（２−メトキシ）ペ
ンゾイルーＮ−（２−ピリジル）メチノレ｝カルバモイ
ル−２−０−メチル−１−０−（４−オクタデシル力ル
バモイルオキシ）ピベリジノ力ルボニルグリセリン６．
２ｇにヨウ化エチノレ６〇一を加え、窒素雰囲気中４８
時間還流した。反応液を室温に戻し、濃縮乾固し、残渣
をイオン交換樹脂〔アンバーライトＩＲＡ−４１０，　
ＣＩ−型〕　（溶出溶媒；メタノール：水＝７：３）に
て処理し、粗クロリド体７．５ｇを得た。この粗クロリ
ド体をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒
；メタノール：塩化メチレン＝５：９５）で精製し、目
的物７ｇを得た。
・’｝Ｉ　　ＮＭＲ　（４００Ｍ｝ｌｚ，　ＣＤＣ１３
）　　δ：０．８７（ｔ，３｝１）．　１．１８〜１．
３５（ｍ，３２Ｈ）．　１．４２　〜２．２５（ｍ，５
Ｈ），　１．８０（ｔ，３Ｈ）．　３．１５（ｍ，２｝
１）．３．２３（ｓ，３Ｎ）．　３．２３　〜３．３５
（ｍ，３Ｈ）．　３．６５（ｍ，２Ｈ），　３．７８（
ｍ，ＩＨ）．　３．８５（ｍ．ＩＨ）．　３．９０（ｓ
，３Ｈ）．４．０５（ｍ．１｝１）．　４．１５（ｍ．
ＩＨ）．　４．８２（ｍ．ＩＨ）．５．２５（ｑ．２Ｈ
）．　５．５２（ｂｒ，２Ｈ）．　６．９４（ｄ，Ｊ＝
９Ｈｚ，ＩＨ）．　７．０７（ｄｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，７Ｈ
ｚ，１Ｂ）．　７．４９（ｍ．２Ｈ），８．０５（ｍ，
２Ｈ），　８．３６（ｍ．ＩＨ）．　１０．３４（ｍ，
ＩＩ｛）・ＦＡＢ　　８２５（Ｍａ 実施例１６ 実施例１５で得られたグリセリン誘導体の光学活性体の
合成方法について本実施例で詳細に述べる。
ソルケタール４９０ｇをジメチルホルムアミドに溶解し
、水冷下６０％水素化ナトリウム１６３ｇを１５分かけ
て加えた。加え終わった後、反応液を室温に戻し１時間
攪拌した。ベンジルブロマイド５３０ｍｊ’を滴下し、
３０分間攪拌した。
反応液を氷水に注ぎ、水３ｊ７を加え、酢酸エチル３ｌ
により２回抽出した。抽出液を２回水洗後、溶媒を減圧
下留去し、残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；ヘキサン→１０％酢酸エチルーヘキサン→
２０％酢酸エチルーヘキサン）を用い精製し、目的物３
６６ｇを得た。
なお、本製造方法において、出発物質として用いる光学
活性ソルケタールは、例えば次の文献によって合成でき
る。
Ｄ．　　巳．　ＭｃＣｊｕｒｅ　　ｅｔ　　ａｌ，，　
　　Ｊ，　　Ｏｒｇ，　　Ｃｈｅｍ，．　　４３（２５
），　４８７６（１９７８） ・’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ］３）δ；１．
３４（ｓ，３｝１）．　１．４０（ｓ，３｝１），　３
．３２〜４．４０（ｍ．５｝１）．　４．７３（ｓ．２
Ｈ），　７．２８（ｓ，５Ｈ）（Ｓ）−３−０−ベンジ
ル−１−０−トリフ（１）で得られた化合物２７４ｇ，
｝Ｊチルクロリド５０３ｇ、トリエチルアミン１８１ｇ
をトルエン１．５ｌに溶解させ、１時間加熱還流した。
冷却後、析出した結晶を濾過し、ベンゼン１β、ヘキサ
ン０．５１で順次洗い、母液を濃縮した。粗生成物７３
４ｇは精製せず、次の反応に用いた。
・’Ｈ−ＮＭＲ　（９０！Ｊｌｌｚ，　ＣＤＣＩ：＋）
δ：２．２０　〜２．４６（ｂｒ，ＩＨ），　３．１２
　〜３．２６（ｍ，２Ｈ），３．　４０　〜３．　６５
（ｍ．　２Ｈ），　３．　７７　〜４．　０８（ｍ，　
ＩＨ），４、４９（ｓ，２Ｈ）．　７．０５　〜７．６
０（ｍ，２０Ｈ）合成 （２）で得られた生成物７３４ｇをテトラヒド口フラン
１ｒに溶かし、ヨウ化メチル４２９ｇを加えた。水冷下
６０％水素化ナトリウム７２ｇを加えた。室温で３０分
間攪拌した後、ジメチルホルムアミドを０．５ｊｌ！滴
下した。３０分間攪拌した後、氷水３βを加え酢酸エチ
ル４βで抽出した。水、食塩水で洗浄後、濃縮し、目的
物７５０ｇを粗生成物として得た。
・’Ｈ　ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）δ；３．
１０　〜３．３０（ｍ，２Ｈ），　３Ｊ７（ｓ，３Ｈ）
，　３．３７　〜３．５７（ｍ，３Ｈ）．　４．５０（
ｓ，２Ｈ），　６．９３　〜７．５３（ｍ，２０Ｈ） （３）で得られた生成物７５０ｇ，ｐ−｝ルエンスルホ
ン酸９７ｇをメタノール７５０ｍｆ、テトラヒド口フラ
ン７５０ｍｆに溶解させ、４時間加熱還流した。冷却後
、５％炭酸水素ナトリウムＩＩ！を加え、酢酸エチル１
ｆ！で３回抽出した。
水洗、濃縮後、イソプロビルエーテル４ｆ！ヲ加え、生
成した固形物を濾別し、母液を濃縮した。新たに生じた
固形物を濾別し、イソブロビルエーテルで洗浄し、母液
と洗浄液を濃縮した。残渣をシリカゲル力ラムクロマト
グラフィ−（溶出溶媒；ヘキサンー酢酸エチル）を用い
精製し、目的物１７０ｇを得た。
・’ｔｌ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）δ；１
．２６（ｂｒ，ＬＨ），　３．４０（ｓ，３Ｈ）．　３
．４０　〜３．８０（ｍ．５Ｈ）．　４．５０（Ｓ，２
｝１），　７．２６（ｓ，５ｔｌ）３．４６（ｓ．３１
｛）．　３．４８　〜３．６２（ｍ，２Ｈ）．　３．６
４　〜４．００（ｍ．４Ｈ）．　　４．１４〜４．２８
（ｍ，２Ｈ），　　４．５６（ｓ，２Ｈ），　　７．３
４（ｓ，５Ｈ）（４）で得られた化合物８５ｇをピリジ
ン３５０ｍｊ！に溶解し、水冷下クロロ炭酸フェニル８
１．　５　ｇを滴下する。室温で３０分間攪拌後、飽和
炭酸水素ナ｝　１７ウム水溶液２００−を加え、酢酸エ
チル０．５１で抽出した。水、ＩＮ一塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で順次洗った後、減圧下溶媒を
留去した。残渣に４−ヒドロキシピペリジン８８ｇを加
え、１００℃にて３０分間攪拌した。冷却後、反応混合
物をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；
ヘキサンー酢酸エチル》を用い精製し、目的物１３６ｇ
を得た。
−’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ３）δ；１．
　１２　〜２．　０４（ｍ，　５Ｈ）．　２．　９２　
〜３．　２４（ｍ．　２Ｎ）．合成 （５）で得られた化合物１３５ｇとオクタデシルイソシ
アナー｝３０９ｇをキシレン３００ｒｄ−ピリジン１０
０−に溶解させ、１２０℃にて９時間加熱攪拌した。溶
媒を留去後、シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒；ベンゼンー酢酸エチル）を用い精製し、目的物
１９０ｇを得た。
・’｝ｌ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　　ＣＤＣ１ａ）δ；
０．７２　〜０．９６（ｍ，３Ｈ）．　　１．０３〜１
．９０（ｍ，３８Ｂ）．２．９６　〜３．２８（ｍ，４
Ｎ）．　　３．４４（Ｓ．３Ｈ），　　３．４５　〜３
．７２（＋ｍ，３１｛），　　４．１２　〜４．２８（
ｍ．３１｛），　　４．５２（ｓ，２Ｈ），　　４．６
４　〜４．８２（ｍ．：Ｉｌｌ）．　　７．２８（ｓ．
５Ｈ）１．７４　〜２．０６（ｍ，３Ｈ），　　１．０
８〜２．０４（ｍ，３６｝１），２．　５０　（ｔ，　
Ｊ＝７．　０Ｈｚ，　１｝！），　　２．　９４　〜３
．　７８　（ｍ，　９Ｈ）．３．６８（ｓ，３Ｈ）．　
　４．２４（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ．２Ｈ）．　　４．５
６〜５．　００　（ｍ．　２Ｈ） ０−メチルグリセリンの合成 （６）で得られた化合物１８７ｇをメタノール５０〇一
−テトラヒドロフラン５００７１Ｌ１’に溶かし、５％
ｐｄ−Ｃ　２５ｇを加え、水素気流下、常温、常圧にて
脱保護を行った。触媒を濾別し、溶媒を留去することに
より、目的物１５２ｇを得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）δ；（７
）で得ちれた化合物１５４ｇをビリジン５００一に溶か
し、水冷下クロロ炭酸フェニル６８ｇを滴下した。室温
で２時間攪拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５００
ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を２Ｎ一塩
酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次
洗い、濃縮した。濃縮物に２−アミノメチルビリジン６
３ｇを加え、１００℃にて１時間加熱攪拌した。冷却後
、シリカゲル力ラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒；ヘ
キサンー酢酸エチル）を用いて精製し、得られた化合物
をベンゼン０．５　Ａ　，ヘキサン１、Ｏｊ７の混合溶
媒にて結晶化させ、目的物１７２ｇを得た。
・’Ｉ｛−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，　ＣＤＣ１３）δ；０
．７２　〜１．００（ｍ，３Ｈ）．　１．０４　〜２．
０８（ｍ，３６Ｈ），３．００　〜３．９４（＋ｙ＋，
７Ｈ），　３．４４（ｓ，３Ｈ）．　４．０３　〜４．
４０（ｍ．４Ｈ），　４．５０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，
２Ｈ），　４．８７（ｍ，２Ｈ），　６．１０（ｍ．Ｉ
Ｈ）．　７．１０　〜７．４０（ｍ，２Ｈ），７．７０
（ｍ，ＩＨ），　８．５５（ｍ，ＩＨ）（８）で得られ
た化合物１７１ｇをピリジン５０〇一に溶解させ、室温
にて０−アニソイルクロリド６６ｇを滴下した。２時間
攪拌後、メタノール５０ｒｒｔｇを加えた。飽和炭酸水
素ナ｝　ＩＪウム水溶液５０ｈ＋ｊ！を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。
抽出液を水、食塩水で洗った後、減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘ
キサンー酢酸エチル）を用いて精製し、目的物２０３ｇ
を得た。
・　’Ｈ−ＮｌイＲ　（９０ＭＨＺ，　　ＣＤＣＩ３）
　　δ　；０．７３　〜１．０２（＋ｍ，３Ｈ），　１
．０９　〜１、４５　（ｍ，　３２Ｈ）　，１．５０〜
１．９０（ｒ．４Ｈ），　３．０２　〜３．３９（ｍ，
５Ｈ）．３．２１（ｓ，３Ｈ），　　３．５２　〜３．
８０（ｍ，５Ｈ），　３．８５（ｓ，３｝１）．　　４
．００〜４．１３（ｍ，２｝１），　　４．５３　〜４
．９３（ｍ，１｝！），　５．２５（ｓ，２｝１）．　
６．８４　〜７．８０（ｍ，７Ｈ），８．　５８　（ｍ
．　ＩＨ） リ　ト゛ （９）で得られた化合物１００ｇをヨウ化エチルｌｋｇ
に溶解させ、遮光、窒素気流下、２日間加熱還流した。
ヨウ化エチルを留去後、イオン交換樹脂〔アンバーライ
トＩＲＡ−４１０，　ＣＩ型〕　（溶出溶媒；メタノー
ル：水＝７＋３）にて処理し、濃縮後、得られた残渣を
シリカゲル力ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化
メチレンーメタノール）を用い精製し、目的物５７ｇを
得た。
・’Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，　ＣＤＣＩ，）　　δ
：０．　８７（ｔ，　３Ｈ），　１．　１８　〜１．　
３５（ｍ，　３２Ｈ），　１．　４２〜２．２５（ｍ．
５Ｈ），　１．８０（ｔ，３Ｈ），　３．１５（ｍ，２
｝１），３．２３（ｓ，３８），　３．２３−３．３５
（ｍ，３Ｈ），　３．６５（ｍ，２ｔ｛），　　　３。
７８　（＋ｒ＋．　　ＬＨ），　　　３．８５　（ｍ，
　　ＬＨ），　　　３．９０（ｓ，３Ｈ｝，　４．０５
