JPS6011708B2 - ウラシル誘導体およびその製法 - Google Patents

ウラシル誘導体およびその製法

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JPS6011708B2
JPS6011708B2 JP52145581A JP14558177A JPS6011708B2 JP S6011708 B2 JPS6011708 B2 JP S6011708B2 JP 52145581 A JP52145581 A JP 52145581A JP 14558177 A JP14558177 A JP 14558177A JP S6011708 B2 JPS6011708 B2 JP S6011708B2
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JP
Japan
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fluorouracil
general formula
alkyl group
formulas
hydroxybutyl
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Expired
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JP52145581A
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JPS5479289A (en
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宗次 三好
一三 井上
為雄 岩崎
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Tanabe Seiyaku Co Ltd
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 (但し、Rはアルキル基を表わす。 )で示されるNI−(1−アルコキシ−4ーヒドロキシ
ブチル)−5ーフルオロウラシルおよびその製法に関す
る。 本発明の化合物〔1)はそれ自体抗腫濠作用を有する有
用な医薬化合物であるが、悪性固型ガンの治療薬N1一
(2ーテトラヒドロフIJル)−5ーフルオロゥラシル
の合成中間体としても重要な化合物である。 本発明の化合物としては、上記−股式〔1〕中Rで示さ
れるァルキル基が例えばメチル基、エチル基、プロピル
基の如き低級アルキル基等である化合物があげられ、こ
れらはいずれも新規化合物である。 本発明によれば、当該化合物〔1〕は5ーフルオロウラ
シルの2・4−ビストリメチルシリル体と一般式(但し
、Rは前記と同一意味を表わす。 )で示される4ートリメチルシリルオキシブチルアルデ
ヒドジアルキルアセタールとをルイス酸の存在下に反応
させることにより製することが出来る。 本発明において、5−フルオロウラシルの2・4一ビス
トリメチルシリル体は5ーフルオロウラシルとへキサメ
チルジシラザンとを加熱下に反応させることにより容易
に合成される〔Chem.Pharm.Bull.、1
1、1470(1963)〕。 また他方の原料化合物
〔0〕としては上記一般式
〔0〕
中Rで示されるァルキル基が前記と同様の低級アルキル
基である化合物があげられる。これらはいずれも新規化
合物であり、例えば後記参考例の如くして容易に合成さ
れる。本発明の5−フルオロウラシルの2・4−ビス・
トリメチルシリル体と上記原料化合物〔D〕との反応は
適当な溶媒中ルイス酸の存在下に実施するのが好ましい
。 ルイス酸としては例えば四塩化錫、四塩化チタン、ジメ
トキシ二塩化錫等を好適に用いることが出来る。その使
用量は触媒量程度、とりわけ5−フルオロウラシルの2
・4−ビストリメチルシリル体1モルに対して約0.1
〜0.5モル比程度が好ましく、この範囲内で反応条件
(反応時間、反応温度、反応溶媒の種類等)に応じてル
イス酸使用量を決定するのが望ましい。反応溶媒として
は例えばアセトニトリル、ジクロロメタン、ジクロロェ
タン等を適宜使用することが出来る。反応温度は約0℃
以下、とりわけ一5℃近辺であるのが好ましい。かくし
て生成したNI−(1ーアルコキシー4ーヒドロキシブ
チル)一5ーフルオロウラシルは、例えば反応液に飽和
重曹水を加えて反応を停止させ、ついで適当な溶媒によ
る抽出、再結晶する如き公知精製操作に附すことにより
容易に単離することが出来る。 実施例 1 2・4−ビストリメチルシリル一5ーフルオロウラシル
1.37夕および4ートリメチルシリルオキシブ・キル
アルデヒドジメチルアセタール1.36夕を無水アセト
ニトリルー無水ジクロロメタン(1:1)14肌【に溶
解し、一5℃に冷却する。 この溶液にかくはん下に四塩化錫0.144の‘を含む
無水ジクロロメタン2叫溶液を滴下する。同温度にて3
時間かくはんしたのち飽和重曹水を加えて反応を停止さ
せる。不落物をロ去し、アセトニトリルで充分洗浄する
。全有機溶媒層を合し、乾燥したのち減圧下に濃縮する
。得られる磯油分をシー」カゲルカラムクロマトグラフ
ィー〔溶媒:クロロホルム:エタノール(5:1)〕で
精製し、得られる粗結晶をインプロピルアルコールより
再結晶することにより、N1一(1ーメトキシ−4ーヒ
ドロキシブチル)−5ーフルオロウラシル520雌を得
る。mP.121〜123qO NMR(6i皿MSO‐広): 1.0〜2,10(m、凪)、3.25(s、粕)、3
,10〜3.70(m、が)、4.45(br、IH)
、5.30〜5.70(m、IH)、7.83(d、J
=7日2)、11.73(br、S、IH)実施例 2 実施例1において、4−トリメチルシリルオキシブチル
アルデヒドジメチルアセタールに代えて4ートリメチル
シリルオキシプチルアルデヒドジェチルアセタールを用
い、以下同機に処理することにより、NI−(1−エト
キシー4ーヒドロキシブチル)−5−フルオロウラシル
を得る。 mp.102〜104qomレ帯袋。 1: 3400、1725(sh)、1712、1690、1
665、1480(肌‐1)参考例 4−ヒドロキシブチルアルデヒドジメチルアセタール1
0夕を含むテトラヒドロフラン150泌溶液にトリエチ
ルアミン13.6の【を加え、一30〜一10℃に冷却
する。 この溶液にかくはん下にトリメチルシリルクロリド8.
9夕を含むテトラヒドロフラン10の【溶液を滴下する
。滴下後1時間かくはんしたのち窒素気流中不純物をロ
去し、ロ液を濃縮する。得られる残査を減圧蒸留するこ
とにより、無色液体として4−トリメチルシリルオキシ
ブチルアルデヒドジメチルアセタール13.2夕を得る
。収率86%。bp.75〜8ぴ0/6〜7肋Hg。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rはアルキル基を表わす。 )で示されるN^1−(1−アルコキシ−4−ヒドロキ
    シブチル)−5−フルオロウラシル。 2 一般式〔I〕において、Rが低級アルキル基である
    特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 一般式〔I〕において、Rがメチル基である特許請
    求の範囲第2項記載の化合物。 4 一般式〔I〕において、Rがエチル基である特許請
    求の範囲第2項記載の化合物。 5 5−フルオロウラシルの2・4−ビストリメチルシ
    リル体と一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rはアルキル基を表わす。 )で示される4−トリメチルシリルオキシブチルアルデ
    ヒドジアルキルアセタールとを触媒量のルイス酸の存在
    下に反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式
    、表等があります▼ (但し、Rは前記と同一意味を表わす。 )で示されるN^1−(1−アルコキシ−4−ヒドロキ
    シブチル)−5−フルオロウラシルの製法。 6 一般式〔I〕で示されるN^1−(1−アルコキシ
    −4−ヒドロキシブチル)−5−フルオロウラシルにお
    いて、同一般式中Rが低級アルキル基を表わす特許請求
    の範囲第5項記載の製法。 7 ルイス酸の触媒量が5−フルオロウラシルの2・4
    −ビストリメチルシリル体1モルに対して約0.1〜0
    .5モル比である特許請求の範囲第6項記載の製法。 8 反応を約0℃以下で実施する特許請求の範囲第6項
    記載の製法。 9 ルイス酸が四塩化錫である特許請求の範囲第6項記
    載の製法。
JP52145581A 1977-12-02 1977-12-02 ウラシル誘導体およびその製法 Expired JPS6011708B2 (ja)

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