（ｍ，ＩＨ），　４．１５（ｍ．ＬＨ），　４．８２（
ｍ，ＩＨ），　５．２５（ｑ，２Ｈ），　５。５２（ｂ
ｒ，２ｔ｛）．　６．９４（ｄ，　Ｊ＝９Ｈｚ，　ＩＨ
），　７．　０７（ｄｄ，　Ｊ＝８Ｈｚ，　７Ｈｚ，　
ＩＨ），７．４９（ｍ，２Ｈ），　８．０５（ｍ，２１
１），　８．３６（ｍ，ＬＨ），１０．　３４（ｍ，　
ＩＨ） ・ＦＡＢ　　８２５（Ｍ”） 出願人代理人　　古　谷　　　馨

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ａは （１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｍは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
    Ｒ＾４は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ
    基を意味する）で示される基、 （２）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾５は水素原子
    、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
    キル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する
    ）で示される基、（３）式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾８は水素原子又はアルキル基を意味する）
    で示される基を意味する〕で示される基、 （４）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｑ−Ｒ＾９（式中、ｑ
    は０〜６の整数を意味し、Ｒ＾９はアリール基又はヘテ
    ロアリール基を意味する）で示される基、 （５）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−ＯＲ＾１＾０（式
    中、ｒは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾０はアルキル
    基を意味する）で示される基、 （６）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｓは０〜２０の整数を意味し、Ｒ＾１＾１、Ｒ
    ＾１＾２は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基
    を意味する）で示される基、 （７）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｔは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾３は水素
    原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味する）で示
    される基、 （８）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｕは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾４、Ｒ＾
    １＾５は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を
    意味し、更にＲ＾１＾４、Ｒ＾１＾５が一緒になって酸
    素原子を含んでもよい環を形成してもよい。）で示され
    る基、 （９）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｖ−Ｏ−（ＣＨ＿２）
    ＿ｗ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｘ−Ｈ（式中、ｖは１〜１０
    の整数を意味し、ｗは１〜１０の整数を意味し、ｘは１
    〜１０の整数を意味する）で示される基、 （１０）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾６は水素
    原子又はアルキル基を意味する）で示される基、又は （１１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｚは０〜６の整数を意味し、ａは３〜４の整数
    を意味し、Ｄは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
    する）で示される基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル 基を意味する。 Ｒ＾１はアシル基を意味する。 ｎは０〜３の整数を意味する。 Ｇは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
    を意味する。） で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
    きる塩。 ２　薬理学的に許容できる塩が、Ｇの定義におけるピリ
    ジン環の窒素原子において四級化された四級塩である請
    求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 ３　薬理学的に許容できる塩が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ａは （１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｍは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
    Ｒ＾４は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ
    基を意味する）で示される基、 （２）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾５は水素原子
    、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
    キル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する
    ）で示される基、（３）式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾８は水素原子又はアルキル基を意味する）
    で示される基を意味する〕で示される基、 （４）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｑ−Ｒ＾９（式中、ｑ
    は０〜６の整数を意味し、Ｒ＾９はアリール基又はヘテ
    ロアリール基を意味する）で示される基、 （５）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−ＯＲ＾１＾０（式
    中、ｒは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾０はアルキル
    基を意味する）で示される基、 （６）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｓは０〜２０の整数を意味し、Ｒ＾１＾１、Ｒ
    ＾１＾２は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基
    を意味する）で示される基、 （７）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｔは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾３は水素
    原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味する）で示
    される基、 （８）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｕは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾４、Ｒ＾
    １＾５は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を
    意味し、更にＲ＾１＾４、Ｒ＾１＾５が一緒になって酸
    素原子を含んでもよい環を形成してもよい。）で示され
    る基、 （９）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｖ−Ｏ−（ＣＨ＿２）
    ＿ｗ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｘ−Ｈ（式中、ｖは１〜１０
    の整数を意味し、ｗは１〜１０の整数を意味し、ｘは１
    〜１０の整数を意味する）で示される基、 （１０）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾６は水素
    原子又はアルキル基を意味する）で示される基、又は （１１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｚは０〜６の整数を意味し、ａは３〜４の整数
    を意味し、Ｄは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
    する）で示される基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル 基を意味する。 Ｒ＾１はアシル基を意味する。 ｎは０〜３の整数を意味する。 Ｇ’は式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意
    味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）
    で示される基を意味する。｝ で表される四級塩である請求項１記載の薬理学的に許容
    できる塩。 ４　Ｘがハロゲンである請求項３記載の薬理学的に許容
    できる塩。 ５　Ｘが塩素である請求項４記載の薬理学的に許容でき
    る塩。 ６　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼（式中、Ｒ＾８は水素原子又
    はアルキル基を意味する）で示される基を意味する〕 で示される基である請求項１〜５のいずれか一項に記載
    のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 ７　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式−Ｏ−Ｃ
    −ＮＨ−Ｒ＾８（式中、Ｒ＾８は水素原子又はアルキル
    基を意味する）で示される基を意味する〕で示される基
    であり、Ｂが低級アルキル基である請求項１〜５のいず
    れか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に
    許容できる塩。 ８　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼（式中、Ｒ＾８は水素原子又
    はアルキル基を意味する）で示される基を意味する〕で
    示される基であり、Ｂが低級アルキル基であり、Ｒ＾１
    が低級アルカノイル基又は置換若しくは無置換のベンゾ
    イル基である請求項１〜５のいずれか一項に記載のグリ
    セリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 ９　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼（式中、
    Ｒ＾８は水素 原子又はアルキル基を意味する）で示される基を意味す
    る請求項８記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に
    許容できる塩。 １０　Ｂがメチル基である請求項９記載のグリセリン誘
    導体又はその薬理学的に許容できる塩。 １１　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼（式中
    、Ｒ＾８は水素 原子又はアルキル基を意味する）で示される基を意味す
    し、Ｂがメチル基を意味し、Ｒ＾１が低級アルカノイル
    基又は置換若しくは無置換のベンゾイル基を意味し、ｎ
    が１である請求項１〜５のいずれか一項に記載のグリセ
    リン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 １２　Ｒ＾８が炭素数１４〜２２のアルキル基である請
    求項１１記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許
    容できる塩。 １３　Ｒ＾８が炭素数１６〜２０のアルキル基である請
    求項１１記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許
    容できる塩。 １４　Ｒ＾８が炭素数１８のアルキル基である請求項１
    １記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容でき
    る塩。 １５　Ｒ＾１がアセチル基である請求項１１〜１４のい
    ずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的
    に許容できる塩。 １６　Ｒ＾１がｏ−、ｍ−又はｐ−アルコキシベンゾイ
    ル基である請求項１１〜１４のいずれか一項に記載のグ
    リセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 １７　Ｒ＾１がｏ−、ｍ−又はｐ−メトキシベンゾイル
    基である請求項１６記載のグリセリン誘導体又はその薬
    理学的に許容できる塩。 １８　Ｒ＾１がｏ−メトキシベンゾイル基である請求項
    １７記載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
    きる塩。 １９　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾５は水素原子
    、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
    キル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する
    ）で示される基である請求項１〜５のいずれか一項に記
    載のグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩
    。 ２０　ｐが１であり、Ｒ＾５が炭素数１４〜２２のアル
    キル基である請求項１９記載のグリセリン誘導体又はそ
    の薬理学的に許容できる塩。 ２１　Ａが式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐ’は１の整数を意味し、Ｒ＾５’は炭素数１
    ４〜２２のアルキル基を意味する）で示される基であり
    、Ｂがメチル基であり、Ｒ＾１がｏ−、ｍ−又はｐ−メ
    トキシベンゾイル基であり、ｎが１である請求項１〜５
    のいずれか一項に記載のグリセリン誘導体又はその薬理
    学的に許容できる塩。 ２２　Ａが式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｙ−Ｏ−Ｃ−ＮＨ
    −Ｒ＾１＾６（式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾
    １＾６は水素原子又はアルキル基を意味する）で示され
    る基である請求項１〜５のいずれか一項に記載のグリセ
    リン誘導体又はその薬理学的に許容できる塩。 ２３　Ａが式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｙ−Ｏ−Ｃ−ＮＨ
    −Ｒ＾１＾６（式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾
    １＾６は水素原子又はアルキル基を意味する）で示され
    る基であり、Ｂがメチル基であり、Ｒ＾１がｏ−、ｍ−
    又はｐ−メトキシベンゾイル基であり、ｎが１である請
    求項１〜５のいずれか一項に記載のグリセリン誘導体又
    はその薬理学的に許容できる塩。 ２４　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
    理学的に許容できる塩。 ２５　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意
    味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する） で表される請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 ２６　Ｘがハロゲンである請求項２５記載の薬理学的に
    許容できる塩。 ２７　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 ２８　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
    理学的に許容できる塩。 ２９　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
    理学的に許容できる塩。 ３０　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項１記載のグリセリン誘導体又はその薬
    理学的に許容できる塩。 ３１　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意
    味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する） で表される請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 ３２　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意
    味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する） で表される薬理学的に許容できる塩。 ３３　式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意
    味し、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する） で表される請求項１記載の薬理学的に許容できる塩。 ３４　Ｘがハロゲンである請求項３１〜３３のいずれか
    一項に記載の薬理学的に許容できる塩。 ３５　Ｒ＾１＾７がエチル基であり、Ｘが塩素である請
    求項３１〜３３のいずれか一項に記載の薬理学的に許容
    できる塩。 ３６　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ａは （１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｍは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
    Ｒ＾４は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ
    基を意味する）で示される基、 （２）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾５は水素原子
    、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
    キル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する
    ）で示される基、（３）式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾８は水素原子又はアルキル基を意味する）
    で示される基を意味する〕で示される基、 （４）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｑ−Ｒ＾９（式中、ｑ
    は０〜６の整数を意味し、Ｒ＾９はアリール基又はヘテ
    ロアリール基を意味する）で示される基、 （５）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−ＯＲ＾１＾０（式
    中、ｒは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾０はアルキル
    基を意味する）で示される基、 （６）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｓは０〜２０の整数を意味し、Ｒ＾１＾１、Ｒ
    ＾１＾２は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基
    を意味する）で示される基、 （７）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｔは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾３は水素
    原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味する）で示
    される基、 （８）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｕは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾４、Ｒ＾
    １＾５は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を
    意味し、更にＲ＾１＾４、Ｒ＾１＾５が一緒になって酸
    素原子を含んでもよい環を形成してもよい。）で示され
    る基、 （９）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｖ−Ｏ−（ＣＨ＿２）
    ＿ｗ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｘ−Ｈ（式中、ｖは１〜１０
    の整数を意味し、ｗは１〜１０の整数を意味し、ｘは１
    〜１０の整数を意味する）で示される基、 （１０）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾６は水素
    原子又はアルキル基を意味する）で示される基、又は （１１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｚは０〜６の整数を意味し、ａは３〜４の整数
    を意味し、Ｄは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
    する）で示される基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル 基を意味する。 Ｒ＾１はアシル基を意味する。 ｎは０〜３の整数を意味する。 Ｇは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
    を意味する。） で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
    きる塩を有効成分とする抗ＰＡＦ剤。 ３７　一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ｛式中、Ａは （１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｍは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
    Ｒ＾４は同一又は相異なる水素原子又は低級アルコキシ
    基を意味する）で示される基、 （２）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｐは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾５は水素原子
    、アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアル
    キル基、アリール基又はアリールアルキル基を意味する
    ）で示される基、（３）式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ 〔式中、環Ｒは炭素原子のほか窒素原子、酸素原子を含
    んでいてもよい環を示し、Ｒ＾６は水素原子、水酸基、
    アルキル基、アルコキシ基、アリール基、式−ＣＯＲ＾
    ７（式中、Ｒ＾７はアルキル基、アルコキシ基、シクロ
    アルキル基を意味する）で示される基、又は式▲数式、
    化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾８は水素原子又はアルキル基を意味する）
    で示される基を意味する〕で示される基、 （４）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｑ−Ｒ＾９（式中、ｑ
    は０〜６の整数を意味し、Ｒ＾９はアリール基又はヘテ
    ロアリール基を意味する）で示される基、 （５）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｒ−ＯＲ＾１＾０（式
    中、ｒは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾０はアルキル
    基を意味する）で示される基、 （６）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｓは０〜２０の整数を意味し、Ｒ＾１＾１、Ｒ
    ＾１＾２は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基
    を意味する）で示される基、 （７）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｔは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾３は水素
    原子又は低級アルコキシカルボニル基を意味する）で示
    される基、 （８）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｕは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾４、Ｒ＾
    １＾５は同一又は相異なる水素原子、低級アルキル基を
    意味し、更にＲ＾１＾４、Ｒ＾１＾５が一緒になって酸
    素原子を含んでもよい環を形成してもよい。）で示され
    る基、 （９）式−ＮＨ−（ＣＨ＿２）＿ｖ−Ｏ−（ＣＨ＿２）
    ＿ｗ−Ｏ−（ＣＨ＿２）＿ｘ−Ｈ（式中、ｖは１〜１０
    の整数を意味し、ｗは１〜１０の整数を意味し、ｘは１
    〜１０の整数を意味する）で示される基、 （１０）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｙは０〜６の整数を意味し、Ｒ＾１＾６は水素
    原子又はアルキル基を意味する）で示される基、又は （１１）式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｚは０〜６の整数を意味し、ａは３〜４の整数
    を意味し、Ｄは酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を意味
    する）で示される基を意味する。 Ｂは低級アルキル基又はアリールアルキル 基を意味する。 Ｒ＾１はアシル基を意味する。 ｎは０〜３の整数を意味する。 Ｇは式▲数式、化学式、表等があります▼で示される基
    を意味する。｝ で表されるグリセリン誘導体又はその薬理学的に許容で
    きる塩を有効成分とする抗ＰＡＦ剤が有効な疾患の治療
    ・予防剤。 ３８　薬理学的に許容できる塩が、Ｇの定義におけるピ
    リジン環が、式▲数式、化学式、表等があります▼（式
    中、Ｒ＾１＾７は水素原子又は低級アルキル基を意味し
    、Ｘは薬理学的に許容できるアニオンを意味する）で表
    される四級塩となったものである請求項３６又は３７記
    載の抗ＰＡＦ剤若しくは抗ＰＡＦ剤が有効な疾患の治療
    ・予防剤。 ３９　疾患がＤＩＣである請求項３７又は３８記載の治
    療・予防剤。 ４０　疾患がショックである請求項３７又は３８記載の
    治療・予防剤。 ４１　疾患がアレルギー疾患である請求項３７又は３８
    記載の治療・予防剤。
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